JPH069631A - ピラゾロピリジン化合物の新規製造法 - Google Patents
ピラゾロピリジン化合物の新規製造法Info
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 次の一般式:
【化1】
(式中、R1 は低級アルキル基、R2 は水素または
適当な置換基を意味する)で示される化合物に、一般
式: 【化2】 (式中、R3 は水素または適当な置換基、X− は陰
イオンを意味する)で示される化合物を反応させて、一
般式: 【化3】 (式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ前と同
じ意味)で示される化合物を得ることを特徴とするピラ
ゾロピリジン化合物の製造法。 【効果】 この発明は医薬として有用なピラゾロピリ
ジン誘導体を製造するに当たっての中間体として有用な
ピラゾロピリジン化合物の新規製造法に関するものであ
り、医薬の分野において有用である。
適当な置換基を意味する)で示される化合物に、一般
式: 【化2】 (式中、R3 は水素または適当な置換基、X− は陰
イオンを意味する)で示される化合物を反応させて、一
般式: 【化3】 (式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ前と同
じ意味)で示される化合物を得ることを特徴とするピラ
ゾロピリジン化合物の製造法。 【効果】 この発明は医薬として有用なピラゾロピリ
ジン誘導体を製造するに当たっての中間体として有用な
ピラゾロピリジン化合物の新規製造法に関するものであ
り、医薬の分野において有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は医薬として有用なピラ
ゾロピリジン誘導体を製造するに当たっての中間体とし
て有用なピラゾロピリジン化合物の新規製造法に関する
ものであり、医薬の分野において有用である。
ゾロピリジン誘導体を製造するに当たっての中間体とし
て有用なピラゾロピリジン化合物の新規製造法に関する
ものであり、医薬の分野において有用である。
【0002】
【発明の目的】この発明の目的は医薬として有用なピラ
ゾロピリジン誘導体を製造するに当たっての中間体とし
て有用なピラゾロピリジン化合物の新規製造法を提供す
ることである。
ゾロピリジン誘導体を製造するに当たっての中間体とし
て有用なピラゾロピリジン化合物の新規製造法を提供す
ることである。
【0003】
【発明の構成】この発明の目的化合物であるピラゾロピ
リジン化合物は、下記の一般式で表される。
リジン化合物は、下記の一般式で表される。
【化4】 (式中、R1 は低級アルキル基、R2 は水素または
適当な置換基、R3 は水素または適当な置換基を意味
する。)この発明に従って、目的化合物(I)は下記製
造法によって製造することができる。
適当な置換基、R3 は水素または適当な置換基を意味
する。)この発明に従って、目的化合物(I)は下記製
造法によって製造することができる。
【0004】製造法1
【化5】 (式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ前と同
じ意味であり、X− は陰イオンを意味する)。
じ意味であり、X− は陰イオンを意味する)。
【0005】化合物(I)の好適な塩類は、慣用の無毒
性の医薬として許容される塩すなわち各種塩基との塩な
らびに酸付加塩を挙げることができる。より具体的に
は、アルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム
塩、セシウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えば、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム塩のよ
うな無機塩基との塩、有機アミノ塩(例えば、トリエチ
ルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、N,N´−ジベンジルエチレンジアミン塩等)の
ような有機塩基との塩、無機酸付加塩(例えば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等)、有機カルボン酸
付加塩または有機スルホン酸付加塩(例えば、ギ酸塩、
酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−
トルエンスルホン酸塩等)、塩基性アミノ酸または酸性
アミノ酸との塩(例えば、アルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸等)等が挙げられる。
性の医薬として許容される塩すなわち各種塩基との塩な
らびに酸付加塩を挙げることができる。より具体的に
は、アルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム
塩、セシウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えば、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム塩のよ
うな無機塩基との塩、有機アミノ塩(例えば、トリエチ
ルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、N,N´−ジベンジルエチレンジアミン塩等)の
ような有機塩基との塩、無機酸付加塩(例えば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等)、有機カルボン酸
付加塩または有機スルホン酸付加塩(例えば、ギ酸塩、
酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−
トルエンスルホン酸塩等)、塩基性アミノ酸または酸性
アミノ酸との塩(例えば、アルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸等)等が挙げられる。
【0006】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される定義の好適な例およ
び説明を以下詳細に説明する。「低級アルキル基」とし
ては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシル等のような炭素数1ないし6を有す
る直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、その好ましい例
としては炭素数1ないし4個のアルキル基が挙げられ
る。好適な「陰イオン」としては、ギ酸イオン、酢酸イ
オン、トリフルオロ酢酸イオン、マイレン酸イオン、酒
石酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホ
ン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、塩素イオン、
臭素イオン、沃素イオン、硫酸イオン、りん酸イオン等
が挙げられる。R2 における「適当な置換基」として
はハロゲン、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、
低級アルキルアミノ基、ウレイド基、低級アルカノイル
アミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級ア
ルカンスルホニルアミノ基、等が挙げられる。R3 基
における「適当な置換基」としては、ハロゲン、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、等が挙げられる。前記
「ハロゲン」の好適な例としてはフッ素、塩素、臭素、
ヨウ素、等が挙げられる。前記「低級アルコキシ基」の
好適な例としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペン
チルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ等の基が挙げられる。前記「低級ア
ルキルアミノ」の好適な例としては、メチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブ
チルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ等のよう
な上記直鎖または分岐鎖低級アルキル基によって置換さ
れたアミノ基が挙げられる。前記「低級アルカノイルア
ミノ基」の好適な例としては、ホルミルアミノ、アセチ
ルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソ
ブチリルアミノ、バレリルアミノ、ヘキサノイルアミ
ノ、ピバロイルアミノ等の基が挙げられる。前記「低級
アルカンスルホニルアミノ基」の好適な例としては、例
えばメシルアミノ、エタンスルホニルアミノ、プロパン
スルホニルアミノ、イソプロパンスルホニルアミノ、ブ
タンスルホニルアミノ等の基が挙げられる。前記「低級
アルコキシカルボニルアミノ基」の好適な例としては、
例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニル
アミノ、プロポキシカルボニルアミノ、イソプロポキシ
カルボニルアミノ、ブトキシカルボニルアミノ、イソブ
トキシカルボニルアミノ、ペンチルオキシカルボニルア
ミノ、イソペンチルオキシカルボニルアミノ、ネオペン
チルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニ
ルアミノ等の基が挙げられる。
て、この発明の範囲内に包含される定義の好適な例およ
び説明を以下詳細に説明する。「低級アルキル基」とし
ては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシル等のような炭素数1ないし6を有す
る直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル基、その好ましい例
としては炭素数1ないし4個のアルキル基が挙げられ
る。好適な「陰イオン」としては、ギ酸イオン、酢酸イ
オン、トリフルオロ酢酸イオン、マイレン酸イオン、酒
石酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホ
ン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、塩素イオン、
臭素イオン、沃素イオン、硫酸イオン、りん酸イオン等
が挙げられる。R2 における「適当な置換基」として
はハロゲン、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、
低級アルキルアミノ基、ウレイド基、低級アルカノイル
アミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級ア
ルカンスルホニルアミノ基、等が挙げられる。R3 基
における「適当な置換基」としては、ハロゲン、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、等が挙げられる。前記
「ハロゲン」の好適な例としてはフッ素、塩素、臭素、
ヨウ素、等が挙げられる。前記「低級アルコキシ基」の
好適な例としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペン
チルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ等の基が挙げられる。前記「低級ア
ルキルアミノ」の好適な例としては、メチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブ
チルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ等のよう
な上記直鎖または分岐鎖低級アルキル基によって置換さ
れたアミノ基が挙げられる。前記「低級アルカノイルア
ミノ基」の好適な例としては、ホルミルアミノ、アセチ
ルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソ
ブチリルアミノ、バレリルアミノ、ヘキサノイルアミ
ノ、ピバロイルアミノ等の基が挙げられる。前記「低級
アルカンスルホニルアミノ基」の好適な例としては、例
えばメシルアミノ、エタンスルホニルアミノ、プロパン
スルホニルアミノ、イソプロパンスルホニルアミノ、ブ
タンスルホニルアミノ等の基が挙げられる。前記「低級
アルコキシカルボニルアミノ基」の好適な例としては、
例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニル
アミノ、プロポキシカルボニルアミノ、イソプロポキシ
カルボニルアミノ、ブトキシカルボニルアミノ、イソブ
トキシカルボニルアミノ、ペンチルオキシカルボニルア
ミノ、イソペンチルオキシカルボニルアミノ、ネオペン
チルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニ
ルアミノ等の基が挙げられる。
【0007】目的化合物(I)の製造法について次に詳
細に説明する。 製造法1 化合物(I)は、化合物(II)を化合物 (III)
と反応させることにより製造することができる。反応は
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、等の極性溶媒中で行うのが好ましく、さらに好まし
くはジメチルスルホキシド中で行うのが好ましいが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他いかなる溶
媒でも反応を行うことができる。また、反応は2層系の
溶媒中で行うこともできる。このような2層系の溶媒と
しては水と、水と混合しない有機溶媒との2層系の溶媒
を挙げることができ、その好ましい例として、水と、塩
化メチレン,トルエンもしくはベンゼン等との2層系の
溶媒を挙げることができ、さらに好ましい例として、水
と、塩化メチレンとの2層系の溶媒を挙げることができ
る。反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下、室
温、加温ないし加熱下に反応が行われ、好ましくは室温
ないし加温下で、さらに好ましくは室温〜50℃で行わ
れる。また、溶媒として2層系の溶媒を用いた場合、反
応温度は特に限定されないが、通常は0〜加温下で、好
ましくは0〜50℃で行われる。この反応は化合物(I
I)を化合物 (III)に対して少し過剰気味に使用
するのが好ましく、更に好ましくは化合物(II)と化
合物 (III)の使用割合を1:1〜3:1の範囲で
使用するのが好ましい。
細に説明する。 製造法1 化合物(I)は、化合物(II)を化合物 (III)
と反応させることにより製造することができる。反応は
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、等の極性溶媒中で行うのが好ましく、さらに好まし
くはジメチルスルホキシド中で行うのが好ましいが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他いかなる溶
媒でも反応を行うことができる。また、反応は2層系の
溶媒中で行うこともできる。このような2層系の溶媒と
しては水と、水と混合しない有機溶媒との2層系の溶媒
を挙げることができ、その好ましい例として、水と、塩
化メチレン,トルエンもしくはベンゼン等との2層系の
溶媒を挙げることができ、さらに好ましい例として、水
と、塩化メチレンとの2層系の溶媒を挙げることができ
る。反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下、室
温、加温ないし加熱下に反応が行われ、好ましくは室温
ないし加温下で、さらに好ましくは室温〜50℃で行わ
れる。また、溶媒として2層系の溶媒を用いた場合、反
応温度は特に限定されないが、通常は0〜加温下で、好
ましくは0〜50℃で行われる。この反応は化合物(I
I)を化合物 (III)に対して少し過剰気味に使用
するのが好ましく、更に好ましくは化合物(II)と化
合物 (III)の使用割合を1:1〜3:1の範囲で
使用するのが好ましい。
【0008】以下、この発明を実施例及び参考例に従っ
て説明する。 実施例1 1−フェニル−1−ブチン−3−オン(5.00g)、
N−アミノピリジンヨージド(11.55g)、ジメチ
ルスルホキシド(50ml)を合わせ加え、室温で攪拌
して、溶解する。攪拌下、内温20℃にて粉砕した炭酸
カリウム(4.79g)を一括して加え、以後、内温3
3〜37℃にて1時間反応させる。反応終了後、反応液
を内温20℃の水(300ml)の中へ20分間で滴下
する。内温を0〜5℃に冷却した後、析出した結晶を濾
取し、冷却した70%含水メタノール(水:メタノール
=30:70)50mlにて、結晶を洗浄する。結晶を
一夜真空乾燥し、3−アセチル−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(6.66g)を得る。 mp : 84−85℃ MASS : 236 IR (ヌシ゛ョール) : 1640, 1500
cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.15(3H,
s), 7.03(1H,d−t,J=1.4Hz,J
=6.9Hz), 7.45−7.62(6H,m),
8.45(1H,d,J=8.9Hz), 8.53
(1H,d,J=6.9Hz)
て説明する。 実施例1 1−フェニル−1−ブチン−3−オン(5.00g)、
N−アミノピリジンヨージド(11.55g)、ジメチ
ルスルホキシド(50ml)を合わせ加え、室温で攪拌
して、溶解する。攪拌下、内温20℃にて粉砕した炭酸
カリウム(4.79g)を一括して加え、以後、内温3
3〜37℃にて1時間反応させる。反応終了後、反応液
を内温20℃の水(300ml)の中へ20分間で滴下
する。内温を0〜5℃に冷却した後、析出した結晶を濾
取し、冷却した70%含水メタノール(水:メタノール
=30:70)50mlにて、結晶を洗浄する。結晶を
一夜真空乾燥し、3−アセチル−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(6.66g)を得る。 mp : 84−85℃ MASS : 236 IR (ヌシ゛ョール) : 1640, 1500
cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.15(3H,
s), 7.03(1H,d−t,J=1.4Hz,J
=6.9Hz), 7.45−7.62(6H,m),
8.45(1H,d,J=8.9Hz), 8.53
(1H,d,J=6.9Hz)
【0009】実施例2 水(740ml)と85%水酸化カリウム(70.7
g)を合わせ、室温で攪拌し溶解する。次いで塩化メチ
レン(740ml)を加え冷却する。攪拌下、内温5℃
にて1−フェニル−1−ブチン−3−オン(74.0
g)を加え、次いでN−アミノピリジンヨージド(11
3.2g)を加える。以後内温15〜25℃にて1時間
反応させる。反応終了後、分液し、塩化メチレン層を分
取する。水層は塩化メチレン(370ml)で抽出す
る。塩化メチレン層を積層後水(740ml)で洗浄
し、減圧濃縮する。残渣にイソプロピルアルコール(5
90ml)を加える。さらに水(1258ml)を加え
結晶を析出させる。内温を0〜5℃に冷却した後、結晶
を濾取し、30%含水イソプロピルアルコール(水:イ
ソプロピルアルコール=70:30)(370ml)で
結晶を洗浄する。結晶を一夜真空乾燥し、3−アセチル
−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(11
3.2g)を得る。 mp : 84−85℃ MASS : 236(分子イオンピーク) IR (ヌシ゛ョール) : 1640, 1500
cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.15(3H,
s), 7.03(1H,d−t,J=1.4Hz,J
=6.9Hz), 7.45−7.62(6H,m),
8.45(1H,d,J=8.9Hz), 8.53
(1H,d,J=6.9Hz)
g)を合わせ、室温で攪拌し溶解する。次いで塩化メチ
レン(740ml)を加え冷却する。攪拌下、内温5℃
にて1−フェニル−1−ブチン−3−オン(74.0
g)を加え、次いでN−アミノピリジンヨージド(11
3.2g)を加える。以後内温15〜25℃にて1時間
反応させる。反応終了後、分液し、塩化メチレン層を分
取する。水層は塩化メチレン(370ml)で抽出す
る。塩化メチレン層を積層後水(740ml)で洗浄
し、減圧濃縮する。残渣にイソプロピルアルコール(5
90ml)を加える。さらに水(1258ml)を加え
結晶を析出させる。内温を0〜5℃に冷却した後、結晶
を濾取し、30%含水イソプロピルアルコール(水:イ
ソプロピルアルコール=70:30)(370ml)で
結晶を洗浄する。結晶を一夜真空乾燥し、3−アセチル
−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(11
3.2g)を得る。 mp : 84−85℃ MASS : 236(分子イオンピーク) IR (ヌシ゛ョール) : 1640, 1500
cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.15(3H,
s), 7.03(1H,d−t,J=1.4Hz,J
=6.9Hz), 7.45−7.62(6H,m),
8.45(1H,d,J=8.9Hz), 8.53
(1H,d,J=6.9Hz)
【0010】参考例1 3−アセチル−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピ
リジン(40.00g)およびグリオキサル酸・一水和
物(20.27g)の混合物を100℃に2.5時間加
熱、攪拌する。反応混合物を酢酸エチル(220ml)
と水酸化ナトリウム水溶液(12%、220ml)との
混合物に溶解する。水層をクロロホルム(100ml)
で洗浄し、次いで10%塩酸で酸性にする。これをクロ
ロホルム(150ml)で2回抽出する。抽出液を合わ
せ、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄する。溶媒を留去
し、残渣(39.8g)をアンモニア水溶液(120m
l)に溶解し、この溶液にヒドラジン一水和物(42
g)を加える。この混合物を2時間還流する。沈澱を濾
取して、3−(3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジ
ン−6−イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]
ピリジン(14.45g)を得る。 mp : 212−214℃ IR (ヌシ゛ョール) : 1660, 1625,
1580, 1510cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 6.87(1H,d,
J=11Hz), 7.00(1H,td,J=7Hz
および 1Hz), 7.08(1H,d,J=11
Hz), 7.23−7.73(6H,m), 7.8
3(1H,d,J=8Hz), 7.77(1H,d,
J=7Hz) 元素分析 : C17H12N4O として、 計算値 : C 70.82, H 4.20, N
19.43 実測値 : C 70.75, H 4.83, N
19.24
リジン(40.00g)およびグリオキサル酸・一水和
物(20.27g)の混合物を100℃に2.5時間加
熱、攪拌する。反応混合物を酢酸エチル(220ml)
と水酸化ナトリウム水溶液(12%、220ml)との
混合物に溶解する。水層をクロロホルム(100ml)
で洗浄し、次いで10%塩酸で酸性にする。これをクロ
ロホルム(150ml)で2回抽出する。抽出液を合わ
せ、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄する。溶媒を留去
し、残渣(39.8g)をアンモニア水溶液(120m
l)に溶解し、この溶液にヒドラジン一水和物(42
g)を加える。この混合物を2時間還流する。沈澱を濾
取して、3−(3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジ
ン−6−イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]
ピリジン(14.45g)を得る。 mp : 212−214℃ IR (ヌシ゛ョール) : 1660, 1625,
1580, 1510cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 6.87(1H,d,
J=11Hz), 7.00(1H,td,J=7Hz
および 1Hz), 7.08(1H,d,J=11
Hz), 7.23−7.73(6H,m), 7.8
3(1H,d,J=8Hz), 7.77(1H,d,
J=7Hz) 元素分析 : C17H12N4O として、 計算値 : C 70.82, H 4.20, N
19.43 実測値 : C 70.75, H 4.83, N
19.24
【0011】参考例2 3−(3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン−6−
イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(0.43g)、アクリル酸メチル(1.29g)、4
0%メタノール性水酸化トリメチルベンジルアンモニウ
ム(0.4ml)およびメタノール(2ml)のクロロ
ホルム(8ml)中混合物を40分間還流し、次いで溶
媒を減圧下に留去する。残渣に塩化メチレン(30m
l)および水(30ml)を加え、有機層を分取して硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に、留去する。
結晶性残渣を酢酸エチルとジエチルエーテルとの混合物
から再結晶して、3−[2−(2−メトキシカルボニル
エチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン−
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジン(0.37g)を得る。 mp : 133−133.5℃ IR (ヌシ゛ョール) : 1730, 1660,
1585 cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.09(1H,d,
J=6Hz), 3.67(3H,s), 4.57
(2H,t,J=6Hz), 6.70(1H,d,J
=9Hz), 6.87(1H,t,J=7Hz),
7.00(1H,d,J=9Hz), 7.17−7.
73(6H,m), 8.00(1H,d,J=9H
z), 8.50(1H,d,J=7Hz) 元素分析 : C21H18N4O2 として 、 計算値 : C 67.37, H 4.85, N
14.96 実測値 : C 67.31, H 5.35, N
14.94
イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(0.43g)、アクリル酸メチル(1.29g)、4
0%メタノール性水酸化トリメチルベンジルアンモニウ
ム(0.4ml)およびメタノール(2ml)のクロロ
ホルム(8ml)中混合物を40分間還流し、次いで溶
媒を減圧下に留去する。残渣に塩化メチレン(30m
l)および水(30ml)を加え、有機層を分取して硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に、留去する。
結晶性残渣を酢酸エチルとジエチルエーテルとの混合物
から再結晶して、3−[2−(2−メトキシカルボニル
エチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン−
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジン(0.37g)を得る。 mp : 133−133.5℃ IR (ヌシ゛ョール) : 1730, 1660,
1585 cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.09(1H,d,
J=6Hz), 3.67(3H,s), 4.57
(2H,t,J=6Hz), 6.70(1H,d,J
=9Hz), 6.87(1H,t,J=7Hz),
7.00(1H,d,J=9Hz), 7.17−7.
73(6H,m), 8.00(1H,d,J=9H
z), 8.50(1H,d,J=7Hz) 元素分析 : C21H18N4O2 として 、 計算値 : C 67.37, H 4.85, N
14.96 実測値 : C 67.31, H 5.35, N
14.94
【0012】参考例3 3−[2−(2−メトキシカルボニルエチル)−3−オ
キソ−2,3−ジヒドロピリダジン−6−イル]−2−
フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.94
g)および24%水酸化ナトリウム水溶液(2ml)の
メタノール(8ml)中混合物を30分間還流し、次い
で溶媒を減圧下に留去する。残渣を水(30ml)に溶
解し、水溶液を塩酸で酸性にしてクロロホルム(25m
l)で抽出する。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下に留去する。残渣をエタノールとn−ヘキ
サンとの混合物から再結晶して、3−[2−(2−カル
ボキシエチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダ
ジン−6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジン(1.24g)を得る。 mp : 155.5−156℃ IR (ヌシ゛ョール) : 1835, 1640,
1570, 1520, 1490 cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.97(2H,d,
J=7Hz), 4.60(2H,t,J=7Hz),
6.15−7.00(1H, ブロード d),
6.75−7.70(9H,m), 8.00(1H,
d,J=9Hz),8.53(1H,d,J=7Hz) 元素分析 : C20H16N4O3 として 、 計算値 : C 66.66, H 4.47, N
15.55 実測値 : C 66.61, H 4.61, N
15.50
キソ−2,3−ジヒドロピリダジン−6−イル]−2−
フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.94
g)および24%水酸化ナトリウム水溶液(2ml)の
メタノール(8ml)中混合物を30分間還流し、次い
で溶媒を減圧下に留去する。残渣を水(30ml)に溶
解し、水溶液を塩酸で酸性にしてクロロホルム(25m
l)で抽出する。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下に留去する。残渣をエタノールとn−ヘキ
サンとの混合物から再結晶して、3−[2−(2−カル
ボキシエチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダ
ジン−6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジン(1.24g)を得る。 mp : 155.5−156℃ IR (ヌシ゛ョール) : 1835, 1640,
1570, 1520, 1490 cm−1 NMR(CDCl3,δ) : 2.97(2H,d,
J=7Hz), 4.60(2H,t,J=7Hz),
6.15−7.00(1H, ブロード d),
6.75−7.70(9H,m), 8.00(1H,
d,J=9Hz),8.53(1H,d,J=7Hz) 元素分析 : C20H16N4O3 として 、 計算値 : C 66.66, H 4.47, N
15.55 実測値 : C 66.61, H 4.61, N
15.50
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式: 【化1】 (式中、R1 は低級アルキル基、R2 は水素または
適当な置換基を意味する)で示される化合物に、一般
式: 【化2】 (式中、R3 は水素または適当な置換基、X− は陰
イオンを意味する)で示される化合物を反応させて、一
般式: 【化3】 (式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ前と同
じ意味)で示される化合物を得ることを特徴とするピラ
ゾロピリジン化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12092893A JPH069631A (ja) | 1992-04-27 | 1993-04-23 | ピラゾロピリジン化合物の新規製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-107289 | 1992-04-27 | ||
| JP10728992 | 1992-04-27 | ||
| JP12092893A JPH069631A (ja) | 1992-04-27 | 1993-04-23 | ピラゾロピリジン化合物の新規製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH069631A true JPH069631A (ja) | 1994-01-18 |
Family
ID=26447334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12092893A Pending JPH069631A (ja) | 1992-04-27 | 1993-04-23 | ピラゾロピリジン化合物の新規製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069631A (ja) |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP12092893A patent/JPH069631A/ja active Pending
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