JPH069020Y2 - 多孔質電極 - Google Patents
多孔質電極Info
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- JPH069020Y2 JPH069020Y2 JP1988160945U JP16094588U JPH069020Y2 JP H069020 Y2 JPH069020 Y2 JP H069020Y2 JP 1988160945 U JP1988160945 U JP 1988160945U JP 16094588 U JP16094588 U JP 16094588U JP H069020 Y2 JPH069020 Y2 JP H069020Y2
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Landscapes
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は多孔質電極に関し、特に、プラズマエッチング
装置に使用する多孔質電極に関するものである。
装置に使用する多孔質電極に関するものである。
従来、プラズマエッチング装置に使用している多孔質電
極にあっては均一な厚みの多孔質濾過材を使用してい
る。
極にあっては均一な厚みの多孔質濾過材を使用してい
る。
第５図には均一な厚みの多孔質濾過材３３を用いた多孔
質電極３１が示されている。
質電極３１が示されている。
すなわち、この多孔質電極３１は、上面中央部に小径の
流体３５の流入口３４を有するとともに、下面に大径の
流出口３２を有し、導電性を有する材質で形成される本
体部３６と、この本体部３６の前記流出口３２に配設さ
れるとともに、導電性を有する円板状の多孔質濾過材３
３とから構成されている。
流体３５の流入口３４を有するとともに、下面に大径の
流出口３２を有し、導電性を有する材質で形成される本
体部３６と、この本体部３６の前記流出口３２に配設さ
れるとともに、導電性を有する円板状の多孔質濾過材３
３とから構成されている。
上記の多孔質電極３１においては流体３５は多孔質濾過
材３３で濾過されて流出するが、流入口３４に対向する
中央部では流速が速く、周縁部に行くほど流速が遅くな
り、このために多孔質濾過材３３の下流側では流体が乱
流状態になるという問題点を有していた。
材３３で濾過されて流出するが、流入口３４に対向する
中央部では流速が速く、周縁部に行くほど流速が遅くな
り、このために多孔質濾過材３３の下流側では流体が乱
流状態になるという問題点を有していた。
このために、板状の多孔質濾過材３３を有する多孔質電
極３１を使用した第６図に示すようなプラズマエッチン
グ装置においては、エッチング精度等に悪い影響を与え
ていた。
極３１を使用した第６図に示すようなプラズマエッチン
グ装置においては、エッチング精度等に悪い影響を与え
ていた。
第６図に示すプラズマエッチング装置は、エンチング室
４２を形成したケーシング４１の内部に多孔質電極であ
る上部電極４３と、この上部電極４３に対向した状態で
配設された下部電極４４とを具えている。
４２を形成したケーシング４１の内部に多孔質電極であ
る上部電極４３と、この上部電極４３に対向した状態で
配設された下部電極４４とを具えている。
前記上部電極４３は、その上部中央に反応性ガス４５を
導入する小径の流入口４３ａが設けられた中空状に形成
され、下面の流出口４３ｂに板状の多孔質濾過材４３ｃ
が配設されている。
導入する小径の流入口４３ａが設けられた中空状に形成
され、下面の流出口４３ｂに板状の多孔質濾過材４３ｃ
が配設されている。
前記下部電極４４は、その上面が前記多孔質濾過材４３
ｃに対向しており、その対向面にエッチングを施す基板
４６が載置され、下部電極４４の下部は水冷部分４４ａ
となっている。
ｃに対向しており、その対向面にエッチングを施す基板
４６が載置され、下部電極４４の下部は水冷部分４４ａ
となっている。
そして、前記下部電極４４は接地してアノードカップリ
ング接続するとともに、前記上部電極４３との間に高周
波電源４７を接続して両電極４３、４４間に高周波電圧
を印加するようになっている。
ング接続するとともに、前記上部電極４３との間に高周
波電源４７を接続して両電極４３、４４間に高周波電圧
を印加するようになっている。
また、前記ケーシング４１には排気口４８が形成されて
いる。
いる。
上記のような多孔質電極である上部電極４３と、下部電
極４４とを具えたプラズマエッチング装置にあっては、
前記下部電極４４の上面に、ポリシリコン、ＳｉＯ2、
ＰＳＧ（リンケイ酸ガラス）、アルミニウム合金、高融
点金属およびシリサイド（ケイ素化物）等の薄膜からな
る基板４６を載置する。
極４４とを具えたプラズマエッチング装置にあっては、
前記下部電極４４の上面に、ポリシリコン、ＳｉＯ2、
ＰＳＧ（リンケイ酸ガラス）、アルミニウム合金、高融
点金属およびシリサイド（ケイ素化物）等の薄膜からな
る基板４６を載置する。
そして、上部電極４３の流入口４３ａから反応性ガス４
５を中空部内に導入して流出口４３ｂに配設した多孔質
濾過材４３ｃから下部電極４４に向けて流出する。
５を中空部内に導入して流出口４３ｂに配設した多孔質
濾過材４３ｃから下部電極４４に向けて流出する。
そして、両電極４３、４４間の空間に反応性ガス４５を
充満させるとともに、両電極４３、４４間に高周波電源
４７から高周波電圧を印加し、両電極４３、４４間に存
在する反応性ガス４５をプラズマ化して、前記下部電極
４４の上面に載置した基板４６を所望のパターンにエッ
チングするようになっている。
充満させるとともに、両電極４３、４４間に高周波電源
４７から高周波電圧を印加し、両電極４３、４４間に存
在する反応性ガス４５をプラズマ化して、前記下部電極
４４の上面に載置した基板４６を所望のパターンにエッ
チングするようになっている。
しかしながら、前述の如く、前記流入口４３ａから流入
して多孔質濾過材４３ｃで濾過されて流出する反応性ガ
ス４５は、多孔質濾過材４３ｃの中央部では流速が速
く、中央部から遠ざかるにつれて流速が遅くなってしま
う。
して多孔質濾過材４３ｃで濾過されて流出する反応性ガ
ス４５は、多孔質濾過材４３ｃの中央部では流速が速
く、中央部から遠ざかるにつれて流速が遅くなってしま
う。
したがって、流入口４３ａに対応した多孔質濾過材４３
ｃの部位からの流体の流出量が多すぎてしまい、一方、
この部位からの流出量を適したものとすれば、周縁部で
は流出量が少なすぎてしまうという問題点を有してい
た。
ｃの部位からの流体の流出量が多すぎてしまい、一方、
この部位からの流出量を適したものとすれば、周縁部で
は流出量が少なすぎてしまうという問題点を有してい
た。
さらに、多孔質濾過材４３ｃを通過した下流側の部分で
は反応性ガス４５が乱流状態になり、反応性ガス４５の
濃度が両電極４３、４４間の空間で不均一になるととも
に、プラズマ密度に乱れを生じ、基板４６のエッチング
速度が不均一になり、正確なエッチングができないとい
う問題点を有していた。
は反応性ガス４５が乱流状態になり、反応性ガス４５の
濃度が両電極４３、４４間の空間で不均一になるととも
に、プラズマ密度に乱れを生じ、基板４６のエッチング
速度が不均一になり、正確なエッチングができないとい
う問題点を有していた。
本考案は上記のような従来のもののもつ問題点を解決し
たものであって、多孔質濾過材の下流側に均一な流量の
流体を供給することができるとともに、流出側では反応
ガスが乱流状態となるのを防止することができる多孔質
電極を提供することを目的とする。
たものであって、多孔質濾過材の下流側に均一な流量の
流体を供給することができるとともに、流出側では反応
ガスが乱流状態となるのを防止することができる多孔質
電極を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために本考案は、プラズマエッチ
ング装置の電極として使用される多孔質電極であって、
上流中央部に小径の流入口を有するとともに、下流に大
径の流出口を有し、かつ導電性を有する本体部と、該本
体部の前記流出口に、そこを閉塞した状態で設けられ、
前記流入口に対面する中央部が肉厚であるとともに、周
縁部に行くに従って順次肉薄となり、かつ、導電性を有
する多孔質濾過材とを具え、前記流入口から流入した反
応性ガスが前記多孔質濾過材を通過して、多孔質濾過材
の下面の全面に渡ってほぼ均一の流速で流出するように
構成したものである。
ング装置の電極として使用される多孔質電極であって、
上流中央部に小径の流入口を有するとともに、下流に大
径の流出口を有し、かつ導電性を有する本体部と、該本
体部の前記流出口に、そこを閉塞した状態で設けられ、
前記流入口に対面する中央部が肉厚であるとともに、周
縁部に行くに従って順次肉薄となり、かつ、導電性を有
する多孔質濾過材とを具え、前記流入口から流入した反
応性ガスが前記多孔質濾過材を通過して、多孔質濾過材
の下面の全面に渡ってほぼ均一の流速で流出するように
構成したものである。
本考案は上記の構成を採用したことにより多孔質電極の
下流側では全面に渡ってほぼ均一の流量を確保すること
ができ、また、全面に渡ってほぼ均一な流速を確保する
ことができるので下流側が乱流状態となるのを確実に防
止することができる。
下流側では全面に渡ってほぼ均一の流量を確保すること
ができ、また、全面に渡ってほぼ均一な流速を確保する
ことができるので下流側が乱流状態となるのを確実に防
止することができる。
以下、図面に示す本考案の実施例について説明する。
第１図および第２図には本考案による多孔質電極が示さ
れている。
れている。
この多孔質電極１は、上面中央部に小径の流体５の流入
口４を有するとともに、下面に大径の流出口２を有し、
導電性を有する材質で形成される本体部６と、この本体
部６の前記流出口２に配設されるとともに、導電性を有
し、かつ、中央部が厚肉で周縁部に行くに従って肉薄と
なる凸レンズ状の多孔質濾過材３とから構成されてい
る。
口４を有するとともに、下面に大径の流出口２を有し、
導電性を有する材質で形成される本体部６と、この本体
部６の前記流出口２に配設されるとともに、導電性を有
し、かつ、中央部が厚肉で周縁部に行くに従って肉薄と
なる凸レンズ状の多孔質濾過材３とから構成されてい
る。
上記の構成の多孔質電極１にあっては、前記小径の流入
口４に対面した多孔質濾過材３の中央部では速い流速で
流れ込み、周縁部に行くに従って遅い流速で流れ込む
が、速い流速で流れ込む多孔質濾過材３の中央部では肉
厚が厚く、また、遅い速度で流れ込む周縁部では肉厚が
薄く形成されているので、多孔質濾過材３の下流側では
流体が均一な流速で濾過されて流出するようになる。
口４に対面した多孔質濾過材３の中央部では速い流速で
流れ込み、周縁部に行くに従って遅い流速で流れ込む
が、速い流速で流れ込む多孔質濾過材３の中央部では肉
厚が厚く、また、遅い速度で流れ込む周縁部では肉厚が
薄く形成されているので、多孔質濾過材３の下流側では
流体が均一な流速で濾過されて流出するようになる。
しかも、多孔質濾過材３の中央部から流出する流体の流
速を増加させることなく、下流側で流体の均一な流速を
確保することができ、多孔質濾過材３の下面の全面にわ
たってほぼ均一な流量を確保することができる。
速を増加させることなく、下流側で流体の均一な流速を
確保することができ、多孔質濾過材３の下面の全面にわ
たってほぼ均一な流量を確保することができる。
ここで、上記の多孔質濾過材３を通過する流体５の通気
率は、以下の式で示される。
率は、以下の式で示される。
ｋ＝（Ｑ／Ａ）（ｄ／△ｐ） ここで、ｋは通気率、Ｑは流量、Ａは断面積、ｄは厚
み、△ｐは差圧であり、（Ｑ／Ａ）は流速ｖを示してい
る。
み、△ｐは差圧であり、（Ｑ／Ａ）は流速ｖを示してい
る。
すなわち、均質組成を有する多孔質体においては、多孔
質体の厚みｄと流速ｖとが反比例の関係となっていて、
前記本考案による多孔質電極１に用いられている均質組
成の多孔質濾過材３は、流体５の流入口４に対面する中
央部が厚く、流入口４から遠ざかる周縁部に向けて順次
薄くなる凸レンズ状に形成されている。
質体の厚みｄと流速ｖとが反比例の関係となっていて、
前記本考案による多孔質電極１に用いられている均質組
成の多孔質濾過材３は、流体５の流入口４に対面する中
央部が厚く、流入口４から遠ざかる周縁部に向けて順次
薄くなる凸レンズ状に形成されている。
したがって、前記流入口４に対面して大きい流速で流れ
込む部分では多孔質濾過材３が厚く形成されているので
下流側に流出する流速が遅くなり、一方、流入口から遠
ざかって流体５が小さい流速で流れ込む周縁部では多孔
質濾過材３の厚みが薄くなっているので下流側に流出す
る流速が速くなり、全体として流速が制御されて、多孔
質濾過材３の全面に渡ってほぼ均一な流速となり、これ
により、下面の全体にわたってほぼ均一な流量を確保す
ることができる。
込む部分では多孔質濾過材３が厚く形成されているので
下流側に流出する流速が遅くなり、一方、流入口から遠
ざかって流体５が小さい流速で流れ込む周縁部では多孔
質濾過材３の厚みが薄くなっているので下流側に流出す
る流速が速くなり、全体として流速が制御されて、多孔
質濾過材３の全面に渡ってほぼ均一な流速となり、これ
により、下面の全体にわたってほぼ均一な流量を確保す
ることができる。
第３図には上記の本考案による多孔質電極１を上部電極
１３として使用したプラズマエッチング装置が示されて
いる。
１３として使用したプラズマエッチング装置が示されて
いる。
このプラズマエッチング装置は、エッチング室１２を形
成したケーシング１１の内部に多孔質電極１である上部
電極１３と、この上部電極１３に対向した状態で配設さ
れた下部電極１４とを具えている。
成したケーシング１１の内部に多孔質電極１である上部
電極１３と、この上部電極１３に対向した状態で配設さ
れた下部電極１４とを具えている。
前記上部電極１３は、その上部中央に反応性ガス１５を
導入する小径の流入口１３ａが設けられた中空状に形成
され、下面の流出口１３ｂに中央部が厚肉で周縁部に行
くに従って肉薄となる凸レンズ状の多孔質濾過材１３ｃ
が配設されている。
導入する小径の流入口１３ａが設けられた中空状に形成
され、下面の流出口１３ｂに中央部が厚肉で周縁部に行
くに従って肉薄となる凸レンズ状の多孔質濾過材１３ｃ
が配設されている。
前記下部電極１４は、その上面が前記多孔質濾過材１３
ｃに対向しており、その対向面にエッチングを施す基板
１６が載置され、下部電極１４の下部は水冷部分１４ａ
となっている。
ｃに対向しており、その対向面にエッチングを施す基板
１６が載置され、下部電極１４の下部は水冷部分１４ａ
となっている。
そして、前記下部電極１４は接地してアノードカップリ
ング接続するとともに、前記上部電極１３との間に高周
波電源１７を接続して両電極１３、１４間に高周波電圧
を印加するようになっている。
ング接続するとともに、前記上部電極１３との間に高周
波電源１７を接続して両電極１３、１４間に高周波電圧
を印加するようになっている。
また、前記ケーシング１１には排気口１８が形成されて
いる。
いる。
上記のような多孔質電極である上部電極１３と、下部電
極１４とを具えたプラズマエッチング装置にあっては、
前記下部電極１４の上面に、ポリシリコン、ＳｉＯ2、
ＰＳＧ（リンケイ酸ガラス）、アルミニウム合金、高融
点金属およびシリサイド（ケイ素化物）等の薄膜からな
る基板１６を載置する。
極１４とを具えたプラズマエッチング装置にあっては、
前記下部電極１４の上面に、ポリシリコン、ＳｉＯ2、
ＰＳＧ（リンケイ酸ガラス）、アルミニウム合金、高融
点金属およびシリサイド（ケイ素化物）等の薄膜からな
る基板１６を載置する。
そして、上部電極１３の流入口１３ａから反応性ガス１
５を中空部内に導入して流出口１３ｂに配設した多孔質
濾過材１３ｃから下部電極１４に向けて流出する。
５を中空部内に導入して流出口１３ｂに配設した多孔質
濾過材１３ｃから下部電極１４に向けて流出する。
そして、両電極１３、１４間に空間に反応性ガス１５を
充満させるとともに、両電極１３、１４間に高周波電源
１７から高周波電圧を印加し、両電極１３、１４間に存
在する反応性ガス１５をプラズマ化して、前記下部電極
１４の上面に載置した基板１６を所望のパターンにエッ
チングするようになっている。
充満させるとともに、両電極１３、１４間に高周波電源
１７から高周波電圧を印加し、両電極１３、１４間に存
在する反応性ガス１５をプラズマ化して、前記下部電極
１４の上面に載置した基板１６を所望のパターンにエッ
チングするようになっている。
そして、前記流入口１３ａから流入して流出口１３ｂに
配設される多孔質濾過材１３ｃで濾過されて流出する反
応性ガス１５は、多孔質濾過材１３ｃの中央部では流速
が速く、中央部から周縁部に行くに従って流速が遅くな
るが、多孔質濾過材１３ｃの厚みが凸レンズ状となって
いるので、下流側に流出する反応性ガス１５の流速は、
多孔質濾過材１３ｃのすべての部位にわたってあまり変
化せず、全体として流速が制御され、多孔質濾過材１３
ｃの下流側の全面にわたって均一な流速で反応性ガス１
５が流出する。
配設される多孔質濾過材１３ｃで濾過されて流出する反
応性ガス１５は、多孔質濾過材１３ｃの中央部では流速
が速く、中央部から周縁部に行くに従って流速が遅くな
るが、多孔質濾過材１３ｃの厚みが凸レンズ状となって
いるので、下流側に流出する反応性ガス１５の流速は、
多孔質濾過材１３ｃのすべての部位にわたってあまり変
化せず、全体として流速が制御され、多孔質濾過材１３
ｃの下流側の全面にわたって均一な流速で反応性ガス１
５が流出する。
これによって多孔質濾過材１３ｃの下面の全面にわたっ
てほぼ均一な流量を確保することができる。
てほぼ均一な流量を確保することができる。
しかも、上記のことは中央部から流出する流体の流量を
多くすることなく達成することができる。
多くすることなく達成することができる。
そして、本考案による多孔質電極１を上部電極１３とし
て使用したプラズマエッチング装置では、反応性ガス１
５の流出口１３ｂに配設される多孔質濾過材１３ｃの全
面から反応性ガス１５が均一な流速の層流状態で両電極
１３、１４間の空間に放出され、基板１６上において反
応性ガス１５の濃度およびプラズマ密度の乱れを生じる
ことなく、基板１６の上面におけるエッチング速度が一
定で均一で正確なエッチングができることになる。
て使用したプラズマエッチング装置では、反応性ガス１
５の流出口１３ｂに配設される多孔質濾過材１３ｃの全
面から反応性ガス１５が均一な流速の層流状態で両電極
１３、１４間の空間に放出され、基板１６上において反
応性ガス１５の濃度およびプラズマ密度の乱れを生じる
ことなく、基板１６の上面におけるエッチング速度が一
定で均一で正確なエッチングができることになる。
前記本考案に用いる導電性材料からなる凸レンズ状の多
孔質濾過材１３ｃは、たとえば、炭化ケイ素（ＳｉＣ）
の粉末７０重量部と、水３０重量部とを混合したもの
に、炭素または樹脂等の炭素源を炭素換算で３〜５重量
部となるように混合し、このものを成形型に流し込んで
成形体を形成し、つづいて、この成形体を１５００℃で
仮焼し、さらに、この仮焼体の重量の約２０％に相当す
るケイ素（Ｓｉ）を１５００℃の温度下で焼結反応させ
ることにより製造することができる。
孔質濾過材１３ｃは、たとえば、炭化ケイ素（ＳｉＣ）
の粉末７０重量部と、水３０重量部とを混合したもの
に、炭素または樹脂等の炭素源を炭素換算で３〜５重量
部となるように混合し、このものを成形型に流し込んで
成形体を形成し、つづいて、この成形体を１５００℃で
仮焼し、さらに、この仮焼体の重量の約２０％に相当す
るケイ素（Ｓｉ）を１５００℃の温度下で焼結反応させ
ることにより製造することができる。
第４図には本考案による凸レンズ状の多孔質濾過材を配
設した多孔質電極の他の例が示されている。
設した多孔質電極の他の例が示されている。
この多孔質電極は第１図に示した多孔質電極に使用した
多孔質濾過材の流出側面を平面状にした平凸レンズ状と
したものである。
多孔質濾過材の流出側面を平面状にした平凸レンズ状と
したものである。
すなわち、この他の例に示す多孔質電極２１は、上流中
央に小径の流体２５の流入口２４を有するとともに、下
流に大径の流出口２２を有し、かつ、導電性材料で形成
された本体部２６と、この本体部２６の流出口２２に、
流出側を平面状にして流入側が凸状となっていて中央部
を肉厚とするとともに、周縁部に行くに従って順次肉薄
とした平凸レンズ状の多孔質濾過材２３とから構成され
ている。
央に小径の流体２５の流入口２４を有するとともに、下
流に大径の流出口２２を有し、かつ、導電性材料で形成
された本体部２６と、この本体部２６の流出口２２に、
流出側を平面状にして流入側が凸状となっていて中央部
を肉厚とするとともに、周縁部に行くに従って順次肉薄
とした平凸レンズ状の多孔質濾過材２３とから構成され
ている。
このため、流入口２４に対面する流体２５が大きい流速
で流れ込む部分では多孔質濾過材２３が肉厚となってい
るので下流側に流出する流速が遅くなり、流入口２４か
ら遠ざかって流体２５が小さい流速で流れ込む部分では
肉厚が徐々に薄くなっているので下流側に流出する流速
があまり変化せず、全体として流速が制御され、多孔質
濾過材２３の下流側の全面にわたって均一な流速とな
る。
で流れ込む部分では多孔質濾過材２３が肉厚となってい
るので下流側に流出する流速が遅くなり、流入口２４か
ら遠ざかって流体２５が小さい流速で流れ込む部分では
肉厚が徐々に薄くなっているので下流側に流出する流速
があまり変化せず、全体として流速が制御され、多孔質
濾過材２３の下流側の全面にわたって均一な流速とな
る。
本考案は前記のように構成したので、多孔質濾過材を通
過する流体の流速を全面に渡ってほぼ均一にすることが
できて、多孔質濾過材の各部位にわってほぼ均一の流量
を確保することができる。
過する流体の流速を全面に渡ってほぼ均一にすることが
できて、多孔質濾過材の各部位にわってほぼ均一の流量
を確保することができる。
しかも、流入口に対面する多孔質濾過材の各部位を通過
する流体の流量は、多孔質濾過材の中央部の肉厚に応じ
て任意に設定できて、この中央部の設定量とほぼ均一の
流量を多孔質濾過材の各部位で確保することができる。
する流体の流量は、多孔質濾過材の中央部の肉厚に応じ
て任意に設定できて、この中央部の設定量とほぼ均一の
流量を多孔質濾過材の各部位で確保することができる。
したがって、プラズマエッチング装置に使用した場合に
は多孔質濾過材を通過する反応性ガスが均一な層流状態
で上下電極間の空間に放出されるので、反応ガスの濃度
およびプラズマ密度の乱れを生じることがなく、均一な
エッチング速度を確保できて正確なエッチングを行うこ
とができるという効果を有している。
は多孔質濾過材を通過する反応性ガスが均一な層流状態
で上下電極間の空間に放出されるので、反応ガスの濃度
およびプラズマ密度の乱れを生じることがなく、均一な
エッチング速度を確保できて正確なエッチングを行うこ
とができるという効果を有している。
第１図は本考案による多孔質電極の概略断面図、第２図
は第１図の平面図、第３図は本考案による多孔質電極を
上部電極として使用したプラズマエッチング装置を示す
概略断面図、第４図は本考案による多孔質電極の他の例
を示す概略断面図、第５図は従来の多孔質電極の概略断
面図、第６図は従来の多孔質電極を上部電極として使用
したプラズマエッチング装置を示す概略断面図である。 １、２１、３１……多孔質電極 ２、２２、３２……流出口 ３、２３、３３……多孔質濾過材 ４、２４、３４……流入口 ５、２５、３５……流体 ６、２６、３６……本体部 １１、４１……ケーシング １２、４２……エッチング室 １３、４３……上部電極（多孔質電極） １３ａ、４３ａ……流入口 １３ｂ、４３ｂ……流出口 １３ｃ、４３ｃ……多孔質濾過材 １４、４４……下部電極 １４ａ、４４ａ……水冷部分 １５、４５……反応性ガス １６、４６……基板 １７、４７……高周波電源 １８、４８……排気口
は第１図の平面図、第３図は本考案による多孔質電極を
上部電極として使用したプラズマエッチング装置を示す
概略断面図、第４図は本考案による多孔質電極の他の例
を示す概略断面図、第５図は従来の多孔質電極の概略断
面図、第６図は従来の多孔質電極を上部電極として使用
したプラズマエッチング装置を示す概略断面図である。 １、２１、３１……多孔質電極 ２、２２、３２……流出口 ３、２３、３３……多孔質濾過材 ４、２４、３４……流入口 ５、２５、３５……流体 ６、２６、３６……本体部 １１、４１……ケーシング １２、４２……エッチング室 １３、４３……上部電極（多孔質電極） １３ａ、４３ａ……流入口 １３ｂ、４３ｂ……流出口 １３ｃ、４３ｃ……多孔質濾過材 １４、４４……下部電極 １４ａ、４４ａ……水冷部分 １５、４５……反応性ガス １６、４６……基板 １７、４７……高周波電源 １８、４８……排気口
Claims (1)
- 【請求項１】プラズマエッチング装置の電極として使用
される多孔質電極であって、上流中央部に小径の流入口
を有するとともに、下流に大径の流出口を有し、かつ導
電性を有する本体部と、該本体部の前記流出口に、そこ
を閉塞した状態で設けられ、前記流入口に対面する中央
部が肉厚であるとともに、周縁部に行くに従って順次肉
薄となり、かつ、導電性を有する多孔質濾過材とを具
え、前記流入口から流入した反応性ガスが前記多孔質濾
過材を通過して、多孔質濾過材の下面の全面に渡ってほ
ぼ均一の流速で流出するようにしたことを特徴とする多
孔質電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988160945U JPH069020Y2 (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | 多孔質電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988160945U JPH069020Y2 (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | 多孔質電極 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0283017U JPH0283017U (ja) | 1990-06-27 |
| JPH069020Y2 true JPH069020Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=31443459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988160945U Expired - Lifetime JPH069020Y2 (ja) | 1988-12-12 | 1988-12-12 | 多孔質電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069020Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4104193B2 (ja) * | 1997-11-14 | 2008-06-18 | 株式会社エフオーアイ | プラズマ処理装置 |
| JP7595841B2 (ja) * | 2020-10-07 | 2024-12-09 | 株式会社リコー | フィルタ保持装置、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162918U (ja) * | 1983-04-18 | 1984-10-31 | 株式会社共立 | エア−クリ−ナ |
-
1988
- 1988-12-12 JP JP1988160945U patent/JPH069020Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0283017U (ja) | 1990-06-27 |
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