JPH0693088B2 - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
-
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に関する
ものである。
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に関する
ものである。
(従来の技術とその問題点) グラフィック、アーツの分野においては網点画像による
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマが10以上)の写真特
性を示す画像形成システムが必要である。
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマが10以上)の写真特
性を示す画像形成システムが必要である。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許第4,224,401号、同第4,168,977
号、同第4,166,742号、同第4,311,781号、同第4,272,60
6号、同第4,221,857号、同第4,269,929号等に記載され
ているヒドラジン誘導体を用いる方法が知られている。
この方法によれば、超硬調で感度の高い写真特性が得ら
れ、更に現像液中に高濃度の亜硫酸塩を加えることが許
容されるので、現像液の空気酸化に対する安定性はリス
現像液に比べて飛躍的に向上する。
方法としては米国特許第4,224,401号、同第4,168,977
号、同第4,166,742号、同第4,311,781号、同第4,272,60
6号、同第4,221,857号、同第4,269,929号等に記載され
ているヒドラジン誘導体を用いる方法が知られている。
この方法によれば、超硬調で感度の高い写真特性が得ら
れ、更に現像液中に高濃度の亜硫酸塩を加えることが許
容されるので、現像液の空気酸化に対する安定性はリス
現像液に比べて飛躍的に向上する。
また、写真製版工程中の返し工程で広く用いられるヒド
ラジン誘導体を含む低感度の明室感光材料については、
特開昭60-14038号、特開昭60-162246号、同61-238049
号、特開昭62-65116号、特願昭62-18648号、同62-43704
号等に開示されている。
ラジン誘導体を含む低感度の明室感光材料については、
特開昭60-14038号、特開昭60-162246号、同61-238049
号、特開昭62-65116号、特願昭62-18648号、同62-43704
号等に開示されている。
一方、印刷物の多様性、複雑性に伴って、写真製版工程
が更に複雑なプロセスとなることが多く、作業の合理
化、省力化などの改善が求められている。とりわけ、超
硬調な感材を用いて線画・網撮影をおこなう時あるいは
密着返し露光をおこなう時に感光材料同志又は異種物質
の表面との間の接触摩擦又は剥離をうけることによっ
て、静電電荷が蓄積されて、感光材料または原稿フィル
ムに無作為に付着した塵埃が原因となって、その跡が現
像処理後ピンホールとして残ってしまい、その修正ある
いは露光のやり直しに多大な労力を費やさなければなら
ないという問題があった。この様な問題を改善するため
に界面活性剤などにより感光材料の帯電特性を改良する
技術が導入されてきたが、いまだ十分とは言えず、特に
現像処理を行うことによって、その帯電性が失われ、こ
のフイルムを原稿として用いたとき、前記ピンホールが
ほとんど改善されないことなどの欠点がある。
が更に複雑なプロセスとなることが多く、作業の合理
化、省力化などの改善が求められている。とりわけ、超
硬調な感材を用いて線画・網撮影をおこなう時あるいは
密着返し露光をおこなう時に感光材料同志又は異種物質
の表面との間の接触摩擦又は剥離をうけることによっ
て、静電電荷が蓄積されて、感光材料または原稿フィル
ムに無作為に付着した塵埃が原因となって、その跡が現
像処理後ピンホールとして残ってしまい、その修正ある
いは露光のやり直しに多大な労力を費やさなければなら
ないという問題があった。この様な問題を改善するため
に界面活性剤などにより感光材料の帯電特性を改良する
技術が導入されてきたが、いまだ十分とは言えず、特に
現像処理を行うことによって、その帯電性が失われ、こ
のフイルムを原稿として用いたとき、前記ピンホールが
ほとんど改善されないことなどの欠点がある。
また、多色印刷のための網点画像や精密な線画の再現が
要求れさる製版プロセスに於ては、親水性コロイド層の
伸縮に起因する写真感光材料の寸度変化は極めて重大な
欠点となる。
要求れさる製版プロセスに於ては、親水性コロイド層の
伸縮に起因する写真感光材料の寸度変化は極めて重大な
欠点となる。
従来からハロゲン化銀写真感光材料の寸度安定性を改良
するため種々の手段が知られている。
するため種々の手段が知られている。
例えば米国特許3,201,250号明細書には親水コロイド層
と支持体の厚み比を規定する技術、特公昭39-4272号、
同39-17702号、同43-13482号、同45-5331号、米国特許2
37,600号、同2,763,625号、同2,772,166号、同2,852,38
6号、同2,853,457号、同3,397,988号、同3,411,911号、
同3,411,912号明細書には親水コロイド写真層中にポリ
マーラテックスを添加せしめる方法が記載されている。
と支持体の厚み比を規定する技術、特公昭39-4272号、
同39-17702号、同43-13482号、同45-5331号、米国特許2
37,600号、同2,763,625号、同2,772,166号、同2,852,38
6号、同2,853,457号、同3,397,988号、同3,411,911号、
同3,411,912号明細書には親水コロイド写真層中にポリ
マーラテックスを添加せしめる方法が記載されている。
たしかにこれらの技術を用いることにより温湿度変化に
よるハロゲン化銀写真感光材料の寸度変化を改良するこ
とができる。
よるハロゲン化銀写真感光材料の寸度変化を改良するこ
とができる。
しかしながらこれらの技術ではハロゲン化銀写真感光材
料の現像処理に起因する寸度変化を防止することはでき
ない。この現像処理に伴なう寸度変化という現象は、現
像処理によりハロゲン化銀写真感光材料の寸度が変化す
る現象で露光時と現像後で寸度が変化しているため、ハ
ロゲン化銀写真感光材料の使用の上で極めて重大な欠点
となる。
料の現像処理に起因する寸度変化を防止することはでき
ない。この現像処理に伴なう寸度変化という現象は、現
像処理によりハロゲン化銀写真感光材料の寸度が変化す
る現象で露光時と現像後で寸度が変化しているため、ハ
ロゲン化銀写真感光材料の使用の上で極めて重大な欠点
となる。
この現像処理に伴なう寸度安定性を改良するため特願昭
62-94133号明細書には塩化ビニリデン下塗装を用いる技
術が記載されている。
62-94133号明細書には塩化ビニリデン下塗装を用いる技
術が記載されている。
しかしながらこの技術を用いても安全に現像処理に伴な
う寸度安定性を改良することはできない。
う寸度安定性を改良することはできない。
超硬調な写真特性を示すハロゲン化銀写真感光材料に於
て、これらの欠点は、製版工程の作業の合理化、省力
化、印刷物の品質向上をおこなう上で、重要な課題であ
り、ピンホールの発生が少なく、寸度変化が小さいハロ
ゲン化銀写真感光材料の開発が強く望まれていた。
て、これらの欠点は、製版工程の作業の合理化、省力
化、印刷物の品質向上をおこなう上で、重要な課題であ
り、ピンホールの発生が少なく、寸度変化が小さいハロ
ゲン化銀写真感光材料の開発が強く望まれていた。
(発明の目的) 本発明の目的は安定な現像液を用いて、γが10を越える
極めて硬調で、かつ、ピンホールの発生が少なく寸度安
定性が良好なハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。
極めて硬調で、かつ、ピンホールの発生が少なく寸度安
定性が良好なハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。
(発明の構成) 本発明の目的は支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於て、該
ハロゲン化銀写真感光材料の構成層の少なくとも1層の
表面抵抗率が25℃25%RHの雰囲気下で1012Ω以下であ
り、且つ、該支持体上にハロゲン化銀乳剤層及びその他
の親水性コロイド層塗布液を塗布後乾燥する際、支持体
上に構成された全層に含有されるバインダー乾量に基づ
いて300%以下の水分を50%以下の相対湿度で乾燥さ
せ、さらに乾燥後、該ハロゲン化銀写真感光材料に絶対
湿度と1%以下の雰囲気で30℃以上の温度で6時間以上
の熱処理を施こし、且つ該ハロゲン化銀写真感光材料を
絶対湿度1%以下の雰囲気下で保存することによって達
成された。
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於て、該
ハロゲン化銀写真感光材料の構成層の少なくとも1層の
表面抵抗率が25℃25%RHの雰囲気下で1012Ω以下であ
り、且つ、該支持体上にハロゲン化銀乳剤層及びその他
の親水性コロイド層塗布液を塗布後乾燥する際、支持体
上に構成された全層に含有されるバインダー乾量に基づ
いて300%以下の水分を50%以下の相対湿度で乾燥さ
せ、さらに乾燥後、該ハロゲン化銀写真感光材料に絶対
湿度と1%以下の雰囲気で30℃以上の温度で6時間以上
の熱処理を施こし、且つ該ハロゲン化銀写真感光材料を
絶対湿度1%以下の雰囲気下で保存することによって達
成された。
本発明の導電層に用いられる導電性物質としては、導電
性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物などが用いら
れる。
性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物などが用いら
れる。
本発明に用いられる導電性金属酸化物として好ましいの
は結晶性の金属酸化物粒子であるが、酸素欠陥を含むも
の及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する
異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電性が高
いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にカ
ブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例とし
てはZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、Ba
O、MoO3、V2O5等、あるいはこれらの複合酸化物が良
く、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含
む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、S
nO2に対してはSb、Nb、ハロゲン元素等の添加、またTiO
2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異
種原子の添加量は0.01mol%〜30mol%の範囲が好ましい
が、0.1mol%〜10mol%であれば特に好ましい。
は結晶性の金属酸化物粒子であるが、酸素欠陥を含むも
の及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する
異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電性が高
いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にカ
ブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例とし
てはZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、Ba
O、MoO3、V2O5等、あるいはこれらの複合酸化物が良
く、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含
む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、S
nO2に対してはSb、Nb、ハロゲン元素等の添加、またTiO
2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異
種原子の添加量は0.01mol%〜30mol%の範囲が好ましい
が、0.1mol%〜10mol%であれば特に好ましい。
本発明の金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その
体積抵抗率は107Ω−cm以下、特に105Ω−cm以下である
ことが好ましい。
体積抵抗率は107Ω−cm以下、特に105Ω−cm以下である
ことが好ましい。
これらの酸化物については特開昭56-143431号、同56-12
0519号、同58-62647号などに記載されている。
0519号、同58-62647号などに記載されている。
更に又、特公昭59-6235号に記載のごとく他の結晶性金
属酸化物粒子あるいは繊維状物(例えば酸化チタン)に
上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用しても
よい。
属酸化物粒子あるいは繊維状物(例えば酸化チタン)に
上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用しても
よい。
利用できる粒子サイズ10μ以下が好ましいが、2μ以下
であると分散後の安定性が良く使用し易い。また光散乱
性をできるだけ小さくする為に、0.5μ以下の導電性粒
子を利用すると透明感光材料を形成することが可能とな
り大変好ましい。
であると分散後の安定性が良く使用し易い。また光散乱
性をできるだけ小さくする為に、0.5μ以下の導電性粒
子を利用すると透明感光材料を形成することが可能とな
り大変好ましい。
又、導電性材料が針状あるいは繊維状の場合はその長さ
は30μm以下で直径が2μ以下が好ましく、特に好まし
いのは長さが25μm以下で直径0.5μ以下であり長さ/
直径比が3以上である。
は30μm以下で直径が2μ以下が好ましく、特に好まし
いのは長さが25μm以下で直径0.5μ以下であり長さ/
直径比が3以上である。
本発明に用いられる導電性高分子化合物としては、例え
ばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポリビニルベン
ジルトリメチルアンモニウムクロリド、米国特許第4,10
8,802号、同4,118,231号、同4,126,467号、同4,137,217
号に記載の4級塩ポリマー類、米国特許第4,070,189
号、OLS2,830,767号、特開昭61-296352号、同61-62033
号等に記載のポリマーラテックス等が好ましい。
ばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポリビニルベン
ジルトリメチルアンモニウムクロリド、米国特許第4,10
8,802号、同4,118,231号、同4,126,467号、同4,137,217
号に記載の4級塩ポリマー類、米国特許第4,070,189
号、OLS2,830,767号、特開昭61-296352号、同61-62033
号等に記載のポリマーラテックス等が好ましい。
以下に本発明の導電性高分子化合物の具体例を示すが、
必ずしもこれらに限定されるものではない。
必ずしもこれらに限定されるものではない。
本発明の導電性金属酸化物又は導電性高分子化合物はバ
インダー中に分散又は溶解させて用いられる。
インダー中に分散又は溶解させて用いられる。
バインダーとしては、フィルム形成能を有するものであ
れば特に限定されるものではないが、例えばゼラチン、
カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、アセチルセルロース、ジア
セチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロ
ース化合物、デキストラン、寒天、アルギン酸ソーダ、
澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エ
ステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリ−N
−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、
ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げることができ
る。
れば特に限定されるものではないが、例えばゼラチン、
カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、アセチルセルロース、ジア
セチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロ
ース化合物、デキストラン、寒天、アルギン酸ソーダ、
澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エ
ステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリ−N
−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、
ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げることができ
る。
特に、ゼラチン(石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、
酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラ
チン等)、アセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリル
アミド、デキストラン等が好ましい。
酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラ
チン等)、アセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリル
アミド、デキストラン等が好ましい。
本発明の導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
をより効果的に使用して導電層の抵抗を下げるために、
導電層中における導電性物質の体積含有率は高い方が好
ましいが、層としての強度を十分に持たせるために最低
5%程度のバインダーが必要であるので、導電性金属酸
化物あるいは導電性高分子化合物の体積含有率は5〜95
%の範囲が望ましい。
をより効果的に使用して導電層の抵抗を下げるために、
導電層中における導電性物質の体積含有率は高い方が好
ましいが、層としての強度を十分に持たせるために最低
5%程度のバインダーが必要であるので、導電性金属酸
化物あるいは導電性高分子化合物の体積含有率は5〜95
%の範囲が望ましい。
本発明の導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
の使用量は、写真感光材料一平方メートル当たり0.05〜
20gが好ましく、特に0.1〜10gが好ましい。本発明の導
電層の表面抵抗率は25℃25%RHの雰囲気下で1012Ω以下
で、好ましくは1011Ω以下が良い。これにより良好な帯
電防止性が得られる。
の使用量は、写真感光材料一平方メートル当たり0.05〜
20gが好ましく、特に0.1〜10gが好ましい。本発明の導
電層の表面抵抗率は25℃25%RHの雰囲気下で1012Ω以下
で、好ましくは1011Ω以下が良い。これにより良好な帯
電防止性が得られる。
本発明の導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
を含有する導電層は、本発明においては、写真感光材料
の構成層として少なくとも一層設ける。例えば、表面保
護層、バック層、中間層、下塗層などのいずれでもよい
が、必要に応じて2層以上設けることもできる。
を含有する導電層は、本発明においては、写真感光材料
の構成層として少なくとも一層設ける。例えば、表面保
護層、バック層、中間層、下塗層などのいずれでもよい
が、必要に応じて2層以上設けることもできる。
本発明においては、上記導電性物質の他に、更に含フッ
素界面活性剤を併用することによって更に良好な帯電防
止性を得ることができる。
素界面活性剤を併用することによって更に良好な帯電防
止性を得ることができる。
本発明に用いられる好ましい含弗素界面活性剤として
は、炭素数4以上のフルオローアルキル基、アルケニル
基、又はアリール基を有し、イオン性基としてアニオン
基(スルホン酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸
(塩)、リン酸(塩))、カチオン基(アミン塩、アン
モニウム塩、芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホ
ニウム塩)、ベタイン基(カルボキシアミン塩、カルボ
キシアンモニウム塩、エルホアミン塩、スルホアンモニ
ウム塩、ホスホアンモニウム塩)又はノニオン基(置
換、無置換のポリオキシアルキレン基、ポリグリセリル
基またはソルビタン残基)を有する界面活性剤が挙げら
れる。
は、炭素数4以上のフルオローアルキル基、アルケニル
基、又はアリール基を有し、イオン性基としてアニオン
基(スルホン酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸
(塩)、リン酸(塩))、カチオン基(アミン塩、アン
モニウム塩、芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホ
ニウム塩)、ベタイン基(カルボキシアミン塩、カルボ
キシアンモニウム塩、エルホアミン塩、スルホアンモニ
ウム塩、ホスホアンモニウム塩)又はノニオン基(置
換、無置換のポリオキシアルキレン基、ポリグリセリル
基またはソルビタン残基)を有する界面活性剤が挙げら
れる。
これらの含弗素界面活性剤は特開昭49-10722号、英国特
許第1,330,356号、米国特許第4,335,201号、同4,347,30
8号、英国特許第1,417,915号、特開昭55-149938号、同5
8-196544号、英国特許第1,439,402号、などに記載され
ている。
許第1,330,356号、米国特許第4,335,201号、同4,347,30
8号、英国特許第1,417,915号、特開昭55-149938号、同5
8-196544号、英国特許第1,439,402号、などに記載され
ている。
これらの具体例のいくつかを以下に記す。
F−1 C8F17SO3K 本発明の含フッ素界面活性剤を添加する層は写真感光材
料の少なくとも1層であれば特に限定されず、例えば表
面保護層、乳剤層、中間層、下塗層、バック層などを挙
げることができる。その中でも好ましい添加場所として
は表面保護層であり、乳剤層側もしくはバック層側のど
ちらか一方でもよいが、両方の表面保護層に添加した場
合は更に好ましい。
料の少なくとも1層であれば特に限定されず、例えば表
面保護層、乳剤層、中間層、下塗層、バック層などを挙
げることができる。その中でも好ましい添加場所として
は表面保護層であり、乳剤層側もしくはバック層側のど
ちらか一方でもよいが、両方の表面保護層に添加した場
合は更に好ましい。
表面保護層が2層以上から成る場合はそのいづれの層で
もよく、又表面保護層の上にさらにオーバーコートして
用いることもできる。
もよく、又表面保護層の上にさらにオーバーコートして
用いることもできる。
本発明の含フッ素界面活性剤の使用量は写真感光材料の
1平方メートルあたり0.0001〜1gであればよいが、より
好ましくは0.0002〜0.25g、特に好ましいのは0.0003〜
0.1gである。
1平方メートルあたり0.0001〜1gであればよいが、より
好ましくは0.0002〜0.25g、特に好ましいのは0.0003〜
0.1gである。
又、本発明の含フッ素界面活性剤は、2種以上混合して
もよい。
もよい。
次に本発明の含フッ素界面活性剤を含有する層あるいは
他の層に別の帯電防止剤を併用することもでき、こうす
ることによって更に好ましい帯電防止効果を得ることも
できる。
他の層に別の帯電防止剤を併用することもでき、こうす
ることによって更に好ましい帯電防止効果を得ることも
できる。
本発明に於いては親水性コロイド層塗布液を塗布後乾燥
する際、バインダー乾量に基づいて300%以下の水分を5
0%以下の相対湿度の条件下で乾燥させることが必要で
ある。親水性コロイド層塗布液がバインダー乾量に基づ
いて300%を越える水分を含んでいる場合には、本発明
では乾燥の後半部で水分含量300%となる点以降を50%
以下の相対湿度で乾燥させることが必要である。
する際、バインダー乾量に基づいて300%以下の水分を5
0%以下の相対湿度の条件下で乾燥させることが必要で
ある。親水性コロイド層塗布液がバインダー乾量に基づ
いて300%を越える水分を含んでいる場合には、本発明
では乾燥の後半部で水分含量300%となる点以降を50%
以下の相対湿度で乾燥させることが必要である。
親水コロイド層が2層以上塗布されて、同時に乾燥され
る場合には水分量としては全層の水分の和を、バインダ
ー乾量とは全層のバインダー乾量の和をあらわす。
る場合には水分量としては全層の水分の和を、バインダ
ー乾量とは全層のバインダー乾量の和をあらわす。
本発明の相対湿度とは一定体積中に含まれる水蒸気量と
その空気の飽和水蒸気量の比を百分率で表わしたもので
ある。
その空気の飽和水蒸気量の比を百分率で表わしたもので
ある。
本発明でバインダー乾量に基づいて300%以下の水分を
乾燥させる際の温度は通常25℃〜50℃の範囲が好まし
い。
乾燥させる際の温度は通常25℃〜50℃の範囲が好まし
い。
本発明において乾燥させるとは、感光材料表面が粘着性
を有さない程度になるまで含水量を減少せしめることを
いい、好ましくはバインダー乾量に基づいて15%以下、
特に10%以下になるように含水量を減少せしめることを
いう。
を有さない程度になるまで含水量を減少せしめることを
いい、好ましくはバインダー乾量に基づいて15%以下、
特に10%以下になるように含水量を減少せしめることを
いう。
本発明の熱処理は30℃以上の温度で施こす必要がある
が、好ましくは35℃以上50℃以下、より好ましくは35℃
以上45℃以下の範囲で施こすことができる。熱処理の時
間は6時間以上必要でこれより短いと本発明の効果が不
充分である。
が、好ましくは35℃以上50℃以下、より好ましくは35℃
以上45℃以下の範囲で施こすことができる。熱処理の時
間は6時間以上必要でこれより短いと本発明の効果が不
充分である。
本発明の熱処理はハロゲン化銀写真感光材料の塗布乾燥
後、任意の時点で施こすことができる。一般にハロゲン
化銀写真感光材料は塗布乾燥後、一旦ロール状に巻き取
られその後所定のサイズに裁断し包装するという工程を
経て製造される。従って本発明の熱処理は、例えばハロ
ゲン化銀写真感光材料が1%以下の絶対湿度で保存され
ているならば、塗布乾燥後ロール状に巻き取られた時
点、裁断した時点、あるいは包装された時点など任意の
時点で施こすことができる。
後、任意の時点で施こすことができる。一般にハロゲン
化銀写真感光材料は塗布乾燥後、一旦ロール状に巻き取
られその後所定のサイズに裁断し包装するという工程を
経て製造される。従って本発明の熱処理は、例えばハロ
ゲン化銀写真感光材料が1%以下の絶対湿度で保存され
ているならば、塗布乾燥後ロール状に巻き取られた時
点、裁断した時点、あるいは包装された時点など任意の
時点で施こすことができる。
熱処理の際の湿度は1%以下の絶対湿度、より好ましく
は0.8%以下であることが必要である。空気絶対湿度は
空気中の水蒸気の重量と空気の重量の比で定義され、例
えば絶対湿度1%は25℃に於いては相対湿度約50%RH
に、40℃に於いては相対湿度約21%RHに相当する。
は0.8%以下であることが必要である。空気絶対湿度は
空気中の水蒸気の重量と空気の重量の比で定義され、例
えば絶対湿度1%は25℃に於いては相対湿度約50%RH
に、40℃に於いては相対湿度約21%RHに相当する。
本発明に於いてはハロゲン化銀写真感光材料は絶対湿度
1%以下の条件で保存されることが必要である。ここで
保存するとは、一般ユーザーが該感光材料を使用するま
での期間を本発明の条件下に感光材料を置くことをい
う。
1%以下の条件で保存されることが必要である。ここで
保存するとは、一般ユーザーが該感光材料を使用するま
での期間を本発明の条件下に感光材料を置くことをい
う。
このためには、例えばこの温湿度雰囲気下に充分な時間
放置しておいたハロゲン化銀写真感光材料を防湿性のあ
る包装材料で密封包装する方法が用いられる。その他の
方法として、ハロゲン化銀写真感光材料とともに包装さ
れる巻き芯、紙類の含水率をあらかじめ低減させてお
き、包装密封後の包装内の温湿度を絶対湿度1%以下に
する方法も用いることができる。
放置しておいたハロゲン化銀写真感光材料を防湿性のあ
る包装材料で密封包装する方法が用いられる。その他の
方法として、ハロゲン化銀写真感光材料とともに包装さ
れる巻き芯、紙類の含水率をあらかじめ低減させてお
き、包装密封後の包装内の温湿度を絶対湿度1%以下に
する方法も用いることができる。
又、シリカゲルの様な乾燥剤をハロゲン化銀写真感光材
料とともに密封包装する方法も有効である。
料とともに密封包装する方法も有効である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料を密封包装するため
の包装体としては、ハロゲン化銀写真感光材料を密封で
きるものなら、どの様な形を有していても良く、密封す
る感光材料の用途及び形状に応じ様々な包装体の形状が
考えられる。通常は、ヒートシールによって作られる包
装袋が好ましく用いられる。包装袋を構成する材料は透
湿度の小さいポリエチレン皮膜(通常ポリエチレンにカ
ーボンブラック等を含有させ、遮光性を持たせると共
に、ポリエチレンの面にすべりを持たせる等のために、
感光材料に悪影響を与えない物質を含有させたもの)か
ら成るものが好ましい。又別の好ましい形態としてアル
ミニウム薄膜を重層した包装袋が挙げられる。これらの
包装袋の好ましい実施例としては特開昭57-6754号、特
開昭58-132555号、特開昭61-189936号等に開示された包
装材料が挙げられる。
の包装体としては、ハロゲン化銀写真感光材料を密封で
きるものなら、どの様な形を有していても良く、密封す
る感光材料の用途及び形状に応じ様々な包装体の形状が
考えられる。通常は、ヒートシールによって作られる包
装袋が好ましく用いられる。包装袋を構成する材料は透
湿度の小さいポリエチレン皮膜(通常ポリエチレンにカ
ーボンブラック等を含有させ、遮光性を持たせると共
に、ポリエチレンの面にすべりを持たせる等のために、
感光材料に悪影響を与えない物質を含有させたもの)か
ら成るものが好ましい。又別の好ましい形態としてアル
ミニウム薄膜を重層した包装袋が挙げられる。これらの
包装袋の好ましい実施例としては特開昭57-6754号、特
開昭58-132555号、特開昭61-189936号等に開示された包
装材料が挙げられる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料をこれらの包装袋で
包装する際、減圧下で包装をして包装袋内の空気を減少
せしめても良い。
包装する際、減圧下で包装をして包装袋内の空気を減少
せしめても良い。
即ち、本発明においては、一般ユーザーが感光材料を使
用するまでの間、感光材料が絶対湿度1%以下の雰囲気
下に置かれることが必要である。
用するまでの間、感光材料が絶対湿度1%以下の雰囲気
下に置かれることが必要である。
本発明の支持体に用いられるポリエステルとは芳香族二
塩基酸とグライコールを主要な構成成分とするポリエス
テルで代表的な二塩基酸としてはテレフタル酸、イソフ
タル酸、p−β−オキシエトキシ安息香酸、ジフェニル
スルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン
酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、5−ナト
リウムスルホイソフタル酸、ジフェニレンジカルボン
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等があり、グライコ
ールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ブタンジオール、ネオペンチレングリコール、1,4
−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タノール、1,4−ビスオキシエトキシベンゼン、ビスフ
ェノールA、ジエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール等がある。
塩基酸とグライコールを主要な構成成分とするポリエス
テルで代表的な二塩基酸としてはテレフタル酸、イソフ
タル酸、p−β−オキシエトキシ安息香酸、ジフェニル
スルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン
酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、5−ナト
リウムスルホイソフタル酸、ジフェニレンジカルボン
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等があり、グライコ
ールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ブタンジオール、ネオペンチレングリコール、1,4
−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タノール、1,4−ビスオキシエトキシベンゼン、ビスフ
ェノールA、ジエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール等がある。
これらの成分からなるポリエステルの中でも入手のしや
すさの点からはポリエチレンテレフタレートが最も好都
合である。
すさの点からはポリエチレンテレフタレートが最も好都
合である。
ポリエステルの厚さとしては特に制限はないが約12μ〜
500μ程度、好ましくは40μ〜200μ程度のものが取り扱
いやすさ、汎用性の点から有利である。特に2軸延伸結
晶化されたものが安定性、強さなどの点から好都合であ
る。
500μ程度、好ましくは40μ〜200μ程度のものが取り扱
いやすさ、汎用性の点から有利である。特に2軸延伸結
晶化されたものが安定性、強さなどの点から好都合であ
る。
本発明のポリエステル支持体は、親水コロイド層を塗設
する前に必要に応じゼラチン、スチレンブタジエン共重
合体、塩化ビニリデン、水性ポリエステル、水性ポリウ
レタン等を含有する下塗層を塗設してもよい。特に塩化
ビニリデンを含有する下塗層は好ましく用いられ、本発
明と相まって著しい寸度安定性良化効果を奏する。又、
本発明に於いてはこれらの下塗層を塗設する前にポリエ
ステル支持体の表面にコロナ処理、グロー放電処理等の
表面処理を施こしてもよい。
する前に必要に応じゼラチン、スチレンブタジエン共重
合体、塩化ビニリデン、水性ポリエステル、水性ポリウ
レタン等を含有する下塗層を塗設してもよい。特に塩化
ビニリデンを含有する下塗層は好ましく用いられ、本発
明と相まって著しい寸度安定性良化効果を奏する。又、
本発明に於いてはこれらの下塗層を塗設する前にポリエ
ステル支持体の表面にコロナ処理、グロー放電処理等の
表面処理を施こしてもよい。
バック層はゼラチンの如き親水性コロイドをバインダー
とした層で、非感光性であって、1層構造もしくは中間
層、保護層などを有する多層構造であっても良い。
とした層で、非感光性であって、1層構造もしくは中間
層、保護層などを有する多層構造であっても良い。
バック層の厚味は0.1μ〜10μであり、その中に必要に
よりハロゲン化銀乳剤層及び表面保護層と同様にゼラチ
ン硬化剤、界面活性剤、マット剤、コロイド状シリカ、
すべり剤、UV吸収剤、染料、増粘剤などを含有すること
ができる。
よりハロゲン化銀乳剤層及び表面保護層と同様にゼラチ
ン硬化剤、界面活性剤、マット剤、コロイド状シリカ、
すべり剤、UV吸収剤、染料、増粘剤などを含有すること
ができる。
本発明において、高コントラストの画像を得るために用
いられるヒドラジン誘導体は下記一般式(I)で表わさ
れる。
いられるヒドラジン誘導体は下記一般式(I)で表わさ
れる。
一般式(I) 式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシカル
ネボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニル
基、スルホキシ基、 又はイミノメチレン基を表わし、A1、A2はともに水素原
子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換
のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のア
リールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル
基を表わす。
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシカル
ネボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニル
基、スルホキシ基、 又はイミノメチレン基を表わし、A1、A2はともに水素原
子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換
のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のア
リールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル
基を表わす。
一般式(I)において、R1で表わされる脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20
の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで分
岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のヘテロ原
子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化されて
いてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、アル
コキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボン
アミド基等の置換基を有していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20
の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで分
岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のヘテロ原
子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化されて
いてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、アル
コキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボン
アミド基等の置換基を有していてもよい。
一般式(I)においてR1で表わされる芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基
と結合してヘテロアリール基を形成してもよい。
たは2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基
と結合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。
R1として特に好ましいものアリール基である。
R1のアリール基または不飽和ヘテロ環基は置換されてい
てもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐または
環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、
アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜
3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭
素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシ
ルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、ス
ルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)などがある。
てもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐または
環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、
アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜
3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭
素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシ
ルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、ス
ルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)などがある。
一般式(I)においてR2で表わされるアルキル基として
は、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、ハ
ロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、アル
コキシ基、フェニル基などの置換基を有していてもよ
い。
は、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、ハ
ロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、アル
コキシ基、フェニル基などの置換基を有していてもよ
い。
R2で表されるアリール基は単環または2環のアリール基
が好ましく、例えばベンゼン環を含むものである。この
アリール基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シア
ノ基、カルボキシル基、スルホ基などで置換されていて
もよい。
が好ましく、例えばベンゼン環を含むものである。この
アリール基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シア
ノ基、カルボキシル基、スルホ基などで置換されていて
もよい。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アルールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10の
アルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、アル
キル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキ
シ基などで置換されていてもよい。カルバモイル基とし
ては無置換カルバモイル基、及び炭素数1〜10のアルキ
ルカルバモイル基、アリールカルバモイル基が好まし
く、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ
基などで置換されていてもよい。
アルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、アル
キル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキ
シ基などで置換されていてもよい。カルバモイル基とし
ては無置換カルバモイル基、及び炭素数1〜10のアルキ
ルカルバモイル基、アリールカルバモイル基が好まし
く、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ
基などで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好まし
く、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基な
どで置換されていてもよい。
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好まし
く、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基な
どで置換されていてもよい。
R2で表わされる基のうち好ましいものは、G1がカルボニ
ル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メチ
ル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、アラ
ルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、
アリール基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェ
ニル基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メ
タンスルホニルフエニル基など)などであり、特に水素
原子が好ましい。
ル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メチ
ル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、アラ
ルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、
アリール基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェ
ニル基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メ
タンスルホニルフエニル基など)などであり、特に水素
原子が好ましい。
またG1がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基(例
えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒ
ドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例え
ば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、ジ
メチルアミノ基など)などが好ましい。
えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒ
ドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例え
ば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、ジ
メチルアミノ基など)などが好ましい。
G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベンジル
基、メチルチオベンジル基などであり、 の場合には、R2としてはメトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基、フェノキシ基、フェニル基が好ましく、特に、
フェノキシ基が好適である。
基、メチルチオベンジル基などであり、 の場合には、R2としてはメトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基、フェノキシ基、フェニル基が好ましく、特に、
フェノキシ基が好適である。
G1がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、好
ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換のフ
エニル基である。
ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換のフ
エニル基である。
R2の置換基としては、R1に関して列挙した置換基が適用
できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、アルキル
もしくはアリールオキシカルボニル基、アニケニル基、
アルキニル基やニトロ基なども適用できる。
できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、アルキル
もしくはアリールオキシカルボニル基、アニケニル基、
アルキニル基やニトロ基なども適用できる。
一般式(I)のGとしてはカルボニル基が最も好まし
い。
い。
又、R2はG1-R2部分を残余分子から分裂させ−G−R2部
分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を生起す
るようなものであってもよく、具体的には一般式(a)
で表すことができるようなものである。
分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を生起す
るようなものであってもよく、具体的には一般式(a)
で表すことができるようなものである。
一般式(a) -R3-Z1 式中、Z1はG1に対し求核的に攻撃し、G1-R3-Z1部分を残
余分子から分裂させ得る基であり、R3はR2から水素電子
1個除いたもので、Z1がG1に対し求核攻撃し、G1、R3、
Z1で環式構造が生成可能なものである。
余分子から分裂させ得る基であり、R3はR2から水素電子
1個除いたもので、Z1がG1に対し求核攻撃し、G1、R3、
Z1で環式構造が生成可能なものである。
さらに詳細には、Z1は一般式(I)ヒドラジン化合物が
酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易にG1
と求核反応し R1−N=N−G1-R3-Z1 R1−N=N基をG1から分裂させうる基であり、具体的に
はOH、SH、またはNHR4(R4は水素原子、アルキル基、ア
リール基、-COR5、または-SO2R5であり、R5は水素原
子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基などを表
す)、COOHなどのようにG1と直接反応する官能基であっ
てもよく(ここで、OH、SH、NHR4、−COOHはアルカリ等
の加水分解によりこれらの基を生成するように一時的に
保護されていてもよい)、あるいは、 (R6、R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基またはヘテロ環基を表す)のように水素イオンや
亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG1と反
応することが可能になる官能基であってもよい。
酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易にG1
と求核反応し R1−N=N−G1-R3-Z1 R1−N=N基をG1から分裂させうる基であり、具体的に
はOH、SH、またはNHR4(R4は水素原子、アルキル基、ア
リール基、-COR5、または-SO2R5であり、R5は水素原
子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基などを表
す)、COOHなどのようにG1と直接反応する官能基であっ
てもよく(ここで、OH、SH、NHR4、−COOHはアルカリ等
の加水分解によりこれらの基を生成するように一時的に
保護されていてもよい)、あるいは、 (R6、R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基またはヘテロ環基を表す)のように水素イオンや
亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG1と反
応することが可能になる官能基であってもよい。
また、G1、R3、Z1で形成される環としては5員または6
員のものが好ましい。
員のものが好ましい。
一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(c)で表されるものを挙げるこ
とができる。
ては一般式(b)及び(c)で表されるものを挙げるこ
とができる。
一般式(b) 式中、▲R1 b▼〜▲R4 b▼は水素原子、アルキル基(好
ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好まし
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは
炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭素数
6〜12のもの)などを表し、同じでも異なってもよい。
Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完成す
るのに必要な原子であり、m、nは0または1であり、
(n+m)は1または2である。
ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好まし
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは
炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭素数
6〜12のもの)などを表し、同じでも異なってもよい。
Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完成す
るのに必要な原子であり、m、nは0または1であり、
(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
Z1は一般(a)と同義である。
一般式(c) 式中、▲R1 c▼、▲Rc 2▼は水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表
し、同じでも異なってもよい。
ルケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表
し、同じでも異なってもよい。
▲R3 c▼は水素原子、アルキル基、アルケニル基、また
はアリール基を表す。
はアリール基を表す。
pは0または1を表し、qは1〜4を表す。
▲R1 c▼、▲R2 c▼および▲R3 c▼はZ1がG1へ分子内求
核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形
成してもよい。
核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形
成してもよい。
▲R1 b▼、▲R2 c▼は好ましくは水素原子、ハロゲン原
子、またはアルキル基であり、▲R3 c▼は好ましくはア
ルキル基またはアリール基である。
子、またはアルキル基であり、▲R3 c▼は好ましくはア
ルキル基またはアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときpは1また
は2を、qが2のときpは0または1を、qが3のとき
pは0または1を表し、qが2または3のとき▲CR1 cR
2 c▼は同一でも異なってもよい。
は2を、qが2のときpは0または1を、qが3のとき
pは0または1を表し、qが2または3のとき▲CR1 cR
2 c▼は同一でも異なってもよい。
Z1は一般式(a)と同義である。
A1、A2は水素原子、炭素数20以下のアルキルスルホニル
基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェニルス
ルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたフェニルスルホニル基)、炭素
数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハ
メットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換
されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又は環状
の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては例え
ばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基が
挙げられる。)) A1、A2としては水素原子が最も好ましい。
基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェニルス
ルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたフェニルスルホニル基)、炭素
数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハ
メットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換
されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又は環状
の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては例え
ばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基が
挙げられる。)) A1、A2としては水素原子が最も好ましい。
一般式(I)のR1またはR2はその中にカプラー等の不動
性写真用添加剤において常用されているバラスト基が組
み込まれているものでもよい。バラスト基は8以上の炭
素数を有する写真性に対して比較的不活性な基であり、
例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキ
ルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基な
どの中から選ぶことができる。
性写真用添加剤において常用されているバラスト基が組
み込まれているものでもよい。バラスト基は8以上の炭
素数を有する写真性に対して比較的不活性な基であり、
例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキ
ルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基な
どの中から選ぶことができる。
一般式(I)のR1またはR2はその中にハロゲン化銀粒子
表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもので
もよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チ
オアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基など
の米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59-1
95,233号、同59-200,231号、同59-201,045号、同59-20
1,046号、同59-201,047号、同59-201,048号、同59-201,
049号、特開昭61-170,733号、同61-270,744号、同62-94
8号、特願昭62-67,508号、同62-67,501号、同62-67,510
号に記載された基があげられる。
表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもので
もよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チ
オアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基など
の米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59-1
95,233号、同59-200,231号、同59-201,045号、同59-20
1,046号、同59-201,047号、同59-201,048号、同59-201,
049号、特開昭61-170,733号、同61-270,744号、同62-94
8号、特願昭62-67,508号、同62-67,501号、同62-67,510
号に記載された基があげられる。
一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983年1
1月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、米国
特許4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364号、同
4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、同4,56
0,638号、同4,478,928号、米国特許第2,011,391B、特開
昭60-179734号、特開昭61-170,733号、同61-270,744
号、同62-948号、EP217,310号、特願昭61-175,234号、
同61-251,482号、同61-268,249号、同61-276,283号、同
62-67,508号、同62-67,529号、同62-67,510号、同62-5
8,513号、同62-130,819号、同62-143,469号、同62-166,
117号に記載されたものを用いることができる。
ものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983年1
1月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、米国
特許4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364号、同
4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、同4,56
0,638号、同4,478,928号、米国特許第2,011,391B、特開
昭60-179734号、特開昭61-170,733号、同61-270,744
号、同62-948号、EP217,310号、特願昭61-175,234号、
同61-251,482号、同61-268,249号、同61-276,283号、同
62-67,508号、同62-67,529号、同62-67,510号、同62-5
8,513号、同62-130,819号、同62-143,469号、同62-166,
117号に記載されたものを用いることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化銀1モル当たり1×10-6〜5×10-2モル、特に1
×10-5〜1×10-2モルであることが好ましい。
ゲン化銀1モル当たり1×10-6〜5×10-2モル、特に1
×10-5〜1×10-2モルであることが好ましい。
本発明の写真乳剤及び非感光生の親水性コロイドには無
機または有機のゼラチン硬化剤を含有させることができ
る。例えば活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイ
ル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスル
ホニル)メチルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β
−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など)、活
性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−
s−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル
酸など)、N−カルバモイルピリジニウム塩類((1−
モルホリノカルボニル−3−ピリジニオ)メタンスルホ
ナートなど)、ハロアミジニウム塩類(1−(1−クロ
ロ−1−ピリジノメチレン)ピロリジニウム、2−ナフ
タレンスルホナートなど)を単独または組合せて用いる
ことができる。なかでも、特開昭53-41220、同53-5725
7、同59-162546、同60-80846に記載の活性ビニル化合物
および米国特許3,325,287号に記載の活性ハロゲン化物
が好ましい。
機または有機のゼラチン硬化剤を含有させることができ
る。例えば活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイ
ル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスル
ホニル)メチルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β
−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など)、活
性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−
s−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル
酸など)、N−カルバモイルピリジニウム塩類((1−
モルホリノカルボニル−3−ピリジニオ)メタンスルホ
ナートなど)、ハロアミジニウム塩類(1−(1−クロ
ロ−1−ピリジノメチレン)ピロリジニウム、2−ナフ
タレンスルホナートなど)を単独または組合せて用いる
ことができる。なかでも、特開昭53-41220、同53-5725
7、同59-162546、同60-80846に記載の活性ビニル化合物
および米国特許3,325,287号に記載の活性ハロゲン化物
が好ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でも良い。
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でも良い。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.5μ以
下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限はない
が、単分散である方が好ましい。ここでいう単分散とは
重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子サ
イズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成されて
いることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.5μ以
下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限はない
が、単分散である方が好ましい。ここでいう単分散とは
重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子サ
イズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成されて
いることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでもよく、
また球状、板状などのような変則的(irregular)な結
晶をもつもの、あるいはこれらの結晶形の複合形を持つ
ものであってもよい。
な規則的(regular)な結晶体を有するものでもよく、
また球状、板状などのような変則的(irregular)な結
晶をもつもの、あるいはこれらの結晶形の複合形を持つ
ものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。別々に形成した
2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して使用してもよ
い。
ても、異なる相からなっていてもよい。別々に形成した
2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して使用してもよ
い。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい、ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい、ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エス
テル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーゾ、
澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニル
ピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニル
ピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成
親水性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エス
テル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーゾ、
澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニル
ピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニル
ピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成
親水性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石炭処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよい。
光増感色素を添加してもよい。
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工
程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、ある
いは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含
有させることができる。すなわち、アゾール類たとえば
ベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、トリア
ゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズイミダゾール
類(特にニトロ−またはハロ置換体);ヘテロ環メルカ
プト化合物類たとえばメルカプトチアゾール類、メルカ
プトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダゾー
ル類、メルカプトチアジアゾール類、メルカプトテトラ
ゾール類(特に1−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール)、メルカプトピリミジン類;カルボキシル基やス
ルホン基などの水溶性基を有する上記ヘテロ環メルカプ
ト化合物類;チオケト化合物たとえばオキサゾリンチオ
ン;アザインデン類たとえばテトラアザインデン類(特
に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラアザインデン
類);ベンゼンチオスルホン酸類;ベンゼンスルフィン
酸、ハイドロキノン類などのようなカブリ防止剤または
安定剤とに知られた多くの化合物を加えることができ
る。
程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、ある
いは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含
有させることができる。すなわち、アゾール類たとえば
ベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、トリア
ゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズイミダゾール
類(特にニトロ−またはハロ置換体);ヘテロ環メルカ
プト化合物類たとえばメルカプトチアゾール類、メルカ
プトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダゾー
ル類、メルカプトチアジアゾール類、メルカプトテトラ
ゾール類(特に1−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール)、メルカプトピリミジン類;カルボキシル基やス
ルホン基などの水溶性基を有する上記ヘテロ環メルカプ
ト化合物類;チオケト化合物たとえばオキサゾリンチオ
ン;アザインデン類たとえばテトラアザインデン類(特
に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラアザインデン
類);ベンゼンチオスルホン酸類;ベンゼンスルフィン
酸、ハイドロキノン類などのようなカブリ防止剤または
安定剤とに知られた多くの化合物を加えることができ
る。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着剤防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の
界面活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着剤防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の
界面活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスルフオ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスルフオ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭58-9412号公報に記載された分子量600以上のポリア
ルキレンオキサイド類である。又、寸度安定性の為にポ
リアルキルアクリレートの如きポリマーラテックスを含
有せしめることができる。
公昭58-9412号公報に記載された分子量600以上のポリア
ルキレンオキサイド類である。又、寸度安定性の為にポ
リアルキルアクリレートの如きポリマーラテックスを含
有せしめることができる。
また、感材同志の接着防止あるいは加筆性向上、真空密
封性向上の目的でポリメチルメタクリレートの如き球状
の粒子又は二酸化ケイ素の如き不定形の粒子をマット剤
として含有することができる。平均粒子サイズは0.1μ
〜10μで好ましくは1〜5μまである。
封性向上の目的でポリメチルメタクリレートの如き球状
の粒子又は二酸化ケイ素の如き不定形の粒子をマット剤
として含有することができる。平均粒子サイズは0.1μ
〜10μで好ましくは1〜5μまである。
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭53-77616号、同54-37732
号、同53-137133号、同60-140340号、同60-14959号など
に開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各種
の化合物が有用である。
現像の促進剤としては、特開昭53-77616号、同54-37732
号、同53-137133号、同60-140340号、同60-14959号など
に開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各種
の化合物が有用である。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,419,97
5号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液を用いる
必要はなく、安定な現像液を用いることができる。
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,419,97
5号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液を用いる
必要はなく、安定な現像液を用いることができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.15モル/l以上含み、pH10.5〜1
2.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によって充分に超硬調
のネガ画像を得ることができる。
しての亜硫酸イオンを0.15モル/l以上含み、pH10.5〜1
2.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によって充分に超硬調
のネガ画像を得ることができる。
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、4,4−ジメチル−1−フェニル−
3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN−
メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるい組み
合わせてもちいることができる。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、4,4−ジメチル−1−フェニル−
3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN−
メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるい組み
合わせてもちいることができる。
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬としてジヒ
ドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−ビラゾ
リドン類またはアミノフェノール類を含む現像液で処理
されるのに適している。好ましくこの現像においてジヒ
ドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル/l、3−ピラゾリ
ドン類またはアミノフェノール類は0.06モル/l以下の範
囲で併用される。
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬としてジヒ
ドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−ビラゾ
リドン類またはアミノフェノール類を含む現像液で処理
されるのに適している。好ましくこの現像においてジヒ
ドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル/l、3−ピラゾリ
ドン類またはアミノフェノール類は0.06モル/l以下の範
囲で併用される。
また米国特許第4,269,929号に記載されているように、
アミン類を現像液に添加することによって現像速度を高
め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
アミン類を現像液に添加することによって現像速度を高
め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
現像液にはその他、アルキル金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃化
物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイン
ダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現像抑
制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。又
必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像促
進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアルキ
レンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀汚
れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾールス
ルホン酸類など)を含んでもよい。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃化
物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイン
ダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現像抑
制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。又
必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像促
進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアルキ
レンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀汚
れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾールス
ルホン酸類など)を含んでもよい。
他方、定着液はチオ硫酸塩、水溶性アルミニウム化合
物、酢酸及び二塩基酸(例えば酒石酸、クエン酸又はこ
れらの塩)を含む水溶液であり、pH4.4以上、好ましく
は4.6〜5.4、より好ましくは4.6〜5.0を有する。
物、酢酸及び二塩基酸(例えば酒石酸、クエン酸又はこ
れらの塩)を含む水溶液であり、pH4.4以上、好ましく
は4.6〜5.4、より好ましくは4.6〜5.0を有する。
定着液のpHは、膜の膨潤を変化させ残色に著しい影響を
与える。すなわちpHが5.4を越えると所定の硬膜剤を導
入しても膜の膨潤が大きく、乾燥不良、通過不良の搬送
トラブルを生じ、それを防止するために多量の硬膜剤を
導入すると、硬膜剤の析出等によるフイルム汚染を生ず
る。一方、pH4.4以下では残色、さらに4.0以下では定着
不良等の問題を生ずる。しかるに本発明の上記pH範囲お
よび硬膜剤量で、残色の少ないフイルムを迅速に得るこ
とが可能になる。
与える。すなわちpHが5.4を越えると所定の硬膜剤を導
入しても膜の膨潤が大きく、乾燥不良、通過不良の搬送
トラブルを生じ、それを防止するために多量の硬膜剤を
導入すると、硬膜剤の析出等によるフイルム汚染を生ず
る。一方、pH4.4以下では残色、さらに4.0以下では定着
不良等の問題を生ずる。しかるに本発明の上記pH範囲お
よび硬膜剤量で、残色の少ないフイルムを迅速に得るこ
とが可能になる。
定着剤はチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムな
どのチオ硫酸塩を必須成分とするものであり、定着速度
の点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤
の使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約
5モル/lである。
どのチオ硫酸塩を必須成分とするものであり、定着速度
の点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤
の使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約
5モル/lである。
本発明における定着液中の酸性硬膜剤としては、水溶性
アルミニウム塩、クロム塩さらに3価の鉄化合物を酸化
剤としてエチレンジアミン4酢酸錯体がある。好ましい
化合物は水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アル
ミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなどがある。
好ましい添加量は0.01モル〜0.2モル/l、さらに好まし
くは0.03〜0.08モル/lである。
アルミニウム塩、クロム塩さらに3価の鉄化合物を酸化
剤としてエチレンジアミン4酢酸錯体がある。好ましい
化合物は水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アル
ミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなどがある。
好ましい添加量は0.01モル〜0.2モル/l、さらに好まし
くは0.03〜0.08モル/lである。
前述の二塩基酸として、酒石酸あるいはその誘導体、ク
エン酸あるいはその誘導体が単独で、あるいは二種以上
を併用することができる。これらの化合物は定着液1
につき0.005モル以上含むものが有効で、特に0.01モル/
l〜0.03モル/lが特に有効である。
エン酸あるいはその誘導体が単独で、あるいは二種以上
を併用することができる。これらの化合物は定着液1
につき0.005モル以上含むものが有効で、特に0.01モル/
l〜0.03モル/lが特に有効である。
具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸水素カリウム、酒石酸水素ナトリウム、酒石
酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸ア
ンモニウムカリウム、酒石酸アルミニウムカリウム、酒
石酸アンチモニルカリウム、酒石酸アンチモニルナトリ
ウム、酒石酸水素リチウム、酒石酸リチウム、酒石酸水
素マグネシウム、酒石酸ホウ素カリウム、酒石酸リチウ
ムカリウムなどがある。
ム、酒石酸水素カリウム、酒石酸水素ナトリウム、酒石
酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸ア
ンモニウムカリウム、酒石酸アルミニウムカリウム、酒
石酸アンチモニルカリウム、酒石酸アンチモニルナトリ
ウム、酒石酸水素リチウム、酒石酸リチウム、酒石酸水
素マグネシウム、酒石酸ホウ素カリウム、酒石酸リチウ
ムカリウムなどがある。
本発明において有効なクエン酸あるいはその誘導体の例
としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウ
ム、クエン酸リチウム、クエン酸アンモニウムなどがあ
る。
としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウ
ム、クエン酸リチウム、クエン酸アンモニウムなどがあ
る。
定着液には所望により保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜
硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼酸)、pH調整剤
(例えば、硫酸)、キレート剤(前述)を含むことがで
きる。ここでpH緩衝剤は、現像液のpHが高いので10〜40
g/l、より好ましくは18〜25g/l程度用いる。
硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼酸)、pH調整剤
(例えば、硫酸)、キレート剤(前述)を含むことがで
きる。ここでpH緩衝剤は、現像液のpHが高いので10〜40
g/l、より好ましくは18〜25g/l程度用いる。
定着温度及び時間は現像の場合と同様であり、約20℃〜
約50℃で10秒〜1分が好ましい。
約50℃で10秒〜1分が好ましい。
本発明の方法によれば、現像、定着された写真材料は水
洗及び乾燥される。水洗は定着によつて溶解した銀塩を
ほぼ完全に除くために行なわれ、約20℃〜約50℃で10秒
〜3分が好ましい。乾燥は約40℃〜約100℃で行なわ
れ、乾燥時間は周囲の状態によつて適宜変えられるが、
通常は約5秒〜3分30秒でよい。
洗及び乾燥される。水洗は定着によつて溶解した銀塩を
ほぼ完全に除くために行なわれ、約20℃〜約50℃で10秒
〜3分が好ましい。乾燥は約40℃〜約100℃で行なわ
れ、乾燥時間は周囲の状態によつて適宜変えられるが、
通常は約5秒〜3分30秒でよい。
ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第3025
779号明細書、同第3545971号明細書などに記載されてお
り、本明細書においては単にローラー搬送型プロセツサ
ーとして言及する。ローラー搬送型プロセツサーは現
像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなつており、本発
明の方法も、他の工程(例えば、停止工程)を除外しな
いが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。
779号明細書、同第3545971号明細書などに記載されてお
り、本明細書においては単にローラー搬送型プロセツサ
ーとして言及する。ローラー搬送型プロセツサーは現
像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなつており、本発
明の方法も、他の工程(例えば、停止工程)を除外しな
いが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。
現像処理温度および定着処理温度は約18℃から50℃の間
で選ばれるが、より好ましくは25℃から43℃である。
で選ばれるが、より好ましくは25℃から43℃である。
本発明の現像方法は特に自動現像機を用いる迅速処理に
適している。自動現像機としてはローラ搬送のもの、ベ
ルト搬送のものその他いずれでも使用できる。処理時間
は短くてよく、トータルで2分以内、特に100秒以下、
その中で現像に割り当てる時間15秒〜60秒、あるいは定
着時間は10秒〜40秒、水洗時間10秒〜60秒という迅速処
理に対しても充分効果を発揮する。
適している。自動現像機としてはローラ搬送のもの、ベ
ルト搬送のものその他いずれでも使用できる。処理時間
は短くてよく、トータルで2分以内、特に100秒以下、
その中で現像に割り当てる時間15秒〜60秒、あるいは定
着時間は10秒〜40秒、水洗時間10秒〜60秒という迅速処
理に対しても充分効果を発揮する。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56-24347
号に記載の化合物を用いることができる。現像液中に添
加する溶解助剤として特開昭61-267759号に記載の化合
物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH緩衝
剤として特開昭60-93433号に記載の化合物あるいは特開
昭62-186256号に記載の化合物を用いることができる。
号に記載の化合物を用いることができる。現像液中に添
加する溶解助剤として特開昭61-267759号に記載の化合
物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH緩衝
剤として特開昭60-93433号に記載の化合物あるいは特開
昭62-186256号に記載の化合物を用いることができる。
(発明の効果) 本発明によれば、安定な現像液を用いて、超硬調で、ピ
ンホールの発生が少なく、かつ現像処理に伴う寸度安定
性が優れたハロゲン化銀写真感光材料を得ることができ
る。
ンホールの発生が少なく、かつ現像処理に伴う寸度安定
性が優れたハロゲン化銀写真感光材料を得ることができ
る。
以下に実施例を挙げて、本発明を詳細に説明する。
なお、実施例に於いては下記処方の現像液及び定着液を
用いた。
用いた。
現像液 ハイドロキノン 50.0g N−メチル−p−アミノフェノール 0.3g 水酸化ナトリウム 18.0g 5−スルホサリチル酸 55.0g 亜硫酸カリウム 110.0g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0g 臭化カリウム 10.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.4g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸0.
3g 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼンスルホン
酸ナトリウム 0.2g N−n−ブチルジエタノールアミン 15.0g トリエンスルホン酸ナトリウム 8.0g 水を加えて 1 pH=11.6に合せる(水酸化カリウムを加えて) pH11.6 硬膜定着剤 チオ硫酸アンモニウム 180g チオ硫酸ナトリウム・5水塩 45g 亜硫酸ナトリウム 18g エチレンジアミン四酢酸 0.4g 酒石酸 4.0g 氷酢酸 30.0g 硫酸アルミニウム 11.0g 水を加えて 1 アンモニアでpHを4.7とする。
3g 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼンスルホン
酸ナトリウム 0.2g N−n−ブチルジエタノールアミン 15.0g トリエンスルホン酸ナトリウム 8.0g 水を加えて 1 pH=11.6に合せる(水酸化カリウムを加えて) pH11.6 硬膜定着剤 チオ硫酸アンモニウム 180g チオ硫酸ナトリウム・5水塩 45g 亜硫酸ナトリウム 18g エチレンジアミン四酢酸 0.4g 酒石酸 4.0g 氷酢酸 30.0g 硫酸アルミニウム 11.0g 水を加えて 1 アンモニアでpHを4.7とする。
実施例−1 二軸延伸した厚味100μのポリエチレンテレフタレート
支持体の両面にゼラタン14mg/m2、ジエチレントリアミ
ンとアジピン酸よりなるポリアミドエピクロルヒドリン
の反応物9mg/m2になる様に両面に下塗層を塗布した。次
に一方の面に下記に示す処方−(1)の導電層及び処方
−(2)のゼラチン層を塗布した。さらにその上に下記
処方−(7)、(8)のバック層、保護層を順次塗布
し、反対側の面に下記処方−(3)、(4)、(5)、
(6)のハロゲン化銀乳剤層及び保護層を順次塗布し、
表−1に示す条件にて乾燥して試料を作成した。
支持体の両面にゼラタン14mg/m2、ジエチレントリアミ
ンとアジピン酸よりなるポリアミドエピクロルヒドリン
の反応物9mg/m2になる様に両面に下塗層を塗布した。次
に一方の面に下記に示す処方−(1)の導電層及び処方
−(2)のゼラチン層を塗布した。さらにその上に下記
処方−(7)、(8)のバック層、保護層を順次塗布
し、反対側の面に下記処方−(3)、(4)、(5)、
(6)のハロゲン化銀乳剤層及び保護層を順次塗布し、
表−1に示す条件にて乾燥して試料を作成した。
処方(1) 導電層 SnO2/Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μ) 165mg/m2 ゼラチン 19mg/m2 処方(2) ゼラチン層 ゼラチン 35mg/m2 サリチル酸 17mg/m2 ジエチレントリアミンとアジピン酸よりなるポリアミド
とエピクロルヒドリンの反応物 6mg/m2 処方(3) ハロゲン化銀乳剤層−1 I液;水300ml、ゼラチン9g II液;AgNO3 100g、水400ml III液;NaCl37g、(NH4)3RhCl1.1ml、 水400ml 45℃に保ったI液中にII液とIII液を同時に一定の速度
で添加した。この乳剤を当業者でよく知られた常法で可
溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え、安定剤として
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラアザイ
ンデンを添加した。この乳剤の平均粒子サイズは0.20μ
の単分散乳剤であり、乳剤の収量1kg当りに含有するゼ
ラチン量は60gであった。
とエピクロルヒドリンの反応物 6mg/m2 処方(3) ハロゲン化銀乳剤層−1 I液;水300ml、ゼラチン9g II液;AgNO3 100g、水400ml III液;NaCl37g、(NH4)3RhCl1.1ml、 水400ml 45℃に保ったI液中にII液とIII液を同時に一定の速度
で添加した。この乳剤を当業者でよく知られた常法で可
溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え、安定剤として
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラアザイ
ンデンを添加した。この乳剤の平均粒子サイズは0.20μ
の単分散乳剤であり、乳剤の収量1kg当りに含有するゼ
ラチン量は60gであった。
こうして得られた乳剤に以下の化合物を添加した。
本発明の化合物例I−30 5×10-3モル/Ag1モル 化合物−1 60mg/m2 化合物−2 9mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 40mg/m2 N−オレオイル−N−メチルタウリンナトリウム塩50mg
/m2 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン70m
g/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)0.46
g/m2 この様にして得られた塗布量を塗布銀量2g/m2になる様
に塗布した。
/m2 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン70m
g/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)0.46
g/m2 この様にして得られた塗布量を塗布銀量2g/m2になる様
に塗布した。
化合物−1 化合物−2 処方−(4) ハロゲン化銀乳剤層−2 I液;水300ml、ゼラチン9g II液;AgNO3 100g、水400ml III液;NaCl37g、(NH3)RhCl6 2.2mg 400ml 処方−(3)の乳剤と同様の方法でI液中にII液とIII
液を同時に添加して乳剤を調製した。この乳剤は平均粒
子サイズ0.20μの単分散乳剤であった。
液を同時に添加して乳剤を調製した。この乳剤は平均粒
子サイズ0.20μの単分散乳剤であった。
こうして得られた乳剤に以下の化合物を添加した。
本発明の化合物I−30 5×10-3モル/Ag1モル 化合物−1 60mg/m2 〃 −2 9mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 50mg/m2 N−オレオイル−N−メチルタウリンナトリウム塩40mg
/m2 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン80m
g/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)40mg
/m2 この様にして得られた塗布液を塗布銀量2g/m2になる様
に塗布した。
/m2 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン80m
g/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)40mg
/m2 この様にして得られた塗布液を塗布銀量2g/m2になる様
に塗布した。
処方−(5) 保護層−1 ゼラチン 1.0g/m2 リポ酸 5mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 5mg/m2 化合物−3 20mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 10mg/m2 化合物−4 20mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)200m
g/m2 処方−(6) 保護層−2 ゼラチン 1.0g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子サイズ2.5
μ) 60mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグ
リシンポタジウム塩 3mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 2mg/m2 ポリ(重合度5)オキシエチレンノニルフェニルエーテ
ルの硫酸エステルナトリウム塩 20mg/m2 化合物−3 化合物−4 処方−(7) バック層 ゼラチン 2.5g/m2 化合物−5 化合物−6 化合物−7 ドデシルベンゼンスルホン酸 ウナトリウム塩 50mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサク シナートナトリウム塩 20mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 40mg/m2 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 150mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)500m
g/m2 処方−(8) 保護層−3 ゼラチン 1g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ)40m
g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩10mg
/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 得られた試料を25cm×30cmの大きさに裁断し、表−1に
示す条件で熱処理を施こした。その後25℃40%RH(絶対
湿度約0.79%)雰囲気下に6時間放置後防湿袋に密封包
装した。防湿袋としては特開昭61-189936号の実施例−
1に記載された発明品(8)を使用した。
g/m2 処方−(6) 保護層−2 ゼラチン 1.0g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子サイズ2.5
μ) 60mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグ
リシンポタジウム塩 3mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 2mg/m2 ポリ(重合度5)オキシエチレンノニルフェニルエーテ
ルの硫酸エステルナトリウム塩 20mg/m2 化合物−3 化合物−4 処方−(7) バック層 ゼラチン 2.5g/m2 化合物−5 化合物−6 化合物−7 ドデシルベンゼンスルホン酸 ウナトリウム塩 50mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサク シナートナトリウム塩 20mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 40mg/m2 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 150mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)500m
g/m2 処方−(8) 保護層−3 ゼラチン 1g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ)40m
g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩10mg
/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 得られた試料を25cm×30cmの大きさに裁断し、表−1に
示す条件で熱処理を施こした。その後25℃40%RH(絶対
湿度約0.79%)雰囲気下に6時間放置後防湿袋に密封包
装した。防湿袋としては特開昭61-189936号の実施例−
1に記載された発明品(8)を使用した。
防湿袋内に密封した試料を25℃の雰囲気下で2週間放置
した後以下の方法で、導電層の表面抵抗率、ピンホール
の発生状況、現像処理に伴う寸度変化、防湿袋内の絶対
湿度を測定した。その結果を表−1に示す。
した後以下の方法で、導電層の表面抵抗率、ピンホール
の発生状況、現像処理に伴う寸度変化、防湿袋内の絶対
湿度を測定した。その結果を表−1に示す。
表−1より明らかな様に本発明の試料−1,2,5〜7はピ
ンホールの発生が著るしく少なく、現像処理に伴う寸度
変化が小さいことがわかる。
ンホールの発生が著るしく少なく、現像処理に伴う寸度
変化が小さいことがわかる。
1.表面抵抗率 試料を25℃25%RHで12時間放置後電極間隔0.14cm、長さ
10cmの真鍮製電極(試料と接する部分はステンレス使
用)に挟み、タケダ理研製エレクトロメーターTR8651を
用いて1分後の値を測定した。
10cmの真鍮製電極(試料と接する部分はステンレス使
用)に挟み、タケダ理研製エレクトロメーターTR8651を
用いて1分後の値を測定した。
2.ピンホール 得られた試料を25℃25%RHで特に空気清浄の行われてい
ない通常の室内で、ネオプレンゴムローラーで摩擦した
後露光及び現像(38℃20″)し、ピンホールの発生状況
を評価した。
ない通常の室内で、ネオプレンゴムローラーで摩擦した
後露光及び現像(38℃20″)し、ピンホールの発生状況
を評価した。
3.現像処理に伴なう寸度変化の評価法 試料に200mmの間隔を置いて直径8mmの孔を2個あけ、25
℃30%RHの部屋に2時間放置した後、1/1000mm精度のピ
ンゲージを用いて2個の孔の間隔を正確に測定した。こ
のときの長さをXmmとする。次いで、自動現像機で、現
像、定着、水洗、乾燥処理した後、5分後の寸法をYmm
とする。処理に伴う寸度変化率(%)を の値で評価した。
℃30%RHの部屋に2時間放置した後、1/1000mm精度のピ
ンゲージを用いて2個の孔の間隔を正確に測定した。こ
のときの長さをXmmとする。次いで、自動現像機で、現
像、定着、水洗、乾燥処理した後、5分後の寸法をYmm
とする。処理に伴う寸度変化率(%)を の値で評価した。
当業界では寸度変化率±0.01%以下ならば、実用上問題
ないとされている。
ないとされている。
現像処理は、富士写真フィルム社製のFG-660F自動現像
機を、現像液・定着液は同社製GR-D1、GR-F1を用いて、
38℃20秒の処理条件でおこなった。そのときの乾燥温度
は45℃であった。
機を、現像液・定着液は同社製GR-D1、GR-F1を用いて、
38℃20秒の処理条件でおこなった。そのときの乾燥温度
は45℃であった。
4.防湿袋内の絶対湿度の測定 25℃の温度条件の下で袋内の相対湿度を測定し、空気線
図を用いて絶対湿度を求めた。
図を用いて絶対湿度を求めた。
相対湿度の測定には、温湿度計MODEL HN-U2 HUMI-TEMP RECORDER(チノー(株)製)(センサ
ーHN-L20(チノー(株)製))を用いて相対湿度を測定
し、この結果から空気線図を用いて絶対湿度に換算し
た。
ーHN-L20(チノー(株)製))を用いて相対湿度を測定
し、この結果から空気線図を用いて絶対湿度に換算し
た。
実施例−2 実施例−1の試料−1において、表−2の様に導電層の
導電性金属酸化物とゼラチンの比率を変えた試料及び導
電層を導電性高分子化合物に変えた試料を作成した。こ
の試料について実施例−1と同様にして、ピンホール、
寸度変化の評価をおこなった。その結果を表−2に示
す。
導電性金属酸化物とゼラチンの比率を変えた試料及び導
電層を導電性高分子化合物に変えた試料を作成した。こ
の試料について実施例−1と同様にして、ピンホール、
寸度変化の評価をおこなった。その結果を表−2に示
す。
表−2から明らかな様に本発明の試料−9〜15はピンホ
ールの発生が著るしく少なく、現像処理に伴う寸度変化
が小さいことがわかる。
ールの発生が著るしく少なく、現像処理に伴う寸度変化
が小さいことがわかる。
実施例−3 実施例−1と同様の支持体の両面を下記条件でコロナ放
電処理した後メチルメタクリレート/ブチルアクリレー
ト/アクリロニトリル=45/45/10重量%の共重合体の水
性分散液を固形分が0.3g/m2になる様に塗布・乾燥し
た。その上にコロナ放電処理後塩化ビニリデン/メチル
メタクリレート/アクリロニトリル=90/8/2重量%の共
重合体の水性分散液を固形分が1g/m2になる様に両面に
塗布し、乾燥した。さらに、その上にコロナ放電処理後
ゼラチン0.1g/m2、化合物−13、5mg/m2、メチルセルロ
ース(信越化学(株)製60SH−6)5mg/m2になる様に両
面に塗布し乾燥した。
電処理した後メチルメタクリレート/ブチルアクリレー
ト/アクリロニトリル=45/45/10重量%の共重合体の水
性分散液を固形分が0.3g/m2になる様に塗布・乾燥し
た。その上にコロナ放電処理後塩化ビニリデン/メチル
メタクリレート/アクリロニトリル=90/8/2重量%の共
重合体の水性分散液を固形分が1g/m2になる様に両面に
塗布し、乾燥した。さらに、その上にコロナ放電処理後
ゼラチン0.1g/m2、化合物−13、5mg/m2、メチルセルロ
ース(信越化学(株)製60SH−6)5mg/m2になる様に両
面に塗布し乾燥した。
コロナ放電処理条件: ピラー社製ソリッドステートコロナ処理機6kVAモデルを
用いて、30cm幅支持体を20m/minで処理する。このと
き、電流・電圧の読み取り値により被処理物は0.375kVA
/min/m2の処理がなされた。処理時の放電周波数は9.6KH
z、電極と誘電体ロールのギャップクリアランスh1.6mm
であった。
用いて、30cm幅支持体を20m/minで処理する。このと
き、電流・電圧の読み取り値により被処理物は0.375kVA
/min/m2の処理がなされた。処理時の放電周波数は9.6KH
z、電極と誘電体ロールのギャップクリアランスh1.6mm
であった。
この様にして得れた支持体に実施例−1の試料−1と同
様に一方の面、導電層、ゼラチン層、バック層、保護層
を順次塗布し、反対側にハロゲン化銀乳剤層及び保護層
を順次塗布し、試料−17を作成した。25℃2週間経時後
この試料を用いて、実施例−1と同様にして、ピンホー
ル、寸度変化などの評価をおこなった。
様に一方の面、導電層、ゼラチン層、バック層、保護層
を順次塗布し、反対側にハロゲン化銀乳剤層及び保護層
を順次塗布し、試料−17を作成した。25℃2週間経時後
この試料を用いて、実施例−1と同様にして、ピンホー
ル、寸度変化などの評価をおこなった。
その結果を表−3に示す。
表−3から明らかな様に透湿度の低い塩化ビニリデン共
重合体層を有する試料−17は、本発明の試料−1よりさ
らに現像処理に伴う寸法変化が良好で、かつピンホール
が著るしく少ないことがわかる。
重合体層を有する試料−17は、本発明の試料−1よりさ
らに現像処理に伴う寸法変化が良好で、かつピンホール
が著るしく少ないことがわかる。
実施例−4 二軸延伸した厚味100μのポリエチレンテレフタレート
支持体の両面にゼラチン14mg/m2、ジエチレントリアミ
ンとアジピン酸よりなるポリアミドエピクロルヒドリン
の反応物9mg/m2になる様に両面塗布し、一方の面に実施
例−1の処方−(1)の導電層及び処方−(2)のゼラ
チン層を塗布した。次にその上に下記処方−(9)、
(10)のバック層、保護層を順次塗布した。
支持体の両面にゼラチン14mg/m2、ジエチレントリアミ
ンとアジピン酸よりなるポリアミドエピクロルヒドリン
の反応物9mg/m2になる様に両面塗布し、一方の面に実施
例−1の処方−(1)の導電層及び処方−(2)のゼラ
チン層を塗布した。次にその上に下記処方−(9)、
(10)のバック層、保護層を順次塗布した。
処方−9 ゼラチン 3g/m2 化合物−8 40mg/m2 化合物−5 120mg/m2 化合物−6 40mg/m2 化合物−7 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩40mg
/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 40mg/m2 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 120mg/m2 処方−10 ゼラチン 0.8g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ)30m
g/m2 ジヘキシル−α−スルホサクナートナトリウム塩15mg/m
2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 化合物−8 次にその反対側の面にAg1モル当り4×10-7モルのイリ
ジウムを含む、沃化銀含有量0.5モル%、臭化銀含有量9
9.5モル%のハロゲン化銀乳剤(未化学増感乳剤)を当
業界でよく知られた常法で調製し、可溶性塩類を除去し
た後、ゼラチンを加えた。この乳剤の平均粒子サイズは
0.28μの単分散乳剤で、乳剤1kg当りのAgは99g、ゼラチ
ンは56gであった。
/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 40mg/m2 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 120mg/m2 処方−10 ゼラチン 0.8g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ)30m
g/m2 ジヘキシル−α−スルホサクナートナトリウム塩15mg/m
2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 化合物−8 次にその反対側の面にAg1モル当り4×10-7モルのイリ
ジウムを含む、沃化銀含有量0.5モル%、臭化銀含有量9
9.5モル%のハロゲン化銀乳剤(未化学増感乳剤)を当
業界でよく知られた常法で調製し、可溶性塩類を除去し
た後、ゼラチンを加えた。この乳剤の平均粒子サイズは
0.28μの単分散乳剤で、乳剤1kg当りのAgは99g、ゼラチ
ンは56gであった。
この乳剤に増感色素として5,5′−ジクロロ−9−エチ
ル−3,3′−ビス(3−スルフォプロピル)オキサカル
ボシアニンのナトリウム塩11mg/m2、3−(3−スルホ
プロピル)−3′−(4−スルホブチル)−5′−フェ
ニル−4,5−ジベンゾオキサシアニンのナトリウム塩6.9
mg/m2、安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,
3,3a,7−テトラザインデン8mg/m2、ヒドラジン誘導体と
して、化合物例I−5及びI−19をそれぞれ1.2×10-3
モル/Ag1モル、5×10-5モル/Ag1モル、造核促進剤とし
て化合物−9 5mg/m2を加え、さらエチルアクリレート
ラテックス(平均粒径0.05μ)600mg/m2、化合物−10の
ポリマーラテックス195mg/m2硬化剤として1,2−ビス
(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン140mg/m2、2,
4−ジクロル−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンのナ
トリウム塩12mg/m2、界面活性剤としてN−オレオイル
−N−メチルタウリンナトリウム塩40mg/m2、増粘剤と
してポリエチレンスルホン酸ナトリウム塩20mg/m2を加
えた。
ル−3,3′−ビス(3−スルフォプロピル)オキサカル
ボシアニンのナトリウム塩11mg/m2、3−(3−スルホ
プロピル)−3′−(4−スルホブチル)−5′−フェ
ニル−4,5−ジベンゾオキサシアニンのナトリウム塩6.9
mg/m2、安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,
3,3a,7−テトラザインデン8mg/m2、ヒドラジン誘導体と
して、化合物例I−5及びI−19をそれぞれ1.2×10-3
モル/Ag1モル、5×10-5モル/Ag1モル、造核促進剤とし
て化合物−9 5mg/m2を加え、さらエチルアクリレート
ラテックス(平均粒径0.05μ)600mg/m2、化合物−10の
ポリマーラテックス195mg/m2硬化剤として1,2−ビス
(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン140mg/m2、2,
4−ジクロル−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンのナ
トリウム塩12mg/m2、界面活性剤としてN−オレオイル
−N−メチルタウリンナトリウム塩40mg/m2、増粘剤と
してポリエチレンスルホン酸ナトリウム塩20mg/m2を加
えた。
上記の如く調製した乳剤を塗布銀量が3.5g/m2にてる様
に塗布し、さらにその上に保護層として、下記処方−
(11)、(12)を順次塗布した。塗布時の乾燥条件は表
−4に示す。
に塗布し、さらにその上に保護層として、下記処方−
(11)、(12)を順次塗布した。塗布時の乾燥条件は表
−4に示す。
処方−11 ゼラチン 1.0g/m2 L−アスコルビン酸 30mg/m2 ハイドロキノン 190mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ)240m
g/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 3mg/m2 処方−12 ゼラチン 0.6g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径2.5μ)60m
g/m2 液状オルガノポリシロキサン(ゼラチン分散物)10mg/m
2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグ
リシンポタジウム塩 4mg/m2 コロイダルシリカ 90mg/m2 化合物−9 化合物−10 得られた試料を表−4に示す条件にて熱処理し、実施例
−1と同様に密封包装した。25℃2週間放置後この試料
を用いて、実施例−1と同様にして、ピンホール、寸度
変化の評価をおこなった。その結果を表−4に示す。
g/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 3mg/m2 処方−12 ゼラチン 0.6g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径2.5μ)60m
g/m2 液状オルガノポリシロキサン(ゼラチン分散物)10mg/m
2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグ
リシンポタジウム塩 4mg/m2 コロイダルシリカ 90mg/m2 化合物−9 化合物−10 得られた試料を表−4に示す条件にて熱処理し、実施例
−1と同様に密封包装した。25℃2週間放置後この試料
を用いて、実施例−1と同様にして、ピンホール、寸度
変化の評価をおこなった。その結果を表−4に示す。
表−4から明らかな様に本発明の試料−19〜22は、ピン
ホールが著るしく少なく、現像処理に伴う寸度変化が小
さいことがわかる。
ホールが著るしく少なく、現像処理に伴う寸度変化が小
さいことがわかる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−52052(JP,A) 特開 昭58−147737(JP,A) 特開 昭62−280835(JP,A) 特開 昭62−231252(JP,A) 特開 昭63−26654(JP,A) 特開 平1−229244(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀
乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料に於て、該ハ
ロゲン化銀写真感光材料の構成層の少なくとも1層の表
面抵抗率が25℃25%RHの雰囲気下で1012Ω以下であり、
且つ、該支持体上にハロゲン化銀乳剤層及びその他の親
水性コロイド層塗布液を塗布後乾燥する際、支持体上に
構成された全層に含有されるバインダー乾量に基づいて
300%以下の水分を50%以下の相対湿度で乾燥させ、さ
らに乾燥後、該ハロゲン化銀写真感光材料に絶対湿度1
%以下の雰囲気で30℃以上の温度で6時間以上の熱処理
を施こし、且つ該ハロゲン化銀写真感光材料を絶対湿度
1%以下の雰囲気下で保存することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26325788A JPH0693088B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US07/965,050 US5238801A (en) | 1988-10-19 | 1992-10-22 | Process of treating a silver halide photographic element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26325788A JPH0693088B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02110447A JPH02110447A (ja) | 1990-04-23 |
| JPH0693088B2 true JPH0693088B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=17386958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26325788A Expired - Fee Related JPH0693088B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693088B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05281655A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-29 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法 |
| DE69328144T2 (de) * | 1992-08-20 | 2000-07-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographisches Silberhalogenidmaterial |
-
1988
- 1988-10-19 JP JP26325788A patent/JPH0693088B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02110447A (ja) | 1990-04-23 |
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