JPH0696573A - 直接アクセスデータ記憶装置及び薄膜磁気記録ディスク用潤滑システム - Google Patents
直接アクセスデータ記憶装置及び薄膜磁気記録ディスク用潤滑システムInfo
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- JPH0696573A JPH0696573A JP4330672A JP33067292A JPH0696573A JP H0696573 A JPH0696573 A JP H0696573A JP 4330672 A JP4330672 A JP 4330672A JP 33067292 A JP33067292 A JP 33067292A JP H0696573 A JPH0696573 A JP H0696573A
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- disk
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- magnetic recording
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
- G11B23/507—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers combined with means for reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/14—Reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture, dust
- G11B33/148—Reducing friction, adhesion, drag
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 結合潤滑剤層を有する磁気記録ディスクの潤
滑剤が不足した領域にラングミュアの吸着運動力学にも
とづきガス状の潤滑剤を供給し吸着させる。 【構成】 潤滑剤ガスはそのディスクの潤滑剤が不足す
る領域に選択的に吸着され、潤滑剤相の不完全性により
生じる障害を最少にする。化学的に活性の官能基を含む
反応性過フルオロポリエーテル(PEPE)が例えば加
熱によりディスクの記録面に実質的に結合する。この層
の可動残留物をディスク上に残してその層の表面をカバ
ーする非結合の可動潤滑剤層として機能させる。この気
相潤滑系内の潤滑剤貯留器3がステアリン酸または反応
性または非反応性のPEPEのような揮発性有機潤滑剤
の供給源となる。この貯留器3からの潤滑ガスはディス
クの単一結合潤滑剤相または結合および可動潤滑剤の二
重層内の気泡あるいは薄くなった領域を連続的に補修す
るように作用する。
滑剤が不足した領域にラングミュアの吸着運動力学にも
とづきガス状の潤滑剤を供給し吸着させる。 【構成】 潤滑剤ガスはそのディスクの潤滑剤が不足す
る領域に選択的に吸着され、潤滑剤相の不完全性により
生じる障害を最少にする。化学的に活性の官能基を含む
反応性過フルオロポリエーテル(PEPE)が例えば加
熱によりディスクの記録面に実質的に結合する。この層
の可動残留物をディスク上に残してその層の表面をカバ
ーする非結合の可動潤滑剤層として機能させる。この気
相潤滑系内の潤滑剤貯留器3がステアリン酸または反応
性または非反応性のPEPEのような揮発性有機潤滑剤
の供給源となる。この貯留器3からの潤滑ガスはディス
クの単一結合潤滑剤相または結合および可動潤滑剤の二
重層内の気泡あるいは薄くなった領域を連続的に補修す
るように作用する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気データ記録に関し、
詳細にはハードまたはリジッド型の薄膜磁気記録ディス
クのような磁気記録媒体用の潤滑システムに関する。
詳細にはハードまたはリジッド型の薄膜磁気記録ディス
クのような磁気記録媒体用の潤滑システムに関する。
【0002】
【従来の技術】米国特許第4789913号明細書の内
容は本発明の従来技術である。この明細書は本発明にお
いて有用な潤滑剤の貯蔵方式を示している。この貯蔵方
式はラングミュアの吸着運動力学により磁気記録ディス
クに連続的に潤滑剤蒸気を供給するように動作する。適
当な揮発性の潤滑剤がそこに示されている。
容は本発明の従来技術である。この明細書は本発明にお
いて有用な潤滑剤の貯蔵方式を示している。この貯蔵方
式はラングミュアの吸着運動力学により磁気記録ディス
クに連続的に潤滑剤蒸気を供給するように動作する。適
当な揮発性の潤滑剤がそこに示されている。
【0003】米国特許出願第07/535,269号明
細書も本発明に対する従来技術を示す。この明細書には
有機潤滑剤の層が磁気ディスクメモリ装置の容器からの
潤滑剤蒸気の制御された排出を行うための蒸気ドレン手
段を含む、制御された蒸気圧装置により、そのディスク
記録表面に維持されるようになった、本発明において有
用な磁気ディスクメモリ装置が示されている。
細書も本発明に対する従来技術を示す。この明細書には
有機潤滑剤の層が磁気ディスクメモリ装置の容器からの
潤滑剤蒸気の制御された排出を行うための蒸気ドレン手
段を含む、制御された蒸気圧装置により、そのディスク
記録表面に維持されるようになった、本発明において有
用な磁気ディスクメモリ装置が示されている。
【0004】リジッド型の磁気データディスクメモリ装
置の重要な特徴は読取/書込変換ヘッドのスライダがす
り減ってディスク表面にある磁気層までに至った結果、
としてのメモリ装置の故障に対して弱いということであ
る。磁気データ記憶は例えば約25nmの範囲の厚みをも
つ薄膜磁気コーティングを用いそして例えば約5マイク
ロインチの範囲の低いヘッドフライ高さ(head flying
height)を用いることにより改善されている。これら二
つの因子については記憶装置としての有効な寿命を達成
するためにディスクの摩擦性が優れたものである必要が
ある。一般に、潤滑剤分子の薄膜がディスクの摩擦系に
必要である。この潤滑膜はヘッドスライダが例えばスタ
ート/ストップ動作においてディスクに置かれるときあ
るいはヘッドスライダがディスクに対して浮き上がって
いる(flying)間にディスクに間欠的に当る時に低い摩
擦係数を与える。
置の重要な特徴は読取/書込変換ヘッドのスライダがす
り減ってディスク表面にある磁気層までに至った結果、
としてのメモリ装置の故障に対して弱いということであ
る。磁気データ記憶は例えば約25nmの範囲の厚みをも
つ薄膜磁気コーティングを用いそして例えば約5マイク
ロインチの範囲の低いヘッドフライ高さ(head flying
height)を用いることにより改善されている。これら二
つの因子については記憶装置としての有効な寿命を達成
するためにディスクの摩擦性が優れたものである必要が
ある。一般に、潤滑剤分子の薄膜がディスクの摩擦系に
必要である。この潤滑膜はヘッドスライダが例えばスタ
ート/ストップ動作においてディスクに置かれるときあ
るいはヘッドスライダがディスクに対して浮き上がって
いる(flying)間にディスクに間欠的に当る時に低い摩
擦係数を与える。
【0005】その結果、磁気記録ディスクの記録面に潤
滑剤を用いることは周知である。一般にそれら潤滑剤は
例えば1単分子層または数単分子層程度の厚さをもつ薄
い層として供給される。
滑剤を用いることは周知である。一般にそれら潤滑剤は
例えば1単分子層または数単分子層程度の厚さをもつ薄
い層として供給される。
【0006】リジッド型薄膜メモリディスクの分野では
潤滑剤は摩擦を減らし、ディスクのスタート/ストップ
(S/S)領域でのヘッドのスティクションを防止し、
そしてディスクとその読取/書込変換ヘッドとに対する
磁片のないフライ界面(debris-free flying interfac
e)を与えるためにこれまで用いられている。
潤滑剤は摩擦を減らし、ディスクのスタート/ストップ
(S/S)領域でのヘッドのスティクションを防止し、
そしてディスクとその読取/書込変換ヘッドとに対する
磁片のないフライ界面(debris-free flying interfac
e)を与えるためにこれまで用いられている。
【0007】フルオロカーボン潤滑剤は回転リジッドデ
ィスク直接アクセスメモリ装置(DASD)に一般に用
いられている。それら潤滑剤は化学的な不活性、低い表
面張力、低い揮発性という望ましい特性を有し、そして
更に除湿性があり腐食を阻止するという利点を有する。
しかしながら、それら潤滑剤はディスクの回転力により
ディスクの外縁に求心力で侵入する傾向をもつ。この潤
滑剤の侵入はヘッド/ディスク界面の干渉を大きくしう
るものであり、その界面に障を発生させることになりう
る。
ィスク直接アクセスメモリ装置(DASD)に一般に用
いられている。それら潤滑剤は化学的な不活性、低い表
面張力、低い揮発性という望ましい特性を有し、そして
更に除湿性があり腐食を阻止するという利点を有する。
しかしながら、それら潤滑剤はディスクの回転力により
ディスクの外縁に求心力で侵入する傾向をもつ。この潤
滑剤の侵入はヘッド/ディスク界面の干渉を大きくしう
るものであり、その界面に障を発生させることになりう
る。
【0008】上記した発明は貯蔵装置が揮発性の有機潤
滑剤を含むようなディスク潤滑方式を示している。この
揮発性の潤滑剤は潤滑剤蒸気すなわちガスを連続的に磁
気記録ディスクの記録表面に供給するように作用する。
滑剤を含むようなディスク潤滑方式を示している。この
揮発性の潤滑剤は潤滑剤蒸気すなわちガスを連続的に磁
気記録ディスクの記録表面に供給するように作用する。
【0009】ディスクの潤滑を行う他の方法はディスク
表面に1層の潤滑剤分子すなわち単分子層を化学的に接
合するものである。この場合、この潤滑剤は下側ディス
面への強固な物理的吸着または弱い潤滑剤の疑似分子接
合のために不動である。その結果、この潤滑剤は長時間
使用しても記録面から充分に蒸発せずあるいはディスク
の高速回転の関数としてディス面から徐々に出て行くこ
とがない。そのような接合された潤滑剤の例は種々の炭
化水素官能基を有する過フルオロポリエーテル(perflu
oropolyether(PEPE))を含む。これら過フルオロ
ポリエーテル潤滑剤の官能基はディスク記録面への潤滑
剤分子の結合において活性である。スパッタリングによ
り与えられるカーボンオーバーコート層は一般に薄膜磁
気層に活性オーバーコート表面を与え、そこに潤滑剤が
結合する。他のスパッタリングのオーバーコート層も使
用される。この構成では潤滑剤がこのオーバーコートに
局部的に与えられた後に、潤滑剤が熱、E−ビームによ
りまたは、磁気記録層またはオーバーコート層に潤滑剤
分子を結合させるように作用する他の照射源によりそこ
に結合される。
表面に1層の潤滑剤分子すなわち単分子層を化学的に接
合するものである。この場合、この潤滑剤は下側ディス
面への強固な物理的吸着または弱い潤滑剤の疑似分子接
合のために不動である。その結果、この潤滑剤は長時間
使用しても記録面から充分に蒸発せずあるいはディスク
の高速回転の関数としてディス面から徐々に出て行くこ
とがない。そのような接合された潤滑剤の例は種々の炭
化水素官能基を有する過フルオロポリエーテル(perflu
oropolyether(PEPE))を含む。これら過フルオロ
ポリエーテル潤滑剤の官能基はディスク記録面への潤滑
剤分子の結合において活性である。スパッタリングによ
り与えられるカーボンオーバーコート層は一般に薄膜磁
気層に活性オーバーコート表面を与え、そこに潤滑剤が
結合する。他のスパッタリングのオーバーコート層も使
用される。この構成では潤滑剤がこのオーバーコートに
局部的に与えられた後に、潤滑剤が熱、E−ビームによ
りまたは、磁気記録層またはオーバーコート層に潤滑剤
分子を結合させるように作用する他の照射源によりそこ
に結合される。
【0010】この形式の結合された潤滑剤方式では、結
合された潤滑剤層は一般にディスクのオーバーコートま
たは薄膜磁気記録層の均一なカバレッジを与えないこと
がわかった。気泡あるいは薄い領域が結合した潤滑剤の
層に生じる傾向がある。結合された潤滑剤層におけるこ
の完全性の欠如は結合プロセスまたは製造プロセスにお
いて生じる自然の欠陥の結果として生じうるし、あるい
はデータ処理中のディス表面の疲労からも生じうる。
合された潤滑剤層は一般にディスクのオーバーコートま
たは薄膜磁気記録層の均一なカバレッジを与えないこと
がわかった。気泡あるいは薄い領域が結合した潤滑剤の
層に生じる傾向がある。結合された潤滑剤層におけるこ
の完全性の欠如は結合プロセスまたは製造プロセスにお
いて生じる自然の欠陥の結果として生じうるし、あるい
はデータ処理中のディス表面の疲労からも生じうる。
【0011】磁気記録媒体の磁気記録層上の二重または
2層潤滑コーティングは知られている。
2層潤滑コーティングは知られている。
【0012】そのような二重潤滑方式は上記の結合潤滑
剤層の形成後に形成することが出来、その場合にはディ
スク表面に残留する結合していない潤滑剤をそのままと
するか、その後に第2の可動潤滑剤層として機能させる
かするのが普通であり、あるいはこの残留潤滑剤を結合
ステップ後に洗い流しそして第2の非結合潤滑剤層を局
部的につくり、それにより二重潤滑剤コーティングをデ
ィスク上に形成する。しかしながらそのような二重潤滑
剤方式であっても不均一な(すなわち、気泡そしてまた
は薄い領域)潤滑剤カバレッジを生じさせがちである。
剤層の形成後に形成することが出来、その場合にはディ
スク表面に残留する結合していない潤滑剤をそのままと
するか、その後に第2の可動潤滑剤層として機能させる
かするのが普通であり、あるいはこの残留潤滑剤を結合
ステップ後に洗い流しそして第2の非結合潤滑剤層を局
部的につくり、それにより二重潤滑剤コーティングをデ
ィスク上に形成する。しかしながらそのような二重潤滑
剤方式であっても不均一な(すなわち、気泡そしてまた
は薄い領域)潤滑剤カバレッジを生じさせがちである。
【0013】文献“IEEE Transactions on magnet
ics ”, vol. 1,MAG−23,No. 1,January 1
987の33−35ページには二重フルオロカーボンフ
ィルムの使用が記載されており、その一方のフィルムを
媒体表面に化学的に永久的に結合させ、他方のフィルム
をそのディスク表面にオーバーコートされる潤滑剤とし
ている。この潤滑剤は液体潤滑剤の特性をもつものと言
うことが出来る。
ics ”, vol. 1,MAG−23,No. 1,January 1
987の33−35ページには二重フルオロカーボンフ
ィルムの使用が記載されており、その一方のフィルムを
媒体表面に化学的に永久的に結合させ、他方のフィルム
をそのディスク表面にオーバーコートされる潤滑剤とし
ている。この潤滑剤は液体潤滑剤の特性をもつものと言
うことが出来る。
【0014】英国特許出願GB2155810A明細書
には非磁性基体と、この基体の一方の側に形成される磁
気記録強磁性フィルムと、この記録層の表面に形成され
るトップコート層と、を含む磁気記録媒体が示されてお
り、このトップコート層は輻射線で枯らすことの出来る
酸化防止剤と潤滑剤を含む。
には非磁性基体と、この基体の一方の側に形成される磁
気記録強磁性フィルムと、この記録層の表面に形成され
るトップコート層と、を含む磁気記録媒体が示されてお
り、このトップコート層は輻射線で枯らすことの出来る
酸化防止剤と潤滑剤を含む。
【0015】米国特許第4642246号明細書には磁
気ディスクの潤滑プロセスが示されており、これはディ
スクと少くとも一つの官能末端基を有する共有結合が可
能とされた(functionalized)潤滑剤と接触させ、それ
を加熱して官能末端基をディスク表面に結合させ、そし
て次にディスクを共有結合不能とされた潤滑剤と接触さ
せることを含む。
気ディスクの潤滑プロセスが示されており、これはディ
スクと少くとも一つの官能末端基を有する共有結合が可
能とされた(functionalized)潤滑剤と接触させ、それ
を加熱して官能末端基をディスク表面に結合させ、そし
て次にディスクを共有結合不能とされた潤滑剤と接触さ
せることを含む。
【0016】米国特許第4713287号明細書には薄
い磁性膜を有する支持体と、この磁気フィルム上に設け
たフッ化ポリマの薄層と、このポリマー層上に設けた潤
滑剤を含む磁気記録媒体が示されている。
い磁性膜を有する支持体と、この磁気フィルム上に設け
たフッ化ポリマの薄層と、このポリマー層上に設けた潤
滑剤を含む磁気記録媒体が示されている。
【0017】前述のごとく、上記従来の技術はラングミ
ュア吸着動力学により磁気記録ディスクに連続的に潤滑
剤蒸気を供給するように動作する潤滑剤貯蔵システムを
示している。
ュア吸着動力学により磁気記録ディスクに連続的に潤滑
剤蒸気を供給するように動作する潤滑剤貯蔵システムを
示している。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のディスク潤
滑システムは一般に満足すべきものであるが、薄膜磁気
記録ディスクのデータ処理要件が増加すればディスクの
潤滑も改善されるべきである。
滑システムは一般に満足すべきものであるが、薄膜磁気
記録ディスクのデータ処理要件が増加すればディスクの
潤滑も改善されるべきである。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明はハードまたはリ
ジッド型の薄膜磁気記録ディスクのような磁気記録媒体
用の潤滑システムを提供する。詳細に述べると、本発明
は磁気ディスクの結合潤滑剤層に揮発性の潤滑剤を供給
するように作用する潤滑剤貯蔵手段を含み、気相で供給
される潤滑剤が結合潤滑剤が消失したあるいは欠乏した
ディスクの領域を潤滑するように作用するごとくした潤
滑系を有するDASD装置を提供する。
ジッド型の薄膜磁気記録ディスクのような磁気記録媒体
用の潤滑システムを提供する。詳細に述べると、本発明
は磁気ディスクの結合潤滑剤層に揮発性の潤滑剤を供給
するように作用する潤滑剤貯蔵手段を含み、気相で供給
される潤滑剤が結合潤滑剤が消失したあるいは欠乏した
ディスクの領域を潤滑するように作用するごとくした潤
滑系を有するDASD装置を提供する。
【0020】
【作用】本発明は結合潤滑剤層を有する磁気記録ディス
クの潤滑剤が欠乏した領域に揮発性の炭化水素またはフ
ルオロカーボンのような潤滑剤を付加するラングミュア
の吸着運動力学にもとづく貯蔵手段を提供する。
クの潤滑剤が欠乏した領域に揮発性の炭化水素またはフ
ルオロカーボンのような潤滑剤を付加するラングミュア
の吸着運動力学にもとづく貯蔵手段を提供する。
【0021】不動とされ結合された潤滑剤層を磁気記録
ディスク上に使用した場合、当業者はディスクに潤滑剤
蒸気を動的に且つ連続的に加えるための貯蔵系を用いて
もディスクの寿命中それを潤滑するやり方に対しては付
加的な利点は生じないと考えるかも知れない。当業者は
一般に、結合潤滑剤層は不動とされているが、潤滑剤の
蒸気あるいはスピンオフは生じないと考えるかも知れな
い。
ディスク上に使用した場合、当業者はディスクに潤滑剤
蒸気を動的に且つ連続的に加えるための貯蔵系を用いて
もディスクの寿命中それを潤滑するやり方に対しては付
加的な利点は生じないと考えるかも知れない。当業者は
一般に、結合潤滑剤層は不動とされているが、潤滑剤の
蒸気あるいはスピンオフは生じないと考えるかも知れな
い。
【0022】しかしながら、本発明者等は結合潤滑剤層
による不均一表面カバレッジははじめに生じることもあ
り、あるいはDASD装置の寿命中後の時点で生じるこ
ともあることを見い出した。不均一表面カバレッジの例
はディスクの結合潤滑剤層内の気泡あるいは薄い領域で
ある。当業者は結合潤滑剤ディスクはディスクの寿命中
潤滑されると考えるかも知れないが、本発明の貯留シス
テムは結合潤滑剤層内の気泡や薄い領域の連続的な補修
を行うように作用するものである。これはそれら領域に
ラングミュアの吸着運動力学にもとづき潤滑剤蒸気を連
続的に供給することで行われる。
による不均一表面カバレッジははじめに生じることもあ
り、あるいはDASD装置の寿命中後の時点で生じるこ
ともあることを見い出した。不均一表面カバレッジの例
はディスクの結合潤滑剤層内の気泡あるいは薄い領域で
ある。当業者は結合潤滑剤ディスクはディスクの寿命中
潤滑されると考えるかも知れないが、本発明の貯留シス
テムは結合潤滑剤層内の気泡や薄い領域の連続的な補修
を行うように作用するものである。これはそれら領域に
ラングミュアの吸着運動力学にもとづき潤滑剤蒸気を連
続的に供給することで行われる。
【0023】本発明の目的は潤滑剤蒸気が記録面に結合
した潤滑剤分子を有する磁気ディスクに連続的に供給さ
れるようになった前記従来技術に示すような潤滑剤貯留
システムを提供することにある。このように、結合潤滑
剤による不均一表面カバレッジ、すなわちディスクの結
合潤滑剤層内の気泡や薄い領域、はラングミュアの吸着
運動力学にもとづきそれら領域に潤滑剤蒸気を供給るこ
とにより連続的に補修される。
した潤滑剤分子を有する磁気ディスクに連続的に供給さ
れるようになった前記従来技術に示すような潤滑剤貯留
システムを提供することにある。このように、結合潤滑
剤による不均一表面カバレッジ、すなわちディスクの結
合潤滑剤層内の気泡や薄い領域、はラングミュアの吸着
運動力学にもとづきそれら領域に潤滑剤蒸気を供給るこ
とにより連続的に補修される。
【0024】本発明にもとづき構成されるDASDファ
イルの寿命は結合潤滑剤層内のはじめにそして後に生じ
る気泡や動作不能な薄い領域がDASDファイルの寿命
中補修されそして連続的に維持されるから著しく増大す
る。
イルの寿命は結合潤滑剤層内のはじめにそして後に生じ
る気泡や動作不能な薄い領域がDASDファイルの寿命
中補修されそして連続的に維持されるから著しく増大す
る。
【0025】前述したように結合および非結合潤滑剤層
を有する二重層を含む結合潤滑剤層はディスクの変換ヘ
ッドのスライダに連続的な潤滑界面を充分な信頼性をも
って与えることはない。薄い領域あるいは気泡は一般に
ディスクの製造時に結合潤滑剤層に生じそして使用期間
中発達する傾向がある。これら薄膜または気泡領域は本
発明の蒸気貯留手段により与えられる気相からの潤滑剤
蒸気の吸着を生じさせるに充分な表面エネルギーを有す
ることを本発明者等は見い出した。
を有する二重層を含む結合潤滑剤層はディスクの変換ヘ
ッドのスライダに連続的な潤滑界面を充分な信頼性をも
って与えることはない。薄い領域あるいは気泡は一般に
ディスクの製造時に結合潤滑剤層に生じそして使用期間
中発達する傾向がある。これら薄膜または気泡領域は本
発明の蒸気貯留手段により与えられる気相からの潤滑剤
蒸気の吸着を生じさせるに充分な表面エネルギーを有す
ることを本発明者等は見い出した。
【0026】本発明は結合潤滑剤層の欠陥がありあるい
は不適当な程薄い、薄膜磁気記録ディスクの領域に付着
する潤滑剤吸着質を与えるために前記従来技術に示され
る形式の貯留システムを利用する。結合層および蒸気貯
留手段で使用される潤滑剤は同じでよく、あるいは異な
ったものでもよい。二重潤滑層系の一部として可動潤滑
剤層を用いる場合にはその可動層は非常に広範囲の揮発
性を示しそして第三の形式の潤滑剤にさえなりうる。
は不適当な程薄い、薄膜磁気記録ディスクの領域に付着
する潤滑剤吸着質を与えるために前記従来技術に示され
る形式の貯留システムを利用する。結合層および蒸気貯
留手段で使用される潤滑剤は同じでよく、あるいは異な
ったものでもよい。二重潤滑層系の一部として可動潤滑
剤層を用いる場合にはその可動層は非常に広範囲の揮発
性を示しそして第三の形式の潤滑剤にさえなりうる。
【0027】本発明においては潤滑剤貯留手段はディス
クの製造中に結合潤滑剤層に局部的に加えられたと同じ
形式の揮発性潤滑剤を含むことが出来る。
クの製造中に結合潤滑剤層に局部的に加えられたと同じ
形式の揮発性潤滑剤を含むことが出来る。
【0028】本発明の目的は、気相潤滑剤系と結合潤滑
剤相を有する薄膜磁気記録ディスクの組合せであり、こ
のディスクは気相潤滑系をその一部として含むDASD
装置のハウジング内に配置され、この気相潤滑剤系はラ
ングミュアの吸着運動力学にもとづきディスクの結合潤
滑剤相に連続的に潤滑剤ガスを供給し、ディスクの表面
の潤滑剤相の薄すぎる部分または全くない部分あるいは
究極的に欠乏する部分を含むところに潤滑剤ガスが選択
的に吸着されるように作用する、ものの提供にある。蒸
気貯留手段からの潤滑剤ガスはディスクの結合潤滑剤層
の気泡または薄い領域を連続的に補修するように作用
し、それにより結合潤滑剤層内のそのような不完全性に
より生じるような障害を最少にする。反応性過フルオロ
ポリエーテル(PEPE)潤滑剤がこの結合潤滑材料と
して適している。
剤相を有する薄膜磁気記録ディスクの組合せであり、こ
のディスクは気相潤滑系をその一部として含むDASD
装置のハウジング内に配置され、この気相潤滑剤系はラ
ングミュアの吸着運動力学にもとづきディスクの結合潤
滑剤相に連続的に潤滑剤ガスを供給し、ディスクの表面
の潤滑剤相の薄すぎる部分または全くない部分あるいは
究極的に欠乏する部分を含むところに潤滑剤ガスが選択
的に吸着されるように作用する、ものの提供にある。蒸
気貯留手段からの潤滑剤ガスはディスクの結合潤滑剤層
の気泡または薄い領域を連続的に補修するように作用
し、それにより結合潤滑剤層内のそのような不完全性に
より生じるような障害を最少にする。反応性過フルオロ
ポリエーテル(PEPE)潤滑剤がこの結合潤滑材料と
して適している。
【0029】
【実施例】本発明はハードまたはリジット形式の薄膜磁
気記録ディスクのような磁気記録媒体用の改善された潤
滑システムであって、ディスクの潤滑は従来のディスク
潤滑系で可能なところを改善するものである。
気記録ディスクのような磁気記録媒体用の改善された潤
滑システムであって、ディスクの潤滑は従来のディスク
潤滑系で可能なところを改善するものである。
【0030】詳細に述べると、本発明によれば、比較的
薄い(すなわち約2−25A)潤滑剤層が薄膜記録ディ
スクの磁気記録面に結合される。この形式のディスクは
次に前記従来技術に示されるような貯留系を固定したD
ASD駆動装置内に置かれる。その結果、揮発性の潤滑
剤の吸着層がディスクの結合潤滑剤層が不完全なすなわ
ち気泡が生じあるいはその層が約15平方オングストロ
ームの面積より大きい面で比較的薄いものから全くない
ようなすべての領域に付着する。
薄い(すなわち約2−25A)潤滑剤層が薄膜記録ディ
スクの磁気記録面に結合される。この形式のディスクは
次に前記従来技術に示されるような貯留系を固定したD
ASD駆動装置内に置かれる。その結果、揮発性の潤滑
剤の吸着層がディスクの結合潤滑剤層が不完全なすなわ
ち気泡が生じあるいはその層が約15平方オングストロ
ームの面積より大きい面で比較的薄いものから全くない
ようなすべての領域に付着する。
【0031】この吸着される潤滑剤層の厚さは前記従来
技術に示されるように約1Aから約20Aまでの範囲内
で制御しうる。
技術に示されるように約1Aから約20Aまでの範囲内
で制御しうる。
【0032】必要であれば第2の可動非結合潤滑剤層を
DASDファイル内にディスクを置く前にディスクの結
合潤滑剤層に局部的に与えてもよい。
DASDファイル内にディスクを置く前にディスクの結
合潤滑剤層に局部的に与えてもよい。
【0033】図1は結合潤滑剤ディスク5と本発明によ
るガス移動系3,7,8を有するDASD装置の概略図
であり、このガス移動系は前記米国特許第478991
3号明細書に示される形式のものである。
るガス移動系3,7,8を有するDASD装置の概略図
であり、このガス移動系は前記米国特許第478991
3号明細書に示される形式のものである。
【0034】図1の平衡潤滑剤ガス移動系はディスク5
の結合潤滑剤表面4およびその表面の気泡に潤滑剤ガス
分子の補給可能で更新可能な単分子層を高い信頼性をも
って与える。
の結合潤滑剤表面4およびその表面の気泡に潤滑剤ガス
分子の補給可能で更新可能な単分子層を高い信頼性をも
って与える。
【0035】本発明によれば、飽和潤滑剤ガスが矢印7
で示す空気流に乗って貯留器3の出口から出る。この空
気流7は僅かに加熱されて約80%の飽和の状態にな
り、それによりディスク5がこの調整された空気流7に
露呈され、これがディスク5の結合潤滑剤面4への潤滑
剤ガス分子の吸着を可能にする。このガス分子は結合潤
滑剤面4から矢印8で示す空気流に乗って貯留器3にも
もどる。空気流7と8は例えばディスク5を回転するこ
とで発生される。
で示す空気流に乗って貯留器3の出口から出る。この空
気流7は僅かに加熱されて約80%の飽和の状態にな
り、それによりディスク5がこの調整された空気流7に
露呈され、これがディスク5の結合潤滑剤面4への潤滑
剤ガス分子の吸着を可能にする。このガス分子は結合潤
滑剤面4から矢印8で示す空気流に乗って貯留器3にも
もどる。空気流7と8は例えばディスク5を回転するこ
とで発生される。
【0036】結合潤滑剤面4上のガス潤滑剤フィルムの
正しい厚さの維持は温度差“ΔT”による。すなわちこ
の厚さは面4よりも貯留器3の温度が低いとき維持され
る。
正しい厚さの維持は温度差“ΔT”による。すなわちこ
の厚さは面4よりも貯留器3の温度が低いとき維持され
る。
【0037】図2は結合潤滑剤ディスク5と本発明によ
るガス移動系3,6,7,8,9,11を有するDAS
D装置を示しており、このガス移動系は前記米国特許第
4789913号および前記米国特許出願第07/53
5269号明細書に示される形式のものである。
るガス移動系3,6,7,8,9,11を有するDAS
D装置を示しており、このガス移動系は前記米国特許第
4789913号および前記米国特許出願第07/53
5269号明細書に示される形式のものである。
【0038】図2の潤滑剤ガス移動系の安定状態におい
て、潤滑剤ガス分子の単分子層がガス流7,8,9,1
1によりディスク5の結合潤滑剤面4に再び供給され
る。しかしながらこの実施例ではガスドレン装置6が設
けられてDASD装置のハウジング10内でディスク5
に関連する他の装置または材料(図示せず)から出る有
機汚染ガスのようなDASDハウジング10内からの潤
滑剤ガスと一緒になる汚染ガスを除去する。ガスドレン
装置6はガス流8の約20%であるガス流9からの有機
物蒸気をトラップするように作用する化学フィルタとし
て機能する。ガス流9は有機物ガス圧がほゞ0となった
状態でガスドレン装置6から出る。ガス流11はガス流
8の主たる部分であって、これが貯留器3に入りそして
潤滑剤ガスで飽和した空気流と共にそれを出る。貯留器
3とガスドレン装置6からの複合ガスは潤滑剤ガスで飽
和したものより低いから、図2のガス移動系では貯留器
3を結合潤滑剤層4に対し、低い温度に維持する必要は
ない。
て、潤滑剤ガス分子の単分子層がガス流7,8,9,1
1によりディスク5の結合潤滑剤面4に再び供給され
る。しかしながらこの実施例ではガスドレン装置6が設
けられてDASD装置のハウジング10内でディスク5
に関連する他の装置または材料(図示せず)から出る有
機汚染ガスのようなDASDハウジング10内からの潤
滑剤ガスと一緒になる汚染ガスを除去する。ガスドレン
装置6はガス流8の約20%であるガス流9からの有機
物蒸気をトラップするように作用する化学フィルタとし
て機能する。ガス流9は有機物ガス圧がほゞ0となった
状態でガスドレン装置6から出る。ガス流11はガス流
8の主たる部分であって、これが貯留器3に入りそして
潤滑剤ガスで飽和した空気流と共にそれを出る。貯留器
3とガスドレン装置6からの複合ガスは潤滑剤ガスで飽
和したものより低いから、図2のガス移動系では貯留器
3を結合潤滑剤層4に対し、低い温度に維持する必要は
ない。
【0039】本発明の一つの特徴として、図1,2の貯
留器3で使用される炭化水素潤滑剤または揮発性PEP
E潤滑剤は炭化水素アルコール、炭化水素エステル、ス
テアリン酸、パルミチン酸および他のカルボキシル酸か
ら選ばれる。
留器3で使用される炭化水素潤滑剤または揮発性PEP
E潤滑剤は炭化水素アルコール、炭化水素エステル、ス
テアリン酸、パルミチン酸および他のカルボキシル酸か
ら選ばれる。
【0040】図1,2において、破線10は実質的に閉
じたハウジングを示し、この中にディスク5に対しデー
タ変換インターフェースを形成する磁気読取/書込ヘッ
ド、トラック検索ヘッド、アクセス機構等のような種々
のDASD要素が従来のように含まれる。例えばハウジ
ング10は米国特許出願第07/432940号明細書
に示されるようなものでよい。
じたハウジングを示し、この中にディスク5に対しデー
タ変換インターフェースを形成する磁気読取/書込ヘッ
ド、トラック検索ヘッド、アクセス機構等のような種々
のDASD要素が従来のように含まれる。例えばハウジ
ング10は米国特許出願第07/432940号明細書
に示されるようなものでよい。
【0041】図3は図1,2のDASD装置で用いられ
るリジッド、薄膜磁気記録ディスク5の好適な形の部分
断面図である。
るリジッド、薄膜磁気記録ディスク5の好適な形の部分
断面図である。
【0042】本発明については重要でないがディスク5
はアルミニウムディスクのような平坦でディスク形をし
た非磁性基体部材20を含む。周知のように、基体部材
20の上に均一な組成の金属層21を形成するとよい。
層21は厚さ7−16ミクロンのメッキされたニッケル
燐(NiP)層であるとよい。NiP層21の露出面は
精密研磨されそしてこの研磨面に組織を与えその上に厚
さ150−300Aの薄膜磁性層22を適当な結晶配向
をもってスパッタリングで付着させる。
はアルミニウムディスクのような平坦でディスク形をし
た非磁性基体部材20を含む。周知のように、基体部材
20の上に均一な組成の金属層21を形成するとよい。
層21は厚さ7−16ミクロンのメッキされたニッケル
燐(NiP)層であるとよい。NiP層21の露出面は
精密研磨されそしてこの研磨面に組織を与えその上に厚
さ150−300Aの薄膜磁性層22を適当な結晶配向
をもってスパッタリングで付着させる。
【0043】本発明の好適な形態ではディスク5は薄膜
磁気記録ディスクである。そのようなディスクを製造す
るために、薄い、コバルトを主成分とした(例えばCo
/Pt/Cr,Co/PtまたはCo/Cr)磁性層2
2がNiP層21の露出され組織とされた表面にスパッ
タリングにより設けられる。層21の形成方法は本発明
の範囲外であり、当業者には種々の方法が明らかであ
る。
磁気記録ディスクである。そのようなディスクを製造す
るために、薄い、コバルトを主成分とした(例えばCo
/Pt/Cr,Co/PtまたはCo/Cr)磁性層2
2がNiP層21の露出され組織とされた表面にスパッ
タリングにより設けられる。層21の形成方法は本発明
の範囲外であり、当業者には種々の方法が明らかであ
る。
【0044】本発明の一つの特徴は磁気記録層22の上
面に厚さ75−300Aのスパッタ蒸着されたカーボン
を含むオーバーコート層23である。
面に厚さ75−300Aのスパッタ蒸着されたカーボン
を含むオーバーコート層23である。
【0045】一実施例においてはこのオーバーコート層
はオプションとして添加ガスを含むほゞ完全なアルゴン
プラズマを用いてスパッタリングでつくられる高純度の
カーボンを含む。
はオプションとして添加ガスを含むほゞ完全なアルゴン
プラズマを用いてスパッタリングでつくられる高純度の
カーボンを含む。
【0046】この組成のオーバーコート層はPEPE結
合潤滑剤層24に対し、必要な付着サイトを与えるもの
であることが判った。
合潤滑剤層24に対し、必要な付着サイトを与えるもの
であることが判った。
【0047】図3の実施例は厚さ約2−25Aの反応性
過フルオロポリエーテル(PEPE)の結合潤滑剤層2
4と厚さ約1−25Aの可動または非結合潤滑剤層25
を含む二重潤滑層を有する薄膜磁気記録ディスクのそれ
である。
過フルオロポリエーテル(PEPE)の結合潤滑剤層2
4と厚さ約1−25Aの可動または非結合潤滑剤層25
を含む二重潤滑層を有する薄膜磁気記録ディスクのそれ
である。
【0048】結合層24に用いるべく本発明により選ば
れた潤滑材料は反応性材料であって、その分子が高い温
度のような活性化物理現象により下地の層に結合する。
結合を生じさせるために、磁気記録層22またはオーバ
ーコート層23の内の下地層となるものが結合層24の
分子の付着について親和性を有するサイトを与えなくて
はならない。
れた潤滑材料は反応性材料であって、その分子が高い温
度のような活性化物理現象により下地の層に結合する。
結合を生じさせるために、磁気記録層22またはオーバ
ーコート層23の内の下地層となるものが結合層24の
分子の付着について親和性を有するサイトを与えなくて
はならない。
【0049】結合層24に用いるに適した潤滑剤はイタ
リア国ミラノのモンテフルオス社製の約2000原子質
量単位(amu)の分子量を有するリニアPEPEフォ
ームブリンZ−Dol(linear PEPE Fomblin Z-Dol )
および水素化メチレン水酸化物のモノまたはジ官能末端
基(hydrogenated methylene hydrocide mono or bi-fe
nctional end groups)である。
リア国ミラノのモンテフルオス社製の約2000原子質
量単位(amu)の分子量を有するリニアPEPEフォ
ームブリンZ−Dol(linear PEPE Fomblin Z-Dol )
および水素化メチレン水酸化物のモノまたはジ官能末端
基(hydrogenated methylene hydrocide mono or bi-fe
nctional end groups)である。
【0050】結合潤滑剤層24をつくる一つの方法では
20,21,22,23から成るディスクを或る量のZ
−Dol(1リットルの1,1,2−トリクロロトリフ
ルオロエタンについてZ−Dolを8グラムとしたも
の)に浸け、そしてゆっくり(2mm/秒)引き上げるよ
うにして厚さ約70−80Aの液体Z−Dolをディス
クにつけるようにする。このディスクをオーブンで約1
50℃で約1時間焼く。それにより厚さ12−24Aの
結合潤滑層12が得られる。このベークの終りにディス
クに非結合Z−Dolの厚さ約9Aで分子量約5000
amuの可動層25が残留する。この分子量の大きいZ
−Dol層は図3の可動潤滑層25として機能させるた
めにディスク上に残してもよく、あるいは1,1,2−
トリクロロトリフルオロエタンで洗浄してほゞ完全に除
去してもよい。このディスクにはそれをDASD装置に
配置した後貯留器3からの潤滑剤ガスにより保護吸着膜
25が与えられる。あるいはこのZ−Dolの残留可動
層を洗浄により除去した後に、可動潤滑層25を設けそ
してそのディスクをDASD装置に配置してもよい。
20,21,22,23から成るディスクを或る量のZ
−Dol(1リットルの1,1,2−トリクロロトリフ
ルオロエタンについてZ−Dolを8グラムとしたも
の)に浸け、そしてゆっくり(2mm/秒)引き上げるよ
うにして厚さ約70−80Aの液体Z−Dolをディス
クにつけるようにする。このディスクをオーブンで約1
50℃で約1時間焼く。それにより厚さ12−24Aの
結合潤滑層12が得られる。このベークの終りにディス
クに非結合Z−Dolの厚さ約9Aで分子量約5000
amuの可動層25が残留する。この分子量の大きいZ
−Dol層は図3の可動潤滑層25として機能させるた
めにディスク上に残してもよく、あるいは1,1,2−
トリクロロトリフルオロエタンで洗浄してほゞ完全に除
去してもよい。このディスクにはそれをDASD装置に
配置した後貯留器3からの潤滑剤ガスにより保護吸着膜
25が与えられる。あるいはこのZ−Dolの残留可動
層を洗浄により除去した後に、可動潤滑層25を設けそ
してそのディスクをDASD装置に配置してもよい。
【0051】結合潤滑層24に用いる材料は磁気記録層
22の表面またはオプションとしてのオーバーコート層
23の表面に潤滑剤分子を結合させるように機能する種
々の炭化水素基を含む分子を有するPEPE潤滑剤から
選ばれる。これらPEPE物質はここでは反応性PEP
Eと呼ぶ。
22の表面またはオプションとしてのオーバーコート層
23の表面に潤滑剤分子を結合させるように機能する種
々の炭化水素基を含む分子を有するPEPE潤滑剤から
選ばれる。これらPEPE物質はここでは反応性PEP
Eと呼ぶ。
【0052】可動のあるいは非結合の潤滑層25は反応
性PEPE物質層24がオーバーコート層23結合され
た後であって、非結合残留反応性PEPE物質が除去さ
れた後に結合潤滑層24に局部的に与えられる非反応性
潤滑剤である。非結合潤滑剤層25の材料の選択は本発
明では重要でないが非反応性PEPEを用いてもよい。
性PEPE物質層24がオーバーコート層23結合され
た後であって、非結合残留反応性PEPE物質が除去さ
れた後に結合潤滑層24に局部的に与えられる非反応性
潤滑剤である。非結合潤滑剤層25の材料の選択は本発
明では重要でないが非反応性PEPEを用いてもよい。
【0053】本発明の一つの特徴として、可動潤滑剤層
25は限られた揮発性を有し、図1,2の貯留器3で用
いられる揮発性潤滑剤とは異なる形式の局部的に与えら
れる潤滑剤を含む。このように、三つの異なるディスク
潤滑剤、すなわち、結合層24、可動層25および貯留
器3によりディスク5に供給される潤滑ガス、を与える
ことが出来る。
25は限られた揮発性を有し、図1,2の貯留器3で用
いられる揮発性潤滑剤とは異なる形式の局部的に与えら
れる潤滑剤を含む。このように、三つの異なるディスク
潤滑剤、すなわち、結合層24、可動層25および貯留
器3によりディスク5に供給される潤滑ガス、を与える
ことが出来る。
【0054】図3は二重潤滑剤層24,25内の気泡3
0と欠乏領域31を誇張して示している。これら二つの
欠陥の形式は一般にこの技術で用いられる故意の組織化
により生じる突起部に関連する。30,31のような潤
滑剤の欠乏した領域は、貯留器3からの潤滑ガスがそれ
らに選択的に付着するような充分な表面エネルギーを有
しており、ディスク5の寿命や、そのような領域に厚さ
約3−約30Aの比較的薄い保護吸着質膜を形成するこ
とで二重潤滑剤層24,25を動的に且つ連続的に補修
するように作用する。このように、かなりの圧力をもつ
貯留器3の潤滑剤がディスクの潤滑層24,25内に生
じる損傷領域に潤滑剤分子を高速で与える。
0と欠乏領域31を誇張して示している。これら二つの
欠陥の形式は一般にこの技術で用いられる故意の組織化
により生じる突起部に関連する。30,31のような潤
滑剤の欠乏した領域は、貯留器3からの潤滑ガスがそれ
らに選択的に付着するような充分な表面エネルギーを有
しており、ディスク5の寿命や、そのような領域に厚さ
約3−約30Aの比較的薄い保護吸着質膜を形成するこ
とで二重潤滑剤層24,25を動的に且つ連続的に補修
するように作用する。このように、かなりの圧力をもつ
貯留器3の潤滑剤がディスクの潤滑層24,25内に生
じる損傷領域に潤滑剤分子を高速で与える。
【0055】本発明の気相潤滑系3,7,8,9,6は
ディスクの潤滑系24,25を補修するから、可動の、
局部的に与えられる潤滑剤相25は比較的に非揮発性の
潤滑剤から選ぶことが出来る。
ディスクの潤滑系24,25を補修するから、可動の、
局部的に与えられる潤滑剤相25は比較的に非揮発性の
潤滑剤から選ぶことが出来る。
【0056】可動潤滑層がディスク5の製造時にそれに
与えられないときには、ディスクがDASD装置に配置
された後に貯留器3からの潤滑ガスで与えられる保護吸
着質膜がそのような可動潤滑層として機能することにな
る。
与えられないときには、ディスクがDASD装置に配置
された後に貯留器3からの潤滑ガスで与えられる保護吸
着質膜がそのような可動潤滑層として機能することにな
る。
【0057】
【発明の効果】本発明によれば、気相の潤滑系はディス
クの表面の結合潤滑剤層が薄すぎたりあるいはその層に
気泡があるような場合、それに潤滑剤を動的に供給する
ように作用する。
クの表面の結合潤滑剤層が薄すぎたりあるいはその層に
気泡があるような場合、それに潤滑剤を動的に供給する
ように作用する。
【図1】結合潤滑剤ディスクと、米国特許第47899
13号明細書に示される形式の本発明による潤滑ガス移
動系を有するDASD装置の概略図である。
13号明細書に示される形式の本発明による潤滑ガス移
動系を有するDASD装置の概略図である。
【図2】結合潤滑剤ディスクと、米国特許第47899
13号および米国特許出願第07/535269号明細
書に示される形式の本発明による潤滑ガス移動系を有す
るDASD装置の概略図である。
13号および米国特許出願第07/535269号明細
書に示される形式の本発明による潤滑ガス移動系を有す
るDASD装置の概略図である。
【図3】カーボンオーバーコート層と、PEPEの結合
潤滑剤層および可動または非結合の潤滑剤層を含む二色
潤滑剤層を有する図1,2のディスクの部分断面図であ
り、その気泡と潤滑剤欠乏領域を誇張して示す図であ
る。
潤滑剤層および可動または非結合の潤滑剤層を含む二色
潤滑剤層を有する図1,2のディスクの部分断面図であ
り、その気泡と潤滑剤欠乏領域を誇張して示す図であ
る。
3 貯留器 5 ディスク 6 ガスドレン装置
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年2月24日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】しかしながら、本発明者等は結合潤滑剤層
による不均一表面カバレッジははじめに生じることもあ
り、あるいはDASD装置の寿命中後の時点で生じるこ
ともあることを見い出した。不均一表面カバレッジの例
はディスクの結合潤滑剤層内の空所あるいは薄い領域で
ある。当業者は結合潤滑剤ディスクはディスクの寿命中
潤滑されると考えるかも知れないが、本発明の貯留シス
テムは結合潤滑剤層内の気泡や薄い領域の連続的な補修
を行うように作用するものである。これはそれら領域に
ラングミュアの吸着運動力学にもとづき潤滑剤蒸気を連
続的に供給することで行われる。
による不均一表面カバレッジははじめに生じることもあ
り、あるいはDASD装置の寿命中後の時点で生じるこ
ともあることを見い出した。不均一表面カバレッジの例
はディスクの結合潤滑剤層内の空所あるいは薄い領域で
ある。当業者は結合潤滑剤ディスクはディスクの寿命中
潤滑されると考えるかも知れないが、本発明の貯留シス
テムは結合潤滑剤層内の気泡や薄い領域の連続的な補修
を行うように作用するものである。これはそれら領域に
ラングミュアの吸着運動力学にもとづき潤滑剤蒸気を連
続的に供給することで行われる。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】本発明の目的は潤滑剤蒸気が記録面に結合
した潤滑剤分子を有する磁気ディスクに連続的に供給さ
れるようになった前記従来技術に示すような潤滑剤貯留
システムを提供することにある。このように、結合潤滑
剤による不均一表面カバレッジ、すなわちディスクの結
合潤滑剤層内の空所や薄い領域、はラングミュアの吸着
運動力学にもとづきそれら領域に潤滑剤蒸気を供給する
ことにより連続的に補修される。
した潤滑剤分子を有する磁気ディスクに連続的に供給さ
れるようになった前記従来技術に示すような潤滑剤貯留
システムを提供することにある。このように、結合潤滑
剤による不均一表面カバレッジ、すなわちディスクの結
合潤滑剤層内の空所や薄い領域、はラングミュアの吸着
運動力学にもとづきそれら領域に潤滑剤蒸気を供給する
ことにより連続的に補修される。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】本発明にもとづき構成されるDASDファ
イルの寿命は結合潤滑剤層内のはじめにそして後に生じ
る空所や動作不能な薄い領域がDASDファイルの寿命
中補修されそして連続的に維持されるから著しく増大す
る。
イルの寿命は結合潤滑剤層内のはじめにそして後に生じ
る空所や動作不能な薄い領域がDASDファイルの寿命
中補修されそして連続的に維持されるから著しく増大す
る。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】前述したように結合および非結合潤滑剤層
を有する二重層を含む結合潤滑剤層はディスクの変換ヘ
ッドのスライダに連続的な潤滑界面を充分な信頼性をも
って与えることはない。薄い領域あるいは気泡は一般に
ディスクの製造時に結合潤滑剤層に生じそして使用期間
中発達する傾向がある。これら薄膜または空所領域は本
発明の蒸気貯留手段により与えられる気相からの潤滑剤
蒸気の吸着を生じさせるに充分な表面エネルギーを有す
ることを本発明者等は見い出した。
を有する二重層を含む結合潤滑剤層はディスクの変換ヘ
ッドのスライダに連続的な潤滑界面を充分な信頼性をも
って与えることはない。薄い領域あるいは気泡は一般に
ディスクの製造時に結合潤滑剤層に生じそして使用期間
中発達する傾向がある。これら薄膜または空所領域は本
発明の蒸気貯留手段により与えられる気相からの潤滑剤
蒸気の吸着を生じさせるに充分な表面エネルギーを有す
ることを本発明者等は見い出した。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】本発明の目的は、気相潤滑剤系と結合潤滑
剤相を有する薄膜磁気記録ディスクの組合せであり、こ
のディスクは気相潤滑系をその一部として含むDASD
装置のハウジング内に配置され、この気相潤滑剤系はラ
ングミュアの吸着運動力学にもとづきディスクの結合潤
滑剤相に連続的に潤滑剤ガスを供給し、ディスクの表面
の潤滑剤相の薄すぎる部分または全くない部分あるいは
究極的に欠乏する部分を含むところに潤滑剤ガスが選択
的に吸着されるように作用する、ものの提供にある。蒸
気貯留手段からの潤滑剤ガスはディスクの結合潤滑剤層
の空所または薄い領域を連続的に補修するように作用
し、それにより結合潤滑剤層内のそのような不完全性に
より生じるような障害を最少にする。反応性過フルオロ
ポリエーテル(PEPE)潤滑剤がこの結合潤滑材料と
して適している。
剤相を有する薄膜磁気記録ディスクの組合せであり、こ
のディスクは気相潤滑系をその一部として含むDASD
装置のハウジング内に配置され、この気相潤滑剤系はラ
ングミュアの吸着運動力学にもとづきディスクの結合潤
滑剤相に連続的に潤滑剤ガスを供給し、ディスクの表面
の潤滑剤相の薄すぎる部分または全くない部分あるいは
究極的に欠乏する部分を含むところに潤滑剤ガスが選択
的に吸着されるように作用する、ものの提供にある。蒸
気貯留手段からの潤滑剤ガスはディスクの結合潤滑剤層
の空所または薄い領域を連続的に補修するように作用
し、それにより結合潤滑剤層内のそのような不完全性に
より生じるような障害を最少にする。反応性過フルオロ
ポリエーテル(PEPE)潤滑剤がこの結合潤滑材料と
して適している。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0030
【補正方法】変更
【補正内容】
【0030】詳細に述べると、本発明によれば、比較的
薄い(すなわち約2−25オングストローム)潤滑剤層
が薄膜記録ディスクの磁気記録面に結合される。この形
式のディスクは次に前記従来材術に示されるような貯留
系を固定したDASD駆動装置内に置かれる。その結
果、揮発性の潤滑剤の吸着層がディスクの結合潤滑剤層
が不完全なすなわち空所が生じあるいはその層が約15
平方オングストロームの面積より大きい面で比較的薄い
ものから全くないようなすべての領域に付着する。
薄い(すなわち約2−25オングストローム)潤滑剤層
が薄膜記録ディスクの磁気記録面に結合される。この形
式のディスクは次に前記従来材術に示されるような貯留
系を固定したDASD駆動装置内に置かれる。その結
果、揮発性の潤滑剤の吸着層がディスクの結合潤滑剤層
が不完全なすなわち空所が生じあるいはその層が約15
平方オングストロームの面積より大きい面で比較的薄い
ものから全くないようなすべての領域に付着する。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】この吸着される潤滑剤層の厚さは前記従来
技術に示されるように約1オングストロームから約20
オングストロームまでの範囲内で制御しうる。
技術に示されるように約1オングストロームから約20
オングストロームまでの範囲内で制御しうる。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0044
【補正方法】変更
【補正内容】
【0044】本発明の一つの特徴は磁気記録層22の上
面に厚さ75−300オングストロームのスパッタ蒸着
されたカーボンを含むオーバーコート層23である。
面に厚さ75−300オングストロームのスパッタ蒸着
されたカーボンを含むオーバーコート層23である。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0047
【補正方法】変更
【補正内容】
【0047】図3の実施例は厚さ約2−25オングスト
ロームの反応性過フルオロポリエーテル(PEPE)の
結合潤滑剤層24と厚さ約1−25オングストロームの
可動または非結合潤滑剤層25を含む二重潤滑層を有す
る薄膜磁気記録ディスクのそれである。
ロームの反応性過フルオロポリエーテル(PEPE)の
結合潤滑剤層24と厚さ約1−25オングストロームの
可動または非結合潤滑剤層25を含む二重潤滑層を有す
る薄膜磁気記録ディスクのそれである。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0050
【補正方法】変更
【補正内容】
【0050】結合潤滑剤層24をつくる一つの方法では
20,21,22,23から成るディスクを或る量のZ
−Dol(1リットルの1,1,2−トリクロロトリフ
ルオロエタンについてZ−Dolを8グラムとしたも
の)に浸け、そしてゆっくり(2mm/秒)引き上げる
ようにして厚さ約70ー80オングストロームの液体Z
−Dolをディスクにつけるようにする。このディスク
をオーブンで約150℃で約1時間焼く。それにより厚
さ12−24オングストロームの結合潤滑層12が得ら
れる。このベークの終りにディスクに非結合Z−Dol
の厚さ約9オングストロームで分子量約5000amu
の可動層25が残留する。この分子量の大きいZ−Do
l層は図3の可動潤滑層25として機能させるためにデ
ィスク上に残してもよく、あるいは1,1,2−トリク
ロロトリフルオロエタンで洗浄してほゞ完全に除去して
もよい。このディスクにはそれをDASD装置に配置し
た後貯留器3からの潤滑剤ガスにより保護吸着膜25が
与えられる。あるいはこのZ−Dolの残留可動層を洗
浄により除去した後に、可動潤滑層25を設けそしてそ
のディスクをDASD装置に配置してもよい。
20,21,22,23から成るディスクを或る量のZ
−Dol(1リットルの1,1,2−トリクロロトリフ
ルオロエタンについてZ−Dolを8グラムとしたも
の)に浸け、そしてゆっくり(2mm/秒)引き上げる
ようにして厚さ約70ー80オングストロームの液体Z
−Dolをディスクにつけるようにする。このディスク
をオーブンで約150℃で約1時間焼く。それにより厚
さ12−24オングストロームの結合潤滑層12が得ら
れる。このベークの終りにディスクに非結合Z−Dol
の厚さ約9オングストロームで分子量約5000amu
の可動層25が残留する。この分子量の大きいZ−Do
l層は図3の可動潤滑層25として機能させるためにデ
ィスク上に残してもよく、あるいは1,1,2−トリク
ロロトリフルオロエタンで洗浄してほゞ完全に除去して
もよい。このディスクにはそれをDASD装置に配置し
た後貯留器3からの潤滑剤ガスにより保護吸着膜25が
与えられる。あるいはこのZ−Dolの残留可動層を洗
浄により除去した後に、可動潤滑層25を設けそしてそ
のディスクをDASD装置に配置してもよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アジャイ、ヨハリー アメリカ合衆国ミネソタ州、ロチェスタ ー、セカンド、ストリート、エス、ダブリ ュ、845、アパートメント、3エー (72)発明者 クリストファー、ギルド、ケラー アメリカ合衆国ミネソタ州、ロチェスタ ー、トゥエンティーフォース、アベニュ、 エヌ、ダブリュ、5946 (72)発明者 ロナルド、グレン、レカンダー アメリカ合衆国ミネソタ州、ロチェスタ ー、エルトン、ヒルズ、ドライブ、826 (72)発明者 ジェームズ、ジョゼフ、メイアール アメリカ合衆国ミネソタ州、ロチェスタ ー、キャメルバック、コート、エヌ、イ ー、1637
Claims (13)
- 【請求項1】直接アクセスデータ記憶装置において、 実質的に可動の分子と共に実質的に結合したすべりを与
える分子の露出層を有する薄膜磁気記録ディスク;およ
びラングミュア連動力学により上記結合した可動の潤滑
剤層に連続的に潤滑剤蒸気を与えるように動作する気相
潤滑システム;を含み、 潤滑剤蒸気が可動潤滑層として上記結合した可動潤滑層
上にそしてこの結合した可動潤滑層が製造上の欠陥であ
りあるいは上記直接アクセスデータ記憶装置の寿命中に
欠陥となった領域を含む上記潤滑層内の気泡に動的に吸
着されるようになった、直接アクセスデータ記憶装置。 - 【請求項2】前記結合された潤滑層は薄膜磁気記録層上
に置かれた薄い耐疲労コーティングに実質的に接合する
反応性過フルオロポリエーテル(PEPE)の主として
不動の層を含むごとくなった請求項1の装置。 - 【請求項3】前記結合PEPE潤滑剤層と前記吸着潤滑
剤蒸気層の中間に配置される可動反応性潤滑剤そしてま
たは可動非反応性潤滑剤の実質的に結合しない可動層を
含む、請求項2の装置。 - 【請求項4】前記結合PEPE層は分子量約2000a
muのPEPE層の加熱そしてまたは輻射線処理により
形成され、前記可動潤滑剤層は分子量約5000amu
の上記結合PEPE層からの残留非結合層を含むごとく
なった請求項3の装置。 - 【請求項5】薄膜磁気記録ディスク用潤滑システムであ
って、 揮発性潤滑剤貯留器とそれに関連動作する揮発性潤滑剤
ガス移動システムとを含むDASD;上記DASD内に
あって、薄膜磁気記録層とこの記録層に潤滑剤を不動と
するように結合される潤滑剤の露出層を有する薄膜磁気
記録ディスク;を含み、 揮発性潤滑剤分子の更新可能な吸着層が上記不動の潤滑
剤層の上記露出面およびその層内の気泡に連続的に与え
られるごとくなった改良された薄膜磁気記録ディスク用
潤滑システム。 - 【請求項6】前記結合潤滑剤層の厚さは約2〜約50A
の平均範囲内であり、その層が多数の気泡を含みうるも
のであるごとくなった請求項5の改良されたシステム。 - 【請求項7】前記吸着潤滑剤層の平均厚さは約1〜約2
0Aである請求項6の改良されたシステム。 - 【請求項8】前記結合潤滑剤層と前記吸着潤滑剤層の間
に可動の非結合潤滑剤層を含む請求項7の改良されたシ
ステム。 - 【請求項9】下記要件を含む、薄膜磁気記録ディスクの
ヘッドとディスクの間の潤滑を維持するための改良され
た潤滑系を有する直接アクセスデータ記憶装置:上記直
接アクセスデータ記憶装置装置の要素を含むための実質
的に閉じたハウジング;薄膜磁気記録層とこの記録層に
物理的に接合した耐疲労層とこの耐疲労層に物理的に結
合した不動潤滑剤層を有し、上記ハウジング内に入れら
れた回転型薄膜磁気記録ディスク;上記ハウジング内に
あって、揮発性潤滑剤を含む貯留器とこの貯留器並びに
上記ディスクと協働する潤滑ガス移動系を含み、ラング
ミュアの吸着運動力学にもとづき、上記結合した潤滑剤
層とその気泡に連続的に潤滑ガスを供給し、それにより
潤滑ガス層が、製造プロセスによりあるいは上記直接ア
クセスデータ記憶装置装置の寿命中に欠陥となった領域
を含む上記結合潤滑剤層上に連続的に与えられるように
する気相潤滑剤系。 - 【請求項10】前記ガス移動系は前記ハウジング内の空
気流を含み、この空気流が前記結合潤滑剤層およびその
気泡に潤滑剤ガス分子を解放しそれにより揮発性潤滑剤
分子の吸着層をそこに形成するごとくなった請求項9の
直接アクセスデータ記憶装置。 - 【請求項11】前記空気流は前記ディスクの回転により
生じるごとくなった請求項10の直接アクセスデータ記
憶装置。 - 【請求項12】前記ディスクは特定のパターンを形成し
た保護層とこの保護層上にスパッタリングで付着したコ
バルトを主成分とする磁性膜と、この磁性膜上にスパッ
タリングで付着したカーボンを含むオーバーコート層
と、前記結合潤滑剤層と可動潤滑剤層を含む二重潤滑剤
層と、を有するディスク形非磁性基体部材を含むごとく
なった請求項9の直接アクセスデータ記憶装置。 - 【請求項13】前記結合潤滑剤層は反応性潤滑剤を含み
その分子が活性化物理現象により前記オーバーコート層
に結合するごとくになっており、前記可動潤滑剤層が上
記反応性材料が上記オーバーコート層に結合した後に上
記結合潤滑剤層に局部的に与えられる非反応性潤滑剤を
含むごとくなった請求項12の直接アクセスデータ記憶
装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US822005 | 1986-01-24 | ||
| US07/822,005 US5331487A (en) | 1992-01-16 | 1992-01-16 | Direct access storage device with vapor phase lubricant system and a magnetic disk having a protective layer and immobile physically bonded lubricant layer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0696573A true JPH0696573A (ja) | 1994-04-08 |
Family
ID=25234850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4330672A Pending JPH0696573A (ja) | 1992-01-16 | 1992-12-10 | 直接アクセスデータ記憶装置及び薄膜磁気記録ディスク用潤滑システム |
Country Status (2)
| Country | Link |
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| US (1) | US5331487A (ja) |
| JP (1) | JPH0696573A (ja) |
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