JPH0685464B2 - 電子部品搭載用基板の製造方法 - Google Patents
電子部品搭載用基板の製造方法Info
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- JPH0685464B2 JPH0685464B2 JP59186967A JP18696784A JPH0685464B2 JP H0685464 B2 JPH0685464 B2 JP H0685464B2 JP 59186967 A JP59186967 A JP 59186967A JP 18696784 A JP18696784 A JP 18696784A JP H0685464 B2 JPH0685464 B2 JP H0685464B2
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 117
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 117
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 81
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 13
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 12
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 4
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- -1 or the like Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
- Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は,チップ素子又は半導体素子などの電子部品へ
の湿気の浸入を遮断し,かつ熱放散性に優れた,電子部
品搭載用基板の製造方法に関する。
の湿気の浸入を遮断し,かつ熱放散性に優れた,電子部
品搭載用基板の製造方法に関する。
従来,半導体素子などの電子部品を直接プリント配線用
基板に搭載し,ワイヤーボンディングにより電気的に接
続された基板が時計やカメラなどの内層基板として使用
されている。
基板に搭載し,ワイヤーボンディングにより電気的に接
続された基板が時計やカメラなどの内層基板として使用
されている。
第5図の(a)は半導体素子12等の電子部品を直接プリ
ント配線用基板1に搭載する場合の電子部品搭載用基板
の一例である。プリント配線用基板としては,セラミッ
クス基板又は,有機系樹脂基板が用いられている。
ント配線用基板1に搭載する場合の電子部品搭載用基板
の一例である。プリント配線用基板としては,セラミッ
クス基板又は,有機系樹脂基板が用いられている。
また,他のプリント配線用基板の構造としては,第5図
の(b)に示すように,ザグリ加工又は積層成形によ
り,半導体素子等の電子部品の実装部分において,プリ
ント配線用基板1に凹部を設け,その凹部内に電子部品
を搭載するものもある。
の(b)に示すように,ザグリ加工又は積層成形によ
り,半導体素子等の電子部品の実装部分において,プリ
ント配線用基板1に凹部を設け,その凹部内に電子部品
を搭載するものもある。
なお,第5図(a)(b)において,符号2は銅箔,7は
金属メッキ被膜,13はボンディングワイヤー,14は封止樹
脂である。
金属メッキ被膜,13はボンディングワイヤー,14は封止樹
脂である。
上記プリント配線用基板の材料の中,有機系樹脂素材は
軽量であると共に加工し易く安価である点で優れてい
る。
軽量であると共に加工し易く安価である点で優れてい
る。
しかしながら,これら従来のプリント配線用基板におい
ては,搭載した電子部品からの発熱に対して十分な熱放
散性が得られない。そのため,比較的低い出力の電子部
品すなわち発熱が少ない電子部品のみに適用されてい
る。そして,高出力の電子部品を搭載する場合において
は,放熱用のフィンを設けるなどの対策が必要である。
ては,搭載した電子部品からの発熱に対して十分な熱放
散性が得られない。そのため,比較的低い出力の電子部
品すなわち発熱が少ない電子部品のみに適用されてい
る。そして,高出力の電子部品を搭載する場合において
は,放熱用のフィンを設けるなどの対策が必要である。
特に,有機系樹脂素材を用いたプリント配線用基板は,
金属などに比較し熱伝導率が小さく電子部品からの熱放
散性は劣っている。一方アルミナなどのセラミックス基
板においても最近の高集積された高い出力の電子部品の
搭載には不十分である。
金属などに比較し熱伝導率が小さく電子部品からの熱放
散性は劣っている。一方アルミナなどのセラミックス基
板においても最近の高集積された高い出力の電子部品の
搭載には不十分である。
また,有機系樹脂素材を用いたプリント配線用基板の欠
点は,耐湿性がセラミックス基板に比べて非常に低い。
そのため,第5図(b)のように,基板に凹部を設け
て,その中に電子部品を配置する構造の場合には,外部
からの湿気が基板を透過して電子部品まで達することが
ある。
点は,耐湿性がセラミックス基板に比べて非常に低い。
そのため,第5図(b)のように,基板に凹部を設け
て,その中に電子部品を配置する構造の場合には,外部
からの湿気が基板を透過して電子部品まで達することが
ある。
このように湿気が浸入した場合には,電子部品を腐食さ
せる。そのため,耐湿性に関して高い信頼性が要求され
る分野には,有機系樹脂素材を用いたプリント配線用基
板を使用することが困難である。
せる。そのため,耐湿性に関して高い信頼性が要求され
る分野には,有機系樹脂素材を用いたプリント配線用基
板を使用することが困難である。
有機系樹脂素材を用いた場合の上記問題点に対する対策
として,発明者らは,先に「電子部品搭載用基板及びそ
の製造方法」について特許出願をした(特願昭59-15642
6,特開昭61-34990)。
として,発明者らは,先に「電子部品搭載用基板及びそ
の製造方法」について特許出願をした(特願昭59-15642
6,特開昭61-34990)。
この先願発明においては,「(a)有機系樹脂素材の第
1プリント配線用基板における電子部品搭載部に第1貫
通孔を形成し,(b)上記第1プリント配線用基板に対
して,上記第1貫通孔よりも大きい第2貫通孔を有する
第2プリント配線用基板を接合し,次に(c)上記第2
貫通孔内において第1プリント配線用基板の裏面側に放
熱用金属板を接合して第1プリント配線用基板の表面側
に電子部品搭載用の凹部を形成し,その後(d)上記凹
部,放熱用金属板を含むプリント配線用基板の表面に金
属メッキ被膜を形成する」という方法を提案した。
1プリント配線用基板における電子部品搭載部に第1貫
通孔を形成し,(b)上記第1プリント配線用基板に対
して,上記第1貫通孔よりも大きい第2貫通孔を有する
第2プリント配線用基板を接合し,次に(c)上記第2
貫通孔内において第1プリント配線用基板の裏面側に放
熱用金属板を接合して第1プリント配線用基板の表面側
に電子部品搭載用の凹部を形成し,その後(d)上記凹
部,放熱用金属板を含むプリント配線用基板の表面に金
属メッキ被膜を形成する」という方法を提案した。
この方法によれば,有機系樹脂素材を用いているが,熱
放散性が向上し,耐湿性も向上している。
放散性が向上し,耐湿性も向上している。
しかしながら,上記耐湿性に関しては,未だ完全に解決
したとは言えない。即ち,上記のごとく湿気は,プリン
ト配線用基板に対して,あらゆる部分から浸入し,上記
電子部品の搭載用の凹部へ浸入する。そのため,上記先
行発明においても,上記金属メッキ被膜が不十分である
と上記凹部へ湿気が浸入する。
したとは言えない。即ち,上記のごとく湿気は,プリン
ト配線用基板に対して,あらゆる部分から浸入し,上記
電子部品の搭載用の凹部へ浸入する。そのため,上記先
行発明においても,上記金属メッキ被膜が不十分である
と上記凹部へ湿気が浸入する。
上記先行発明においては,第1プリント配線用基板の裏
面側に放熱用金属板を接合しているが,両者は接着層を
介して接合しているのみである。
面側に放熱用金属板を接合しているが,両者は接着層を
介して接合しているのみである。
また,金属メッキ被膜は,放熱用金属板の表面及びプリ
ント配線用基板の表面に形成されている。しかし,プリ
ント配線用基板は有機系樹脂素材であるために,金属メ
ッキ被膜との接着性が充分とは言えず,またそのメッキ
形成も完全でなく,微細なピンホールを有していること
がある。
ント配線用基板の表面に形成されている。しかし,プリ
ント配線用基板は有機系樹脂素材であるために,金属メ
ッキ被膜との接着性が充分とは言えず,またそのメッキ
形成も完全でなく,微細なピンホールを有していること
がある。
また,電子部品搭載用の凹部の表面も,プリント配線用
基板に対して,金属メッキ被膜が形成されているが,こ
の金属メッキ被膜もピンホールを有することがある。
基板に対して,金属メッキ被膜が形成されているが,こ
の金属メッキ被膜もピンホールを有することがある。
そして,かかるピンホールがあると,ピンホールを通じ
てプリント配線用基板の内部へ湿気が浸入し,電子部品
を損傷することがある。
てプリント配線用基板の内部へ湿気が浸入し,電子部品
を損傷することがある。
更に言えば,上記先行発明の第4図に示されるごとく
(本願の第3図参照),上記第2貫通孔と放熱用金属板
との間は充分な間隔がなく,また時には,コーナー部分
など第2貫通孔の側壁と放熱用金属板の側壁とが近接し
た側壁近接部分を有する場合がある。
(本願の第3図参照),上記第2貫通孔と放熱用金属板
との間は充分な間隔がなく,また時には,コーナー部分
など第2貫通孔の側壁と放熱用金属板の側壁とが近接し
た側壁近接部分を有する場合がある。
そのため,特に上記側壁近接部分においては金属メッキ
被膜がブリッジを生じて,ピンホールを生じ易い。何故
なら,上記側壁近接部分は例えば0.1〜0.5mmの間隙があ
るが,かかる間隙にはメッキ液が充分入らず,メッキ不
良を生じ,ピンホールを生じ易いからである。
被膜がブリッジを生じて,ピンホールを生じ易い。何故
なら,上記側壁近接部分は例えば0.1〜0.5mmの間隙があ
るが,かかる間隙にはメッキ液が充分入らず,メッキ不
良を生じ,ピンホールを生じ易いからである。
それ故,上記先行発明においては,第2貫通孔と放熱用
金属板との間にある金属メッキ被膜から,プリント配線
用基板の内部へ湿気浸入のおそれもある。
金属板との間にある金属メッキ被膜から,プリント配線
用基板の内部へ湿気浸入のおそれもある。
また,上記先行発明においては,プリント配線用基板に
直接放熱用金属板を接合している。そのため,熱放散性
が充分でない。
直接放熱用金属板を接合している。そのため,熱放散性
が充分でない。
本発明は,かかる上記先行発明の問題点に鑑み,放熱用
金属板と第2貫通孔との間,特に上記側壁近接部分にお
ける金属メッキ被膜を,ピンホールを発生されることな
く,完全に施すことができ,耐湿性及び熱放散性に優れ
た,電子部品搭載用基板の製造方法を提供しようとする
ものである。
金属板と第2貫通孔との間,特に上記側壁近接部分にお
ける金属メッキ被膜を,ピンホールを発生されることな
く,完全に施すことができ,耐湿性及び熱放散性に優れ
た,電子部品搭載用基板の製造方法を提供しようとする
ものである。
本発明は,(a)有機系樹脂素材から成る第1のプリン
ト配線用基板1における電子部品を搭載すべき箇所に第
1の貫通孔3を形成する工程と, (b)上記第1のプリント配線用基板1の裏面側より,
上記第1の貫通孔3の開孔部より大きな第2の貫通孔6
を有する有機系樹脂素材から成る第2のプリント配線用
基板4を両貫通孔3,6が対応するよう接着層5を介して
接合する工程と, (c)上記第1の貫通孔3及びこれより大きな第2の貫
通孔6の両者の孔表面を含む基板表面に第1回目の金属
メッキ被膜7を形成する工程と, (d)上記第2の貫通孔6の内部における上記第1のプ
リント配線用基板1の裏面側より上記第1の貫通孔3が
塞がり,第1のプリント配線用基板1の表面側で電子部
品搭載用の凹部8が形成されるように,接着層5を介し
て上記第1回目の金属メッキ被膜7の上に放熱用金属板
9を接合する工程と, (e)上記凹部8を含む両プリント配線用基板1,4の表
面及び放熱用金属板9の表面に第2回目の金属メッキ被
膜10を形成する工程とから成る電子部品搭載用基板の製
造方法にある。
ト配線用基板1における電子部品を搭載すべき箇所に第
1の貫通孔3を形成する工程と, (b)上記第1のプリント配線用基板1の裏面側より,
上記第1の貫通孔3の開孔部より大きな第2の貫通孔6
を有する有機系樹脂素材から成る第2のプリント配線用
基板4を両貫通孔3,6が対応するよう接着層5を介して
接合する工程と, (c)上記第1の貫通孔3及びこれより大きな第2の貫
通孔6の両者の孔表面を含む基板表面に第1回目の金属
メッキ被膜7を形成する工程と, (d)上記第2の貫通孔6の内部における上記第1のプ
リント配線用基板1の裏面側より上記第1の貫通孔3が
塞がり,第1のプリント配線用基板1の表面側で電子部
品搭載用の凹部8が形成されるように,接着層5を介し
て上記第1回目の金属メッキ被膜7の上に放熱用金属板
9を接合する工程と, (e)上記凹部8を含む両プリント配線用基板1,4の表
面及び放熱用金属板9の表面に第2回目の金属メッキ被
膜10を形成する工程とから成る電子部品搭載用基板の製
造方法にある。
本発明において最も注目すべきことは,放熱用金属板を
接合する前に,第1貫通孔及び第2貫通孔の孔表面を含
む第1,第2プリント配線用基板の表面に,第1回目の金
属メッキ被膜を形成すること(c工程),放熱用金属板
の接合(d工程)の後に上記凹部を含む第1,第2プリン
ト配線用基板の表面及び放熱用金属板の表面に第2回目
の金属メッキ被膜を形成すること(e工程)である。
接合する前に,第1貫通孔及び第2貫通孔の孔表面を含
む第1,第2プリント配線用基板の表面に,第1回目の金
属メッキ被膜を形成すること(c工程),放熱用金属板
の接合(d工程)の後に上記凹部を含む第1,第2プリン
ト配線用基板の表面及び放熱用金属板の表面に第2回目
の金属メッキ被膜を形成すること(e工程)である。
本発明法において,有機系樹脂素材からなる上記プリン
ト配線用基板に金属メッキ被膜を形成する方法として
は,公知の無電解銅メッキ法がある。例えば,スルーホ
ールに対してメッキを行う際に,同時に基板表面或いは
その凹部にメッキを行う,公知のスルーホールメッキ法
がある(特開昭59-67686号公報)。
ト配線用基板に金属メッキ被膜を形成する方法として
は,公知の無電解銅メッキ法がある。例えば,スルーホ
ールに対してメッキを行う際に,同時に基板表面或いは
その凹部にメッキを行う,公知のスルーホールメッキ法
がある(特開昭59-67686号公報)。
また,同様に上記基板の表面に金属メッキを施す方法と
しては,特開昭50-145856号公報,特公昭56-9024号公報
などに示されている,公知の無電解メッキ法(化学メッ
キ法)がある。
しては,特開昭50-145856号公報,特公昭56-9024号公報
などに示されている,公知の無電解メッキ法(化学メッ
キ法)がある。
本発明においては,放熱用金属板を接合する前に,上記
第1回目の金属メッキ被膜を形成している。
第1回目の金属メッキ被膜を形成している。
そのため,第1貫通孔,第2貫通孔の孔表面,及び第1,
第2プリント配線用基板の外表面の全てに金属メッキ被
膜が形成される。そして,ここに最も注目すべきこと
は,金属メッキ被膜は放熱用金属板を接合する前に形成
するため,上記の表面は全て広い面積のままにあり,良
好なメッキ状態が得られ,メッキ不良が発生しないこと
である。
第2プリント配線用基板の外表面の全てに金属メッキ被
膜が形成される。そして,ここに最も注目すべきこと
は,金属メッキ被膜は放熱用金属板を接合する前に形成
するため,上記の表面は全て広い面積のままにあり,良
好なメッキ状態が得られ,メッキ不良が発生しないこと
である。
即ち,前記従来例に示した先行発明は,放熱用金属板を
第2貫通孔に接合した後に金属メッキ被膜を形成するた
め,放熱用金属板と貫通孔との両側壁間の上記側壁近接
部分においてメッキ不良を発生するおそれがある。
第2貫通孔に接合した後に金属メッキ被膜を形成するた
め,放熱用金属板と貫通孔との両側壁間の上記側壁近接
部分においてメッキ不良を発生するおそれがある。
しかし,本発明では,このような側壁近接部分がないの
で,金属メッキ被膜が良好に形成され,ピンホールの発
生もない。
で,金属メッキ被膜が良好に形成され,ピンホールの発
生もない。
また,前記従来例に示したように,有機系樹脂素材のプ
リント配線用基板と金属メッキ被膜とは接着性が充分と
言えず,金属メッキ被膜は微細なピンホールを有するこ
とがある。しかし,本発明においては,第1回目の金属
メッキ被膜の形成後に放熱用金属板を接合し,更にその
後第2回目の金属メッキ被膜を形成している。
リント配線用基板と金属メッキ被膜とは接着性が充分と
言えず,金属メッキ被膜は微細なピンホールを有するこ
とがある。しかし,本発明においては,第1回目の金属
メッキ被膜の形成後に放熱用金属板を接合し,更にその
後第2回目の金属メッキ被膜を形成している。
そのため,第1回目の金属メッキ被膜に若干のピンホー
ルを生じていても,このピンホールは第2回目の金属メ
ッキ被膜によって塞がれ,ピンホールは残存しない。
ルを生じていても,このピンホールは第2回目の金属メ
ッキ被膜によって塞がれ,ピンホールは残存しない。
また,第2回目の金属メッキ被膜の形成の際には,上記
放熱用金属板と貫通孔との間に上記側壁近接部分が形成
されている。しかし,例えこの側壁近接部分における金
属メッキ被膜がメッキ不良であったとしても,側壁近接
部分の内部,即ち第1プリント配線用基板の裏面側に
は,既に良好な第1回の金属メッキ被膜が形成されてい
る。そのため,側壁近接部分からの湿気浸入も完全に阻
止される。
放熱用金属板と貫通孔との間に上記側壁近接部分が形成
されている。しかし,例えこの側壁近接部分における金
属メッキ被膜がメッキ不良であったとしても,側壁近接
部分の内部,即ち第1プリント配線用基板の裏面側に
は,既に良好な第1回の金属メッキ被膜が形成されてい
る。そのため,側壁近接部分からの湿気浸入も完全に阻
止される。
上記のごとく,本発明における「放熱用金属板を接合す
る前における,第1回目の金属メッキ被膜の形成(c工
程)」は,上記第1,第2の貫通孔の孔表面,第1,第2の
プリント配線用基板の表面に対して良好な金属メッキ被
膜の形成を付与すると共に,上記側壁近接部分における
メッキ不良に対して優れた耐湿性効果を発揮する。
る前における,第1回目の金属メッキ被膜の形成(c工
程)」は,上記第1,第2の貫通孔の孔表面,第1,第2の
プリント配線用基板の表面に対して良好な金属メッキ被
膜の形成を付与すると共に,上記側壁近接部分における
メッキ不良に対して優れた耐湿性効果を発揮する。
また,第1回目の金属メッキ被膜に若干のピンホールが
あっても,これらは第2回目の金属メッキ被膜によって
完全に塞がれ,ピンホールが残存しない。それ故,耐湿
性も大きい。
あっても,これらは第2回目の金属メッキ被膜によって
完全に塞がれ,ピンホールが残存しない。それ故,耐湿
性も大きい。
また,第1回目の金属メッキ被膜の上に放熱用金属板を
接合するので,従来例のようにプリント配線用基板に放
熱用金属板を直接接合する場合に比して,熱放散性にも
優れている。
接合するので,従来例のようにプリント配線用基板に放
熱用金属板を直接接合する場合に比して,熱放散性にも
優れている。
したがって,本発明によれば,放熱用金属板と第2貫通
孔との間,特に上記側壁近接部分における金属メッキ被
膜を,ピンホールを発生させることなく完全に施すこと
ができ,耐湿性及び熱放散性に優れた,電子部品搭載用
基板の製造方法を提供することができる。
孔との間,特に上記側壁近接部分における金属メッキ被
膜を,ピンホールを発生させることなく完全に施すこと
ができ,耐湿性及び熱放散性に優れた,電子部品搭載用
基板の製造方法を提供することができる。
本発明の実施例にかかる電子部品搭載用基板の製造方法
につき,まず第2図(a)〜(f)により説明する。
につき,まず第2図(a)〜(f)により説明する。
本例においては,まず第2図(a)に示すごとく,有機
系樹脂素材からなる第1のプリント配線用基板1を準備
し,これに対して例えば打抜き等により第1の貫通孔3
を穿設する。この貫通孔3は,電子部品を搭載するため
の凹部8(第2図(f)参照)を形成するためのもので
ある。上記第1のプリント配線用基板1は,表側面に銅
箔2の層を有する。
系樹脂素材からなる第1のプリント配線用基板1を準備
し,これに対して例えば打抜き等により第1の貫通孔3
を穿設する。この貫通孔3は,電子部品を搭載するため
の凹部8(第2図(f)参照)を形成するためのもので
ある。上記第1のプリント配線用基板1は,表側面に銅
箔2の層を有する。
次に,第2図(b)に示すごとく,上記第1のプリント
配線用基板1の裏面側より,前記貫通孔3の開孔部より
も大きな第2の貫通孔6を有する。下基板用の第2のプ
リント配線用基板4を両貫通孔3,6が対応するように,
接着層5を介して接合する。
配線用基板1の裏面側より,前記貫通孔3の開孔部より
も大きな第2の貫通孔6を有する。下基板用の第2のプ
リント配線用基板4を両貫通孔3,6が対応するように,
接着層5を介して接合する。
上記下基板用の第2のプリント配線用基板4は,上記の
上基板用の第1のプリント配線用基板1と同様に,有機
系樹脂素材からなる。また,貫通孔6も同様に穿設す
る。
上基板用の第1のプリント配線用基板1と同様に,有機
系樹脂素材からなる。また,貫通孔6も同様に穿設す
る。
次に,第2図(c)に示すごとく,上記接合された両プ
リント配線用基板1,4の表面及び貫通孔3,6の壁面に第1
回目の金属メッキ被膜7を形成する。該金属メッキ被膜
の形成法としては,前記のごとき,公知の無電解銅メッ
キ法がある。
リント配線用基板1,4の表面及び貫通孔3,6の壁面に第1
回目の金属メッキ被膜7を形成する。該金属メッキ被膜
の形成法としては,前記のごとき,公知の無電解銅メッ
キ法がある。
次に,第2図(d)に示すごとく,前記プリント配線用
基板1の裏面側より,上記貫通孔3が塞がれるように,
接着層5により放熱用金属板9を接合する。これによ
り,上基板用の第1のプリント配線用基板1の貫通孔3
と放熱用金属板9とにより電子部品搭載用の凹部8が形
成される。
基板1の裏面側より,上記貫通孔3が塞がれるように,
接着層5により放熱用金属板9を接合する。これによ
り,上基板用の第1のプリント配線用基板1の貫通孔3
と放熱用金属板9とにより電子部品搭載用の凹部8が形
成される。
次に,第2図(e)に示すごとく,上記凹部8を含め
て,両プリント配線用基板1,4の表面に,第1回目の金
属メッキ被膜7と同様にして,第2回目の金属メッキ被
膜10を形成する。この金属メッキ被膜10は,第2図
(e)に示すごとく,更に放熱用金属板9の表面及びこ
れに連なる前記貫通孔6の内壁面にも形成される。
て,両プリント配線用基板1,4の表面に,第1回目の金
属メッキ被膜7と同様にして,第2回目の金属メッキ被
膜10を形成する。この金属メッキ被膜10は,第2図
(e)に示すごとく,更に放熱用金属板9の表面及びこ
れに連なる前記貫通孔6の内壁面にも形成される。
その後は,第2図(f)に示すごとく,凹部8内に半導
体素子12を実装し,ボンディングワイヤー13を接続し,
封止樹脂14により封止する。
体素子12を実装し,ボンディングワイヤー13を接続し,
封止樹脂14により封止する。
以下に,各工程の詳細につき,具体的に説明する。
第2図の(a)は,片面銅被膜プリント配線用基板1に
おいて,その電子部品を搭載すべき箇所を,打抜き又は
ルーター加工又はザグリ加工などにより第1の貫通孔3
を形成した縦断面図である。
おいて,その電子部品を搭載すべき箇所を,打抜き又は
ルーター加工又はザグリ加工などにより第1の貫通孔3
を形成した縦断面図である。
プリント配線用基板の代表的なものは,ガラス繊維強化
エポキシ樹脂基板,紙フェノール樹脂基板,紙エポキシ
樹脂基板,ガラスポリイミド樹脂基板,ガラストリアジ
ン樹脂基板などである。そして,これらの基板の表面に
は予め銅箔2等の銅被膜が形成されていてもよい。
エポキシ樹脂基板,紙フェノール樹脂基板,紙エポキシ
樹脂基板,ガラスポリイミド樹脂基板,ガラストリアジ
ン樹脂基板などである。そして,これらの基板の表面に
は予め銅箔2等の銅被膜が形成されていてもよい。
次に第2図の(b)は,前記第1のプリント配線用基板
1の裏面側より前記貫通孔3をとり囲むように,これよ
りも大きい第2の貫通孔6を有する有機系樹脂素材から
なる第2のプリント配線用基板4を,接着層5を介して
積層形成した縦断面図である。
1の裏面側より前記貫通孔3をとり囲むように,これよ
りも大きい第2の貫通孔6を有する有機系樹脂素材から
なる第2のプリント配線用基板4を,接着層5を介して
積層形成した縦断面図である。
前記接着層5としては未硬化のエポキシ樹脂含浸のガラ
スクロス又は耐熱性の接着シート又は液状の樹脂などで
あり,接着性,耐熱性,耐久性などの諸特性が高い接着
層が好ましい。
スクロス又は耐熱性の接着シート又は液状の樹脂などで
あり,接着性,耐熱性,耐久性などの諸特性が高い接着
層が好ましい。
第2図の(c)は,少なくとも前記積層基板の貫通孔3
を含む基板表面に,第1回目の金属メッキ被膜7を形成
した縦断面図である。該貫通孔3の壁面,及び両プリン
ト配線用基板1,4の表面に形成された金属メッキ被膜7
は湿気の透過を防ぎ,熱放散性を向上させるものであ
る。
を含む基板表面に,第1回目の金属メッキ被膜7を形成
した縦断面図である。該貫通孔3の壁面,及び両プリン
ト配線用基板1,4の表面に形成された金属メッキ被膜7
は湿気の透過を防ぎ,熱放散性を向上させるものであ
る。
第2図の(d)は,前記プリント配線用基板1の裏面側
より,凹部8が形成されるように,接着層5を介して放
熱用金属板9を貼着した状態の縦断面図である。
より,凹部8が形成されるように,接着層5を介して放
熱用金属板9を貼着した状態の縦断面図である。
前記放熱用金属板9としては,銅,銅系合金,鉄,鉄系
合金,アルミニウム,アルミニウム系合金など,比較的
熱伝導率が大きいものを用いる。金属板の大きさ,厚さ
は特に限定されるものではないが,板厚が厚くて表面積
が大きい方が,熱放散性を向上する上で有利である。
合金,アルミニウム,アルミニウム系合金など,比較的
熱伝導率が大きいものを用いる。金属板の大きさ,厚さ
は特に限定されるものではないが,板厚が厚くて表面積
が大きい方が,熱放散性を向上する上で有利である。
前記放熱用金属板を装着する位置を決める方法として
は,第3図の(a),(b)に示すように,第2のプリ
ント配線用基板の第2貫通孔6の平面形状を,辺又はコ
ーナー部の少なくとも2箇所が変形されている基板を用
いる場合がある。或いは,第3図の(c),(d)のよ
うに,前記放熱用金属板9の平面形状の辺又はコーナー
部の少なくとも2箇所を変形させておき,これにより放
熱用金属板の位置を決める方法がある。
は,第3図の(a),(b)に示すように,第2のプリ
ント配線用基板の第2貫通孔6の平面形状を,辺又はコ
ーナー部の少なくとも2箇所が変形されている基板を用
いる場合がある。或いは,第3図の(c),(d)のよ
うに,前記放熱用金属板9の平面形状の辺又はコーナー
部の少なくとも2箇所を変形させておき,これにより放
熱用金属板の位置を決める方法がある。
そして,上記の辺或いはコーナー部の変形部分におい
て,放熱用金属板9の側壁と第2貫通孔6の側壁との間
には,特に間隙の小さい側壁近接部分が形成される。
て,放熱用金属板9の側壁と第2貫通孔6の側壁との間
には,特に間隙の小さい側壁近接部分が形成される。
前記第2図の(e)は,前記凹部8と,前記放熱用金属
板9と,第1及び第2のプリント配線用基板1,4の表面
に金属メッキ被膜10を形成して,プリント配線用基板1,
4と放熱用金属板8とを一体化した状態の縦断面図であ
る。
板9と,第1及び第2のプリント配線用基板1,4の表面
に金属メッキ被膜10を形成して,プリント配線用基板1,
4と放熱用金属板8とを一体化した状態の縦断面図であ
る。
該金属メッキ被膜10は,プリント配線用基板1と前記放
熱用金属板9の間の接着層5に対して,水の浸入を遮断
し電子部品搭載部への水の浸入を防ぐ効果がある。ま
た,放熱用金属板9と,プリント配線用基板の表面の銅
箔2とが金属メッキ被膜7,10によって一体化されること
により,電子部品からの発熱が放熱用金属板から銅箔へ
速やかに伝導し,外部へ放散するため,熱放散効果が向
上する利点がある。
熱用金属板9の間の接着層5に対して,水の浸入を遮断
し電子部品搭載部への水の浸入を防ぐ効果がある。ま
た,放熱用金属板9と,プリント配線用基板の表面の銅
箔2とが金属メッキ被膜7,10によって一体化されること
により,電子部品からの発熱が放熱用金属板から銅箔へ
速やかに伝導し,外部へ放散するため,熱放散効果が向
上する利点がある。
第2図の(f)は,本発明による電子部品搭載用基板に
半導体素子12を実装しワイヤーボンディングにより結線
し,半導体素子及びその周辺部を封止樹脂14にて封止し
た状態の縦断面図である。封止樹脂としては,エポキシ
樹脂,シリコーン樹脂などがある。また,符号15は封止
樹脂の流出防止用の堰枠である。
半導体素子12を実装しワイヤーボンディングにより結線
し,半導体素子及びその周辺部を封止樹脂14にて封止し
た状態の縦断面図である。封止樹脂としては,エポキシ
樹脂,シリコーン樹脂などがある。また,符号15は封止
樹脂の流出防止用の堰枠である。
このようにして製造された本発明の電子部品搭載用基板
は,第1図の縦断面図に示す特徴を有している。その特
徴は,有機系樹脂素材の片面銅被膜プリント配線用基板
1の表面側には,導体回路と電子部品を搭載すべき凹部
8を有し,該凹部8は基板裏面側にある放熱用金属板9
と接触する第2の金属メッキ被膜10とを有する。
は,第1図の縦断面図に示す特徴を有している。その特
徴は,有機系樹脂素材の片面銅被膜プリント配線用基板
1の表面側には,導体回路と電子部品を搭載すべき凹部
8を有し,該凹部8は基板裏面側にある放熱用金属板9
と接触する第2の金属メッキ被膜10とを有する。
また,第1のプリント配線用基板1の裏面側には,貫通
孔6が予め形成されたプリント配線用基板4が積層形成
されている。また,第1の金属メッキ被膜7を形成した
後に,プリント配線用基板1の裏面側より貫通孔3を塞
ぐように,放熱用金属板9が貼着されている。
孔6が予め形成されたプリント配線用基板4が積層形成
されている。また,第1の金属メッキ被膜7を形成した
後に,プリント配線用基板1の裏面側より貫通孔3を塞
ぐように,放熱用金属板9が貼着されている。
そのため,第1のプリント配線用基板1と放熱用金属板
9との間には金属メッキ被膜7が存在している。そのた
め,この部分からの湿気浸入を完全に防止できる。
9との間には金属メッキ被膜7が存在している。そのた
め,この部分からの湿気浸入を完全に防止できる。
第4図は,本発明のプラグインパッケージ基板の斜視図
である。このものは,前記電子部品搭載用基板の外周部
に設けられたスルーホール16に,多数の導体ピン18が周
列状に配設されている。斜線部に示すように,前記基板
外周部及びスルーホール16の上には,熱硬化性樹脂シー
ト17が貼着されている。これはスルーホールを完全に被
覆するためである。
である。このものは,前記電子部品搭載用基板の外周部
に設けられたスルーホール16に,多数の導体ピン18が周
列状に配設されている。斜線部に示すように,前記基板
外周部及びスルーホール16の上には,熱硬化性樹脂シー
ト17が貼着されている。これはスルーホールを完全に被
覆するためである。
上記実施例より知られるごとく,本例においては,放熱
用金属板9を接合する前に,上記第1回目の金属メッキ
被膜7を形成している。そのため,第1貫通孔3,第2貫
通孔6の孔表面,及び第1,第2のプリント配線用基板1,
4の外表面の全てに金属メッキ被膜7が形成される。
用金属板9を接合する前に,上記第1回目の金属メッキ
被膜7を形成している。そのため,第1貫通孔3,第2貫
通孔6の孔表面,及び第1,第2のプリント配線用基板1,
4の外表面の全てに金属メッキ被膜7が形成される。
そして,ここに注目すべきことは,金属メッキ被膜7は
放熱用金属板9を接合する前に形成するため,メッキ表
面が広く,良好なメッキ状態を得ることができる。即
ち,第1回目の金属メッキ被膜7の形成時には,放熱用
金属板9と貫通孔6との間には,狭い側壁近接部分が存
在していない。そのため,メッキ不良が生じない。
放熱用金属板9を接合する前に形成するため,メッキ表
面が広く,良好なメッキ状態を得ることができる。即
ち,第1回目の金属メッキ被膜7の形成時には,放熱用
金属板9と貫通孔6との間には,狭い側壁近接部分が存
在していない。そのため,メッキ不良が生じない。
また,放熱用金属板9の接合後に,再び第2回目の金属
メッキ被膜10を形成する。そのため,例え第1回目の金
属メッキ被膜7に若干のピンホールが生じていても,そ
れらは上記金属メッキ被膜10によって完全に塞がれ,ピ
ンホールは残存しない。
メッキ被膜10を形成する。そのため,例え第1回目の金
属メッキ被膜7に若干のピンホールが生じていても,そ
れらは上記金属メッキ被膜10によって完全に塞がれ,ピ
ンホールは残存しない。
また,放熱用金属板9の接合後には上記側壁近接部分が
形成されるが,第2回目の金属メッキ被膜10がこの側壁
近接部分においてメッキ不良を生じても,側壁近接部分
の内部,即ち第1のプリント配線用基板1の裏面側には
既に第1回目の良好な第1回目の金属メッキ被膜7が形
成されている。
形成されるが,第2回目の金属メッキ被膜10がこの側壁
近接部分においてメッキ不良を生じても,側壁近接部分
の内部,即ち第1のプリント配線用基板1の裏面側には
既に第1回目の良好な第1回目の金属メッキ被膜7が形
成されている。
そのため,側壁近接部分からの湿気浸入も完全に阻止で
きる。また,第1回目の金属メッキ被膜7の上に放熱用
金属板を接合しているので熱放散性にも優れている。
きる。また,第1回目の金属メッキ被膜7の上に放熱用
金属板を接合しているので熱放散性にも優れている。
第1図は本発明にかかる実施例の電子部品搭載用基板の
縦断面図,第2図は電子部品搭載用基板の製造方法のフ
ローシートを示す該基板の縦断面図,第3図は第2のプ
リント配線用基板における第2の貫通孔に放熱用金属板
を装着する場合の位置合せ状態を示す平面図,第4図は
本発明のプラグインパッケージ基板の斜視図,第5図は
従来の電子部品搭載用基板の縦断面図である。 1,4……プリント配線用基板, 2……銅箔, 3,6……貫通孔, 5……接着層, 7……第1回目の金属メッキ被膜, 8……凹部(電子部品搭載用凹部), 9……放熱用金属板, 10……第2回目の金属メッキ被膜, 11……ソルダーレジストマスク, 12……半導体素子, 13……ボンディングワイヤー, 14……封止樹脂, 15……樹脂封止枠, 16……スルーホール, 17……熱硬化性樹脂シート, 18……導体ピン,
縦断面図,第2図は電子部品搭載用基板の製造方法のフ
ローシートを示す該基板の縦断面図,第3図は第2のプ
リント配線用基板における第2の貫通孔に放熱用金属板
を装着する場合の位置合せ状態を示す平面図,第4図は
本発明のプラグインパッケージ基板の斜視図,第5図は
従来の電子部品搭載用基板の縦断面図である。 1,4……プリント配線用基板, 2……銅箔, 3,6……貫通孔, 5……接着層, 7……第1回目の金属メッキ被膜, 8……凹部(電子部品搭載用凹部), 9……放熱用金属板, 10……第2回目の金属メッキ被膜, 11……ソルダーレジストマスク, 12……半導体素子, 13……ボンディングワイヤー, 14……封止樹脂, 15……樹脂封止枠, 16……スルーホール, 17……熱硬化性樹脂シート, 18……導体ピン,
Claims (1)
- 【請求項1】(a)有機系樹脂素材から成る第1のプリ
ント配線用基板1における電子部品を搭載すべき箇所に
第1の貫通孔3を形成する工程と, (b)上記第1のプリント配線用基板1の裏面側より,
上記第1の貫通孔3の開孔部より大きな第2の貫通孔6
を有する有機系樹脂素材から成る第2のプリント配線用
基板4を両貫通孔3,6が対応するよう接着層5を介して
接合する工程と, (c)上記第1の貫通孔3及びこれより大きな第2の貫
通孔6の両者の孔表面を含む基板表面に第1回目の金属
メッキ被膜7を形成する工程と, (d)上記第2の貫通孔6の内部における上記第1のプ
リント配線用基板1の裏面側より上記第1の貫通孔3が
塞がり,第1のプリント配線用基板1の表面側で電子部
品搭載用の凹部8が形成されるように,接着層5を介し
て上記第1回目の金属メッキ被膜7の上に放熱用金属板
9を接合する工程と, (e)上記凹部8を含む両プリント配線用基板1,4の表
面及び放熱用金属板9の表面に第2回目の金属メッキ被
膜10を形成する工程とから成る電子部品搭載用基板の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186967A JPH0685464B2 (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 電子部品搭載用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186967A JPH0685464B2 (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 電子部品搭載用基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6165490A JPS6165490A (ja) | 1986-04-04 |
| JPH0685464B2 true JPH0685464B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16197858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59186967A Expired - Lifetime JPH0685464B2 (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 電子部品搭載用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685464B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6329065B2 (ja) * | 2014-12-25 | 2018-05-23 | 京セラ株式会社 | 電子素子実装用基板および電子装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60253291A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | イビデン株式会社 | 電子部品搭載用基板およびその製造方法 |
| JPS6134990A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-19 | イビデン株式会社 | 電子部品搭載用基板およびその製造方法 |
-
1984
- 1984-09-06 JP JP59186967A patent/JPH0685464B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6165490A (ja) | 1986-04-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |