JPH0691308B2 - 部分めつき方法 - Google Patents

部分めつき方法

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JPH0691308B2
JPH0691308B2 JP17587285A JP17587285A JPH0691308B2 JP H0691308 B2 JPH0691308 B2 JP H0691308B2 JP 17587285 A JP17587285 A JP 17587285A JP 17587285 A JP17587285 A JP 17587285A JP H0691308 B2 JPH0691308 B2 JP H0691308B2
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plating
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正弘 古川
精一 芹澤
和博 縁本
明仁 川上
繁 藤田
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Japan Pure Chemical Co Ltd
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Japan Pure Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は部分めっき方法に係り、特にめっき不用部分を
被覆することなく部分的にめっきを行なう方法に関す
る。
〔発明の背景〕
従来の部分めっき方法で、プリント配線板の接栓部(コ
ネクタタグ)に金めっきを行なうには、以下の(a),
(b)工程で行なっていた。
(a)プリント配線板を対向する弾性ベルト間に圧接保
持して、ベルトが圧接することにより形成されるマスク
の境界線によってめっき液と接触する接栓部と、めっき
液と接触しない配線部とを分離し、 (b)境界線の下方からめっき液を接栓部に吹きつけ
る。(特開昭55−16499)しかし、上記の方法ではマス
クとするベルトとプリント配線板間にめっき液が毛細管
現象で浸み込み、めっき不要部分にも金めっき皮膜が形
成されてしまうという問題があった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなくし、めっ
き不要部分を直接ベルト等で圧接してマスクを形成する
ことでなく、めっきすべき部分にのみ選択的にめっき皮
膜を形成することのできる改良された部分めっき方法を
提供することにある。
〔発明の概要〕
上記目的は、めっき槽の上部空間内に、垂直に保持した
被めっき物のめっきすべき部分とめっき不要の境界線
で、被めっき物に対して隙間を形成して直角に上部遮蔽
板を配設すると共に、この上部遮蔽板の先端部、内壁面
に被めっき物に交わる水平面からめっき槽内に所定角度
傾斜した滑らかな傾斜面を形成する工程と、この上部遮
蔽板の下方に、下部遮蔽板を上部遮蔽板に対して垂直
に、しかもその上端部との間に所定の間隔部が形成され
るように配設し、この間隔部からめっき液を前記めっき
槽内の上部空間に保持された被めっき物のめっきすべき
部分に噴射させる工程とを有して成る部分めっき方法に
より、達成される。
上記の所定角度とは、後述する第1図のθを指し、実用
上は10°〜65°であり、好ましくは30°〜45°である。
また、めっき液が噴出する部分は、被めっき物の移動に
支障ない位置にあれば良く、通常は被めっき物から1mm
〜4mm離すが、1m〜2mm離れていると更に良い。
めっき液の噴射速度は、めっき液がめっきをすべき部分
とめっき不用部分の境界線付近に均一に噴射される速度
が良く、通常はめっき槽1m当り21.0l/mm〜212l/mm、好
ましくは35.7l/mm〜71.4l/mmである。
また、上部遮蔽板と下部遮蔽板の上端部との間に設けら
れた間隔部から、めっき液を被めっき物のめっきすべき
部分に噴射させるに際しては、後述する第1図で説明す
るように、この間隔部の間隔をWとし、めっき槽の上部
空間内に保持された被めっき物のめっきする端子の長さ
(接栓部の長さ)をLとしたとき、両者の関係W/Lは0.3
/10〜10/10(すなわち、0.03〜1)である。この値が0.
3より小さくなると接栓部の一部に局部的にめっきが形
成され、1より大きくなると部分めっき効果が低減す
る。
また、被めっき物に対して上部遮蔽板を直角に配設する
とき、両者間に隙間を設けているが、これには次に示す
ような二つの作用がある。
その一つは、先に「発明の背景」の項で従来例として挙
げた周知の連続めっき処理方法と同様に、構成は異なる
が被めっき物がめっき槽内を上部遮蔽板に非接触の状態
で移動し、搬送され易くする作用である。
他の一つは、本発明がマスクを使用しない部分めっき方
法を可能とする重要な作用であり、それは上記間隔部か
らめっき液をめっきすべき部分に噴射するとき、この上
部遮蔽板と被めっき物との隙間から外気を取り込み、周
知のベルヌーイの定理に基づいて上記境界線近傍に負圧
が生じることであり、その結果、めっき液が上部遮蔽板
と被めっき物との隙間から上部に漏れることはなく、境
界線より下方の、めっきを必要とする部分にのみ確実に
めっき液を供給することができる。めっきする端子の長
さが16mmのときは0.5mm〜16mm、好ましくは1mm〜13mmで
ある。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。
実施例1 第1図にめっき槽の断面を示すように、プリント回路板
1をめっき槽の上部遮蔽板2−1,2−2の間に垂直に保
持すると共に、その接栓部とそれに接続されたリードの
極一部をめっき槽内の上部空間に位置させる。上部遮蔽
板2−1,2−2の先端C,Dは、プリント回路板より2mmの
隙間を形成してそれぞれ離れている。めっき液槽5−1,
5−2中のめっき液は、上部遮蔽板2−1,2−2と下部遮
蔽板4−1,4−2との間に形成された間隔部の間隔Wか
ら流出し、先端部C、Dの傾斜面(θ=30°)からめっ
き槽1m当り70l/mmの割合でプリント回路板1の長さ50cm
の境界線に噴射させためっき液は、めっき液排出部6か
らめっき槽5−1,5−2に循環された。なお、上記めっ
き槽1m当たりとは、めっき槽の単位長さを表し、図示さ
れた間隔Wの奥行きの長さに相当する。また、上記プリ
ント回路板1の長さとは、図示された回路板1の奥行
き、すなわち、プリント回路板1の幅に相当する。そし
て、プリント回路板1を陰極とし、陽極3とプリント回
路板1との間に電源回路図は省略しているが直流電圧
(DC4〜20V,DA=5〜20A/dm2)を印加し、めっき液に日
本高純度化学製オーロブライトHS−5(金濃度:5〜10g/
l、比重:10〜16ボーメ度、PH:4.0±0.2、添加剤:オー
ロブライトHS−5)を用いてプリント回路板1の接栓部
銅パターン上に金めっきを行なった。
接栓部への部分金めっき結果を、第2図に示した。図示
のように、めっき槽の上部空間には、プリント回路基板
1の一端部の接栓部とそれに接続されたリードの一部を
境界線として配置した。
第2図の(a)は、境界線以下に位置するめっき槽内に
保持されたプリント回路基板1の一端部である接栓部
(端子)とそれに接続されたリードの一部領域を示した
平面図であり、幅の広い部分が接栓部の形状を示してい
る。
第2図の(b)は、めっき液の噴射角θが30°で、上、
下の遮蔽板の間隔Wを1.0mmに調節した時の、めっき厚
さ分布を示している。ただし、この例では接栓部(端
子)の長さをLとしたとき、L=10mmであるので、上、
下の遮蔽板の間隔W÷端子長さL、つまりW/Lの関係
は、1.0mm/10mm=0.1となる。図示のように、接線部の
上部領域である接点との接触部近傍に厚く、その下端部
では極端に薄い金めっき状態であった。このような状態
は(上,下の遮蔽板間隔÷端子長さ=W/L)が0.1〜0.2
の間でみられた。また、上記W/Lの関係を0.5,1.0にした
時の結果を第2図(c),第2図(d)に示した。第2
図(c)は、上,下の遮蔽板間隔÷端子長さ=W/Lを0.5
にしたもので、接触部近傍が厚くなりその他の部分は約
1/2位の厚みになる。
また、第2図(c)に示すように、上,下の遮蔽板間隔
Wと端子長さLの比W/Lを1.0にすると、接栓部の全面に
均一な金めっき厚さが得られた。
部分めっきの形状について補足すると、金などの貴金属
めっきは高価なことから、第2図の(c)や(d)のよ
うに端子の全面にめっきしないで、用途によっては第2
図の(b)のように、外部端子との接続に必要な端子の
接触部に極在させて部分めっきするだけでも十分に目的
は果たせる。また、端子全面に均一なめっきをしたいと
きは、第2図の(c)や(d)のようなめっき条件を選
択すれば良い。
実施例2 上部遮蔽板の先端とプリント回路板の間隔を1mmとし、
噴射速度をめっき槽1m当り50l/mmとし、上部遮蔽板と下
部遮蔽板の間隔Wを1mmに固定し、噴射角θを10°〜65
°に変えた以外は実施例1と同様にプリント回路板の接
栓部にめっきを行なった。
第3図は、実施例1の第2図と同様に接栓部へ部分金め
っきを形成した結果を示したものである。
第3図の(a)は、噴射角(θ)が30°の場合である。
部分的、すなわち接点との接触部近傍にのみ金めっきが
されていた。このような状態は、噴射角30°〜45°の間
でみられた。めっき液の噴射速度、めっき液の噴出する
上部遮蔽板の先端(第1図中のC,D)とプリント回路板
との距離が前述した範囲で同様に起こることも確認され
た。
第3図(b),(c)は噴射角(θ)が60°,80°の場
合である。第3図(b)のように接点との接触部近傍の
金めっき皮膜厚さが厚くなり、その他の部分は金めっき
皮膜厚さがうすくなるのは、噴射角10°〜30°未満、45
°より大〜65°以下の場合であった。このような状態
は、めっき液の噴出速度、めっき液の噴出する部分(第
1図中のC,D)とプリント回路板との距離が前述した範
囲で同様に起こることも確認された。第4図はその一例
であり、めっき液の噴出する上部遮蔽板の先端とプリン
ト回路板との距離が4mmである以外は第3図(b)と同
じ条件で部分金めっきを行なった場合であり、第3図
(b)と同様の結果を得ている。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によって部分めっきをすれば、 (a)必要とする部分の近傍にのみ厚くつくので経済的
である。
(b)めっき不要部分を弾性体で圧接する必要もないの
で、めっき設備が簡単になる。
(c)テープでマスクしてめっき不用部分をかくす必要
がないので、めっき工程が簡略になる。また、テープを
はがした後に残る粘着剤を取り除く工程も不要となる。
また、本発明は、コネクタ、その他部分めっきをする場
合にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明で用いるめっき槽の断面図、第2図、第
3図、第4図は本発明の方法で部分めっきした場合のめ
っき皮膜の出来工合を示す図である。 1……プリント回路板、 2−1,2−2……上部遮蔽板、 3……陽極、 4−1,4−2……下部遮蔽板、 5−1,5−2……めっき液槽、 6……めっき液排出部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 縁本 和博 東京都豊島区南池袋2丁目26番7号 日本 高純度化学株式会社内 (72)発明者 川上 明仁 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株 式会社日立製作所戸塚工場内 (72)発明者 藤田 繁 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株 式会社日立製作所戸塚工場内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】めっき槽の上部空間内に、垂直に保持した
    被めっき物のめっきすべき部分とめっき不要の境界線
    で、被めっき物に対して隙間を形成して直角に上部遮蔽
    板を配設すると共に、この上部遮蔽板の先端部の内壁面
    に、被めっき物に直角に交わる水平面からめっき槽内に
    所定角度傾斜した滑らかな傾斜面を形成する工程と、こ
    の上部遮蔽板の下方に、下部遮蔽板を上部遮蔽板に対し
    て垂直に、しかも上部遮蔽板と下部遮蔽板の上端部との
    間に所定間隔部が形成されるように配設し、この間隔部
    からめっき液を、前記めっき槽内の上部空間に保持され
    た被めっき物のめっきすべき部分に噴射させる工程とを
    有して成りる部分めっき方法。
  2. 【請求項2】めっき槽の上部空間内に、垂直に保持した
    被めっき物のめっきすべき部分とめっき不要の境界線
    で、被めっき物に対して隙間を形成して直角に上部遮蔽
    板を配設すると共に、この上部遮蔽板の先端部の内壁面
    に、被めっき物に直角に交わる水平面からめっき槽内に
    所定角度傾斜した滑らかな傾斜面を形成する工程と、こ
    の上部遮蔽板の下方に、下部遮蔽板を上部遮蔽板に対し
    て垂直に、しかも上部遮蔽板と下部遮蔽板の上端部との
    間に所定間隔部が形成されるように配設すると共に、こ
    の間隔部の間隔をWとし、めっき槽の上部空間内に保持
    された被めっき物のめっきする端子の長さをLとしたと
    き、両者の関係をW/L=0.03〜1として、この間隔部か
    らめっき液を、前記めっき槽内の上部空間に保持された
    被めっき物のめっきすべき部分に噴射させる工程とを有
    して成る部分めっき方法。
  3. 【請求項3】めっき槽の上部空間内に、垂直に保持した
    被めっき物のめっきすべき部分とめっき不要の境界線
    で、被めっき物に対して隙間を形成して直角に上部遮蔽
    板を配設すると共に、この上部遮蔽板の先端部の内壁面
    に、被めっき物に直角に交わる水平面からめっき槽内に
    10°〜65°の角度で傾斜した滑らかな傾斜面を形成する
    工程と、この上部遮蔽板の下方に、下部遮蔽板を上部遮
    蔽板に対して垂直に、しかも上部遮蔽板と下部遮蔽板の
    上端部との間に所定間隔部が形成されるように配設し、
    この間隔部からめっき液を、前記めっき槽内の上部空間
    に保持された被めっき物のめっきすべき部分に噴射させ
    る工程とを有して成部分めっき方法。
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