JPH069511Y2 - ウエハ−の水中搬送装置 - Google Patents
ウエハ−の水中搬送装置Info
- Publication number
- JPH069511Y2 JPH069511Y2 JP1984098159U JP9815984U JPH069511Y2 JP H069511 Y2 JPH069511 Y2 JP H069511Y2 JP 1984098159 U JP1984098159 U JP 1984098159U JP 9815984 U JP9815984 U JP 9815984U JP H069511 Y2 JPH069511 Y2 JP H069511Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- center line
- water
- carrier plate
- submersible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案はウエハーの水中搬送装置に関するものである。
従来の技術 半導体単結晶棒をスライスして得たウエハーにラッピン
グ、エッチング、鏡面仕上、検査等の各工程を行う際
は、多量生産による流れ作業であるため、工程内あるい
は工程間ウエハーの移動はゴムベルトによって行ってい
る。
グ、エッチング、鏡面仕上、検査等の各工程を行う際
は、多量生産による流れ作業であるため、工程内あるい
は工程間ウエハーの移動はゴムベルトによって行ってい
る。
考案が解決しようとする問題点 しかし工程が進みウエハー表面のミラー化が完成に近づ
くと、空気にさらされながらゴムベルトやその他の構造
物と接触することによるきず、酸化、汚染が無視できな
くなるという欠点をもつ。これはＬＳＩ用のウエハーに
対しては致命的であるといってよい。
くと、空気にさらされながらゴムベルトやその他の構造
物と接触することによるきず、酸化、汚染が無視できな
くなるという欠点をもつ。これはＬＳＩ用のウエハーに
対しては致命的であるといってよい。
このためウエハーを水中で搬送する技術が知られている
が、装置が複雑となり搬送速度もあがらないという欠点
がある。
が、装置が複雑となり搬送速度もあがらないという欠点
がある。
問題点を解決するための手段 本考案はこれらの欠点を解消し、ウエハーを簡単な構造
で迅速に水中搬送しようとするものである。すなわちそ
の表面の中心線の両側に所定の間隔で少なくとも２列に
並び、該中心線に向かって１５°±５°、該表面に対し
３０°±５°傾斜して開口した多数のノズルを有し、該
ノズルから噴射される水の圧力により、ウエハーを該中
心線に沿って水中移送する水平搬送板を備えたことを特
徴とするウエハーの水中搬送装置を提供するものであ
る。
で迅速に水中搬送しようとするものである。すなわちそ
の表面の中心線の両側に所定の間隔で少なくとも２列に
並び、該中心線に向かって１５°±５°、該表面に対し
３０°±５°傾斜して開口した多数のノズルを有し、該
ノズルから噴射される水の圧力により、ウエハーを該中
心線に沿って水中移送する水平搬送板を備えたことを特
徴とするウエハーの水中搬送装置を提供するものであ
る。
作用 以下本考案を図面によって詳細に説明する。第１図は本
考案のウエハーの水中搬送装置の一例の平面図である。
前工程を終え、前工程出口１より送られてきたウエハー
２は、水平をなす搬送板３上の水中を送られて後工程入
口４に達する。搬送板３は１点鎖線で示す中心線Ａ−
Ａ′をはさんで両側に所定間隔で２列にならんだ多数の
ノズル５を有す。
考案のウエハーの水中搬送装置の一例の平面図である。
前工程を終え、前工程出口１より送られてきたウエハー
２は、水平をなす搬送板３上の水中を送られて後工程入
口４に達する。搬送板３は１点鎖線で示す中心線Ａ−
Ａ′をはさんで両側に所定間隔で２列にならんだ多数の
ノズル５を有す。
第２図は第１図の中心線Ａ−Ａ′を通る縦断面図であ
る。搬送装置、前工程出口および後工程入口は水槽６に
よって水中に浸漬されている。搬送板ベース７は中央裏
面に給水管８を備え、上に搬送板３を載置し、ねじ止め
または接着により固定する。
る。搬送装置、前工程出口および後工程入口は水槽６に
よって水中に浸漬されている。搬送板ベース７は中央裏
面に給水管８を備え、上に搬送板３を載置し、ねじ止め
または接着により固定する。
第３図は搬送板３の平面図の一部を拡大して示す。各ノ
ズルは中心線Ａ−Ａ′に向って１５°±５°傾斜してい
る。傾斜がこの範囲より大きくなるとウエハーのおどり
が激しくなって搬送速度が低下し、小さくなるとウエハ
ーは中心線上のコースを保持できなくなる。
ズルは中心線Ａ−Ａ′に向って１５°±５°傾斜してい
る。傾斜がこの範囲より大きくなるとウエハーのおどり
が激しくなって搬送速度が低下し、小さくなるとウエハ
ーは中心線上のコースを保持できなくなる。
第４図は第３図のＢ−Ｂ線を通るノズルの縦断面を示
す。図より明らかなように、各ノズル５は搬送板３の表
面に対し３０°±５°傾斜し、表面で開口９となり裏面
で開口１０となる。傾斜がこの範囲より大きくなると、
ウエハーは水面にふき上げられておどりが激しく搬送速
度も低下し、小さくなると沈下して搬送板に接触し易く
なる。第５図は搬送ベース７の平面図である。中央に給
水管８の開口１１があり、これを中心にして日の字型に
配水溝１２が各開口１０の下に通じている。これにより
送水機（図示せず）より給水管８に送られた水は、配水
溝１２をたどって開口１０に達し、傾斜したノズル５を
通って開口９より噴射される。
す。図より明らかなように、各ノズル５は搬送板３の表
面に対し３０°±５°傾斜し、表面で開口９となり裏面
で開口１０となる。傾斜がこの範囲より大きくなると、
ウエハーは水面にふき上げられておどりが激しく搬送速
度も低下し、小さくなると沈下して搬送板に接触し易く
なる。第５図は搬送ベース７の平面図である。中央に給
水管８の開口１１があり、これを中心にして日の字型に
配水溝１２が各開口１０の下に通じている。これにより
送水機（図示せず）より給水管８に送られた水は、配水
溝１２をたどって開口１０に達し、傾斜したノズル５を
通って開口９より噴射される。
［実施例］ 直径１５cm、厚さ０．３cmのシリコンウエハーを本願考
案の装置により搬送したときの状況を下表に示す。
案の装置により搬送したときの状況を下表に示す。
考案の効果 したがって噴射は水平をなす搬送板表面に対し３０°±
５°の傾斜をし、中心線Ａ−Ａ′に向って１５°±５°
の傾斜をなすので、前工程出口１より送られてきたウエ
ハー２は常に中心線Ａ−Ａ′上の水中を後工程入口４に
向って直進し、搬送板両側にはウエハーを導くための側
壁を要しない。
５°の傾斜をし、中心線Ａ−Ａ′に向って１５°±５°
の傾斜をなすので、前工程出口１より送られてきたウエ
ハー２は常に中心線Ａ−Ａ′上の水中を後工程入口４に
向って直進し、搬送板両側にはウエハーを導くための側
壁を要しない。
これによってウエハーは搬送されている期間他の構造物
とは接触せず、常に新しい噴射水にさらされているの
で、きずつけられたり、酸化、汚染を受けることなく次
工程入口に送られる。しかも極めて簡単な構造で迅速な
搬送を行うことができる考案である。
とは接触せず、常に新しい噴射水にさらされているの
で、きずつけられたり、酸化、汚染を受けることなく次
工程入口に送られる。しかも極めて簡単な構造で迅速な
搬送を行うことができる考案である。
第１図は本考案のウエハー搬送装置の平面図を、第２図
は第１図のＡ−Ａ′線を通る縦断面図を、第３図は本考
案の搬送板の拡大平面図の一部を、第４図は本考案のノ
ズルの縦断面図を、第５図は本考案の搬送板ベースの平
面図を示す。 １……前工程出口、２……ウエハー、 ３……搬送板、４……後工程入口、５……ノズル、 ６……水槽、７……搬送板ベース、８……給水管、 ９，１０，１１……開口、１２……配水溝。
は第１図のＡ−Ａ′線を通る縦断面図を、第３図は本考
案の搬送板の拡大平面図の一部を、第４図は本考案のノ
ズルの縦断面図を、第５図は本考案の搬送板ベースの平
面図を示す。 １……前工程出口、２……ウエハー、 ３……搬送板、４……後工程入口、５……ノズル、 ６……水槽、７……搬送板ベース、８……給水管、 ９，１０，１１……開口、１２……配水溝。
Claims (1)
- 【請求項１】その表面の中心線の両側に所定の間隔で少
なくとも２列に並び、該中心線に向かって１５°±５
°、該表面に対し３０°±５°傾斜して開口した多数の
ノズルを有し、該ノズルから噴射される水の圧力によ
り、ウエハーを該中心線に沿って水中移送する水平搬送
板を備えたことを特徴とするウエハーの水中搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984098159U JPH069511Y2 (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | ウエハ−の水中搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984098159U JPH069511Y2 (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | ウエハ−の水中搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6113933U JPS6113933U (ja) | 1986-01-27 |
| JPH069511Y2 true JPH069511Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=30657708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984098159U Expired - Lifetime JPH069511Y2 (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | ウエハ−の水中搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069511Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4395165A (en) * | 1980-12-19 | 1983-07-26 | International Business Machine Corp. | Chip shuttle track |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP1984098159U patent/JPH069511Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6113933U (ja) | 1986-01-27 |
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