JPH0699133B2 - 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 - Google Patents
液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法Info
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- JPH0699133B2 JPH0699133B2 JP60283018A JP28301885A JPH0699133B2 JP H0699133 B2 JPH0699133 B2 JP H0699133B2 JP 60283018 A JP60283018 A JP 60283018A JP 28301885 A JP28301885 A JP 28301885A JP H0699133 B2 JPH0699133 B2 JP H0699133B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体クロマトグラフィー用シリカゲルの製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
シリカゲルは、架橋デキストラン、ポリアクリルアミド
等のポリマー系充填剤に比して機械的強度が高く、また
pH,イオン強度，溶離液組成等の変化による膨潤・収縮
がほとんど無いことから、液体クロマトグラフィー用充
填剤として広く使用されている。
等のポリマー系充填剤に比して機械的強度が高く、また
pH,イオン強度，溶離液組成等の変化による膨潤・収縮
がほとんど無いことから、液体クロマトグラフィー用充
填剤として広く使用されている。
液体クロマトグラフィーは、分離を行う原理によって吸
着型，分配型，イオン交換型および分子篩型の四つの型
に分類され、そこに用いられる充填剤の性質も異なる。
着型，分配型，イオン交換型および分子篩型の四つの型
に分類され、そこに用いられる充填剤の性質も異なる。
即ち、吸着型では、シリカゲルそのまゝで；分配及びイ
オン交換型では、シリカゲルに有機シラン化合物あるい
はアルコール化合物等の有機化合物を化学的に結合させ
て；分子篩型では、シリカゲルそのまゝあるいは有機化
合物を化学結合させて使用される。
オン交換型では、シリカゲルに有機シラン化合物あるい
はアルコール化合物等の有機化合物を化学的に結合させ
て；分子篩型では、シリカゲルそのまゝあるいは有機化
合物を化学結合させて使用される。
従来、シリカゲルについては、球状シリカゲルと破砕状
シリカゲルとが知られている。球状シリカゲルは破砕状
シリカゲルに比して、その性能および使用特性の点で優
れている。
シリカゲルとが知られている。球状シリカゲルは破砕状
シリカゲルに比して、その性能および使用特性の点で優
れている。
更に球状シリカゲルの内でも、液体クロマトグラフィー
用充填剤として使用する場合、その平均粒子径，表面
積，平均細孔径，細孔容積等の物性を厳密にコントロー
ルすることが要求される。即ち、平均粒子径10〜50μ，
表面積300〜500m2/g,平均細孔径80〜120Å，細孔容積0.
8〜1.2ml/gの物性を有した球状シリカゲルが望まれてい
る。
用充填剤として使用する場合、その平均粒子径，表面
積，平均細孔径，細孔容積等の物性を厳密にコントロー
ルすることが要求される。即ち、平均粒子径10〜50μ，
表面積300〜500m2/g,平均細孔径80〜120Å，細孔容積0.
8〜1.2ml/gの物性を有した球状シリカゲルが望まれてい
る。
しかしながら、この様なシリカゲルは製造が容易でなく
高価であった。
高価であった。
従来、球状のシリカゲルを得る方法としては、以下の方
法が知られている。
法が知られている。
（１）特開昭60−71515号公報には、水ガラスゾルを第
１の界面活性剤を含有する有機溶媒中で乳化させ、次い
で第２の界面活性剤を添加してゲル化させる方法が記載
されている。
１の界面活性剤を含有する有機溶媒中で乳化させ、次い
で第２の界面活性剤を添加してゲル化させる方法が記載
されている。
この方法では、乳化に使用した有機溶媒とシリカゲルを
分離する為、蒸留工程を必要とし、経済的に不利であ
る。
分離する為、蒸留工程を必要とし、経済的に不利であ
る。
また、得られたゲルの物性は明記されておらず、液体ク
ロマトグラフィー用充填剤としての有用性は不明であ
る。
ロマトグラフィー用充填剤としての有用性は不明であ
る。
（２）特公昭54−9588号公報には、コロイド状シリカを
水に対して混和性を有する重合可能な有機材料をバイン
ダーとして用いて球状粒子を形成させる方法が記載され
ている。
水に対して混和性を有する重合可能な有機材料をバイン
ダーとして用いて球状粒子を形成させる方法が記載され
ている。
この方法で得られるものは、シリカゾル粒子と有機材料
の混合物であり、シリカゲルを得るには500℃以上で、
しかも４時間以上の焼結工程によりポリマー化した有機
材料を除去しなければならない。また、得られるゲルの
物性は、原料のコロイド状シリカの種類で決ってしま
い、所望とするゲル物性へのコントロールが困難であ
る。
の混合物であり、シリカゲルを得るには500℃以上で、
しかも４時間以上の焼結工程によりポリマー化した有機
材料を除去しなければならない。また、得られるゲルの
物性は、原料のコロイド状シリカの種類で決ってしま
い、所望とするゲル物性へのコントロールが困難であ
る。
（３）上述の如き有機溶媒あるいは有機材料を使用する
ことなく球状ゲルを得る方法としては噴霧乾燥法が知ら
れている。
ことなく球状ゲルを得る方法としては噴霧乾燥法が知ら
れている。
特開昭53−65293号には、シリカゾルを噴霧乾燥する方
法が提案されている。しかしながら、本発明者等がこの
方法を実施したところ、生成物は球状ではあるが中空あ
るいは大きな窪みを有するシリカゲルに成り易い事が判
った。
法が提案されている。しかしながら、本発明者等がこの
方法を実施したところ、生成物は球状ではあるが中空あ
るいは大きな窪みを有するシリカゲルに成り易い事が判
った。
この様な中空あるいは大きな窪みを有するシリカゲル
は、液体クロマトグラフィー用充填剤として使用する場
合、その強度が充分でなく破損したり、分離試料の広が
りの原因に成り易く好ましくない。
は、液体クロマトグラフィー用充填剤として使用する場
合、その強度が充分でなく破損したり、分離試料の広が
りの原因に成り易く好ましくない。
特公昭43−7012号には、硅酸ナトリウム溶液をガス状炭
酸ガスでゲル化させ熟成した後、更に硫酸で処理した後
噴霧乾燥することにより、300〜1000m2/gの表面積で0.5
〜1.25cc/gの孔体積のシリカゲルを得る方法が記載され
ている。
酸ガスでゲル化させ熟成した後、更に硫酸で処理した後
噴霧乾燥することにより、300〜1000m2/gの表面積で0.5
〜1.25cc/gの孔体積のシリカゲルを得る方法が記載され
ている。
この方法では、ガス状炭酸ガスを使用することから、反
応の制御が容易でなく、得られるシリカゲルの物性をコ
ントロールすることが困難である。
応の制御が容易でなく、得られるシリカゲルの物性をコ
ントロールすることが困難である。
特公昭47−3446号にはアルカリ金属珪酸塩水溶液と鉱酸
とを反応させてpH9.6〜10.9のシリカヒドロゾルを作
り、ゲル化させ更に鉱酸と反応させ酸性シリカゲルスラ
リーとし噴霧乾燥する方法が報告されている。
とを反応させてpH9.6〜10.9のシリカヒドロゾルを作
り、ゲル化させ更に鉱酸と反応させ酸性シリカゲルスラ
リーとし噴霧乾燥する方法が報告されている。
この方法において、その実施例によれば、740m2/gない
し965m2/gという非常に大きな表面積のシリカゲルが得
られている。この様に高い表面積のシリカゲルは、一般
に50Å以下のミクロポアを有する事が多い。液体クロマ
トグラフィー用充填剤への使用を目的とした場合、この
様なミクロポアは分離にあまり有効でないばかりか、シ
リカゲルの強度を低下させる原因になる。
し965m2/gという非常に大きな表面積のシリカゲルが得
られている。この様に高い表面積のシリカゲルは、一般
に50Å以下のミクロポアを有する事が多い。液体クロマ
トグラフィー用充填剤への使用を目的とした場合、この
様なミクロポアは分離にあまり有効でないばかりか、シ
リカゲルの強度を低下させる原因になる。
更に、特公昭47−35676号には、珪酸ナトリウムと硫酸
を23〜50℃で混合してpH9.8〜10.4の混合溶液を調製
し、そこでヒドロゲルスラリを形成し、熟成後pHを３以
下に低下させ、熟成後pHを８〜10.2に上昇させ、熟成し
噴霧乾燥する方法が記載されている。
を23〜50℃で混合してpH9.8〜10.4の混合溶液を調製
し、そこでヒドロゲルスラリを形成し、熟成後pHを３以
下に低下させ、熟成後pHを８〜10.2に上昇させ、熟成し
噴霧乾燥する方法が記載されている。
この方法で得られるシリカゲルは、その実施例によれば
194〜560m2/gの表面積で0.9〜1.15ml/gの細孔容積を有
しているが、平均細孔径については明記されていない。
また上述した様に熟成工程が多く操作が煩雑である。特
公昭43−7012号,47−3446号,47−35676号いずれの方法
もゲル生成工程をアルカリ側で実施することを必須要件
としているが、本発明者等が同様にアルカリ側でゲル生
成させたスラリを使用したところ、原因は不明である
が、しばしば非常に脆いゲルが得られ易く、又表面に凹
凸の多いものあるいは球状以外の異形粒子の混在するも
のが得られやすい事が解った。この様なシリカゲルは、
通常の乾燥剤としては問題はないが、液体クロマトグラ
フィー用充填剤としての使用を考えた場合、充填効率の
低下をきたし好ましくない。
194〜560m2/gの表面積で0.9〜1.15ml/gの細孔容積を有
しているが、平均細孔径については明記されていない。
また上述した様に熟成工程が多く操作が煩雑である。特
公昭43−7012号,47−3446号,47−35676号いずれの方法
もゲル生成工程をアルカリ側で実施することを必須要件
としているが、本発明者等が同様にアルカリ側でゲル生
成させたスラリを使用したところ、原因は不明である
が、しばしば非常に脆いゲルが得られ易く、又表面に凹
凸の多いものあるいは球状以外の異形粒子の混在するも
のが得られやすい事が解った。この様なシリカゲルは、
通常の乾燥剤としては問題はないが、液体クロマトグラ
フィー用充填剤としての使用を考えた場合、充填効率の
低下をきたし好ましくない。
本発明の目的は、上記従来技術に比して、より簡単な方
法で安価に、表面が滑らかで、異形粒子の混在すること
のない液体クロマトグラフィー用充填剤として高性能な
シリカゲルの製造法を提供することにある。
法で安価に、表面が滑らかで、異形粒子の混在すること
のない液体クロマトグラフィー用充填剤として高性能な
シリカゲルの製造法を提供することにある。
本発明の要旨は、アルカリ金属珪酸塩水溶液を鉱酸の水
溶液と反応させて得られるヒドロゲルスラリーを噴霧乾
燥することに依りシリカゲルを得る方法において、 a.アルカリ金属珪酸塩の水溶液を鉱酸の水溶液と反応さ
せてpH3.0〜4.0でSiO2濃度6.5〜11.5wt％の活性なケイ
酸を生成させ b.該ケイ酸を攪拌下でゲル化させ c.アンモニア水溶液と反応させた後、過，水洗し d.得られたヒドロゲルを湿式粉砕し e.噴霧乾燥後、鉱酸水溶液と接触させた後、乾燥する ことを特徴とする液体クロマトグラフィー用シリカゲル
の製造方法にあり、以下その詳細について説明する。
溶液と反応させて得られるヒドロゲルスラリーを噴霧乾
燥することに依りシリカゲルを得る方法において、 a.アルカリ金属珪酸塩の水溶液を鉱酸の水溶液と反応さ
せてpH3.0〜4.0でSiO2濃度6.5〜11.5wt％の活性なケイ
酸を生成させ b.該ケイ酸を攪拌下でゲル化させ c.アンモニア水溶液と反応させた後、過，水洗し d.得られたヒドロゲルを湿式粉砕し e.噴霧乾燥後、鉱酸水溶液と接触させた後、乾燥する ことを特徴とする液体クロマトグラフィー用シリカゲル
の製造方法にあり、以下その詳細について説明する。
本発明において使用するアルカリ金属珪酸塩としては珪
酸ナトリウム，珪酸カリウム等が挙げられるが、珪酸ナ
トリウムが一般的である。鉱酸としては硫酸，塩酸，硝
酸等が使用できる。
酸ナトリウム，珪酸カリウム等が挙げられるが、珪酸ナ
トリウムが一般的である。鉱酸としては硫酸，塩酸，硝
酸等が使用できる。
活性なケイ酸を生成させる方法としては、いかなる方法
でも良いが、攪拌下にある鉱酸にアルカリ金属珪酸塩を
滴下する方法が好ましい。
でも良いが、攪拌下にある鉱酸にアルカリ金属珪酸塩を
滴下する方法が好ましい。
この時最終pHが3.0〜4.0でSiO2濃度が6.5〜11.5wt％に
なる様に、アルカリ金属珪酸塩及び鉱酸の各濃度及び混
合割合を調整することが必要である。
なる様に、アルカリ金属珪酸塩及び鉱酸の各濃度及び混
合割合を調整することが必要である。
pHの値はゲル化時間に大きく影響し、pH3未満ではゲル
化に長時間を要し実際的ではなく、pHが４を超えるとゲ
ル化が急速に進行し、ケイ酸を安定的に調製することが
困難になる。
化に長時間を要し実際的ではなく、pHが４を超えるとゲ
ル化が急速に進行し、ケイ酸を安定的に調製することが
困難になる。
生成ケイ酸のSiO2濃度は、最終的に得られるシリカゲル
の平均細孔径に重大な影響を及ぼす。即ち、SiO2濃度が
6.5wt％未満では得られるシリカゲルの平均細孔径は80
Å未満となり、SiO2濃度が11.5wt％を超えると得られる
シリカゲルの平均細孔径は120Åを超え、また、強度の
低いゲルとなる。
の平均細孔径に重大な影響を及ぼす。即ち、SiO2濃度が
6.5wt％未満では得られるシリカゲルの平均細孔径は80
Å未満となり、SiO2濃度が11.5wt％を超えると得られる
シリカゲルの平均細孔径は120Åを超え、また、強度の
低いゲルとなる。
活性ケイ酸生成温度は５〜60℃の範囲で実施できるが、
特に30〜50℃が好ましく、実際的である。生成温度が５
℃未満ではゲル化に長時間を要し、逆に60℃をこえると
ゲル化が急速に進行し、活性ケイ酸を安定的に生成させ
ることが困難になる。
特に30〜50℃が好ましく、実際的である。生成温度が５
℃未満ではゲル化に長時間を要し、逆に60℃をこえると
ゲル化が急速に進行し、活性ケイ酸を安定的に生成させ
ることが困難になる。
この様にして得られた活性なケイ酸の水溶液を攪拌下で
ゲル化させ、シリカヒドロゲルのスラリーを生成させ
る。
ゲル化させ、シリカヒドロゲルのスラリーを生成させ
る。
ゲル化の温度は特に限定されないが、低温ではゲル化を
完了させるのに長時間を要し、逆に高温ではゲル化が急
速に進んで均一な攪拌が困難となるので20〜50℃が適当
である。また、一般にゲル化温度の低い方がゲル化速度
が遅く攪拌も容易であるので、例えば20℃でゲル化を開
始させ、スラリー状にした後80℃に昇温してゲル化を完
了させるといった方法も可能である。
完了させるのに長時間を要し、逆に高温ではゲル化が急
速に進んで均一な攪拌が困難となるので20〜50℃が適当
である。また、一般にゲル化温度の低い方がゲル化速度
が遅く攪拌も容易であるので、例えば20℃でゲル化を開
始させ、スラリー状にした後80℃に昇温してゲル化を完
了させるといった方法も可能である。
攪拌手段は、活性ケイ酸がゲル化する際に生成するヒド
ロゲルを破砕してヒドロゲルのスラリーを生成すること
が可能であれば、いかなるものでも良く、通常のパドル
型攪拌翼でも実施可能であるが、必要に応じて高速攪拌
装置あるいはニーダー等も使用できる。
ロゲルを破砕してヒドロゲルのスラリーを生成すること
が可能であれば、いかなるものでも良く、通常のパドル
型攪拌翼でも実施可能であるが、必要に応じて高速攪拌
装置あるいはニーダー等も使用できる。
生成したシリカヒドロゲルスラリーにアンモニア水溶液
を添加して反応させる。この時スラリーの濃度は特に限
定されないが、高濃度では粘度が高く攪拌が困難とな
り、低濃度では経済的に不利となることから、SiO2濃度
として５〜10wt％が適当である。
を添加して反応させる。この時スラリーの濃度は特に限
定されないが、高濃度では粘度が高く攪拌が困難とな
り、低濃度では経済的に不利となることから、SiO2濃度
として５〜10wt％が適当である。
そのアンモニア処理をした液のpHが大きいほど最終生成
シリカゲルの平均細孔径は大きくなり、また、表面積は
小さくなる。たとえば、このpHを8.0〜9.0とすることに
より、それらをそれぞれ8.0〜120Åおよび300〜500m2/g
に調節することができる。
シリカゲルの平均細孔径は大きくなり、また、表面積は
小さくなる。たとえば、このpHを8.0〜9.0とすることに
より、それらをそれぞれ8.0〜120Åおよび300〜500m2/g
に調節することができる。
反応温度は特に限定されないが、低温では反応終了まで
に長時間を要するので、60〜90℃が適当である。
に長時間を要するので、60〜90℃が適当である。
反応終了後、過，水洗し、副生したアルカリ金属塩を
除去する。この副生塩を除去することなく噴霧乾燥する
と、得られるシリカゲル中に該塩の結晶が析出する為、
ポアが不均一になりやすい。
除去する。この副生塩を除去することなく噴霧乾燥する
と、得られるシリカゲル中に該塩の結晶が析出する為、
ポアが不均一になりやすい。
得られた過ケーキを水に分散した後湿式粉砕する。
この粉砕処理は、最終生成シリカゲルの粒子表面状態及
び形状に大きな影響を及ぼす。即ち、表面が滑らかで、
異形粒子の混在することのないシリカゲルを得る為に粉
砕処理は必須である。粉砕方法としては、湿式であれば
いかなる方法でも良く、例えば、ボールミル、、振動ミ
ル，攪拌ボールミル，ロッドミル，摩擦円板ミル，石臼
式コロイドミル等が使用できる。
び形状に大きな影響を及ぼす。即ち、表面が滑らかで、
異形粒子の混在することのないシリカゲルを得る為に粉
砕処理は必須である。粉砕方法としては、湿式であれば
いかなる方法でも良く、例えば、ボールミル、、振動ミ
ル，攪拌ボールミル，ロッドミル，摩擦円板ミル，石臼
式コロイドミル等が使用できる。
こうして得られた粉砕シリカヒドロゲルスラリを噴霧乾
燥することにより球状のシリカゲルを得ることができ
る。噴霧乾燥機としては、ノズルタイプ，ディスクタイ
プ，二流体方式が一般的であり、いずでも使用できる
が、10〜50μ程度の粒度のゲルを所望する場合ディスク
タイプが適当である。
燥することにより球状のシリカゲルを得ることができ
る。噴霧乾燥機としては、ノズルタイプ，ディスクタイ
プ，二流体方式が一般的であり、いずでも使用できる
が、10〜50μ程度の粒度のゲルを所望する場合ディスク
タイプが適当である。
乾燥用の熱風温度は100〜300℃程度で差し支えない。
噴霧乾燥により得られた球状のシリカゲルを、続いて鉱
酸水溶液で処理する。
酸水溶液で処理する。
この処理は、シリカゲルに有機化合物を化学結合させ
て、分配型，イオン交換型，分子篩型として、核酸，ア
ミノ酸，アミン等のイオン性物質を分離しようとする場
合、特に重要である。即ち、この酸処理を施さずに得ら
れたシリカゲルを用いて上述の如き分離を試みた所、し
ばしば分離試料の吸着あるいは排斥を生じ充分な分離を
行うことが困難であった。
て、分配型，イオン交換型，分子篩型として、核酸，ア
ミノ酸，アミン等のイオン性物質を分離しようとする場
合、特に重要である。即ち、この酸処理を施さずに得ら
れたシリカゲルを用いて上述の如き分離を試みた所、し
ばしば分離試料の吸着あるいは排斥を生じ充分な分離を
行うことが困難であった。
鉱酸のシリカゲルに対する作用機構については不明であ
るが、酸処理を実施することに依り、この様な吸着ある
いは排斥による分離能の低下を著しく改善出来ることを
見出した。
るが、酸処理を実施することに依り、この様な吸着ある
いは排斥による分離能の低下を著しく改善出来ることを
見出した。
鉱酸としては、硫酸，塩酸，硝酸等が使用できる。
処理方法としては、鉱酸水溶液にシリカゲルを分散し攪
拌下で行なっても良いし、また、静置しておいても良
い。この処理の効果を充分なものとするためには、分散
液のpHが４以下になる様に鉱酸水溶液の濃度を調整する
のが望ましい。
拌下で行なっても良いし、また、静置しておいても良
い。この処理の効果を充分なものとするためには、分散
液のpHが４以下になる様に鉱酸水溶液の濃度を調整する
のが望ましい。
処理温度は室温で充分であるが、加熱しても差し支えな
い。処理時間は30分以上で充分な効果を得ることが出来
る。
い。処理時間は30分以上で充分な効果を得ることが出来
る。
この様に酸処理を行ったシリカゲルを水洗した後乾燥す
る。
る。
以上の方法に依り、表面が滑らかで、異形粒子の混在す
ることない液体クロマトグラフィー用充填剤として高性
能なシリカゲルを得ることが出来る。
ることない液体クロマトグラフィー用充填剤として高性
能なシリカゲルを得ることが出来る。
以上の説明から明らかな様に本発明によれば、有機溶媒
あるいは有機材料を使用することなく、しかも煩雑な操
作を要せず、簡単な方法で安価に表面が滑らかで異形粒
子の混在することのない液体クロマトグラフィー用充填
剤として高性能なシリカゲルを得ることができる。
あるいは有機材料を使用することなく、しかも煩雑な操
作を要せず、簡単な方法で安価に表面が滑らかで異形粒
子の混在することのない液体クロマトグラフィー用充填
剤として高性能なシリカゲルを得ることができる。
次に本発明を実施例により更に具体的に説明する。
実施例１ 濃度15wt％の硫酸水溶液500gを50℃恒温槽に設置した反
応槽に供給した。パドル型攪拌翼で硫酸水溶液を攪拌し
ながら、SiO2濃度12wt％の珪酸ナトリウム水溶液約1260
gを添加し、pH3.5でSiO2濃度8.6wt％の活性なケイ酸を
調製した。約10分後該ケイ酸水溶液は増粘しゲル化を開
始した。この時攪拌を続行して、ヒドロゲルを破砕しな
がらゲル化を完了させ、シリカヒドロゲルスラリーを得
た。
応槽に供給した。パドル型攪拌翼で硫酸水溶液を攪拌し
ながら、SiO2濃度12wt％の珪酸ナトリウム水溶液約1260
gを添加し、pH3.5でSiO2濃度8.6wt％の活性なケイ酸を
調製した。約10分後該ケイ酸水溶液は増粘しゲル化を開
始した。この時攪拌を続行して、ヒドロゲルを破砕しな
がらゲル化を完了させ、シリカヒドロゲルスラリーを得
た。
シリカヒドロゲルスラリーに純水及び濃度約8wt％のア
ンモニア水溶液を加え、SiO2濃度約6wt％、pHを8.0に調
整した後80℃で２時間反応させた。
ンモニア水溶液を加え、SiO2濃度約6wt％、pHを8.0に調
整した後80℃で２時間反応させた。
反応終了後、過水洗した後、水に分散させダイノーミ
ル（ウィリー・Ａ・バッコーフェン社製）により湿式粉
砕し、次いで入口熱風温度100℃、出口熱風温度60℃に
セットしたディスクタイプのスプレードライヤーに依り
噴霧乾燥した。
ル（ウィリー・Ａ・バッコーフェン社製）により湿式粉
砕し、次いで入口熱風温度100℃、出口熱風温度60℃に
セットしたディスクタイプのスプレードライヤーに依り
噴霧乾燥した。
得られたシリカゲルを硫酸水溶液に懸濁させ、pH3.0で
室温において約１時間酸処理を行った後過水洗し、11
0℃で一夜乾燥した。
室温において約１時間酸処理を行った後過水洗し、11
0℃で一夜乾燥した。
得られたシリカゲルは、球状で表面は滑らかであり異形
粒子の混在はほとんど無かった。
粒子の混在はほとんど無かった。
また物性については表１に示す様に液体クロマトグラフ
ィー用充填剤として好適なものであった。
ィー用充填剤として好適なものであった。
更にシリカゲルに有機化合物を化学的に結合させた場合
の性能を調べる為、上記の方法で得られたシリカゲル20
gとキシレン120mlに懸濁させ、オクタデシルトリクロロ
シラン12gを加え60℃で３時間反応させた。反応終了
後、生成物をキシレンで洗浄し、次いでメタノールで洗
浄した後、80℃で一夜乾燥した。得られたゲルをカラム
（直径7.8mm×長さ300mm）に充填し、3wt％メタノール
水溶液を移動相として１−メチルニコチンアミドの溶出
挙動を調べた結果、試料の吸着がほとんど無く、液体ク
ロマトグラフィー用充填として高性能であった。
の性能を調べる為、上記の方法で得られたシリカゲル20
gとキシレン120mlに懸濁させ、オクタデシルトリクロロ
シラン12gを加え60℃で３時間反応させた。反応終了
後、生成物をキシレンで洗浄し、次いでメタノールで洗
浄した後、80℃で一夜乾燥した。得られたゲルをカラム
（直径7.8mm×長さ300mm）に充填し、3wt％メタノール
水溶液を移動相として１−メチルニコチンアミドの溶出
挙動を調べた結果、試料の吸着がほとんど無く、液体ク
ロマトグラフィー用充填として高性能であった。
実施例２ 濃度15wt％の硫酸水溶液100gを20℃恒温槽に設置した反
応槽に供給した。パドル型攪拌翼で硫酸水溶液を攪拌し
ながらSiO2濃度12wt％の珪酸ナトリウム水溶液約285gを
添加し、pH4.0でSiO2濃度8.9wt％の活性なケイ酸を調製
した。約50分後該ケイ酸水溶液はゲル化を開始した。攪
拌によりヒドロゲルを破砕しながらゲル化させ更に80℃
に昇温してゲル化を完了させた。
応槽に供給した。パドル型攪拌翼で硫酸水溶液を攪拌し
ながらSiO2濃度12wt％の珪酸ナトリウム水溶液約285gを
添加し、pH4.0でSiO2濃度8.9wt％の活性なケイ酸を調製
した。約50分後該ケイ酸水溶液はゲル化を開始した。攪
拌によりヒドロゲルを破砕しながらゲル化させ更に80℃
に昇温してゲル化を完了させた。
得られたシリカヒドロゲルスラリーを、続いて実施例１
と同様の操作を行い、シリカゲルを得た。
と同様の操作を行い、シリカゲルを得た。
得られたシリカゲルは、球状で表面は滑らかであり、異
形粒子の混在はほとんど無かった。また物性については
第１表に示す様に液体クロマトグラフィー用充填剤とし
て好適なものであった。
形粒子の混在はほとんど無かった。また物性については
第１表に示す様に液体クロマトグラフィー用充填剤とし
て好適なものであった。
更に実施例１と同様にしてオクタデシルトリクロロシラ
ンを化学結合させ１−メチルニコチンアミドの溶出挙動
を調べた結果試料の吸着がほとんど無く、液体クロマト
グラフィー用充填剤として高性能であった。
ンを化学結合させ１−メチルニコチンアミドの溶出挙動
を調べた結果試料の吸着がほとんど無く、液体クロマト
グラフィー用充填剤として高性能であった。
比較例１ 濃度15wt％の硫酸水溶液200gにSiO2濃度12wt％の珪酸ナ
トリウム水溶液約341gを添加して、pH4.0でSiO2濃度約1
2.6wt％の活性ケイ酸をえた以外は、実施例２と同じ条
件で実施した。
トリウム水溶液約341gを添加して、pH4.0でSiO2濃度約1
2.6wt％の活性ケイ酸をえた以外は、実施例２と同じ条
件で実施した。
得られたシリカゲルは球状で表面は滑らかで、異形粒子
の混在は無かったが第１表に示す様に平均粒子径，ポア
サイズが大きく、また細孔容積も大きく比較的弱いもの
であった。
の混在は無かったが第１表に示す様に平均粒子径，ポア
サイズが大きく、また細孔容積も大きく比較的弱いもの
であった。
比較例２ 実施例２と同様にして、ただしSiO2濃度7.5wt％の珪酸
ナトリウム446gを添加して、pH4.0でSiO2濃度6.1wt％の
活性なケイ酸を調製して実験を行った。
ナトリウム446gを添加して、pH4.0でSiO2濃度6.1wt％の
活性なケイ酸を調製して実験を行った。
得られたシリカゲルは、球状で、表面は滑らかで、異形
粒子の混在は無かったが、第１表に示す様にポアサイズ
が小さく細孔容積の小さいものであった。
粒子の混在は無かったが、第１表に示す様にポアサイズ
が小さく細孔容積の小さいものであった。
比較例３ 実施例２を同様にして、ただしアンモニアを添加せず、
pH6で80℃一夜処理して実施した。
pH6で80℃一夜処理して実施した。
得られたシリカゲルは、球状で表面は滑らかであり、異
形粒子の混在のほとんどなかったが、第１表に示す様に
ポアサイズの小さいものであった。
形粒子の混在のほとんどなかったが、第１表に示す様に
ポアサイズの小さいものであった。
比較例４ 実施例１と同様にして、ただし湿式粉砕せずに実施し
た。
た。
得られたシリカゲルは球状ではあるが、表面に凹凸があ
り、しかも異形粒子の混在するものであった。
り、しかも異形粒子の混在するものであった。
比較例５ 実施例１と同様にして、ただし酸処理を行わず実施し
た。
た。
得られたシリカゲルは球状で表面は滑らかであり、異形
粒子の混在は無かった。また物性については第１表に示
す様に望ましいものであったが、更に実施例１と同様に
してオクタデシルトリクロロシランを化学結合させ、１
−メチルニコチンアミドの溶出挙動を調べた結果、試料
はゲルに吸着されて溶出することが出来ず、液体クロマ
トグラフィー用充填剤として充分な性能を発現できなか
った。
粒子の混在は無かった。また物性については第１表に示
す様に望ましいものであったが、更に実施例１と同様に
してオクタデシルトリクロロシランを化学結合させ、１
−メチルニコチンアミドの溶出挙動を調べた結果、試料
はゲルに吸着されて溶出することが出来ず、液体クロマ
トグラフィー用充填剤として充分な性能を発現できなか
った。
Claims (1)
- 【請求項１】アルカリ金属珪酸塩の水溶液を鉱酸の水溶
液と反応させて得られるシリカヒドロゲルスラリーを噴
霧乾燥することに依りシリカゲルを得る方法において a.アルカリ金属珪酸塩の水溶液を鉱酸の水溶液と反応さ
せてpH3.0〜4.0でSiO2濃度6.5〜11.5wt％の活性なケイ
酸を生成させ b.該ケイ酸を撹拌下でゲル化させ c.アンモニア水溶液と反応させた後、過水洗し d.得られたヒドロゲルを湿式粉砕し e.噴霧乾燥後、鉱酸水溶液と接触させた後乾燥する ことを特徴とする液体クロマトグラフィー用シリカゲル
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60283018A JPH0699133B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60283018A JPH0699133B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62143817A JPS62143817A (ja) | 1987-06-27 |
| JPH0699133B2 true JPH0699133B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=17660159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60283018A Expired - Lifetime JPH0699133B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0699133B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0699135B2 (ja) * | 1989-02-20 | 1994-12-07 | 富士デヴィソン株式会社 | 球状シリカゲルの製造法 |
| JP4491118B2 (ja) * | 2000-07-27 | 2010-06-30 | 関西電力株式会社 | オゾンの取出方法 |
| BRPI0914369A2 (pt) | 2008-10-29 | 2015-10-20 | Du Pont | "processo para o tratamento de um fluxo de rejeitos" |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP60283018A patent/JPH0699133B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62143817A (ja) | 1987-06-27 |
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