JPH0680663A - N−アシルジヒドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
N−アシルジヒドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤Info
- Publication number
- JPH0680663A JPH0680663A JP19548593A JP19548593A JPH0680663A JP H0680663 A JPH0680663 A JP H0680663A JP 19548593 A JP19548593 A JP 19548593A JP 19548593 A JP19548593 A JP 19548593A JP H0680663 A JPH0680663 A JP H0680663A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkyl
- alkyl group
- alkoxy
- halogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】一般式 化1
【化1】
〔式中、R 1、R 2およびR3 は、同一または相異な
り、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ア
ルコキシ基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルコキシ
基、フェニル基またはフェノキシ基を表わし、R4 およ
びR5 は同一または相異なり、水素原子または低級アル
キル基を表わし、R6 は水素原子、ハロゲン原子または
低級アルコキシカルボニル基を表わし、XはCHまたは
Nを表わす。〕で示されるジヒドロキノリン誘導体、そ
の製造法およびそれを含有する除草剤。 【効果】優れた除草効力を有すことから除草剤の有効成
分として使用できる。
り、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級ア
ルコキシ基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルコキシ
基、フェニル基またはフェノキシ基を表わし、R4 およ
びR5 は同一または相異なり、水素原子または低級アル
キル基を表わし、R6 は水素原子、ハロゲン原子または
低級アルコキシカルボニル基を表わし、XはCHまたは
Nを表わす。〕で示されるジヒドロキノリン誘導体、そ
の製造法およびそれを含有する除草剤。 【効果】優れた除草効力を有すことから除草剤の有効成
分として使用できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なN−アシルジヒ
ドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤
に関する。
ドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤
に関する。
【0002】
【発明の目的】これ迄、種々の化合物が除草剤の有効成
分として用いうることが知られているが、除草剤として
必ずしも満足すべきものとは言い難い。
分として用いうることが知られているが、除草剤として
必ずしも満足すべきものとは言い難い。
【0003】
【発明の構成】本発明者等は、下記の一般式化4で示さ
れるN−アシルジヒドロキノリン誘導体が除草剤として
優れた化合物であることを見出し、本発明に至った。す
なわち、本発明は、一般式 化4
れるN−アシルジヒドロキノリン誘導体が除草剤として
優れた化合物であることを見出し、本発明に至った。す
なわち、本発明は、一般式 化4
【0004】
【化4】 〔式中、R 1、R 2およびR3 は、同一または相異な
り、水素原子、C1−C6アルキル基、ハロゲン原子、
C1−C6アルコキシ基、ハロC1−C6アルキル基、
ハロC1−C6アルコキシ基、(C1−C6アルコキ
シ)カルボニル基、C1−C6アルキルチオ基、C1−
C6アルキルアミノ基、ジ(C1−C6アルキル)アミ
ノ基、フェニル基またはフェノキシ基を表わし、R4 お
よびR5 は同一または相異なり、水素原子またはC1−
C6アルキル基を表わすか、R4 とR5が末端で結合し
てC2−C5アルキレン基を表し、R6 は水素原子、ハ
ロゲン原子、アミノ基、C1−C6アルキルアミノ基、
ジ(C1−C6アルキル)アミノ基、(C1−C6アル
コキシ)カルボニルアミノ基、シアノ基を表すか、また
は一般式 化5
り、水素原子、C1−C6アルキル基、ハロゲン原子、
C1−C6アルコキシ基、ハロC1−C6アルキル基、
ハロC1−C6アルコキシ基、(C1−C6アルコキ
シ)カルボニル基、C1−C6アルキルチオ基、C1−
C6アルキルアミノ基、ジ(C1−C6アルキル)アミ
ノ基、フェニル基またはフェノキシ基を表わし、R4 お
よびR5 は同一または相異なり、水素原子またはC1−
C6アルキル基を表わすか、R4 とR5が末端で結合し
てC2−C5アルキレン基を表し、R6 は水素原子、ハ
ロゲン原子、アミノ基、C1−C6アルキルアミノ基、
ジ(C1−C6アルキル)アミノ基、(C1−C6アル
コキシ)カルボニルアミノ基、シアノ基を表すか、また
は一般式 化5
【0005】
【化5】−C(=O)−Y−R7 (Yは酸素原子または硫黄原子を表し、R7 は水素原
子、C1−C10アルキル基、C2−C10アルケニル
基、C2−C10アルキニル基、ハロC1−C10アル
キル基、ハロC2−C10アルケニル基、ハロC2−C
10アルキニル基、C3−C10シクロアルキル基、C
3−C10シクロアルケニル基、C1−C10アルコキ
シC1−C10アルキル基、C1−C10アルキルアミ
ノC1−C10アルキル基、ジ(C1−C10アルキ
ル)アミノC1−C10アルキル基、フリルC1−C1
0アルキル基、チエニルC1−C10アルキル基、C1
−C10アルキルアミノ基、ジ(C1−C10アルキ
ル)アミノ基を表すか、または、(C1−C6アルコキ
シ)カルボニル基、ハロゲン原子もしくはC1−C6ア
ルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表わす
か、または、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基、
ハロゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換され
ていてもよいフェニルC1−C6アルキル基を表すか、
または、−N=CHRもしくは−N=CRR' で示され
る基を表わす。(ここで、RおよびR' は同一または相
異なり、C1−C10アルキル基を表わす。))で示さ
れる基を表すか、または一般式化6
子、C1−C10アルキル基、C2−C10アルケニル
基、C2−C10アルキニル基、ハロC1−C10アル
キル基、ハロC2−C10アルケニル基、ハロC2−C
10アルキニル基、C3−C10シクロアルキル基、C
3−C10シクロアルケニル基、C1−C10アルコキ
シC1−C10アルキル基、C1−C10アルキルアミ
ノC1−C10アルキル基、ジ(C1−C10アルキ
ル)アミノC1−C10アルキル基、フリルC1−C1
0アルキル基、チエニルC1−C10アルキル基、C1
−C10アルキルアミノ基、ジ(C1−C10アルキ
ル)アミノ基を表すか、または、(C1−C6アルコキ
シ)カルボニル基、ハロゲン原子もしくはC1−C6ア
ルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表わす
か、または、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基、
ハロゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換され
ていてもよいフェニルC1−C6アルキル基を表すか、
または、−N=CHRもしくは−N=CRR' で示され
る基を表わす。(ここで、RおよびR' は同一または相
異なり、C1−C10アルキル基を表わす。))で示さ
れる基を表すか、または一般式化6
【0006】
【化6】 (R8 、R9 は同一または相異なり、水素原子、C1−
C6アルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6
アルキニル基、ハロC1−C6アルキル基、ハロC2−
C6アルケニル基、ハロC2−C6アルキニル基、C3
−C6シクロアルキル基、C3−C6シクロアルケニル
基、アミノ基、C1−C6アルキルアミノ基またはジ
(C1−C6アルキル)アミノ基を表すか、またはハロ
ゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換されてい
てもよいフェニル基を表わすか、または、ハロゲン原子
もしくはC1−C6アルキル基で置換されていてもよい
フェニルC1−C6アルキル基を表す。)で示される基
を表し、XはCHまたはNを表わす。〕で示されるジヒ
ドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤
を提供する。
C6アルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6
アルキニル基、ハロC1−C6アルキル基、ハロC2−
C6アルケニル基、ハロC2−C6アルキニル基、C3
−C6シクロアルキル基、C3−C6シクロアルケニル
基、アミノ基、C1−C6アルキルアミノ基またはジ
(C1−C6アルキル)アミノ基を表すか、またはハロ
ゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換されてい
てもよいフェニル基を表わすか、または、ハロゲン原子
もしくはC1−C6アルキル基で置換されていてもよい
フェニルC1−C6アルキル基を表す。)で示される基
を表し、XはCHまたはNを表わす。〕で示されるジヒ
ドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤
を提供する。
【0007】R1 ,R2 、R3 ,R4 、R5 、R6 にお
いて、炭素数は、一般に1〜3が好ましく、R7 におい
て、炭素数は、一般に1 〜6が好ましい。即ち、R 1、
R 2およびR3 は、同一または相異なり、水素原子、C
1−C3アルキル基、ハロゲン原子、C1−C3アルコ
キシ基、ハロC1−C3アルキル基、ハロC1−C3ア
ルコキシ基、(C1−C3アルコキシ)カルボニル基、
C1−C3アルキルチオ基、C1−C3アルキルアミノ
基、ジ(C1−C3アルキル)アミノ基、フェニル基ま
たはフェノキシ基が好ましく、R4 およびR5 は同一ま
たは相異なり、水素原子またはC1−C3アルキル基、
または、R4 とR5 が末端で結合してC2−C3アルキ
レン基が好ましく、R6 は水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基、C1−C3アルキルアミノ基、ジ(C1−C3
アルキル)アミノ基、(C1−C3アルコキシ)カルボ
ニルアミノ基、シアノ基、または一般式 化5もしくは
化6で示される基が好ましい。一般式化5および化6に
おいてR7 は水素原子、C1−C6アルキル基、C2−
C6アルケニル基、C2−C6アルキニル基、ハロC1
−C6アルキル基、ハロC2−C6アルケニル基、ハロ
C2−C6アルキニル基、C3−C6シクロアルキル
基、C3−C6シクロアルケニル基、C1−C6アルコ
キシC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノ
C1−C6アルキル基、ジ(C1−C6アルキル)アミ
ノC1−C6アルキル基、フリルC1−C6アルキル
基、チエニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルキ
ルアミノ基、ジ(C1−C6アルキル)アミノ基を表す
か、または、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基、
ハロゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換され
ていてもよいフェニル基を表わすか、または、(C1−
C6アルコキシ)カルボニル基、ハロゲン原子もしくは
C1−C6アルキル基で置換されていてもよいフェニル
C1−C6アルキル基を表すか、または、−N=CHR
もしくは−N=CRR' で示される基(ここで、Rおよ
びR' は同一または相異なり、C1−C6アルキル基を
表わす。))が好ましい。さらに、R4 およびR5 は、
同一または相異なり、C1−C3アルキル基が好まし
く、ともにメチル基がより好ましい。化7
いて、炭素数は、一般に1〜3が好ましく、R7 におい
て、炭素数は、一般に1 〜6が好ましい。即ち、R 1、
R 2およびR3 は、同一または相異なり、水素原子、C
1−C3アルキル基、ハロゲン原子、C1−C3アルコ
キシ基、ハロC1−C3アルキル基、ハロC1−C3ア
ルコキシ基、(C1−C3アルコキシ)カルボニル基、
C1−C3アルキルチオ基、C1−C3アルキルアミノ
基、ジ(C1−C3アルキル)アミノ基、フェニル基ま
たはフェノキシ基が好ましく、R4 およびR5 は同一ま
たは相異なり、水素原子またはC1−C3アルキル基、
または、R4 とR5 が末端で結合してC2−C3アルキ
レン基が好ましく、R6 は水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基、C1−C3アルキルアミノ基、ジ(C1−C3
アルキル)アミノ基、(C1−C3アルコキシ)カルボ
ニルアミノ基、シアノ基、または一般式 化5もしくは
化6で示される基が好ましい。一般式化5および化6に
おいてR7 は水素原子、C1−C6アルキル基、C2−
C6アルケニル基、C2−C6アルキニル基、ハロC1
−C6アルキル基、ハロC2−C6アルケニル基、ハロ
C2−C6アルキニル基、C3−C6シクロアルキル
基、C3−C6シクロアルケニル基、C1−C6アルコ
キシC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミノ
C1−C6アルキル基、ジ(C1−C6アルキル)アミ
ノC1−C6アルキル基、フリルC1−C6アルキル
基、チエニルC1−C6アルキル基、C1−C6アルキ
ルアミノ基、ジ(C1−C6アルキル)アミノ基を表す
か、または、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基、
ハロゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換され
ていてもよいフェニル基を表わすか、または、(C1−
C6アルコキシ)カルボニル基、ハロゲン原子もしくは
C1−C6アルキル基で置換されていてもよいフェニル
C1−C6アルキル基を表すか、または、−N=CHR
もしくは−N=CRR' で示される基(ここで、Rおよ
びR' は同一または相異なり、C1−C6アルキル基を
表わす。))が好ましい。さらに、R4 およびR5 は、
同一または相異なり、C1−C3アルキル基が好まし
く、ともにメチル基がより好ましい。化7
【化7】 で示される基としては、化8
【化8】 で示される基が好ましく、R6 としては、水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基または一般式化5もしくは化6で
示される基が好ましく、一般式化5もしくは化6で示さ
れる基がさらに好ましい。R1 は6位置換が好ましく、
ハロゲン原子、C1−C3アルキル基またはフェニル基
が好ましく、ハロゲン原子がさらに好ましい。R2 およ
びR 3は水素原子が好ましい。
ロゲン原子、シアノ基または一般式化5もしくは化6で
示される基が好ましく、一般式化5もしくは化6で示さ
れる基がさらに好ましい。R1 は6位置換が好ましく、
ハロゲン原子、C1−C3アルキル基またはフェニル基
が好ましく、ハロゲン原子がさらに好ましい。R2 およ
びR 3は水素原子が好ましい。
【0008】R1 ,R2 、R3 ,R4 、R5 、R6 、R
8 、R9 において、アルキル基、ハロアルキル基、アル
キルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、
フェニルアルキル基のアルキル部分としては、例えば、
メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-
ブチル基、sec-ブチル基、tert- ブチル基、n-ヘキシル
基等が挙げられる。アルコキシ基、ハロアルコキシ基、
アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ
基のアルコキシ部分としては、例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキ
シ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。アルケニル
基、ハロアルケニル基のアルケニル部分としては、例え
ば、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニ
ル基、3−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテ
ニル基、2−ヘキセニル基等が挙げられる。アルキニル
基、ハロアルキニル基のアルキニル基部分としては、例
えば、エチニル基、プロパルギル基、1−ブチニル基、
2−ブチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル
基、2−ヘキシニル基等が挙げられる。シクロアルキル
基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。シクロアルケニル基としては、シクロプロペニル
基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘ
キセニル基等が挙げられる。ハロゲン原子、ハロアルキ
ル基、ハロアルケニル基、ハロアルキニル基、ハロアル
コキシ基のハロゲン部分としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子が挙げられる。より具体的には、ハロアル
キル基としては、2−クロロエチル基、2−ブロモエチ
ル基、3−フルオロプロピル基、2−クロロプロピル
基、4−クロロブチル基、6−クロロヘキシル基等が挙
げられる。ハロアルコキシ基としては、例えば、フルオ
ロメトキシ基、ジブロモメトキシ基、トリフルオロメト
キシ基、1,1−ジクロロエトキシ基、1−クロロ,2
−ブロモブトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロ
ヘキシルオキシ基等が挙げられる。ハロアルケニル基と
しては、例えば、1−クロロビニル基、3−クロロアリ
ル基、5−ブロモ−2−ペンテニル基、6−フルオロ−
2−ヘキセニル基、5,5,5−トリフルオロ−2−ペ
ンテニル基等が挙げられる。ハロアルキニル基として
は、たとえば、2−クロロエチニル基、5−ブロモ−2
−ペンチニル基、6−フルオロ−2−ヘキシニル基、
5,5,5−トリフルオロ−2−ペンチニル基等が挙げ
られる。アルキルアミノ基としては、例えば、メチルア
ミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ヘキシル
アミノ基等が挙げられ、ジアルキルアミノ基としては、
例えば、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジ
プロピルアミノ基、メチルヘキシルアミノ基等が挙げら
れる。ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシカルボニ
ル基で置換されていてもよいフェニル基としては、例え
ば、フェニル基、2−メチルフェニル基、3−エチルフ
ェニル基、4−ヘキシルフェニル基、2,6−ジメチル
フェニル基、2−フルオロフェニル基、2−クロロフェ
ニル基、3−ブロモフェニル基、2,4−ジクロロフェ
ニル基、2,4,5−トリクロロフェニル基、2−クロ
ロ4−メチルフェニル基、2−メトキシカルボニルフェ
ニル基、3−エトキシカルボニルフェニル基、5−ヘキ
シルオキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。アル
キレン基としては、例えば、エチレン基、テトラメチレ
ン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
8 、R9 において、アルキル基、ハロアルキル基、アル
キルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、
フェニルアルキル基のアルキル部分としては、例えば、
メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-
ブチル基、sec-ブチル基、tert- ブチル基、n-ヘキシル
基等が挙げられる。アルコキシ基、ハロアルコキシ基、
アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ
基のアルコキシ部分としては、例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキ
シ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。アルケニル
基、ハロアルケニル基のアルケニル部分としては、例え
ば、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニ
ル基、3−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテ
ニル基、2−ヘキセニル基等が挙げられる。アルキニル
基、ハロアルキニル基のアルキニル基部分としては、例
えば、エチニル基、プロパルギル基、1−ブチニル基、
2−ブチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル
基、2−ヘキシニル基等が挙げられる。シクロアルキル
基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。シクロアルケニル基としては、シクロプロペニル
基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘ
キセニル基等が挙げられる。ハロゲン原子、ハロアルキ
ル基、ハロアルケニル基、ハロアルキニル基、ハロアル
コキシ基のハロゲン部分としては、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子が挙げられる。より具体的には、ハロアル
キル基としては、2−クロロエチル基、2−ブロモエチ
ル基、3−フルオロプロピル基、2−クロロプロピル
基、4−クロロブチル基、6−クロロヘキシル基等が挙
げられる。ハロアルコキシ基としては、例えば、フルオ
ロメトキシ基、ジブロモメトキシ基、トリフルオロメト
キシ基、1,1−ジクロロエトキシ基、1−クロロ,2
−ブロモブトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロ
ヘキシルオキシ基等が挙げられる。ハロアルケニル基と
しては、例えば、1−クロロビニル基、3−クロロアリ
ル基、5−ブロモ−2−ペンテニル基、6−フルオロ−
2−ヘキセニル基、5,5,5−トリフルオロ−2−ペ
ンテニル基等が挙げられる。ハロアルキニル基として
は、たとえば、2−クロロエチニル基、5−ブロモ−2
−ペンチニル基、6−フルオロ−2−ヘキシニル基、
5,5,5−トリフルオロ−2−ペンチニル基等が挙げ
られる。アルキルアミノ基としては、例えば、メチルア
ミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ヘキシル
アミノ基等が挙げられ、ジアルキルアミノ基としては、
例えば、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジ
プロピルアミノ基、メチルヘキシルアミノ基等が挙げら
れる。ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシカルボニ
ル基で置換されていてもよいフェニル基としては、例え
ば、フェニル基、2−メチルフェニル基、3−エチルフ
ェニル基、4−ヘキシルフェニル基、2,6−ジメチル
フェニル基、2−フルオロフェニル基、2−クロロフェ
ニル基、3−ブロモフェニル基、2,4−ジクロロフェ
ニル基、2,4,5−トリクロロフェニル基、2−クロ
ロ4−メチルフェニル基、2−メトキシカルボニルフェ
ニル基、3−エトキシカルボニルフェニル基、5−ヘキ
シルオキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。アル
キレン基としては、例えば、エチレン基、テトラメチレ
ン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
【0009】R7 において、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノアルキル
基、ジアルキルアミノアルキル基、フェニルアルキル
基、フリルアルキル基、チエニルアルキル基、アルキル
アミノ基、ジアルキルアミノ基、のアルキル部分として
は、上記の具体例の他、例えば、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。アルケニル
基、ハロアルケニル基のアルケニル部分としては、上記
の具体例の他、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル
基等が挙げられる。アルキニル基、ハロアルキニル基の
アルキニル部分としては、上記の具体例の他、例えば、
ヘプチニル基、オクチニル基、デシニル基等が挙げられ
る。ハロアルキル基としては、上記の具体例の他、例え
ば、2−フルオロヘプチル基、3−クロロオクチル基、
2−ブロモデシル基等が挙げられる。ハロアルケニル基
としては、上記の具体例の他、例えば、1−クロロ−2
−ヘプテニル基、3−クロロ−2−オクテニル基、5−
ブロモ−2−デセニル基、6−フルオロ−2−ヘプテニ
ル基、5,5,5−トリクロロ−2−ヘプテニル基等が
挙げられる。ハロアルキニル基としては、上記の具体例
の他、例えば、2−クロロ−2−ヘプチニル基、3−ブ
ロモ−2−オクチニル基、5−クロロ−2−デシニル
基、6−フルオロ−2−ヘプチニル基、5,5,5−ト
リフルオロ−2−ヘプチニル基等が挙げられる。シクロ
アルキル基としては、上記の具体例の他、例えば、シク
ロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等が
挙げられる。シクロアルケニル基としては、上記の具体
例の他、例えば、シクロヘプテニル基、シクロオクテニ
ル基、シクロデセニル基等が挙げられる。アルコキシア
ルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキ
シメチル基、1−メトキシエチル基、2−メトキシエチ
ル基、3−エトキシプロピル基、4−n-ブトキシブチル
基、6−n−ヘキシルオキシヘキシル基、2−エトキシ
ヘプチル基、3−i−ブトキシデシル基、4−n−デシ
ルオキシブチル基等が挙げられる。アルキルアミノアル
キル基としては、例えば、メチルアミノメチル基、エチ
ルアミノメチル基、ブチルアミノメチル基、ヘキシルア
ミノエチル基、オクチルアミノエチル基、メチルアミノ
プロピル基、エチルアミノヘキシル基、メチルアミノデ
シル基等が挙げられ、ジアルキルアミノアルキル基とし
ては、例えば、ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミ
ノメチル基、メチルブチルアミノメチル基、メチルヘキ
シルアミノエチル基、ジプロピルアミノブチル基、ジエ
チルアミノヘキシル基、ジメチルアミノデシル基等が挙
げられる。アルキルアミノ基としては、上記の具体例の
他、例えば、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、デ
シルアミノ基等が挙げられ、ジアルキルアミノ基として
は、例えば、ジヘプチルアミノ基、メチルオクチルアミ
ノ基、エチルデシルアミノ基等が挙げられる。 −N=CHR基としては、例えば、−N=CHCH3 、
−N=CHC2 H5 、−N=CHC3 H7 、−N=CH
C6 H13、−N=CHC10H21、−N=CRR’基とし
ては、例えば、−N=C(CH3 )2、−N=C( C2 H5)
2 、−N=C( CH3 ) C2 H5 、−N=C( CH3 )
C6 H13、−N=C( CH3 ) C10H21基等が挙げられ
る。
基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノアルキル
基、ジアルキルアミノアルキル基、フェニルアルキル
基、フリルアルキル基、チエニルアルキル基、アルキル
アミノ基、ジアルキルアミノ基、のアルキル部分として
は、上記の具体例の他、例えば、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。アルケニル
基、ハロアルケニル基のアルケニル部分としては、上記
の具体例の他、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル
基等が挙げられる。アルキニル基、ハロアルキニル基の
アルキニル部分としては、上記の具体例の他、例えば、
ヘプチニル基、オクチニル基、デシニル基等が挙げられ
る。ハロアルキル基としては、上記の具体例の他、例え
ば、2−フルオロヘプチル基、3−クロロオクチル基、
2−ブロモデシル基等が挙げられる。ハロアルケニル基
としては、上記の具体例の他、例えば、1−クロロ−2
−ヘプテニル基、3−クロロ−2−オクテニル基、5−
ブロモ−2−デセニル基、6−フルオロ−2−ヘプテニ
ル基、5,5,5−トリクロロ−2−ヘプテニル基等が
挙げられる。ハロアルキニル基としては、上記の具体例
の他、例えば、2−クロロ−2−ヘプチニル基、3−ブ
ロモ−2−オクチニル基、5−クロロ−2−デシニル
基、6−フルオロ−2−ヘプチニル基、5,5,5−ト
リフルオロ−2−ヘプチニル基等が挙げられる。シクロ
アルキル基としては、上記の具体例の他、例えば、シク
ロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等が
挙げられる。シクロアルケニル基としては、上記の具体
例の他、例えば、シクロヘプテニル基、シクロオクテニ
ル基、シクロデセニル基等が挙げられる。アルコキシア
ルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキ
シメチル基、1−メトキシエチル基、2−メトキシエチ
ル基、3−エトキシプロピル基、4−n-ブトキシブチル
基、6−n−ヘキシルオキシヘキシル基、2−エトキシ
ヘプチル基、3−i−ブトキシデシル基、4−n−デシ
ルオキシブチル基等が挙げられる。アルキルアミノアル
キル基としては、例えば、メチルアミノメチル基、エチ
ルアミノメチル基、ブチルアミノメチル基、ヘキシルア
ミノエチル基、オクチルアミノエチル基、メチルアミノ
プロピル基、エチルアミノヘキシル基、メチルアミノデ
シル基等が挙げられ、ジアルキルアミノアルキル基とし
ては、例えば、ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミ
ノメチル基、メチルブチルアミノメチル基、メチルヘキ
シルアミノエチル基、ジプロピルアミノブチル基、ジエ
チルアミノヘキシル基、ジメチルアミノデシル基等が挙
げられる。アルキルアミノ基としては、上記の具体例の
他、例えば、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、デ
シルアミノ基等が挙げられ、ジアルキルアミノ基として
は、例えば、ジヘプチルアミノ基、メチルオクチルアミ
ノ基、エチルデシルアミノ基等が挙げられる。 −N=CHR基としては、例えば、−N=CHCH3 、
−N=CHC2 H5 、−N=CHC3 H7 、−N=CH
C6 H13、−N=CHC10H21、−N=CRR’基とし
ては、例えば、−N=C(CH3 )2、−N=C( C2 H5)
2 、−N=C( CH3 ) C2 H5 、−N=C( CH3 )
C6 H13、−N=C( CH3 ) C10H21基等が挙げられ
る。
【0010】アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子も
しくはアルキル基で置換されていてもよい、フェニル基
もしくはフェニルアルキル基としては、上記の具体例の
他、例えば、3−メトキシカルボニルフェニル基、4−
i-プロポキシカルボニルフェニル基、3−ヘキシルオキ
シカルボニルフェニル基、フェニル基メチル基、フェニ
ル基エチル基、フェニル基ヘキシル基、フェニルデシル
基、2−メトキシカルボニルフェニルエチル基、2−エ
トキシカルボニルフェニルブチル基、2−n-プロポキシ
カルボニルフェニルメチル基、2−ヘキシルオキシカル
ボニルフェニルヘキシル基、2−メトキシカルボニルフ
ェニルデシル基、2−フルオロフェニルブチル基、3−
フルオロフェニルメチル基、2−クロロフェニルヘキシ
ル基、3−ブロモフェニルデシル基、2,4−ジクロロ
フェニエチル基、2,4,5−トリクロロフェニルエチ
ル基、2−メチルフェニルエチル基、3−エチルフェニ
ルヘキシル基、4−ヘキシルフェニルブチル基、2−メ
チルフェニルデシル基、2,6−ジメチルフェニル基エ
チル基、2−クロロ,4−メチルフェニルエチル基、2
−フルオロ,4−メトキシカルボニルフェニルエチル基
等が挙げられる。
しくはアルキル基で置換されていてもよい、フェニル基
もしくはフェニルアルキル基としては、上記の具体例の
他、例えば、3−メトキシカルボニルフェニル基、4−
i-プロポキシカルボニルフェニル基、3−ヘキシルオキ
シカルボニルフェニル基、フェニル基メチル基、フェニ
ル基エチル基、フェニル基ヘキシル基、フェニルデシル
基、2−メトキシカルボニルフェニルエチル基、2−エ
トキシカルボニルフェニルブチル基、2−n-プロポキシ
カルボニルフェニルメチル基、2−ヘキシルオキシカル
ボニルフェニルヘキシル基、2−メトキシカルボニルフ
ェニルデシル基、2−フルオロフェニルブチル基、3−
フルオロフェニルメチル基、2−クロロフェニルヘキシ
ル基、3−ブロモフェニルデシル基、2,4−ジクロロ
フェニエチル基、2,4,5−トリクロロフェニルエチ
ル基、2−メチルフェニルエチル基、3−エチルフェニ
ルヘキシル基、4−ヘキシルフェニルブチル基、2−メ
チルフェニルデシル基、2,6−ジメチルフェニル基エ
チル基、2−クロロ,4−メチルフェニルエチル基、2
−フルオロ,4−メトキシカルボニルフェニルエチル基
等が挙げられる。
【0011】次に製造法について詳しく説明する。本発
明化合物は、一般式 化9
明化合物は、一般式 化9
【化9】 〔式中、R 1、R 2、R3 ,R4 およびR 5は前記と同
じ意味を表わす。〕で示されるジヒドロキノリン誘導体
と一般式 化10
じ意味を表わす。〕で示されるジヒドロキノリン誘導体
と一般式 化10
【0012】
【化10】 [式中、R6 及びX は前記と同じ意味を表わし、W1はハ
ロゲン原子を表わす。〕で示される芳香族ハライド誘導
体とを反応させることによって製造することができる。
この反応は、通常、無溶媒または溶媒中、脱ハロゲン化
水素剤の存在下で行い、反応温度の範囲は室温〜溶媒の
沸点、反応時間の範囲は1〜24時間であり、反応に供
される試剤の量は、一般式化9で示されるジヒドロキノ
リン誘導体1当量に対して一般式化10で示される芳香
族ハライド誘導体は1〜3当量、脱ハロゲン化水素剤は
1〜5当量である。溶媒を用いる場合、用いうる溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ニト
ロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類、アセト
ニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジエチルアニリン、ト
リブチルアミン、N−メチルモルホリン等の第三級アミ
ン、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ア
セトアミド等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スル
ホラン等の硫黄化合物、水等あるいは、それらの混合物
があげられる。脱ハロゲン化水素剤を用いる場合、用い
うる脱ハロゲン化水素剤としては、ピリジン、トリエチ
ルアミン、N,Nジエチルアニリン、4−(N,N ジ
メチルアミノ)ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基等が
あげられる。反応終了後の反応液は、水を加えて、有機
溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作によっ
て精製することにより、目的の本発明化合物を得ること
ができる。
ロゲン原子を表わす。〕で示される芳香族ハライド誘導
体とを反応させることによって製造することができる。
この反応は、通常、無溶媒または溶媒中、脱ハロゲン化
水素剤の存在下で行い、反応温度の範囲は室温〜溶媒の
沸点、反応時間の範囲は1〜24時間であり、反応に供
される試剤の量は、一般式化9で示されるジヒドロキノ
リン誘導体1当量に対して一般式化10で示される芳香
族ハライド誘導体は1〜3当量、脱ハロゲン化水素剤は
1〜5当量である。溶媒を用いる場合、用いうる溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ニト
ロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類、アセト
ニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジエチルアニリン、ト
リブチルアミン、N−メチルモルホリン等の第三級アミ
ン、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ア
セトアミド等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スル
ホラン等の硫黄化合物、水等あるいは、それらの混合物
があげられる。脱ハロゲン化水素剤を用いる場合、用い
うる脱ハロゲン化水素剤としては、ピリジン、トリエチ
ルアミン、N,Nジエチルアニリン、4−(N,N ジ
メチルアミノ)ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基等が
あげられる。反応終了後の反応液は、水を加えて、有機
溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作によっ
て精製することにより、目的の本発明化合物を得ること
ができる。
【0013】また、本発明化合物のうち、一般式化4に
おいてR6 がCOOH基である化合物(化合物Iと称す
る)は、一般式化11
おいてR6 がCOOH基である化合物(化合物Iと称す
る)は、一般式化11
【化11】 〔式中、R 1、R 2、R3 ,R4 、R 5およびXは前記
と同じ意味を表わし、R10はC1−C6アルキル基、C
1−C6アルケニル基、C1−C6アルキニル基、ハロ
C1−C6アルキル基、ハロC1−C6アルケニル基、
ハロC1−C6アルキニル基、C3−C6シクロアルキ
ル基、C3−C6シクロアルケニル基、C1−C6アル
コキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミ
ノC1−C6アルキル基を表わすか、ハロゲン原子もし
くはC1−C6アルキル基で置換されていてもよいフェ
ニル基を表わすか、または、フェニルC1−C6アルキ
ル基、フリルC1−C6アルキル基またはチエニルC1
−C6アルキル基を表わす。〕で示される化合物を加水
分解することによっても製造できる。この反応は、通
常、無溶媒または溶媒中、水、酸または塩基の存在下で
行い、反応温度の範囲は室温〜溶媒の沸点、反応時間の
範囲は5分〜24時間であり、反応に供される試剤の量
は、一般式化11で示されるジヒドロキノリン誘導体1
当量に対して水は、1−1000当量、酸および塩基は
0.01〜100当量である。塩基を用いる場合、用い
うる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、N,
N−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水素化ナトリウム等の無機塩基、メトキシナトリウム、
エトキシナトリウム等のアルカリ金属アルコキサイド等
が挙げられる。酸を用いる場合、用いうる酸としては、
塩化亜鉛、塩化アルミニウム等のルイス酸、塩酸、硫
酸、硝酸等の無機酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸等
の有機酸等が挙げられる。溶媒を用いる場合、用いうる
溶媒としては、前記と同じものが挙げられる。反応終了
後の反応液は、水を加えて、有機溶媒抽出および濃縮等
の通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的の本発明化合物を得ることができる。また、本
発明化合物のうち、一般式化4においてR6 が化5また
は化6で示される基である(但し、R6 はCOOH基で
はない。)化合物は、化合物Iと、酸ハロゲン化剤また
は活性エステル化剤とを反応させ(反応(i))た後、
引き続き、該反応生成物と一般式 化12
と同じ意味を表わし、R10はC1−C6アルキル基、C
1−C6アルケニル基、C1−C6アルキニル基、ハロ
C1−C6アルキル基、ハロC1−C6アルケニル基、
ハロC1−C6アルキニル基、C3−C6シクロアルキ
ル基、C3−C6シクロアルケニル基、C1−C6アル
コキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルキルアミ
ノC1−C6アルキル基を表わすか、ハロゲン原子もし
くはC1−C6アルキル基で置換されていてもよいフェ
ニル基を表わすか、または、フェニルC1−C6アルキ
ル基、フリルC1−C6アルキル基またはチエニルC1
−C6アルキル基を表わす。〕で示される化合物を加水
分解することによっても製造できる。この反応は、通
常、無溶媒または溶媒中、水、酸または塩基の存在下で
行い、反応温度の範囲は室温〜溶媒の沸点、反応時間の
範囲は5分〜24時間であり、反応に供される試剤の量
は、一般式化11で示されるジヒドロキノリン誘導体1
当量に対して水は、1−1000当量、酸および塩基は
0.01〜100当量である。塩基を用いる場合、用い
うる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、N,
N−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水素化ナトリウム等の無機塩基、メトキシナトリウム、
エトキシナトリウム等のアルカリ金属アルコキサイド等
が挙げられる。酸を用いる場合、用いうる酸としては、
塩化亜鉛、塩化アルミニウム等のルイス酸、塩酸、硫
酸、硝酸等の無機酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸等
の有機酸等が挙げられる。溶媒を用いる場合、用いうる
溶媒としては、前記と同じものが挙げられる。反応終了
後の反応液は、水を加えて、有機溶媒抽出および濃縮等
の通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等の操作によって精製することによ
り、目的の本発明化合物を得ることができる。また、本
発明化合物のうち、一般式化4においてR6 が化5また
は化6で示される基である(但し、R6 はCOOH基で
はない。)化合物は、化合物Iと、酸ハロゲン化剤また
は活性エステル化剤とを反応させ(反応(i))た後、
引き続き、該反応生成物と一般式 化12
【化12】HYR7〔式中、Y,R7 は前記と同じ意味
を表わす。但し、−YR7 は−OH基ではない。〕で示
される化合物または一般式化13
を表わす。但し、−YR7 は−OH基ではない。〕で示
される化合物または一般式化13
【化13】HNR8 R 9 〔式中、R8 ,R 9は前記と同じ意味を表わす。〕で示
される化合物とを反応させる(反応(ii))ことによっ
ても製造することができる。上記反応(i)において、
酸ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、臭化チオニ
ル、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化
リン、ホスゲン、シュウ酸ジクロリド等が挙げられる。
また活性エステル化剤としては、N,N’−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロピルカル
ボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプ
ロピル)カルボジイミド塩酸塩などのN,N’−ジ置換
カルボジイミド、塩化2、4、6、−トリメチルベンゼ
ンスルニル、塩化2、4、6、−トリイソプロピルベン
ゼンスルホニル等の塩化アリールスルホニル、N,N’
−カルボニルジイミダゾール、ジフェニルホスホリルア
ジド、N−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2
−ジヒドロキノリン、N−エチル−2’−ヒドロキシベ
ンズイソキサソリウムトリフルオロホウ酸塩、N−エチ
ル−5−フェニルイソキサソリウム−3’スルホン酸塩
などが挙げられる。かかる反応により、反応系中におい
て、一般式 化14
される化合物とを反応させる(反応(ii))ことによっ
ても製造することができる。上記反応(i)において、
酸ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、臭化チオニ
ル、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化
リン、ホスゲン、シュウ酸ジクロリド等が挙げられる。
また活性エステル化剤としては、N,N’−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロピルカル
ボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプ
ロピル)カルボジイミド塩酸塩などのN,N’−ジ置換
カルボジイミド、塩化2、4、6、−トリメチルベンゼ
ンスルニル、塩化2、4、6、−トリイソプロピルベン
ゼンスルホニル等の塩化アリールスルホニル、N,N’
−カルボニルジイミダゾール、ジフェニルホスホリルア
ジド、N−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2
−ジヒドロキノリン、N−エチル−2’−ヒドロキシベ
ンズイソキサソリウムトリフルオロホウ酸塩、N−エチ
ル−5−フェニルイソキサソリウム−3’スルホン酸塩
などが挙げられる。かかる反応により、反応系中におい
て、一般式 化14
【化14】 〔式中、R 1、R 2、R3 ,R4 、R 5およびXは前記
と同じ意味を表わす。〕で示される化合物が生成する。
と同じ意味を表わす。〕で示される化合物が生成する。
【0014】上記反応において置換基Wは、酸ハロゲン
化剤を用いた場合にはハロゲン原子を表し、また活性エ
ステル化剤として、例えば、N,N’−ジ置換カルボジ
イミドを用いた場合には、N,N’−ジ置換−2−イソ
ウレイド基を表し、塩化アリールスルホニルを用いた場
合には、アリールスルホニルオキシ基を表し、N,N’
−カルボニルジイミダゾールを用いた場合には、イミダ
ゾリル基を表し、ジフェニルホスホリルアジドを用いた
場合には、アジド基を表し、N−エトキシカルボニル−
2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノリンを用いた場合
には、エトキシカルボニルオキシ基を表し、N−エチル
−2’−ヒドロキシベンズイソキサゾリウムトリフルオ
ロホウ酸塩を用いた場合には、3−(N−エチルアミノ
カルボニル)−2−ヒドロキシフェノキシ基を表し、N
−エチル−5−フェニルイソキサゾリウム−3’−スル
ホン酸塩を用いた場合には、化15
化剤を用いた場合にはハロゲン原子を表し、また活性エ
ステル化剤として、例えば、N,N’−ジ置換カルボジ
イミドを用いた場合には、N,N’−ジ置換−2−イソ
ウレイド基を表し、塩化アリールスルホニルを用いた場
合には、アリールスルホニルオキシ基を表し、N,N’
−カルボニルジイミダゾールを用いた場合には、イミダ
ゾリル基を表し、ジフェニルホスホリルアジドを用いた
場合には、アジド基を表し、N−エトキシカルボニル−
2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノリンを用いた場合
には、エトキシカルボニルオキシ基を表し、N−エチル
−2’−ヒドロキシベンズイソキサゾリウムトリフルオ
ロホウ酸塩を用いた場合には、3−(N−エチルアミノ
カルボニル)−2−ヒドロキシフェノキシ基を表し、N
−エチル−5−フェニルイソキサゾリウム−3’−スル
ホン酸塩を用いた場合には、化15
【化15】 で示される基を表わす。また、反応系中においてWは、
化16
化16
【化16】 〔式中、R 1、R 2、R3 ,R4 、R 5およびXは前記
と同じ意味を表わす。〕で示される酸無水物の形をも取
り得る。上記酸ハロゲン化剤または活性エステル化剤の
使用量は、通常、化合物I1当量に対し、1〜10当量
である。また、一般式 化12または化13で示される
化合物の使用量は、通常、化合物I1当量に対して、1
〜5当量である。尚、反応(i)および(ii)は、必要
に応じ塩基の存在下で行うこともできる。かかる塩基と
しては、1−メチルイミダゾール、3−ニトロ−1H−
1,2,4−トリアゾール、1H−テトラゾール、1H
−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、ピリジ
ン、トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム等の
無機塩基が挙げられ、その使用量は、化合物I1当量に
対し、1〜20当量である。反応(i)および(ii)
は、通常、不活性溶媒の存在下で行われ、そのような溶
媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン
類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、
アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、
ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジエチルアニリ
ン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン等の第三
級アミン、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物
等もしくは、それらの混合物が挙げられる。また、一般
に、反応温度は反応(i)および(ii)ともに、0℃〜
溶媒の沸点であり、反応時間は反応(i)および(ii)
につき、各々1時間〜24時間であり、反応(i)およ
び(ii)を通して1時間〜48時間程度である。反応終
了後は、水を加えて有機溶媒抽出および濃縮等の通常の
後処理を行い、必要に応じクロマトグラフィー、蒸留、
再結晶等の操作にて精製することにより目的の本発明化
合物を得ることができる。なお、本発明化合物は、光学
異性体を有するが、これらの除草活性を有する光学異性
体もすべて本発明に含まれる。本発明化合物を製造する
場合、原料化合物である一般式化9で示されるジヒドロ
キノリン誘導体は、Journal of Medicinal Chemistry,
16 251(1973) に記載された方法に準じて製造できる。
と同じ意味を表わす。〕で示される酸無水物の形をも取
り得る。上記酸ハロゲン化剤または活性エステル化剤の
使用量は、通常、化合物I1当量に対し、1〜10当量
である。また、一般式 化12または化13で示される
化合物の使用量は、通常、化合物I1当量に対して、1
〜5当量である。尚、反応(i)および(ii)は、必要
に応じ塩基の存在下で行うこともできる。かかる塩基と
しては、1−メチルイミダゾール、3−ニトロ−1H−
1,2,4−トリアゾール、1H−テトラゾール、1H
−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、ピリジ
ン、トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム等の
無機塩基が挙げられ、その使用量は、化合物I1当量に
対し、1〜20当量である。反応(i)および(ii)
は、通常、不活性溶媒の存在下で行われ、そのような溶
媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン
類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、
アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、
ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジエチルアニリ
ン、トリブチルアミン、N−メチルモルホリン等の第三
級アミン、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物
等もしくは、それらの混合物が挙げられる。また、一般
に、反応温度は反応(i)および(ii)ともに、0℃〜
溶媒の沸点であり、反応時間は反応(i)および(ii)
につき、各々1時間〜24時間であり、反応(i)およ
び(ii)を通して1時間〜48時間程度である。反応終
了後は、水を加えて有機溶媒抽出および濃縮等の通常の
後処理を行い、必要に応じクロマトグラフィー、蒸留、
再結晶等の操作にて精製することにより目的の本発明化
合物を得ることができる。なお、本発明化合物は、光学
異性体を有するが、これらの除草活性を有する光学異性
体もすべて本発明に含まれる。本発明化合物を製造する
場合、原料化合物である一般式化9で示されるジヒドロ
キノリン誘導体は、Journal of Medicinal Chemistry,
16 251(1973) に記載された方法に準じて製造できる。
【0015】本発明化合物は、優れた除草効力を有し、
また、あるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。
すなわち本発明化合物は、畑地(畦畔や休耕地等も含
む)の茎葉処理および土壌処理において、次にあげるよ
うな問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。 タデ科雑草 ソバカズラ(Polygonum convolvulus) 、サナエタデ(Pol
ygonum lapathifolium) 、アメリカサナエタデ(Polygon
um pensylvanicum) 、ハルタデ(Polygonum persicari
a)、ナガバギシギシ(Rumex crispus) 、エゾノギシギシ
(Rumex obtusifolius)、 スベリヒユ科雑草 スベリヒユ(Portulaca oleracea) ナデシコ科雑草 ハコベ(Stellaria media) アカザ科雑草 シロザ(Chenopodium album) 、ホウキギ(Kochia scopar
ia) ヒユ科雑草 アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲ
イトウ(Amaranthus hybridns) アブラナ科雑草 ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum) 、ノハ
ラガラシ(Brassica Kaber)、ナズナ(Capsella bursa-pa
storis) マメ科雑草 アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata) 、エビスグ
サ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガーウィード(Des
modium tortuosum) 、シロツメクサ(Trifoliumrepens) アオイ科雑草 イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(S
ida spinosa) スミレ科雑草 フィールドパンジー(Viola arvensis)、ワイルドパンジ
ー(Viola tricolor) アカネ科雑草 ヤエムグラ(Galium aparine) ヒルガオ科雑草 アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea) 、マルバアサガ
オ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomo
ea hederacea var.integriuscula )、マメアサガオ(Ipo
moea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arven
sis) シソ科雑草 ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lam
ium amplexicaure) ナス科雑草 シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium) 、イ
ヌホオズキ(Solanum nigrum) ゴマノハグサ科雑草 オオイヌノフグリ(Veronica persica)、フラサバソウ(V
eronica hederaefolia) キク科雑草 オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Hel
ianthus annuus) 、イヌカミツレ(Matricaria inodor
a)、コーンマリーゴールド(Chrysanthemum segetum) 、
オロシャギク(Matricaria matricarioides) 、ブタクサ
(Ambrosia artemisiifolia) 、オオブタクサ(Ambrosia
trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis) ムラサキ科雑草 ワスレナグサ(Myosotis arvensis) ガガイモ科雑草 オオトウワタ(Asclepias syriaca) トウダイグサ科雑草 トウダイグサ(Euphorbia helioscopia) 、オオニシキソ
ウ(Euphorbia maculata) イネ科雑草 イヌビエ(Echinochloa crus-galli)、エノコログサ(Set
aria viridis) 、アキノエノコログサ(Setaria faber
i)、メヒシバ(Digitaria sanquinalis) 、オヒシバ(Ele
usine indica) 、スズメノカタビラ(Poa annua) 、ブラ
ックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Ave
na fatua) 、セイバンモロコシ(Sorghum halepense) 、
シバムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus
tectorum)、ギョウギシバ(Cynodon dactylon)、オオク
サキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム
(Panicum texanum) 、シャターケーン(Sorghum vulgar
e) ツユクサ科雑草 ツユクサ(Commelina communis) トクサ科雑草 スギナ(Equisetum arvense) カヤツリグサ科雑草 コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rot
undus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus) しかも、本発明化合物中のあるものは、トウモロコシ(Z
ea mays)、コムギ(Triticum aestivum) 、オオムギ(Hor
deum vulgare) 、イネ(Oryza sativa)、ダイズ(Glycine
max) 、ワタ(Gossypium spp.)、テンサイ(Beta vulgar
is) 、ピーナッツ(Arachis hypogaea)、ヒマワリ(Helia
nthus annuus) 、ナタネ(Brassica napus)等の主要作
物、花卉・蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような
薬害を示さない。また、本発明化合物は、ダイズ、ピー
ナッツ、トウモロコシ等の不耕起栽培において、問題と
なる種々の雑草を効果的に除草することができる。しか
も、本発明化合物中のあるものは、これらの作物に対し
ては問題となるような薬害を示さない。また、本発明化
合物は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題
となる種々の雑草に対して除草効力を有する。 イネ科雑草 タイヌビエ(Echinochloa oryzicola) ゴマノハグサ科雑草 アゼナ(Lindernia procumbens) ミソハギ科雑草 キカシグサ(Rotala indica) 、ヒメミソハギ(Ammannia
multiflora) ミゾハコベ科雑草 ミゾハコベ(Elatine triandra) カヤツリグサ科雑草 タマガヤツリ(Cyperus difformis) 、ホタルイ(Scirpus
juncoides) 、マツバイ(Eleocharis acicularis) 、ミ
ズガヤツリ(Cyperus serotinus) 、クログワイ(Eleocha
ris kuroguwai) ミズアオイ科雑草 コナギ(Monochoria vaginalis) オモダカ科雑草 ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria
trifolia) 、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum) ヒルムシロ科雑草 ヒルムシロ(Potamogeton distinctus) セリ科雑草 セリ(Oenanthe javanica) しかも、本発明化合物中のあるものは、移植水稲または
直播水稲に対して問題となるような薬害を示さない。さ
らに、本発明化合物は、樹園地、牧草地、芝生地、林業
地または水路、運河あるいはその他の非農耕地に発生す
る広範囲の雑草を除草できる。
また、あるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。
すなわち本発明化合物は、畑地(畦畔や休耕地等も含
む)の茎葉処理および土壌処理において、次にあげるよ
うな問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。 タデ科雑草 ソバカズラ(Polygonum convolvulus) 、サナエタデ(Pol
ygonum lapathifolium) 、アメリカサナエタデ(Polygon
um pensylvanicum) 、ハルタデ(Polygonum persicari
a)、ナガバギシギシ(Rumex crispus) 、エゾノギシギシ
(Rumex obtusifolius)、 スベリヒユ科雑草 スベリヒユ(Portulaca oleracea) ナデシコ科雑草 ハコベ(Stellaria media) アカザ科雑草 シロザ(Chenopodium album) 、ホウキギ(Kochia scopar
ia) ヒユ科雑草 アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲ
イトウ(Amaranthus hybridns) アブラナ科雑草 ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum) 、ノハ
ラガラシ(Brassica Kaber)、ナズナ(Capsella bursa-pa
storis) マメ科雑草 アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata) 、エビスグ
サ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガーウィード(Des
modium tortuosum) 、シロツメクサ(Trifoliumrepens) アオイ科雑草 イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(S
ida spinosa) スミレ科雑草 フィールドパンジー(Viola arvensis)、ワイルドパンジ
ー(Viola tricolor) アカネ科雑草 ヤエムグラ(Galium aparine) ヒルガオ科雑草 アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea) 、マルバアサガ
オ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomo
ea hederacea var.integriuscula )、マメアサガオ(Ipo
moea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arven
sis) シソ科雑草 ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lam
ium amplexicaure) ナス科雑草 シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium) 、イ
ヌホオズキ(Solanum nigrum) ゴマノハグサ科雑草 オオイヌノフグリ(Veronica persica)、フラサバソウ(V
eronica hederaefolia) キク科雑草 オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Hel
ianthus annuus) 、イヌカミツレ(Matricaria inodor
a)、コーンマリーゴールド(Chrysanthemum segetum) 、
オロシャギク(Matricaria matricarioides) 、ブタクサ
(Ambrosia artemisiifolia) 、オオブタクサ(Ambrosia
trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis) ムラサキ科雑草 ワスレナグサ(Myosotis arvensis) ガガイモ科雑草 オオトウワタ(Asclepias syriaca) トウダイグサ科雑草 トウダイグサ(Euphorbia helioscopia) 、オオニシキソ
ウ(Euphorbia maculata) イネ科雑草 イヌビエ(Echinochloa crus-galli)、エノコログサ(Set
aria viridis) 、アキノエノコログサ(Setaria faber
i)、メヒシバ(Digitaria sanquinalis) 、オヒシバ(Ele
usine indica) 、スズメノカタビラ(Poa annua) 、ブラ
ックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Ave
na fatua) 、セイバンモロコシ(Sorghum halepense) 、
シバムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus
tectorum)、ギョウギシバ(Cynodon dactylon)、オオク
サキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム
(Panicum texanum) 、シャターケーン(Sorghum vulgar
e) ツユクサ科雑草 ツユクサ(Commelina communis) トクサ科雑草 スギナ(Equisetum arvense) カヤツリグサ科雑草 コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rot
undus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus) しかも、本発明化合物中のあるものは、トウモロコシ(Z
ea mays)、コムギ(Triticum aestivum) 、オオムギ(Hor
deum vulgare) 、イネ(Oryza sativa)、ダイズ(Glycine
max) 、ワタ(Gossypium spp.)、テンサイ(Beta vulgar
is) 、ピーナッツ(Arachis hypogaea)、ヒマワリ(Helia
nthus annuus) 、ナタネ(Brassica napus)等の主要作
物、花卉・蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような
薬害を示さない。また、本発明化合物は、ダイズ、ピー
ナッツ、トウモロコシ等の不耕起栽培において、問題と
なる種々の雑草を効果的に除草することができる。しか
も、本発明化合物中のあるものは、これらの作物に対し
ては問題となるような薬害を示さない。また、本発明化
合物は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題
となる種々の雑草に対して除草効力を有する。 イネ科雑草 タイヌビエ(Echinochloa oryzicola) ゴマノハグサ科雑草 アゼナ(Lindernia procumbens) ミソハギ科雑草 キカシグサ(Rotala indica) 、ヒメミソハギ(Ammannia
multiflora) ミゾハコベ科雑草 ミゾハコベ(Elatine triandra) カヤツリグサ科雑草 タマガヤツリ(Cyperus difformis) 、ホタルイ(Scirpus
juncoides) 、マツバイ(Eleocharis acicularis) 、ミ
ズガヤツリ(Cyperus serotinus) 、クログワイ(Eleocha
ris kuroguwai) ミズアオイ科雑草 コナギ(Monochoria vaginalis) オモダカ科雑草 ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria
trifolia) 、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum) ヒルムシロ科雑草 ヒルムシロ(Potamogeton distinctus) セリ科雑草 セリ(Oenanthe javanica) しかも、本発明化合物中のあるものは、移植水稲または
直播水稲に対して問題となるような薬害を示さない。さ
らに、本発明化合物は、樹園地、牧草地、芝生地、林業
地または水路、運河あるいはその他の非農耕地に発生す
る広範囲の雑草を除草できる。
【0016】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合は、通常、固体担体、液体担体、界面活性剤そ
の他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁
剤、粒剤、顆粒水和剤等に製剤し除草剤の有効成分とし
て用いる。 これらの製剤には有効成分として本発明化
合物を、重量比で0.03〜75%、好ましくは0.05〜
70%含有する。固体担体としては、カオリンクレー、
アタパルジャイトクレー、ベントナイト、酸性白土、パ
イロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微
粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有
機物微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および
合成含水酸化珪素等の微粉末等が挙げられ、液体担体と
しては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、
キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
イソプロパノール、エチレングリコール、2−エトキシ
エタノール等のアルコール類、フタル酸ジアルキルエス
テル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、
棉実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、N−メチルピロ
リドン、水等が挙げられる。乳化、分散、湿展等のため
に用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステ
ル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホ
ン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチ
レンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の陰
イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポ
リオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリ
マー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が
挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、リグニン
スルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、
アラビアガム、CMC(カルボキシメチルセルロー
ス)、PAP(酸性リン酸イソプロピル)等が挙げられ
る。本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前また
は出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土
壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎
葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付
着しないよう雑草に限って処理する局部処理等がある。
また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効
力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土
壌改良剤等と混合して用いることもできる。本発明化合
物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処理量
は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場所、対象
雑草、対象作物等によっても異なるが、通常1ヘクター
ルあたり10g〜10000g、好ましくは、20g〜800
0gであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、水和粒剤等は、通
常その所定量を1ヘクタール当たり10リットル〜10
00リットルの(必要ならば、展着剤等の補助剤を添加
した)水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈
することなくそのまま処理する。補助剤としては、前記
の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸(エステ
ル)、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフ
チルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセント
レイト(crop oil concentrate)、大豆油、コーン油、棉
実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。
いる場合は、通常、固体担体、液体担体、界面活性剤そ
の他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁
剤、粒剤、顆粒水和剤等に製剤し除草剤の有効成分とし
て用いる。 これらの製剤には有効成分として本発明化
合物を、重量比で0.03〜75%、好ましくは0.05〜
70%含有する。固体担体としては、カオリンクレー、
アタパルジャイトクレー、ベントナイト、酸性白土、パ
イロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微
粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有
機物微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および
合成含水酸化珪素等の微粉末等が挙げられ、液体担体と
しては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、
キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
イソプロパノール、エチレングリコール、2−エトキシ
エタノール等のアルコール類、フタル酸ジアルキルエス
テル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、
棉実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、N−メチルピロ
リドン、水等が挙げられる。乳化、分散、湿展等のため
に用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステ
ル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホ
ン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチ
レンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の陰
イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポ
リオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリ
マー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が
挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、リグニン
スルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、
アラビアガム、CMC(カルボキシメチルセルロー
ス)、PAP(酸性リン酸イソプロピル)等が挙げられ
る。本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前また
は出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土
壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎
葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付
着しないよう雑草に限って処理する局部処理等がある。
また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効
力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土
壌改良剤等と混合して用いることもできる。本発明化合
物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処理量
は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場所、対象
雑草、対象作物等によっても異なるが、通常1ヘクター
ルあたり10g〜10000g、好ましくは、20g〜800
0gであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、水和粒剤等は、通
常その所定量を1ヘクタール当たり10リットル〜10
00リットルの(必要ならば、展着剤等の補助剤を添加
した)水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈
することなくそのまま処理する。補助剤としては、前記
の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸(エステ
ル)、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフ
チルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセント
レイト(crop oil concentrate)、大豆油、コーン油、棉
実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。
【0017】
【発明の効果】本発明化合物は、畑地の土壌処理および
茎葉処理、さらに水田の湛水処理において問題となる種
々の雑草に対して優れた除草効力を有し、除草剤の有効
成分として種々の用途に用いることができる。
茎葉処理、さらに水田の湛水処理において問題となる種
々の雑草に対して優れた除草効力を有し、除草剤の有効
成分として種々の用途に用いることができる。
【0018】
【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例および試験例
により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の
製造例を示す。 製造例1 ニコチン酸クロリド塩酸塩5.34gを塩化メチレン5
0mlに懸濁させ、これにトリエチルアミン7.56g
を加えた。室温で30分間攪拌した後、6−クロロ−
2,2−ジメチル−1,2−ジヒドロキノリン3.88
gを塩化メチレン20mlに溶かして加えた。さらに、
4−ジメチルアミノピリジン1.00gを加えた。7時
間還流した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた。減圧下に溶媒を留去し、得られた残さを薄層ク
ロマトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン
(1:1(V/V))に付し、6−クロロ−2,2−ジ
メチル−1−ニコチノイル−1,2ジヒドロキノリン
(本発明化合物(1))1.01gを得た。1 H-NMR(CDCl3 ) δ:1.67(s,6H) 5.92(d,1H,J=10.0Hz) 6.48(d,1H,J=10.0Hz) 6.25 〜7.44(m,4H) 7.85 〜8.07(m,1H) 8.66 〜8.86(m,2H) 製造例2 ピラジンカルボン酸クロリド1.43gを塩化メチレン
20mlに溶解し、これにトリエチルアミン1.21g
を加えた。室温で30分間攪拌した後、6−メチル−
2,2−ジメチル−1,2−ジヒドロキノリン1.73
gを塩化メチレン5mlに溶かして加えた。さらに、4
−ジメチルアミノピリジン0.3gを加えた。7時間還
流した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
た。減圧下に溶媒を留去し、得られた残さを薄層クロマ
トグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン
(1:1(V/V))に付し、6−メチル−2,2−ジ
メチル−1−ピラジンカルボニル−1,2ジヒドロキノ
リン(本発明化合物(7))0.76gを得た。1 H-NMR(CDCl3 ) δ:1.63(s,6H) 2.08(s,3H) 5.63(d,1H,J=10.0Hz) 6.23(d,1H,J=10.0Hz) 5.97 〜8.00(m,3H) 8.23(s,2H) 8.50(s,1H) 製造例3 1N水酸化ナトリウム水溶液20mlにメタノール20
mlを加え、これに本発明化合物(28)3.56gを
加えた。60〜80℃で1時間加熱攪拌した後、大部分
のメタノールを減圧留去した後、水を注ぎ、濃塩酸を用
いて、弱酸性にした。析出した固体をグラスフィルター
でろ過することによって取り出し、減圧下50℃で乾燥
し、6−クロロ−2,2−ジメチル−1−(4−カルボ
キシニコチノイル)−1,2−ジヒドロキノリン(本発
明化合物(30))2.90g を得た。1 H-NMR(DMSO-d6)δ:1.62(s,6H) 5.90(d,1H,J=10.0Hz) 6.48(d,1H,J=10.0Hz) 6.65 〜8.17(m,3H) 7.58(d,1H,J=5.0Hz) 8.20(s,1H) 8.63(d,1H,J=5.0Hz) 製造例4 6−クロロ−2,2−ジメチル−1−(4−カルボキシ
ニコチノイル)−1,2ジヒドロキノリン(本発明化合
物(30))1.03gをテトラヒドロフラン30mlに
溶解し、これにメシチレンスルホニルクロリド0.98g 、
1-メチルイミダゾール 0.73gを加えた。室温で1
0分攪拌した後、塩酸モノメチルアミン0.22g,トリエチ
ルアミン0.34g を加え、室温で15分攪拌した。反応液を
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。得られた残さ
を薄層クロマトグラフィー( シリカゲル クロロホルム
/ メタノール 9:1(V/V))に付し、6−クロロ−2,2−
ジメチル−1−(4−N-メチルカルバモイルニコチノイ
ル)−1,2−ジヒドロキノリン(本発明化合物(7
2))0.80gを得た。1 H-NMR(CDCl3 ) δ:1.66(s,6H) 3.05(d,3H,J=4.89Hz) 5.86(d,1H,J=9.68Hz) 6.36(d,1H,J=9.68Hz) 6.50(br.d,1H,J=4.89Hz) 6.75(dd 1H,J1=8.57Hz,J2=2.45Hz) 6.98(d,1H,J=2.45Hz) 7.09(d,1H,J=8.57Hz) 7.33(d,1H,J=4.96Hz) 8.30(s,1H) 8.56(d,1H,J=4.96Hz) 次に、上記の製造例1.2に準じて製造できる本発明化
合物およびその物性を表1−24に示す。なお、表中、
R6 がCOOH基である化合物は製造例3、R6 が化5
または化6で示される基である化合物は製造例4に準じ
て製造することもできる。
により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の
製造例を示す。 製造例1 ニコチン酸クロリド塩酸塩5.34gを塩化メチレン5
0mlに懸濁させ、これにトリエチルアミン7.56g
を加えた。室温で30分間攪拌した後、6−クロロ−
2,2−ジメチル−1,2−ジヒドロキノリン3.88
gを塩化メチレン20mlに溶かして加えた。さらに、
4−ジメチルアミノピリジン1.00gを加えた。7時
間還流した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた。減圧下に溶媒を留去し、得られた残さを薄層ク
ロマトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン
(1:1(V/V))に付し、6−クロロ−2,2−ジ
メチル−1−ニコチノイル−1,2ジヒドロキノリン
(本発明化合物(1))1.01gを得た。1 H-NMR(CDCl3 ) δ:1.67(s,6H) 5.92(d,1H,J=10.0Hz) 6.48(d,1H,J=10.0Hz) 6.25 〜7.44(m,4H) 7.85 〜8.07(m,1H) 8.66 〜8.86(m,2H) 製造例2 ピラジンカルボン酸クロリド1.43gを塩化メチレン
20mlに溶解し、これにトリエチルアミン1.21g
を加えた。室温で30分間攪拌した後、6−メチル−
2,2−ジメチル−1,2−ジヒドロキノリン1.73
gを塩化メチレン5mlに溶かして加えた。さらに、4
−ジメチルアミノピリジン0.3gを加えた。7時間還
流した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
た。減圧下に溶媒を留去し、得られた残さを薄層クロマ
トグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン
(1:1(V/V))に付し、6−メチル−2,2−ジ
メチル−1−ピラジンカルボニル−1,2ジヒドロキノ
リン(本発明化合物(7))0.76gを得た。1 H-NMR(CDCl3 ) δ:1.63(s,6H) 2.08(s,3H) 5.63(d,1H,J=10.0Hz) 6.23(d,1H,J=10.0Hz) 5.97 〜8.00(m,3H) 8.23(s,2H) 8.50(s,1H) 製造例3 1N水酸化ナトリウム水溶液20mlにメタノール20
mlを加え、これに本発明化合物(28)3.56gを
加えた。60〜80℃で1時間加熱攪拌した後、大部分
のメタノールを減圧留去した後、水を注ぎ、濃塩酸を用
いて、弱酸性にした。析出した固体をグラスフィルター
でろ過することによって取り出し、減圧下50℃で乾燥
し、6−クロロ−2,2−ジメチル−1−(4−カルボ
キシニコチノイル)−1,2−ジヒドロキノリン(本発
明化合物(30))2.90g を得た。1 H-NMR(DMSO-d6)δ:1.62(s,6H) 5.90(d,1H,J=10.0Hz) 6.48(d,1H,J=10.0Hz) 6.65 〜8.17(m,3H) 7.58(d,1H,J=5.0Hz) 8.20(s,1H) 8.63(d,1H,J=5.0Hz) 製造例4 6−クロロ−2,2−ジメチル−1−(4−カルボキシ
ニコチノイル)−1,2ジヒドロキノリン(本発明化合
物(30))1.03gをテトラヒドロフラン30mlに
溶解し、これにメシチレンスルホニルクロリド0.98g 、
1-メチルイミダゾール 0.73gを加えた。室温で1
0分攪拌した後、塩酸モノメチルアミン0.22g,トリエチ
ルアミン0.34g を加え、室温で15分攪拌した。反応液を
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。得られた残さ
を薄層クロマトグラフィー( シリカゲル クロロホルム
/ メタノール 9:1(V/V))に付し、6−クロロ−2,2−
ジメチル−1−(4−N-メチルカルバモイルニコチノイ
ル)−1,2−ジヒドロキノリン(本発明化合物(7
2))0.80gを得た。1 H-NMR(CDCl3 ) δ:1.66(s,6H) 3.05(d,3H,J=4.89Hz) 5.86(d,1H,J=9.68Hz) 6.36(d,1H,J=9.68Hz) 6.50(br.d,1H,J=4.89Hz) 6.75(dd 1H,J1=8.57Hz,J2=2.45Hz) 6.98(d,1H,J=2.45Hz) 7.09(d,1H,J=8.57Hz) 7.33(d,1H,J=4.96Hz) 8.30(s,1H) 8.56(d,1H,J=4.96Hz) 次に、上記の製造例1.2に準じて製造できる本発明化
合物およびその物性を表1−24に示す。なお、表中、
R6 がCOOH基である化合物は製造例3、R6 が化5
または化6で示される基である化合物は製造例4に準じ
て製造することもできる。
【0019】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【表7】
【表8】
【表9】
【表10】
【表11】
【表12】
【表13】
【表14】
【表15】
【表16】
【表17】
【表18】
【表19】
【表20】
【表21】
【表22】
【表23】
【表24】
【0020】次に製剤例を示す。なお、本発明化合物
は、表1−21の化合物番号で示す。部は重量部であ
る。 製剤例1 本発明化合物(1) 〜(117) 各50部、リグニンスルホン
酸カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および
合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合して各々の水和
剤を得る。 製剤例2 本発明化合物(1) 〜(117) 各10部、ポリオキシエチレ
ンスチリルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼン
スルホン酸カルシウム6部、キシレン35部およびシク
ロヘキサノン35部をよく混合して各々の乳剤を得る。 製剤例3 本発明化合物(1) 〜(117) 各2部、合成含水酸化珪素2
部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト
30部およびカオリンクレー64部をよく粉砕混合し、
水を加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して各々の粒
剤を得る。 製剤例4 本発明化合物(1) 〜(4),(6),(8)-(13),(21),(22),(30)-
(33),(35)-(37),(38)(39),(41)-(49),(52)-(78),(80),
(82)-(86),(88),(90)-(91),(95)-(106),(111)(112),(1
17) 25部、ポリビニルアルコール10%水溶液50
部、水25部を混合し、均粒径が5マイクロメートル以
下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。 製剤例5 ポリビニルアルコール10%水溶液40部中に本発明化
合物(5),(7),(14)-(20),(23)-(29),(34),(40),(50),(5
1),(79),(81),(87),(89),(92)-(94),(107)-(110),(113)
-(116) 各5部を加え、ホモジナイザーにて平均粒径が1
0マイクロメートル以下になるまで乳化分散し、つい
で、55部の水を加え、各々濃厚エマルジョンを得る。次
に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用である
ことを試験例で示す。なお、本発明化合物は、表1〜21
の化合物番号で示し、比較対象として表25で示される
比較化合物を用いた。
は、表1−21の化合物番号で示す。部は重量部であ
る。 製剤例1 本発明化合物(1) 〜(117) 各50部、リグニンスルホン
酸カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および
合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合して各々の水和
剤を得る。 製剤例2 本発明化合物(1) 〜(117) 各10部、ポリオキシエチレ
ンスチリルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼン
スルホン酸カルシウム6部、キシレン35部およびシク
ロヘキサノン35部をよく混合して各々の乳剤を得る。 製剤例3 本発明化合物(1) 〜(117) 各2部、合成含水酸化珪素2
部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト
30部およびカオリンクレー64部をよく粉砕混合し、
水を加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して各々の粒
剤を得る。 製剤例4 本発明化合物(1) 〜(4),(6),(8)-(13),(21),(22),(30)-
(33),(35)-(37),(38)(39),(41)-(49),(52)-(78),(80),
(82)-(86),(88),(90)-(91),(95)-(106),(111)(112),(1
17) 25部、ポリビニルアルコール10%水溶液50
部、水25部を混合し、均粒径が5マイクロメートル以
下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。 製剤例5 ポリビニルアルコール10%水溶液40部中に本発明化
合物(5),(7),(14)-(20),(23)-(29),(34),(40),(50),(5
1),(79),(81),(87),(89),(92)-(94),(107)-(110),(113)
-(116) 各5部を加え、ホモジナイザーにて平均粒径が1
0マイクロメートル以下になるまで乳化分散し、つい
で、55部の水を加え、各々濃厚エマルジョンを得る。次
に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用である
ことを試験例で示す。なお、本発明化合物は、表1〜21
の化合物番号で示し、比較対象として表25で示される
比較化合物を用いた。
【0021】
【表25】 また、除草効力および薬害の評価は、調査時の供試植物
(雑草および作物)の出芽および生育の状態が無処理の
それと比較して全くないしほとんど違いがないものを
「0」とし、供試植物が完全枯死または出芽若しくは生
育が完全に抑制されているものを「10」として、0〜10
の11段階に区分し、0、1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10で示す。
(雑草および作物)の出芽および生育の状態が無処理の
それと比較して全くないしほとんど違いがないものを
「0」とし、供試植物が完全枯死または出芽若しくは生
育が完全に抑制されているものを「10」として、0〜10
の11段階に区分し、0、1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10で示す。
【0022】試験例1 畑地土壌処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、イヌビエを播種し、覆土した。製剤例
2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘク
タールあたり1000リットル相当の水で希釈し、自動
噴霧器で土壌表面全体に均一に処理した。処理後19日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表
26−27に示す。
畑地土壌を詰め、イヌビエを播種し、覆土した。製剤例
2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘク
タールあたり1000リットル相当の水で希釈し、自動
噴霧器で土壌表面全体に均一に処理した。処理後19日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表
26−27に示す。
【表26】
【表27】 試験例2 畑地土壌処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、アメリカアサガオを播種した。製剤例
2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘク
タールあたり1000リットル相当の水で希釈し、自動
噴霧器で土壌表面全体に均一に処理した。処理後19日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表
28に示す。
畑地土壌を詰め、アメリカアサガオを播種した。製剤例
2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘク
タールあたり1000リットル相当の水で希釈し、自動
噴霧器で土壌表面全体に均一に処理した。処理後19日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表
28に示す。
【表28】 試験例3 畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、イヌビエを播種し、温室内で7日間育
成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル
相当の展着剤を含む水で希釈し、自動噴霧器で植物体の
上方から茎葉処理した。処理後19日間温室内で育成
し、除草効力を調査した。その結果を表29に示す。
畑地土壌を詰め、イヌビエを播種し、温室内で7日間育
成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル
相当の展着剤を含む水で希釈し、自動噴霧器で植物体の
上方から茎葉処理した。処理後19日間温室内で育成
し、除草効力を調査した。その結果を表29に示す。
【表29】 試験例4 畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、イヌビエ、アメリカアサガオ、イチビ
を播種し、温室内で7日間育成した。その後、製剤例2
に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ
ールあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希
釈し、自動噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処
理後19日間温室内で育成し、除草効力を調査した。そ
の結果を表30−31に示す。
畑地土壌を詰め、イヌビエ、アメリカアサガオ、イチビ
を播種し、温室内で7日間育成した。その後、製剤例2
に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ
ールあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希
釈し、自動噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処
理後19日間温室内で育成し、除草効力を調査した。そ
の結果を表30−31に示す。
【表30】
【表31】 試験例5 畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、アメリカアサガオを播種し、温室内で
7日間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物
を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000
リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、自動噴霧器で
植物体の上方から茎葉処理した。処理後19日間温室内
で育成し、除草効力を調査した。その結果を表32−3
3に示す。
畑地土壌を詰め、アメリカアサガオを播種し、温室内で
7日間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物
を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000
リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、自動噴霧器で
植物体の上方から茎葉処理した。処理後19日間温室内
で育成し、除草効力を調査した。その結果を表32−3
3に示す。
【表32】
【表33】 試験例6 水田湛水処理試験 直径8cm,深さ12cmの円筒型プラスチックポット
に土壌をつめ、タイヌビエを播種した。湛水して、水田
状態にした後、2葉期のイネを移植し、温室内で育成し
た。5日後に製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、
その所定量を水で希釈し、水面に処理した。処理後19
日間温室内で育成し、除草効力およびを調査した。その
結果を表34−35に示す。
に土壌をつめ、タイヌビエを播種した。湛水して、水田
状態にした後、2葉期のイネを移植し、温室内で育成し
た。5日後に製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、
その所定量を水で希釈し、水面に処理した。処理後19
日間温室内で育成し、除草効力およびを調査した。その
結果を表34−35に示す。
【表34】
【表35】 試験例7 畑地土壌処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土壌を詰
め、ダイズ、ワタ、トウモロコシ、アイノエノコログ
サ、イヌビエ、セイバンモロコシを播種し、1〜2cm
の厚さに覆土した。製剤例2に準じて、供試化合物を乳
剤にし、その所定量を1ヘクタール当り1000リット
ル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌処理した。処理後、
18日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を表36に示す。
め、ダイズ、ワタ、トウモロコシ、アイノエノコログ
サ、イヌビエ、セイバンモロコシを播種し、1〜2cm
の厚さに覆土した。製剤例2に準じて、供試化合物を乳
剤にし、その所定量を1ヘクタール当り1000リット
ル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌処理した。処理後、
18日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を表36に示す。
【表36】 試験例8 畑地土壌処理試験 面積25×18cm2 、深さ7cmのプラスチックポットに
土壌を詰め、トウモロコシ、アキノエノコログサ、イヌ
ビエ、セイバンモロコシを播種し、1〜2cmの厚さに
覆土した。製剤例2に準じて、供試化合物を乳剤にし、
その所定量を1ヘクタール当り1000リットル相当の
水で希釈し、噴霧器で処理した。処理後、18日間温室
内で育成し、除草効力および薬害を調査した。その結果
を表37に示す。
土壌を詰め、トウモロコシ、アキノエノコログサ、イヌ
ビエ、セイバンモロコシを播種し、1〜2cmの厚さに
覆土した。製剤例2に準じて、供試化合物を乳剤にし、
その所定量を1ヘクタール当り1000リットル相当の
水で希釈し、噴霧器で処理した。処理後、18日間温室
内で育成し、除草効力および薬害を調査した。その結果
を表37に示す。
【表37】 試験例9 畑地葉茎処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土
壌を詰め、トウモロコシ、アメリカアサガオ、イチビ、
イヌホオズキを播種し、16日間育成した。その後、製
剤例2に準じて、供試化合物を乳剤にし、その所定量を
展着剤を含む1ヘクタール当り、1000リットル相当
の水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から葉用部全面に
均一に処理した。このとき雑草および作物の成育状況は
草種により異なるが、1〜4葉期で、草丈は2〜12c
mであった。処理18日後に薬害および除草効力を調査
した。その結果を表38に示す。なお、本試験は全期間
を通じて、温室内で行った。
壌を詰め、トウモロコシ、アメリカアサガオ、イチビ、
イヌホオズキを播種し、16日間育成した。その後、製
剤例2に準じて、供試化合物を乳剤にし、その所定量を
展着剤を含む1ヘクタール当り、1000リットル相当
の水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から葉用部全面に
均一に処理した。このとき雑草および作物の成育状況は
草種により異なるが、1〜4葉期で、草丈は2〜12c
mであった。処理18日後に薬害および除草効力を調査
した。その結果を表38に示す。なお、本試験は全期間
を通じて、温室内で行った。
【表38】 実施例10 水田湛水処理試験 1/5000アールのワグネルポットに土壌を詰め、タ
イヌビエ、コナギ、ヒメミソハギを播種した。湛水して
水田状態にした後、2葉期のイネを移植し、温室内で育
成した。5日後(タイヌビエの発芽始期)に製剤例2に
準じて供し化合物を乳剤にし、その所定量を水で希釈し
て水面に処理した。処理後20日間温室内で育成し、除
草効力および薬害を調査した。その結果を表39−42
に示す。なお、本試験では、処理の翌日から2日間は1
日あたり3cmの水深に相当する量の漏水操作を行なっ
た。
イヌビエ、コナギ、ヒメミソハギを播種した。湛水して
水田状態にした後、2葉期のイネを移植し、温室内で育
成した。5日後(タイヌビエの発芽始期)に製剤例2に
準じて供し化合物を乳剤にし、その所定量を水で希釈し
て水面に処理した。処理後20日間温室内で育成し、除
草効力および薬害を調査した。その結果を表39−42
に示す。なお、本試験では、処理の翌日から2日間は1
日あたり3cmの水深に相当する量の漏水操作を行なっ
た。
【表39】
【表40】
【表41】
【表42】 実施例11 水田湛水処理試験 1/5000アールのワグネルポットに土壌を詰め、タ
イヌビエ、コナギ、ヒメミソハギを播種した。湛水して
水田状態にした後、2葉期のイネを移植し、温室内で育
成した。12日後(タイヌビエ1.5−2葉期)に製剤
例2に準じて供し化合物を乳剤にし、その所定量を水で
希釈して水面に処理した。処理後20日間温室内で育成
し、除草効力および薬害を調査した。その結果を表43
−44に示す。なお、本試験では、処理の翌日から2日
間は1日あたり3cmの水深に相当する量の漏水操作を
行なった。
イヌビエ、コナギ、ヒメミソハギを播種した。湛水して
水田状態にした後、2葉期のイネを移植し、温室内で育
成した。12日後(タイヌビエ1.5−2葉期)に製剤
例2に準じて供し化合物を乳剤にし、その所定量を水で
希釈して水面に処理した。処理後20日間温室内で育成
し、除草効力および薬害を調査した。その結果を表43
−44に示す。なお、本試験では、処理の翌日から2日
間は1日あたり3cmの水深に相当する量の漏水操作を
行なった。
【表43】
【表44】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 一雄 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 用貝 広幸 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】一般式 化1 【化1】 〔式中、R 1、R 2およびR3 は、同一または相異な
り、水素原子、C1−C6アルキル基、ハロゲン原子、
C1−C6アルコキシ基、ハロC1−C6アルキル基、
ハロC1−C6アルコキシ基、(C1−C6アルコキ
シ)カルボニル基、C1−C6アルキルチオ基、C1−
C6アルキルアミノ基、ジ(C1−C6アルキル)アミ
ノ基、フェニル基またはフェノキシ基を表わし、R4 お
よびR5 は同一または相異なり、水素原子またはC1−
C6アルキル基を表わすか、R4 とR5が末端で結合し
てC2−C5アルキレン基を表し、R6 は水素原子、ハ
ロゲン原子、アミノ基、C1−C6アルキルアミノ基、
ジ(C1−C6アルキル)アミノ基、(C1−C6アル
コキシ)カルボニルアミノ基、シアノ基を表すか、また
は一般式 化2 【化2】−C(=O)−Y−R7 (Yは酸素原子または硫黄原子を表し、R7 は水素原
子、C1−C10アルキル基、C2−C10アルケニル
基、C2−C10アルキニル基、ハロC1−C10アル
キル基、ハロC2−C10アルケニル基、ハロC2−C
10アルキニル基、C3−C10シクロアルキル基、C
3−C10シクロアルケニル基、C1−C10アルコキ
シC1−C10アルキル基、C1−C10アルキルアミ
ノC1−C10アルキル基、ジ(C1−C10アルキ
ル)アミノC1−C10アルキル基、フリルC1−C1
0アルキル基、チエニルC1−C10アルキル基、C1
−C10アルキルアミノ基、ジ(C1−C10アルキ
ル)アミノ基を表すか、または、(C1−C6アルコキ
シ)カルボニル基、ハロゲン原子もしくはC1−C6ア
ルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表わす
か、または、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基、
ハロゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換され
ていてもよいフェニルC1−C6アルキル基を表すか、
または、−N=CHRもしくは−N=CRR' で示され
る基を表わす。(ここで、RおよびR' は同一または相
異なり、C1−C10アルキル基を表わす。))で示さ
れる基を表すか、または一般式 化3 【化3】 (R8 、R9 は同一または相異なり、水素原子、C1−
C6アルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6
アルキニル基、ハロC1−C6アルキル基、ハロC2−
C6アルケニル基、ハロC2−C6アルキニル基、C3
−C6シクロアルキル基、C3−C6シクロアルケニル
基、アミノ基、C1−C6アルキルアミノ基またはジ
(C1−C6アルキル)アミノ基を表すか、またはハロ
ゲン原子もしくはC1−C6アルキル基で置換されてい
てもよいフェニル基を表わすか、または、ハロゲン原子
もしくはC1−C6アルキル基で置換されていてもよい
フェニルC1−C6アルキル基を表す。)で示される基
を表し、XはCHまたはNを表わす。〕で示されるN−
アシルジヒドロキノリン誘導体。 - 【請求項2】請求項1記載のN−アシルジヒドロキノリ
ン誘導体を有効成分として含有することを特徴とする除
草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19548593A JPH0680663A (ja) | 1992-07-15 | 1993-07-12 | N−アシルジヒドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18804392 | 1992-07-15 | ||
| JP4-188043 | 1992-07-15 | ||
| JP19548593A JPH0680663A (ja) | 1992-07-15 | 1993-07-12 | N−アシルジヒドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0680663A true JPH0680663A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=26504708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19548593A Pending JPH0680663A (ja) | 1992-07-15 | 1993-07-12 | N−アシルジヒドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680663A (ja) |
-
1993
- 1993-07-12 JP JP19548593A patent/JPH0680663A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69011040T2 (de) | Pyrimidinderivate, ihre Produktion und Verwendung. | |
| KR0155560B1 (ko) | 우라실 유도체, 그의 제법 및 용도 | |
| DE69110093T2 (de) | Pyrimidinderivate. | |
| EP0142769B1 (en) | Tetrahydrobenzotriazoles, their production and use | |
| JP2000302764A (ja) | フェニルウラシル化合物およびその用途 | |
| US5280010A (en) | Amino uracil derivatives, and their production and use | |
| JPH03135963A (ja) | 置換α‐ピリミジニルオキシ(チオ)‐およびα‐トリアジニルオキシ(チオ)カルボン酸誘導体、その製造方法、それを含有する除草、殺菌および植物成長制御作用を有する薬剤ならびにその薬剤の製造方法 | |
| RU2125993C1 (ru) | Производные дигидробензофурана, гербицидная композиция и способ уничтожения сорняков | |
| DE69011795T2 (de) | Benzoxazinyl-Pyrazole und Verfahren zur Herstellung und Anwendung. | |
| CA2046206A1 (en) | Pyrimidine derivative | |
| RU2056413C1 (ru) | Иминотиазолины, способы их получения, гербицидная композиция, способ уничтожения нежелательных сорняков | |
| DE3873223T2 (de) | Benzoxazinyl-triazol-oxide, verfahren zu deren herstellung und deren anwendung. | |
| JPH07304759A (ja) | イミノチアゾロン誘導体およびその用途 | |
| US5354729A (en) | N-acyldihydroquinoline derivatives, a method for producing the same and their use as herbicides | |
| JPH0680663A (ja) | N−アシルジヒドロキノリン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 | |
| US5466663A (en) | Tetrahydrophthalimide derivatives and their use as herbicides | |
| US5424275A (en) | Biphenyl derivatives and their use as herbicides | |
| JPH06321941A (ja) | ジヒドロベンゾフラン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 | |
| JPH06199761A (ja) | ナフトール誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 | |
| EP0457505A2 (en) | Pyrimidine derivatives and their use as herbicides | |
| JPH06199810A (ja) | ビフェニル誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 | |
| HUT70686A (en) | Naphtol derivatives, a method for producing the same and herbicidal compositions containing them | |
| JPH07324079A (ja) | イミノチアゾリン誘導体およびその用途 | |
| JPH10291983A (ja) | ピリダジン−3−オン誘導体およびその用途 | |
| JP2000319264A (ja) | 光学活性ウラシル化合物 |