JPH07114152A - 画像形成方法 - Google Patents
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】高コントラストの画像を、生態系や作業環境上
安全な現像液を用いて形成する方法を提供する。 【構成】塩化銀含有率が90モル%以上であり、かつ銀
1モル当たり1×10-6モル以上のロジウム、ルテニウ
ム、レニウムまたはオスミウム錯体を含有するハロゲン
化銀粒子からなるハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層
または他の親水性コロイド層中にヒドラジン化合物を含
有してなるハロゲン化銀写真感光材料を画像露光した
後、現像主薬として実質的にジヒドロキシベンゼン系現
像主薬を含有せず、アスコルビン酸、その異性体または
その類縁体を含有する現像液で現像処理することを特徴
とする画像形成方法。
安全な現像液を用いて形成する方法を提供する。 【構成】塩化銀含有率が90モル%以上であり、かつ銀
1モル当たり1×10-6モル以上のロジウム、ルテニウ
ム、レニウムまたはオスミウム錯体を含有するハロゲン
化銀粒子からなるハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層
または他の親水性コロイド層中にヒドラジン化合物を含
有してなるハロゲン化銀写真感光材料を画像露光した
後、現像主薬として実質的にジヒドロキシベンゼン系現
像主薬を含有せず、アスコルビン酸、その異性体または
その類縁体を含有する現像液で現像処理することを特徴
とする画像形成方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀写真感光材
料の画像形成方法に関し、さらに詳しくは超硬調な画像
を、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有しない現像
液で現像処理する画像形成方法に関するものである。
料の画像形成方法に関し、さらに詳しくは超硬調な画像
を、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有しない現像
液で現像処理する画像形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】グラフィックアーツの分野においては網
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真特性を示す画像形成システムが必要である。
高コントラストの写真特性を得る方法としては、古くか
らいわゆる“伝染現像効果”を利用したリス現像方式が
使用されてきたが、現像液が不安定で使いづらいという
欠点を有していた。良好な保存安定性を有する処理液で
現像し、超硬調な写真特性が得られる画像形成システム
が要望され、その1つとして米国特許第4,166,7
42号、同第4,168,977号、同第4,221,
857号、同第4,224,401号、同第4,24
3,739号、同第4,269,922号、同第4,2
72,606号、同第4,311,781号、同第4,
332号、878号、同第4,618,574号、同第
4,634,661号、同第4,681,836号、同
第5,650,746号等が開示されている。これらは
ヒドラジン化合物を添加した表面潜像型のハロゲン化銀
写真感光材料を、pH11.0〜12.3の安定なMQ
またはPQ現像液で処理し、γが10を越える超硬調の
ネガ画像を得るシステムであり、この方法によれば超硬
調で高感度の写真特性が得られ、現像液中に高濃度の亜
硫酸塩を添加することができるので、現像液の空気酸化
に対する安定性は従来のリス現像液に比べて飛躍的に向
上する。
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真特性を示す画像形成システムが必要である。
高コントラストの写真特性を得る方法としては、古くか
らいわゆる“伝染現像効果”を利用したリス現像方式が
使用されてきたが、現像液が不安定で使いづらいという
欠点を有していた。良好な保存安定性を有する処理液で
現像し、超硬調な写真特性が得られる画像形成システム
が要望され、その1つとして米国特許第4,166,7
42号、同第4,168,977号、同第4,221,
857号、同第4,224,401号、同第4,24
3,739号、同第4,269,922号、同第4,2
72,606号、同第4,311,781号、同第4,
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4,634,661号、同第4,681,836号、同
第5,650,746号等が開示されている。これらは
ヒドラジン化合物を添加した表面潜像型のハロゲン化銀
写真感光材料を、pH11.0〜12.3の安定なMQ
またはPQ現像液で処理し、γが10を越える超硬調の
ネガ画像を得るシステムであり、この方法によれば超硬
調で高感度の写真特性が得られ、現像液中に高濃度の亜
硫酸塩を添加することができるので、現像液の空気酸化
に対する安定性は従来のリス現像液に比べて飛躍的に向
上する。
【0003】集版、返し工程に用いられる明室用感光材
料においても、例えば網点原稿と線画原稿の重ね返し
を、原稿に忠実に行おうとすると、超硬調な画像形成法
が必要である。この目的に対してもヒドラジン化合物を
用いたシステムが必要であり、特開昭62−640号、
同62−235938号、同62−235939号、同
63−104046号、同63−103235号、同6
3−296031号、同63−314541号、同64
−13545号、等開示されている。しかしながら、こ
れらの現像系は、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を現
像主薬として用いた系であり、生態学的見地および毒物
学的見地からいくつかの不利な点がある。例えばハイド
ロキノンはアレルギー発現効果のため望ましくない成分
であり、1−フェニル−3−ピラゾリドン類は生分解生
が悪い成分である。また、高濃度の亜硫酸塩は高いCO
D(化学的酸素要求量)を示す。また、この系は米国特
許第4,975,354号に記載されているようなアミ
ン類を併用しているが、毒性、揮発性の点で好ましくな
い。
料においても、例えば網点原稿と線画原稿の重ね返し
を、原稿に忠実に行おうとすると、超硬調な画像形成法
が必要である。この目的に対してもヒドラジン化合物を
用いたシステムが必要であり、特開昭62−640号、
同62−235938号、同62−235939号、同
63−104046号、同63−103235号、同6
3−296031号、同63−314541号、同64
−13545号、等開示されている。しかしながら、こ
れらの現像系は、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を現
像主薬として用いた系であり、生態学的見地および毒物
学的見地からいくつかの不利な点がある。例えばハイド
ロキノンはアレルギー発現効果のため望ましくない成分
であり、1−フェニル−3−ピラゾリドン類は生分解生
が悪い成分である。また、高濃度の亜硫酸塩は高いCO
D(化学的酸素要求量)を示す。また、この系は米国特
許第4,975,354号に記載されているようなアミ
ン類を併用しているが、毒性、揮発性の点で好ましくな
い。
【0004】一方、アスコルビン酸などのエンジオール
類が現像主薬として機能することは公知であり、上記の
生態学上、あるいは毒物学上の問題のない現像主薬とし
て注目されている。例えば米国特許第2,668,54
9号、同3,826,654号では、少なくともpH1
2以上の高いアルカリ性の条件下で画像形成が可能であ
るとなされている。しかしこれらの画像形成方法では高
コントラストな画像を得ることはできない。アスコルビ
ン酸を用いた現像系でコントラストを上昇させる試みが
幾らかなされている。例えば、Zwickyは唯一の現像主薬
としてアスコルビン酸を用いた場合に、一種のリス効果
が発現するとしているが(J.Phot.Sci. 27巻、185 頁(1
979年))、ハイドロキノン現像系の場合に比べるとかな
りコントラストの低い系であった。また、米国特許第8
96,022号、特公昭49−46939号にはジ四級
アンモニウム塩とアスコルビン酸を併用する系が開示さ
れているが、現像促進効果はあってもコントラスト上昇
効果はほとんどみられない。また、特開昭3−2497
56号、同4−32838号にも、アスコルビン酸と四
級塩の併用効果が述べられているが得られた画像のコン
トラストは十分でない。さらに、特開平5−88306
号にアスコルビン酸を唯一の現像主薬として、pHを1
2.0以上に保つことによって高いコントラストが得ら
れるとしているが、現像液の安定性に問題がある。アス
コルビン酸と特定のヒドラジン化合物を主成分とする特
殊な現像液を用いて、感度が高く、ステイン、カブリの
低い現像液が出来るという例(米国特許第3,730,
727号)もあるが、コントラストの向上については何
ら言及されていない。ヒドラジン化合物を含有した感光
材料をアスコルビン類を含む現像主薬で現像処理するこ
とによって超硬調な性能を得る方法が、米国特許第4,
756,997号、同5,236,816号、WO93
/11456号、WO93/12463号に記載がある
も、抜き文字画質を改良する明室感材についての構成は
ない。
類が現像主薬として機能することは公知であり、上記の
生態学上、あるいは毒物学上の問題のない現像主薬とし
て注目されている。例えば米国特許第2,668,54
9号、同3,826,654号では、少なくともpH1
2以上の高いアルカリ性の条件下で画像形成が可能であ
るとなされている。しかしこれらの画像形成方法では高
コントラストな画像を得ることはできない。アスコルビ
ン酸を用いた現像系でコントラストを上昇させる試みが
幾らかなされている。例えば、Zwickyは唯一の現像主薬
としてアスコルビン酸を用いた場合に、一種のリス効果
が発現するとしているが(J.Phot.Sci. 27巻、185 頁(1
979年))、ハイドロキノン現像系の場合に比べるとかな
りコントラストの低い系であった。また、米国特許第8
96,022号、特公昭49−46939号にはジ四級
アンモニウム塩とアスコルビン酸を併用する系が開示さ
れているが、現像促進効果はあってもコントラスト上昇
効果はほとんどみられない。また、特開昭3−2497
56号、同4−32838号にも、アスコルビン酸と四
級塩の併用効果が述べられているが得られた画像のコン
トラストは十分でない。さらに、特開平5−88306
号にアスコルビン酸を唯一の現像主薬として、pHを1
2.0以上に保つことによって高いコントラストが得ら
れるとしているが、現像液の安定性に問題がある。アス
コルビン酸と特定のヒドラジン化合物を主成分とする特
殊な現像液を用いて、感度が高く、ステイン、カブリの
低い現像液が出来るという例(米国特許第3,730,
727号)もあるが、コントラストの向上については何
ら言及されていない。ヒドラジン化合物を含有した感光
材料をアスコルビン類を含む現像主薬で現像処理するこ
とによって超硬調な性能を得る方法が、米国特許第4,
756,997号、同5,236,816号、WO93
/11456号、WO93/12463号に記載がある
も、抜き文字画質を改良する明室感材についての構成は
ない。
【0005】集版、かえし工程に用いられる明室用感光
材料は、文字あるいは網点画像の形成された現像処理済
みフィルムを原稿として、これらの原稿とかえし用感光
材料とを密着露光して、ネガ像/ポジ像変換あるいはポ
ジ像/ポジ像変換を行なうのに利用される感光材料であ
るが、 網点画像および線画、文字画像が、おのおのその網
点面積および線巾、文字画像巾に従ってネガ像/ポジ像
変換される性能を有すること 網点画像のトーン調節性、文字線画像の線巾調節性
が可能である性能を有すること が要望され、それに答える明室かえし用感光材料が提供
されてきた。しかるに、重ね返しによる抜文字画像形成
という高度な画像変換作業においては、明室用感光材料
を用いた明室かえし工程による従来の方法では、従来の
明室用かえし感光材料を用いた明室かえし工程による方
法にくらべて、抜き文字画像の品質が劣化してしまうと
いう欠点をもっていた。
材料は、文字あるいは網点画像の形成された現像処理済
みフィルムを原稿として、これらの原稿とかえし用感光
材料とを密着露光して、ネガ像/ポジ像変換あるいはポ
ジ像/ポジ像変換を行なうのに利用される感光材料であ
るが、 網点画像および線画、文字画像が、おのおのその網
点面積および線巾、文字画像巾に従ってネガ像/ポジ像
変換される性能を有すること 網点画像のトーン調節性、文字線画像の線巾調節性
が可能である性能を有すること が要望され、それに答える明室かえし用感光材料が提供
されてきた。しかるに、重ね返しによる抜文字画像形成
という高度な画像変換作業においては、明室用感光材料
を用いた明室かえし工程による従来の方法では、従来の
明室用かえし感光材料を用いた明室かえし工程による方
法にくらべて、抜き文字画像の品質が劣化してしまうと
いう欠点をもっていた。
【0006】重ね返しによる抜き文字画像形成の方法に
ついて、もうすこし詳しく述べるならば、透明もしくは
半透明の貼りこみベース(通常100μm 程度の厚みを
有するポリエチレンテレフタレートフィルムが使用され
る)に、文字あるいは線画像の形成されたフィルム(線
画原稿)を貼りこんだものと、透明または半透明の貼り
こみベースに網点画像の形成されたフィルム(網点原
稿)を貼りこんだものと重ね合わって原稿とし、上記の
網点原稿に返し用感光材料の乳剤面を密着させて露光を
行なう。露光後現像処理をほどこし、網点画像中に線画
の白ヌケ部分を形成させる。このような抜文字画像の形
成方法において重要な点は、網点原稿および線画原稿お
のおのの網点面積および画線巾に従ってネガ像/ポジ像
変換が行なわれることが理想である。しかし、網点原稿
は返し用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光される
のに対して、線画原稿を貼りこみベースおよび網点原稿
を中間に介して返し用感光材料に露光されることにな
る。このため網点原稿を忠実にネガ像/ポジ像変換をす
る露光量を与えると、線画原稿は貼りこみベースおよび
網点原稿によるスペーサーを介したピンボケ露光となる
ため、線画の白ヌケ部分の画線巾が狭くなってしまう。
これが抜文字画像の品質が劣化してしまう原因である。
ついて、もうすこし詳しく述べるならば、透明もしくは
半透明の貼りこみベース(通常100μm 程度の厚みを
有するポリエチレンテレフタレートフィルムが使用され
る)に、文字あるいは線画像の形成されたフィルム(線
画原稿)を貼りこんだものと、透明または半透明の貼り
こみベースに網点画像の形成されたフィルム(網点原
稿)を貼りこんだものと重ね合わって原稿とし、上記の
網点原稿に返し用感光材料の乳剤面を密着させて露光を
行なう。露光後現像処理をほどこし、網点画像中に線画
の白ヌケ部分を形成させる。このような抜文字画像の形
成方法において重要な点は、網点原稿および線画原稿お
のおのの網点面積および画線巾に従ってネガ像/ポジ像
変換が行なわれることが理想である。しかし、網点原稿
は返し用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光される
のに対して、線画原稿を貼りこみベースおよび網点原稿
を中間に介して返し用感光材料に露光されることにな
る。このため網点原稿を忠実にネガ像/ポジ像変換をす
る露光量を与えると、線画原稿は貼りこみベースおよび
網点原稿によるスペーサーを介したピンボケ露光となる
ため、線画の白ヌケ部分の画線巾が狭くなってしまう。
これが抜文字画像の品質が劣化してしまう原因である。
【0007】上記問題点を解決するためにヒドラジン化
合物を用いたシステムが特開昭62−80640号、同
62−235938号、同62−235939号、同6
3−104046号、同63−103235号、同63
−296031号、同63−314541号、同64−
13545号、に開示されている。しかしながらこの方
法では、画質は著しく良化するものの、自現機処理時に
物理現像ムラが生じ易くなるという問題が生じた。物理
現像ムラとは、処理後非画像部に物理現像銀が発生する
処理ムラである。この処理ムラは、現像液のpHが高い
ため、定着液への浸漬時に感材中のpH低下が遅いこと
に起因する。従って、処理ムラの発生しない画像形成方
法が望まれていた。
合物を用いたシステムが特開昭62−80640号、同
62−235938号、同62−235939号、同6
3−104046号、同63−103235号、同63
−296031号、同63−314541号、同64−
13545号、に開示されている。しかしながらこの方
法では、画質は著しく良化するものの、自現機処理時に
物理現像ムラが生じ易くなるという問題が生じた。物理
現像ムラとは、処理後非画像部に物理現像銀が発生する
処理ムラである。この処理ムラは、現像液のpHが高い
ため、定着液への浸漬時に感材中のpH低下が遅いこと
に起因する。従って、処理ムラの発生しない画像形成方
法が望まれていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的は
グラフィックアーツ分野で求められる高いコントラスト
の画像が、生態系や作業環境に対して問題のない現像液
を用いて得られる新規な画像形成方法を提供することに
ある。本発明の第2の目的は、抜き文字画質、セーフラ
イト画質の明室用ハロゲン化銀写真感光材料と処理ムラ
の少ない処理方法を提供することにある。
グラフィックアーツ分野で求められる高いコントラスト
の画像が、生態系や作業環境に対して問題のない現像液
を用いて得られる新規な画像形成方法を提供することに
ある。本発明の第2の目的は、抜き文字画質、セーフラ
イト画質の明室用ハロゲン化銀写真感光材料と処理ムラ
の少ない処理方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、塩化銀含
有率が90モル%以上のハロゲン化銀粒子からなり、か
つ銀1モル当たり1×10-6モル以上のロジウム、ルテ
ニウム、レニウムまたはオスミウム化合物を含有するハ
ロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または他の親水性コ
ロイド層中にヒドラジン化合物を含有してなるハロゲン
化銀写真感光材料を画像露光した後、現像主薬として実
質的にジヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有せず、下
記一般式(I)で表わされる現像主薬を含有する現像液
で現像処理することを特徴とする画像形成方法によって
達成された。一般式(I)
有率が90モル%以上のハロゲン化銀粒子からなり、か
つ銀1モル当たり1×10-6モル以上のロジウム、ルテ
ニウム、レニウムまたはオスミウム化合物を含有するハ
ロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または他の親水性コ
ロイド層中にヒドラジン化合物を含有してなるハロゲン
化銀写真感光材料を画像露光した後、現像主薬として実
質的にジヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有せず、下
記一般式(I)で表わされる現像主薬を含有する現像液
で現像処理することを特徴とする画像形成方法によって
達成された。一般式(I)
【0010】
【化2】
【0011】式中、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ
基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルア
ミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、メルカプト基またはアルキルチオ基を
表す。P、Qはヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコ
キシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル
基、スルホ基、スルホアルキル基、アミノ基、アミノア
ルキル基、アルキル基またはアリール基を表すか、また
は、PとQは結合して、R1 、R2 が置換している二つ
のビニル炭素原子とYが置換している炭素原子と共に5
〜8員環を形成する原子群を表す。Yは=0、または=
N−R3 を表す。R3 は水素原子、ヒドロキシル基、ア
ルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、スルホア
ルキル基、カルボキシアルキル基を表す。
基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルア
ミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、メルカプト基またはアルキルチオ基を
表す。P、Qはヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコ
キシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル
基、スルホ基、スルホアルキル基、アミノ基、アミノア
ルキル基、アルキル基またはアリール基を表すか、また
は、PとQは結合して、R1 、R2 が置換している二つ
のビニル炭素原子とYが置換している炭素原子と共に5
〜8員環を形成する原子群を表す。Yは=0、または=
N−R3 を表す。R3 は水素原子、ヒドロキシル基、ア
ルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、スルホア
ルキル基、カルボキシアルキル基を表す。
【0012】次に、本発明に用いられる現像液について
説明する。本発明の現像液には、前述のように実質的に
ジヒドロキシベンゼン系の現像主薬は含有されておら
ず、主たる現像主薬は一般式(I)で表される化合物で
ある。本発明の現像液には補助現像主薬として、1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン系の補助現像主薬および/ま
たはp−アミノフェノ−ル系補助現像主薬を含有してい
るのが好ましい。
説明する。本発明の現像液には、前述のように実質的に
ジヒドロキシベンゼン系の現像主薬は含有されておら
ず、主たる現像主薬は一般式(I)で表される化合物で
ある。本発明の現像液には補助現像主薬として、1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン系の補助現像主薬および/ま
たはp−アミノフェノ−ル系補助現像主薬を含有してい
るのが好ましい。
【0013】本発明の現像主薬である一般式(I)の化
合物について詳細に説明する。一般式(I)において、
R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ基、アミノ基(置換基
としては炭素数1〜10のアルキル基、例えばメチル
基、エチル基、n−ブチル基、ヒドロキシエチル基など
を置換基として有するものを含む。)、アシルアミノ基
(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など)、アル
キルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ基な
ど)、アリールスルホニルアミノ基(ベンゼンスルホニ
ルアミノ基、p−トルエンスルホニルアミノ基など)、
アルコキシカルボニルアミノ基(メトキシカルボニルア
ミノ基など)、メルカプト基、アルキルチオ基(メチル
チオ基、エチルチオ基など)を表す。R1 、R2 として
好ましい例として、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキル
スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基を挙
げることができる。
合物について詳細に説明する。一般式(I)において、
R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ基、アミノ基(置換基
としては炭素数1〜10のアルキル基、例えばメチル
基、エチル基、n−ブチル基、ヒドロキシエチル基など
を置換基として有するものを含む。)、アシルアミノ基
(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など)、アル
キルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ基な
ど)、アリールスルホニルアミノ基(ベンゼンスルホニ
ルアミノ基、p−トルエンスルホニルアミノ基など)、
アルコキシカルボニルアミノ基(メトキシカルボニルア
ミノ基など)、メルカプト基、アルキルチオ基(メチル
チオ基、エチルチオ基など)を表す。R1 、R2 として
好ましい例として、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキル
スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基を挙
げることができる。
【0014】Xは炭素原子あるいは酸素原子あるいは窒
素原子から構成され、R1 、R2 が置換している二つの
ビニル炭素とカルボニル炭素と共同でXは5〜8員環を
構成する。Xの具体例として、−O−、−C(R3)(R
4)−、−C(R5)=、−C(=O)−、−N(R6)−、
−N=、を組み合わせて構成される。ただしR3 、
R4 、R5 、R6 は水素原子、炭素数1〜10の置換し
てもよいアルキル基(置換基としてヒドロキシ基、カル
ボキシ基、スルホ基を挙げることができる)、炭素数6
〜15の置換してもよいアリール基(置換基としてアル
キル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、
スルホ基を挙げることができる)、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基を表す。更にこの5〜8員環には飽和あるいは
不飽和の縮合環を形成してもよい。
素原子から構成され、R1 、R2 が置換している二つの
ビニル炭素とカルボニル炭素と共同でXは5〜8員環を
構成する。Xの具体例として、−O−、−C(R3)(R
4)−、−C(R5)=、−C(=O)−、−N(R6)−、
−N=、を組み合わせて構成される。ただしR3 、
R4 、R5 、R6 は水素原子、炭素数1〜10の置換し
てもよいアルキル基(置換基としてヒドロキシ基、カル
ボキシ基、スルホ基を挙げることができる)、炭素数6
〜15の置換してもよいアリール基(置換基としてアル
キル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、
スルホ基を挙げることができる)、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基を表す。更にこの5〜8員環には飽和あるいは
不飽和の縮合環を形成してもよい。
【0015】この5〜8員環の例として、ジヒドロフラ
ノン環、ジヒドロピロン環、ピラノン環、シクロペンテ
ノン環、シクロヘキセノン環、ピロリノン環、ピラゾリ
ノン環、ピリドン環、アザシクロヘキセノン環、ウラシ
ル環などが挙げられ、好ましい5〜6員環の例として、
ジヒドロフラノン環、シクロペンテノン環、シクロヘキ
セノン環、ピラゾリノン環、アザシクロヘキセノン環、
ウラシル環を挙げることができる。
ノン環、ジヒドロピロン環、ピラノン環、シクロペンテ
ノン環、シクロヘキセノン環、ピロリノン環、ピラゾリ
ノン環、ピリドン環、アザシクロヘキセノン環、ウラシ
ル環などが挙げられ、好ましい5〜6員環の例として、
ジヒドロフラノン環、シクロペンテノン環、シクロヘキ
セノン環、ピラゾリノン環、アザシクロヘキセノン環、
ウラシル環を挙げることができる。
【0016】Yは=O、または=N−R3 で構成される
基である。ここでR3 は水素原子、ヒドロキシル基、ア
ルキル基(例えばメチル、エチル)、アシル基(例えば
アセチル)、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシ
メチル、ヒドロキシエチル)、スルホアルキル基(例え
ばスルホメチル、スルホエチル)、カルボキシアルキル
基(例えばカルボキシメチル、カルボキシエチル)を表
わす。以下に一般式(I)の化合物の具体例を示すが本
発明はこれに限定されるものではない。
基である。ここでR3 は水素原子、ヒドロキシル基、ア
ルキル基(例えばメチル、エチル)、アシル基(例えば
アセチル)、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシ
メチル、ヒドロキシエチル)、スルホアルキル基(例え
ばスルホメチル、スルホエチル)、カルボキシアルキル
基(例えばカルボキシメチル、カルボキシエチル)を表
わす。以下に一般式(I)の化合物の具体例を示すが本
発明はこれに限定されるものではない。
【0017】
【化3】
【0018】
【化4】
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】
【化8】
【0023】この中で、好ましいのは、アスコルビン酸
あるいはエリソルビン酸(立体構造異性体)である。一
般式(I)の化合物の使用量の一般的な範囲としては、
現像液1リットル当り、5×10-3モル〜1モル、特に
好ましくは10-2モル〜0.5モルである。
あるいはエリソルビン酸(立体構造異性体)である。一
般式(I)の化合物の使用量の一般的な範囲としては、
現像液1リットル当り、5×10-3モル〜1モル、特に
好ましくは10-2モル〜0.5モルである。
【0024】補助現像主薬としての、1−フェニル−3
−ピラゾリドン又はその誘導体の例としては1−フェニ
ル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチ
ル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4
−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル
−4,4−ジヒドロキシルメチル−3−ピラゾリドン、
1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン、1−p
−アミノフェニル−4,4ジメチル−3−ピラゾリド
ン、1−p−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドンなどがある。p−アミノフェノー
ル系補助現像主薬としては、N−メチルーp−アミノフ
ェノール、p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキ
シエチル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)グリシン、2−メチル−p−アミノフェ
ノ−ル、p−ベンジルアミノフェノール等があるが、な
かでもN−メチル−p−アミノフェノールが好ましい。
本発明の一般式(I)で表される化合物と1−フェニル
−3−ピラゾリドン類又はp−アミノフェノール類との
組合せを用いる場合には、後者を通常10-3モル/リッ
トル〜0.1モル/リットル、より好ましくは10-3モ
ル/リットル〜0.06モル/リットルの量で用いるの
が好ましい。
−ピラゾリドン又はその誘導体の例としては1−フェニ
ル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチ
ル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4
−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル
−4,4−ジヒドロキシルメチル−3−ピラゾリドン、
1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン、1−p
−アミノフェニル−4,4ジメチル−3−ピラゾリド
ン、1−p−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドンなどがある。p−アミノフェノー
ル系補助現像主薬としては、N−メチルーp−アミノフ
ェノール、p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキ
シエチル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)グリシン、2−メチル−p−アミノフェ
ノ−ル、p−ベンジルアミノフェノール等があるが、な
かでもN−メチル−p−アミノフェノールが好ましい。
本発明の一般式(I)で表される化合物と1−フェニル
−3−ピラゾリドン類又はp−アミノフェノール類との
組合せを用いる場合には、後者を通常10-3モル/リッ
トル〜0.1モル/リットル、より好ましくは10-3モ
ル/リットル〜0.06モル/リットルの量で用いるの
が好ましい。
【0025】本発明において、実質的にジヒドロキシベ
ンゼン類は含まないとは、ジヒドロキシベンゼン類の現
像液中での濃度が一般式(I) の化合物や上記の補助現
像主薬の量に比して取るに足らないこと(例えば5×1
0-4モル/リットル以下であること)を意味する。本発
明の現像液は、好ましくはジヒドロキシベンゼン類を全
く含まないものである。
ンゼン類は含まないとは、ジヒドロキシベンゼン類の現
像液中での濃度が一般式(I) の化合物や上記の補助現
像主薬の量に比して取るに足らないこと(例えば5×1
0-4モル/リットル以下であること)を意味する。本発
明の現像液は、好ましくはジヒドロキシベンゼン類を全
く含まないものである。
【0026】本発明の現像液には、保恒剤として亜硫酸
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、重亜硫
酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒ
ド重亜硫酸ナトリウム等の亜硫酸塩を添加してもよい。
亜硫酸塩は0.01モル/l以上で用いられる。多量に
用いるとハロゲン化銀乳剤粒子を溶解して、銀汚れの原
因となる。また、COD(化学的酸素要求量)を高める
原因ともなるため、添加量は必要最小限にすべきであ
る。
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、重亜硫
酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒ
ド重亜硫酸ナトリウム等の亜硫酸塩を添加してもよい。
亜硫酸塩は0.01モル/l以上で用いられる。多量に
用いるとハロゲン化銀乳剤粒子を溶解して、銀汚れの原
因となる。また、COD(化学的酸素要求量)を高める
原因ともなるため、添加量は必要最小限にすべきであ
る。
【0027】本発明の現像処理に用いる現像液のpHは
10.0〜12.0までの範囲が好ましい。pHが1
2.0以上になると、非画像部のステイン、黒ポツが急
増し、好ましくない。またpH10.0以下では十分な
コントラストが得られない。pHの設定のために用いる
アルカリ剤には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどがある。本発明の現像
液には、特開昭60−93433号に記載の糖類(例え
ばサッカロ−ス)、オキシム類(例えばアセトキシ
ム)、フェノ−ル類(例えば5−スルホサリチル酸)、
ケイ酸塩、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム
の如きpH緩衝剤を用いることができる。緩衝剤の濃度
は0.3モル/リットル以上が好ましい。ホウ酸、メタ
ホウ酸ナトリウムのようなホウ素化合物は、一般式
(I)で表される本発明の化合物と反応して不活化させ
る恐れがあり好ましくない。
10.0〜12.0までの範囲が好ましい。pHが1
2.0以上になると、非画像部のステイン、黒ポツが急
増し、好ましくない。またpH10.0以下では十分な
コントラストが得られない。pHの設定のために用いる
アルカリ剤には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどがある。本発明の現像
液には、特開昭60−93433号に記載の糖類(例え
ばサッカロ−ス)、オキシム類(例えばアセトキシ
ム)、フェノ−ル類(例えば5−スルホサリチル酸)、
ケイ酸塩、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム
の如きpH緩衝剤を用いることができる。緩衝剤の濃度
は0.3モル/リットル以上が好ましい。ホウ酸、メタ
ホウ酸ナトリウムのようなホウ素化合物は、一般式
(I)で表される本発明の化合物と反応して不活化させ
る恐れがあり好ましくない。
【0028】臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑
制剤、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチル
セロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタ
ノールの如き有機溶剤、5−ニトロインダゾールなどの
インダゾール系化合物、2−メルカプトベンツイミダゾ
ール−5−スルホン酸ナトリウムなどのベンツイミダゾ
−ル系化合物、、5−メチルベンツトリアゾールなどの
ベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤を含んで
もよく、Research Disclosure 第 176巻、No.17643、第
XXI項(12 月号、1978年) に記載された現像促進剤を
含んでもよい。また米国特許4,269,929号、特
開昭61−267759号及び特願平1−29418号
に記載されているアミン化合物を含有してもよい。更に
必要に応じて色調剤、界面活性剤、硬膜剤などを含んで
もよい。本発明の現像液には、ヨ−ロッパ特許公開13
6582号、英国特許第958678号、米国特許第3
232761号、特開昭56−106244号に記載の
アルカノ−ルアミンなどのアミノ化合物を現像促進、コ
ントラスト上昇などの目的で用いることができる。
制剤、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチル
セロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタ
ノールの如き有機溶剤、5−ニトロインダゾールなどの
インダゾール系化合物、2−メルカプトベンツイミダゾ
ール−5−スルホン酸ナトリウムなどのベンツイミダゾ
−ル系化合物、、5−メチルベンツトリアゾールなどの
ベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤を含んで
もよく、Research Disclosure 第 176巻、No.17643、第
XXI項(12 月号、1978年) に記載された現像促進剤を
含んでもよい。また米国特許4,269,929号、特
開昭61−267759号及び特願平1−29418号
に記載されているアミン化合物を含有してもよい。更に
必要に応じて色調剤、界面活性剤、硬膜剤などを含んで
もよい。本発明の現像液には、ヨ−ロッパ特許公開13
6582号、英国特許第958678号、米国特許第3
232761号、特開昭56−106244号に記載の
アルカノ−ルアミンなどのアミノ化合物を現像促進、コ
ントラスト上昇などの目的で用いることができる。
【0029】本発明に用いる定着液はチオ硫酸塩を含む
水溶液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜
7.0を有する。定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸アンモニウムなどがあるが、定着速度の点から
チオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量
は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約6モル
/リットルある。定着液には硬膜剤として作用する水溶
性アルミニウム塩を含んでもよく、それらには、例えば
塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなど
がある。定着液には、酒石酸、クエン酸、グルコン酸あ
るいはそれらの誘導体を単独であるいは2種以上用いる
ことができる。これらの化合物は定着液1リットルにつ
き0.005モル/リットル以上含むものが有効で、特
に0.01モル/リットル〜0.03モル/リットルが
特に有効である。定着液には所望により保恒剤(例え
ば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢
酸、ホウ酸)pH調整剤(例えば、硫酸、アンモニ
ア)、硬水軟化能のあるキレート剤、界面活性剤、湿潤
剤、定着促進剤、特開昭62−78551号記載の化合
物を含むことができる。定着促進剤としては、例えば特
開昭45−35754号、同58−122535号、同
58−122536号公報記載のチオ尿素誘導体、分子
内に3重結合を持つアルコ−ル、米国特許第41264
59号記載のチオエ−テル化合物などが挙げられ、また
特開昭2−44355号記載の化合物を用いてもよい。
また、色素溶出促進剤として、特開昭64−4739号
記載の化合物を用いることができる。
水溶液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜
7.0を有する。定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸アンモニウムなどがあるが、定着速度の点から
チオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量
は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約6モル
/リットルある。定着液には硬膜剤として作用する水溶
性アルミニウム塩を含んでもよく、それらには、例えば
塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなど
がある。定着液には、酒石酸、クエン酸、グルコン酸あ
るいはそれらの誘導体を単独であるいは2種以上用いる
ことができる。これらの化合物は定着液1リットルにつ
き0.005モル/リットル以上含むものが有効で、特
に0.01モル/リットル〜0.03モル/リットルが
特に有効である。定着液には所望により保恒剤(例え
ば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢
酸、ホウ酸)pH調整剤(例えば、硫酸、アンモニ
ア)、硬水軟化能のあるキレート剤、界面活性剤、湿潤
剤、定着促進剤、特開昭62−78551号記載の化合
物を含むことができる。定着促進剤としては、例えば特
開昭45−35754号、同58−122535号、同
58−122536号公報記載のチオ尿素誘導体、分子
内に3重結合を持つアルコ−ル、米国特許第41264
59号記載のチオエ−テル化合物などが挙げられ、また
特開昭2−44355号記載の化合物を用いてもよい。
また、色素溶出促進剤として、特開昭64−4739号
記載の化合物を用いることができる。
【0030】本発明における現像処理方法では、現像、
定着工程の後、水洗水または安定化液で処理され、次い
で乾燥される。ハロゲン化銀感光材料1m2 当たり、3
リットル以下の補充量(ゼロ、すなわちため水水洗も含
む)の水洗水または安定化液で処理することもできる。
すなわち節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に清浄な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率のよい水洗がなさ
れる。水洗を小量の水で行う場合には、特開昭63−1
8350号、同62−287252号などに記載のスク
イズロ−ラ−、クロスオ−バ−ロ−ラ−の洗浄槽を設け
ることが好ましい。また、小量水洗時に問題となる公害
負荷の軽減のために種々の酸化剤添加やフィルタ−濾過
を組み合わせてもよい。上記の節水処理または無配管処
理には、水洗水または安定化液に防ばい手段を施すこと
が好ましい。
定着工程の後、水洗水または安定化液で処理され、次い
で乾燥される。ハロゲン化銀感光材料1m2 当たり、3
リットル以下の補充量(ゼロ、すなわちため水水洗も含
む)の水洗水または安定化液で処理することもできる。
すなわち節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に清浄な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率のよい水洗がなさ
れる。水洗を小量の水で行う場合には、特開昭63−1
8350号、同62−287252号などに記載のスク
イズロ−ラ−、クロスオ−バ−ロ−ラ−の洗浄槽を設け
ることが好ましい。また、小量水洗時に問題となる公害
負荷の軽減のために種々の酸化剤添加やフィルタ−濾過
を組み合わせてもよい。上記の節水処理または無配管処
理には、水洗水または安定化液に防ばい手段を施すこと
が好ましい。
【0031】防ばい手段としては、特開昭60−263
939号に記された紫外線照射法、同60−26394
0号に記された磁場を用いる方法、同61−13163
2号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方
法、特開昭62−115154号、同62−15395
2号、同62−220951号、同62−209532
号に記載の防菌剤を用いる方法を用いることができる。
さらには、L.F.West,"Water Quality Criteria" Photo.
Sci. & Eng.,Vol.9 No.6(1965) 、M.W.Reach,"Microbi
ological Growths in Motion- picture Processing",SM
PTE Jounal Vol.85(1976) 、R.O.Deegan,"Photo Proces
sing Wash Water Biocides",J. Imaging Tech.,Vol.10,
No.6(1984)、および特開昭57−8542号、同57−
56143号、同58−105145号、同57−13
2146号、同58−18631号、同57−9753
0号、同57−157244号などに記載されている防
菌剤、防ばい剤、界面活性剤などを併用することもでき
る。さらに、水洗浴または安定化浴には、R.T.Kreiman
著、J. Imaging Tech.,10(6)242 頁(1984)に記載された
イソチアゾリジン系化合物、Research Disclosure第2
05巻、No.20526(1981,No.4) に記載された化合物など
を防菌剤(Microbiocide)として併用することもできる。
その他、「防菌防黴の化学」堀口博著、三共出版(昭和
57)、「防菌防黴技術ハンドブック」日本防菌防黴学
会・博報堂(昭和61)に記載されているような化合物
を含んでもよい。
939号に記された紫外線照射法、同60−26394
0号に記された磁場を用いる方法、同61−13163
2号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方
法、特開昭62−115154号、同62−15395
2号、同62−220951号、同62−209532
号に記載の防菌剤を用いる方法を用いることができる。
さらには、L.F.West,"Water Quality Criteria" Photo.
Sci. & Eng.,Vol.9 No.6(1965) 、M.W.Reach,"Microbi
ological Growths in Motion- picture Processing",SM
PTE Jounal Vol.85(1976) 、R.O.Deegan,"Photo Proces
sing Wash Water Biocides",J. Imaging Tech.,Vol.10,
No.6(1984)、および特開昭57−8542号、同57−
56143号、同58−105145号、同57−13
2146号、同58−18631号、同57−9753
0号、同57−157244号などに記載されている防
菌剤、防ばい剤、界面活性剤などを併用することもでき
る。さらに、水洗浴または安定化浴には、R.T.Kreiman
著、J. Imaging Tech.,10(6)242 頁(1984)に記載された
イソチアゾリジン系化合物、Research Disclosure第2
05巻、No.20526(1981,No.4) に記載された化合物など
を防菌剤(Microbiocide)として併用することもできる。
その他、「防菌防黴の化学」堀口博著、三共出版(昭和
57)、「防菌防黴技術ハンドブック」日本防菌防黴学
会・博報堂(昭和61)に記載されているような化合物
を含んでもよい。
【0032】本発明の方法において少量の水洗水で水洗
するときには特開昭63−143548号のような水洗
工程の構成をとることも好ましい。さらに、本発明の方
法で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に
応じて補充することによって生ずる水洗または安定化浴
からのオーバーフローの一部または全部は特開昭60−
235133号に記載されているようにその前の処理工
程である定着能を有する処理液に利用することもでき
る。本発明における現像処理では、現像時間が5秒〜3
分、好ましくは8秒から2分、その現像温度は18°C
〜50°Cが好ましく、24°C〜40°Cがより好ま
しい。
するときには特開昭63−143548号のような水洗
工程の構成をとることも好ましい。さらに、本発明の方
法で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に
応じて補充することによって生ずる水洗または安定化浴
からのオーバーフローの一部または全部は特開昭60−
235133号に記載されているようにその前の処理工
程である定着能を有する処理液に利用することもでき
る。本発明における現像処理では、現像時間が5秒〜3
分、好ましくは8秒から2分、その現像温度は18°C
〜50°Cが好ましく、24°C〜40°Cがより好ま
しい。
【0033】定着温度および時間は約18°C〜約50
°Cで5秒から3分が好ましく、24°C〜40°Cで
6秒〜2分がより好ましい。この範囲内で十分な定着が
出来、残色が生じない程度に増感色素を溶出させること
ができる水洗(または安定化)における温度および時間
は5〜50°C、6秒〜3分が好ましく、15〜40°
C、8秒〜2分がより好ましい。現像、定着および水洗
(または安定化)された感光材料は水洗水をしぼり切
る、すなわちスクイズローラーを経て乾燥される。乾燥
は約40°C〜100°Cで行われ、乾燥時間は周囲の
状況によって適宜変えられるが、通常は約4秒〜3分で
よく、特に好ましくは40°C〜80°Cで約5秒〜1
分である。Dry to Dryで100秒以下の現像
処理をするときには、迅速処理特有の現像ムラを防止す
るために特開昭63−151943号に記載されている
ようなゴム材質のローラーを現像タンク出口のローラー
に適用することや、特開昭63−151944号に記載
されているように現像タンク内の現像液攪拌のための吐
出流速を10m/分以上にすることや、さらには、特開
昭63−264758号に記載されているように、少な
くとも現像処理中は待機中より強い攪拌をすることがよ
り好ましい。さらに迅速処理のためには、とくに定着タ
ンクのローラーの構成は、定着速度を速めるために、対
向ローラーであることがより好ましい。対向ローラーで
構成することによって、ローラーの本数を少なくでき、
処理タンクを小さくできる。すなわち自現機をよりコン
パクトにすることが可能となる。
°Cで5秒から3分が好ましく、24°C〜40°Cで
6秒〜2分がより好ましい。この範囲内で十分な定着が
出来、残色が生じない程度に増感色素を溶出させること
ができる水洗(または安定化)における温度および時間
は5〜50°C、6秒〜3分が好ましく、15〜40°
C、8秒〜2分がより好ましい。現像、定着および水洗
(または安定化)された感光材料は水洗水をしぼり切
る、すなわちスクイズローラーを経て乾燥される。乾燥
は約40°C〜100°Cで行われ、乾燥時間は周囲の
状況によって適宜変えられるが、通常は約4秒〜3分で
よく、特に好ましくは40°C〜80°Cで約5秒〜1
分である。Dry to Dryで100秒以下の現像
処理をするときには、迅速処理特有の現像ムラを防止す
るために特開昭63−151943号に記載されている
ようなゴム材質のローラーを現像タンク出口のローラー
に適用することや、特開昭63−151944号に記載
されているように現像タンク内の現像液攪拌のための吐
出流速を10m/分以上にすることや、さらには、特開
昭63−264758号に記載されているように、少な
くとも現像処理中は待機中より強い攪拌をすることがよ
り好ましい。さらに迅速処理のためには、とくに定着タ
ンクのローラーの構成は、定着速度を速めるために、対
向ローラーであることがより好ましい。対向ローラーで
構成することによって、ローラーの本数を少なくでき、
処理タンクを小さくできる。すなわち自現機をよりコン
パクトにすることが可能となる。
【0034】本発明のヒドラジン誘導体について説明す
る。ヒドラジン誘導体は造核剤として使用され、RESEAR
CH DISCLOSURE Item23516(1983年11月号、
P.346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許第4,080,207号、同4,269,929号、
同4,276,364号、同4,278,748号、同
4,385,108号、同4,459,347号、同
4,560,638号、同4,478,928号、英国
特許第2,011,391B号、特開昭60−1797
34号、同62−270948号、同63−29751
号、同61−170733号、同61−270744
号、欧州特許第217,310号、同356,898
号、米国特許第4,686,167号、特開昭62−1
78246号、同63−32538号、同63−104
047号、同63−121838号、同63−1293
37号、同63−223744号、同63−23424
4号、同63−234245号、同63−234246
号、同63−294552号、同63−306438
号、同64−10233号、特開平1−90439号、
同1−100530号、同1−105941号、同1−
105943号、同1−276128号、同1−280
747号、同1−283548号、同1−283549
号、同1−285940号、同2−2541号、同2−
77057号、同2−139538号、同2−1962
34号、同2−196235号、同2−198440
号、同2−198441、同2−198442号、同2
−220042号、同2−221953号、同2−22
1954号、同2−302750号、同2−30455
0号に記載された公知のものを用いることができる。
る。ヒドラジン誘導体は造核剤として使用され、RESEAR
CH DISCLOSURE Item23516(1983年11月号、
P.346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許第4,080,207号、同4,269,929号、
同4,276,364号、同4,278,748号、同
4,385,108号、同4,459,347号、同
4,560,638号、同4,478,928号、英国
特許第2,011,391B号、特開昭60−1797
34号、同62−270948号、同63−29751
号、同61−170733号、同61−270744
号、欧州特許第217,310号、同356,898
号、米国特許第4,686,167号、特開昭62−1
78246号、同63−32538号、同63−104
047号、同63−121838号、同63−1293
37号、同63−223744号、同63−23424
4号、同63−234245号、同63−234246
号、同63−294552号、同63−306438
号、同64−10233号、特開平1−90439号、
同1−100530号、同1−105941号、同1−
105943号、同1−276128号、同1−280
747号、同1−283548号、同1−283549
号、同1−285940号、同2−2541号、同2−
77057号、同2−139538号、同2−1962
34号、同2−196235号、同2−198440
号、同2−198441、同2−198442号、同2
−220042号、同2−221953号、同2−22
1954号、同2−302750号、同2−30455
0号に記載された公知のものを用いることができる。
【0035】本発明のヒドラジン誘導体としては、一般
式(II)で表わされるものが特に好ましい。一般式(I
I)
式(II)で表わされるものが特に好ましい。一般式(I
I)
【0036】
【化9】
【0037】式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表
し、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、不飽和
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基、ヒドラジノ基、カルバモイル基、またはオキシカル
ボニル基を表し、G1 は−CO−基、−SO2 −基、−
SO−基、
し、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、不飽和
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基、ヒドラジノ基、カルバモイル基、またはオキシカル
ボニル基を表し、G1 は−CO−基、−SO2 −基、−
SO−基、
【0038】
【化10】
【0039】−CO−CO−基、チオカルボニル基、ま
たはイミノメチレン基を表し、A1 、A2 はともに水素
原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無
置換のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置
換のアリールスルホニル基、または置換もしくは無置換
のアシル基を表す。R3 にはR2 に定義した基と同じ範
囲より選ばれ、R2 と異なっていてもよい。
たはイミノメチレン基を表し、A1 、A2 はともに水素
原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無
置換のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置
換のアリールスルホニル基、または置換もしくは無置換
のアシル基を表す。R3 にはR2 に定義した基と同じ範
囲より選ばれ、R2 と異なっていてもよい。
【0040】一般式(II)で表わされるヒドラジン化合
物について詳細に説明する。一般式(II)において、R
1 で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30の
ものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。このアルキル基は置換基を有
していてもよい。一般式(II)において、R1 で表わさ
れる芳香族基は単環または2環のアリール基または不飽
和ヘテロ環基である。ここで、不飽和ヘテロ環基はアリ
ール基と縮環していてもよい。R1 として好ましいもの
はアリール基であり、特に好ましくはベンゼン環を含む
ものである。R1 の脂肪族基または芳香族基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、
ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキ
ルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリー
ルスルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シア
ノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボ
ンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン
酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、R4 −NH
CON(R5 )−CO−基(R4 とR5 はR2 で定義し
たと同じ基の中から選ばれ、互いに異なってもよい)な
どが挙げられ、好ましい置換基としてはアルキル基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ま
しくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜30のもの)などである。これらの基はさらに置換さ
れていてもよい。
物について詳細に説明する。一般式(II)において、R
1 で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30の
ものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。このアルキル基は置換基を有
していてもよい。一般式(II)において、R1 で表わさ
れる芳香族基は単環または2環のアリール基または不飽
和ヘテロ環基である。ここで、不飽和ヘテロ環基はアリ
ール基と縮環していてもよい。R1 として好ましいもの
はアリール基であり、特に好ましくはベンゼン環を含む
ものである。R1 の脂肪族基または芳香族基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、
ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキ
ルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリー
ルスルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シア
ノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボ
ンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン
酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、R4 −NH
CON(R5 )−CO−基(R4 とR5 はR2 で定義し
たと同じ基の中から選ばれ、互いに異なってもよい)な
どが挙げられ、好ましい置換基としてはアルキル基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ま
しくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜3
0を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1
〜30のもの)などである。これらの基はさらに置換さ
れていてもよい。
【0041】一般式(II)において、R2 で表わされる
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G
1 が−CO−基の場合、R2 で表わされる基のうち好ま
しいものは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル
基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルス
ルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、o−
ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フ
ェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンス
ルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニ
ル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであ
り、特に水素原子が好ましい。R2 は置換されていても
よく、置換基としてはR1 に関して列挙した置換基が適
用できる。
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G
1 が−CO−基の場合、R2 で表わされる基のうち好ま
しいものは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル
基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルス
ルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、o−
ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フ
ェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンス
ルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニ
ル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであ
り、特に水素原子が好ましい。R2 は置換されていても
よく、置換基としてはR1 に関して列挙した置換基が適
用できる。
【0042】一般式(II)のG1 としては−CO−基が最
も好ましい。又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子か
ら分裂させ、−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を
生成させる環化反応を生起するようなものであってもよ
く、その例としては例えば、特開昭63−29751号
などに記載のものが挙げられる。A1 、A2 としては水
素原子が最も好ましい。
も好ましい。又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子か
ら分裂させ、−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を
生成させる環化反応を生起するようなものであってもよ
く、その例としては例えば、特開昭63−29751号
などに記載のものが挙げられる。A1 、A2 としては水
素原子が最も好ましい。
【0043】一般式(II)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基、またはポリマーが組み込まれているもの
でもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真
性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル
基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶ
ことができる。また、ポリマーとして例えば、特開平1
−100530号に記載のものが挙げられる。
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基、またはポリマーが組み込まれているもの
でもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真
性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル
基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶ
ことができる。また、ポリマーとして例えば、特開平1
−100530号に記載のものが挙げられる。
【0044】一般式(II)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ
尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4,385,108号、
同4,459,347号、特開昭59−195233
号、同59−200231号、同59−201045
号、同59−201046号、同59−201047
号、同59−201048号、同59−201049
号、同61−170733号、同61−270744
号、同62−270948号、同63−234244
号、同63−234245号、同63−234246号
に記載された基が挙げられる。
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ
尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4,385,108号、
同4,459,347号、特開昭59−195233
号、同59−200231号、同59−201045
号、同59−201046号、同59−201047
号、同59−201048号、同59−201049
号、同61−170733号、同61−270744
号、同62−270948号、同63−234244
号、同63−234245号、同63−234246号
に記載された基が挙げられる。
【0045】一般式(II)の中でも、R1 またはR2 の
少なくとも一方がバラスト基を持つか、R1 またはR2
の少なくとも一方がハロゲン化銀粒子表面への吸着を強
める基を持つものが好ましい。さらにR1 がトリアルキ
ルアンモニウム基を持つか、R1 がアルキルチオ基(シ
クロアルキルチオ基を含む)またはアリールチオ基を持
つか、R2 中のG1 と結合する炭素原子が電子吸引性の
基(例えばハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、スルホ
ニル基など)で置換されているものが特に好ましい。
少なくとも一方がバラスト基を持つか、R1 またはR2
の少なくとも一方がハロゲン化銀粒子表面への吸着を強
める基を持つものが好ましい。さらにR1 がトリアルキ
ルアンモニウム基を持つか、R1 がアルキルチオ基(シ
クロアルキルチオ基を含む)またはアリールチオ基を持
つか、R2 中のG1 と結合する炭素原子が電子吸引性の
基(例えばハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、スルホ
ニル基など)で置換されているものが特に好ましい。
【0046】一般式(II)で表わされる化合物の具体例
を以下に列挙するが、本発明はこれに限られるものでは
ない。
を以下に列挙するが、本発明はこれに限られるものでは
ない。
【0047】
【化11】
【0048】
【化12】
【0049】
【化13】
【0050】
【化14】
【0051】
【化15】
【0052】
【化16】
【0053】
【化17】
【0054】
【化18】
【0055】
【化19】
【0056】
【化20】
【0057】
【化21】
【0058】
【化22】
【0059】
【化23】
【0060】
【化24】
【0061】
【化25】
【0062】
【化26】
【0063】
【化27】
【0064】
【化28】
【0065】
【化29】
【0066】
【化30】
【0067】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,560,638
号、同4,478,928号、英国特許第2,011,
391B号、特開昭60−179734号、同62−2
70948号、同63−29751号、同61−170
733号、同61−270744号、欧州特許第21
7,310号、同356,898号、米国特許第4,6
86,167号、特開昭62−178246号、同63
−32538号、同63−104047号、同63−1
21838号、同63−129337号、同63−22
3744号、同63−234244号、同63−234
245号、同63−234246号、同63−2945
52号、同63−306438号、同64−10233
号、特開平1−90439号、同1−100530号、
同1−105941号、同1−105943号、同1−
276128号、同1−280747号、同1−283
548号、同1−283549号、同1−285940
号、同2−2541号、同2−77057号、同2−1
39538号、同2−196234号、同2−1962
35号、同2−198440号、同2−198441、
同2−198442号、同2−220042号、同2−
221953号、同2−221954号、同2−302
750号、同2−304550号に記載されたものを用
いることができる。
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,560,638
号、同4,478,928号、英国特許第2,011,
391B号、特開昭60−179734号、同62−2
70948号、同63−29751号、同61−170
733号、同61−270744号、欧州特許第21
7,310号、同356,898号、米国特許第4,6
86,167号、特開昭62−178246号、同63
−32538号、同63−104047号、同63−1
21838号、同63−129337号、同63−22
3744号、同63−234244号、同63−234
245号、同63−234246号、同63−2945
52号、同63−306438号、同64−10233
号、特開平1−90439号、同1−100530号、
同1−105941号、同1−105943号、同1−
276128号、同1−280747号、同1−283
548号、同1−283549号、同1−285940
号、同2−2541号、同2−77057号、同2−1
39538号、同2−196234号、同2−1962
35号、同2−198440号、同2−198441、
同2−198442号、同2−220042号、同2−
221953号、同2−221954号、同2−302
750号、同2−304550号に記載されたものを用
いることができる。
【0068】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としてはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
0-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量
である。
としてはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
0-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量
である。
【0069】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な水混
和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既に良く知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテー
ト、あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エ
チルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解
し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもでき
る。あるいは固体分散法として知られている方法によっ
て、ヒドラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コ
ロイドミル、あるいは超音波によって分散して用いるこ
ともできる。
和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既に良く知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテー
ト、あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エ
チルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解
し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもでき
る。あるいは固体分散法として知られている方法によっ
て、ヒドラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コ
ロイドミル、あるいは超音波によって分散して用いるこ
ともできる。
【0070】特に、ロジウム、ルテニウム、レニウムま
たはオスミウム錯体を銀1モルあたり1×10-5モル以
上を含有する場合、またはpH11未満の本発明の現像
液で処理する場合、ハロゲン化銀写真感光材料には、ハ
ロゲン化銀乳剤層、またはその他の親水性コロイド層中
に、アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体、
およびヒドロキシルアミン誘導体などの造核促進剤を添
加するのが好ましい。
たはオスミウム錯体を銀1モルあたり1×10-5モル以
上を含有する場合、またはpH11未満の本発明の現像
液で処理する場合、ハロゲン化銀写真感光材料には、ハ
ロゲン化銀乳剤層、またはその他の親水性コロイド層中
に、アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体、
およびヒドロキシルアミン誘導体などの造核促進剤を添
加するのが好ましい。
【0071】アミン誘導体としては、例えば特開昭60
−140,340号、同62−50,829号、同62
−222,241号、同62−250,439号、同6
2−280,733号、同63−124,045号、同
63−133,145号、同63−286,840号等
に記載の化合物を挙げることができる。アミン誘導体と
してより好ましくは、特開昭63-124,045号、同63-133,1
45号、同63-286,840号等に記載されているハロゲン化銀
に吸着する基を有する化合物、又は特開昭62−22
2,241号等に記載されている炭素数の和が20個以
上の化合物、US4,975,354号、EP458P70
6A号等に記載されているエチレン基を有するアミン化
合物、特開昭62−50829号記載の化合物などが挙
げられる。オニウム塩としては、ピリジニウム塩、アン
モニウム塩またはホスホニウム塩が好ましい。好ましい
ピリジニウム塩の例としては、特願平5−97866号
に記載されている化合物を挙げることができる。また、
好ましいアンモニウム塩の例としては、特開昭62−2
50,439号、同62−280,733号等に記載さ
れている化合物を挙げることができる。また、好ましい
ホスホニウム塩の例としては特開昭61−167,93
9号、同62−280,733号等に記載されている化
合物を挙げることができる。ジスルフィド誘導体として
は、例えば特開昭61-198,147号記載の化合物を挙げるこ
とができる。ヒドロキシメチル誘導体としては、例えば
米国特許第4,698,956 号、同4,777,118 号、EP23
1,850号、特開昭62−50,829号等記載の化
合物を挙げることができ、より好ましくはジアリールメ
タクリノール誘導体である。アセチレン誘導体として
は、例えば特開平3−168735号、特開平2−27
1351号等記載の化合物を挙げることができる。尿素
誘導体としては、例えば特開平3−168736号記載
の化合物を挙げることができる。
−140,340号、同62−50,829号、同62
−222,241号、同62−250,439号、同6
2−280,733号、同63−124,045号、同
63−133,145号、同63−286,840号等
に記載の化合物を挙げることができる。アミン誘導体と
してより好ましくは、特開昭63-124,045号、同63-133,1
45号、同63-286,840号等に記載されているハロゲン化銀
に吸着する基を有する化合物、又は特開昭62−22
2,241号等に記載されている炭素数の和が20個以
上の化合物、US4,975,354号、EP458P70
6A号等に記載されているエチレン基を有するアミン化
合物、特開昭62−50829号記載の化合物などが挙
げられる。オニウム塩としては、ピリジニウム塩、アン
モニウム塩またはホスホニウム塩が好ましい。好ましい
ピリジニウム塩の例としては、特願平5−97866号
に記載されている化合物を挙げることができる。また、
好ましいアンモニウム塩の例としては、特開昭62−2
50,439号、同62−280,733号等に記載さ
れている化合物を挙げることができる。また、好ましい
ホスホニウム塩の例としては特開昭61−167,93
9号、同62−280,733号等に記載されている化
合物を挙げることができる。ジスルフィド誘導体として
は、例えば特開昭61-198,147号記載の化合物を挙げるこ
とができる。ヒドロキシメチル誘導体としては、例えば
米国特許第4,698,956 号、同4,777,118 号、EP23
1,850号、特開昭62−50,829号等記載の化
合物を挙げることができ、より好ましくはジアリールメ
タクリノール誘導体である。アセチレン誘導体として
は、例えば特開平3−168735号、特開平2−27
1351号等記載の化合物を挙げることができる。尿素
誘導体としては、例えば特開平3−168736号記載
の化合物を挙げることができる。
【0072】次に造核促進剤の具体例を示す。但し本発
明は以下の化合物に限定されるものではない。
明は以下の化合物に限定されるものではない。
【0073】
【化31】
【0074】
【化32】
【0075】
【化33】
【0076】
【化34】
【0077】
【化35】
【0078】
【化36】
【0079】
【化37】
【0080】
【化38】
【0081】
【化39】
【0082】
【化40】
【0083】
【化41】
【0084】これらの化合物はその種類によって最適添
加量が異なるがヒドラジン化合物1モル当り1.0×1
0-2モル〜1.0×102 モル、好ましくは、1.0×
10-1モル〜5.0×10モルの範囲で用いるのが望ま
しい。これらの化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例
えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。また、既に良く知られている乳化分散
法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォス
フェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチル
フタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノ
ンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物
を作成して用いることもできる。あるいは固体分散法と
して知られている方法によって、これらの化合物の粉末
を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波
によって分散して用いることもできる。
加量が異なるがヒドラジン化合物1モル当り1.0×1
0-2モル〜1.0×102 モル、好ましくは、1.0×
10-1モル〜5.0×10モルの範囲で用いるのが望ま
しい。これらの化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例
えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。また、既に良く知られている乳化分散
法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォス
フェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチル
フタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノ
ンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物
を作成して用いることもできる。あるいは固体分散法と
して知られている方法によって、これらの化合物の粉末
を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波
によって分散して用いることもできる。
【0085】本発明に使用される現像処理液に含まれる
造核現像促進剤としての有用なものの例としては、例え
ば特開昭56−106244号、同61−267759
号、同61−230145号、同62−211647
号、同63−50247号などに記載のアミン化合物あ
るいは特開昭60−200250号記載のベンジルアル
コール誘導体などを挙げることができる。特に一般式(I
II) で表わされる化合物が好ましい。一般式(III)R11
−N(R22)−R23 式中、R21、R22、R23はそれぞれH−R21、H−
R22、H−R23としてのn−オクタノール/水分配対数
(log P) の値の和が2.6以上10.0未満の範囲とな
る置換もしくは無置換のアルキル基を表わす。さらにlo
g P の値の和が3.0以上8.0未満の範囲に入る化合
物が特に好ましい。
造核現像促進剤としての有用なものの例としては、例え
ば特開昭56−106244号、同61−267759
号、同61−230145号、同62−211647
号、同63−50247号などに記載のアミン化合物あ
るいは特開昭60−200250号記載のベンジルアル
コール誘導体などを挙げることができる。特に一般式(I
II) で表わされる化合物が好ましい。一般式(III)R11
−N(R22)−R23 式中、R21、R22、R23はそれぞれH−R21、H−
R22、H−R23としてのn−オクタノール/水分配対数
(log P) の値の和が2.6以上10.0未満の範囲とな
る置換もしくは無置換のアルキル基を表わす。さらにlo
g P の値の和が3.0以上8.0未満の範囲に入る化合
物が特に好ましい。
【0086】次に、一般式(III) について詳しく説明す
る。R21〜R23で示される置換アルキル基の置換基とし
ては、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシ基、
スルホ基、アリールオキシ基、アミノ基などを挙げるこ
とができる。なお前記n−オクタノール/水分配係数の
対数(log P) の値については、その計算方法がサブステ
ィチューエント・コンスタインツホフォ・コリレーショ
ン・アナリシス・イン・ケミストリー・アンド・バイオ
ロジー(Substituent Constants For Correlation Analy
sis in Chemistry and Biology) ハンドブック・オブ・
ケミカル・プロパティイ・エスティメーション・メソッ
ド (Handbook of Chemical Property Estimation Metho
ds) に記載されており、本発明で規定している。log P
の値もこれにより求めたものである。以下に代表的なH
−R21とH−R22およびH−R23のlog P の値を示す。
H−R21、H−R22、H−R23のn−オクタノール/水
分配係数の対数(log P) の値
る。R21〜R23で示される置換アルキル基の置換基とし
ては、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシ基、
スルホ基、アリールオキシ基、アミノ基などを挙げるこ
とができる。なお前記n−オクタノール/水分配係数の
対数(log P) の値については、その計算方法がサブステ
ィチューエント・コンスタインツホフォ・コリレーショ
ン・アナリシス・イン・ケミストリー・アンド・バイオ
ロジー(Substituent Constants For Correlation Analy
sis in Chemistry and Biology) ハンドブック・オブ・
ケミカル・プロパティイ・エスティメーション・メソッ
ド (Handbook of Chemical Property Estimation Metho
ds) に記載されており、本発明で規定している。log P
の値もこれにより求めたものである。以下に代表的なH
−R21とH−R22およびH−R23のlog P の値を示す。
H−R21、H−R22、H−R23のn−オクタノール/水
分配係数の対数(log P) の値
【0087】
【化42】
【0088】
【化43】
【0089】以下に一般式(III) で表わされるアミノ化
合物の具体例を以下に示す。
合物の具体例を以下に示す。
【0090】
【化44】
【0091】
【化45】
【0092】一般式(III) で表わされるアミノ化合物
は、他のアミノ化合物とは異なり、少量で高コントラス
ト化を顕著に促進する一方、ハロゲン化銀の溶剤として
の作用が弱いために銀汚れを引き起こすことがないとい
う優れた性能を有している。一般式(III) で表わされる
アミノ化合物は好ましくは現像液1リットル当たり0.
01〜0.30モル/リットルの範囲で使用されるが、
特に0.01〜0.2モル/リットルの範囲で用いられ
るのが好ましい。一般式(III) で表わされるアミノ化合
物は現像液(水)に対する溶解度が比較的低く、保存や
運搬の便宜のため現像液を使用時よりも濃縮してその体
積を減少させようとすると、一般式(III) のアミノ化合
物が析出・沈澱することがある。ところが下記の一般式
(IV)または(V)で表わされる化合物を使用すると、液
を濃縮しても彼様な析出・沈澱の発生を防止できるので
これを用いてもよい。一般式(IV)
は、他のアミノ化合物とは異なり、少量で高コントラス
ト化を顕著に促進する一方、ハロゲン化銀の溶剤として
の作用が弱いために銀汚れを引き起こすことがないとい
う優れた性能を有している。一般式(III) で表わされる
アミノ化合物は好ましくは現像液1リットル当たり0.
01〜0.30モル/リットルの範囲で使用されるが、
特に0.01〜0.2モル/リットルの範囲で用いられ
るのが好ましい。一般式(III) で表わされるアミノ化合
物は現像液(水)に対する溶解度が比較的低く、保存や
運搬の便宜のため現像液を使用時よりも濃縮してその体
積を減少させようとすると、一般式(III) のアミノ化合
物が析出・沈澱することがある。ところが下記の一般式
(IV)または(V)で表わされる化合物を使用すると、液
を濃縮しても彼様な析出・沈澱の発生を防止できるので
これを用いてもよい。一般式(IV)
【0093】
【化46】
【0094】一般式(V)
【0095】
【化47】
【0096】ここでMは水素原子Na、K、NH4 を示
す。R24、R25は炭素数3以上のアルキル基又はアルキ
ルベンゼン基又はベンゼン基をあらわす。
す。R24、R25は炭素数3以上のアルキル基又はアルキ
ルベンゼン基又はベンゼン基をあらわす。
【0097】一般式(IV) の化合物の具体例としてはp
−トルエンスルホン酸ナトリウム、ベンゼンスルホン酸
ナトリウム、1−ヘキサンスルホン酸ナトリウム等が挙
げられる。一般式(V)の化合物の具体例としては安息
香酸ナトリウム、p−トルイル酸ナトリウム、イソ酪酸
カリウム、n−カプロン酸ナトリウム、n−カプリル酸
ナトリウム、n−カプリン酸ナトリウム等が挙げられ
る。一般式(IV)又は(V)で表わされる化合物の使用
量は前記一般式(III)のアミノ化合物の使用量に応じ変
化するが通常0.005モル/リットル以上、特に0.
03モル/リットル〜0.1モル/リットルが適当であ
る。また一般式(III)のアミノ化合物1モルに対して
0.5〜20モルの範囲が適当である。
−トルエンスルホン酸ナトリウム、ベンゼンスルホン酸
ナトリウム、1−ヘキサンスルホン酸ナトリウム等が挙
げられる。一般式(V)の化合物の具体例としては安息
香酸ナトリウム、p−トルイル酸ナトリウム、イソ酪酸
カリウム、n−カプロン酸ナトリウム、n−カプリル酸
ナトリウム、n−カプリン酸ナトリウム等が挙げられ
る。一般式(IV)又は(V)で表わされる化合物の使用
量は前記一般式(III)のアミノ化合物の使用量に応じ変
化するが通常0.005モル/リットル以上、特に0.
03モル/リットル〜0.1モル/リットルが適当であ
る。また一般式(III)のアミノ化合物1モルに対して
0.5〜20モルの範囲が適当である。
【0098】本発明の感光材料の親水性コロイド層の少
なくとも1層にフィルター機能、アンチハレーション機
能、その他の目的で染料を添加する場合は、微結晶分散
体の染料を用いることが好ましい。本発明に用いられる
微結晶分散体の染料について説明する。これらの染料は
下記一般式(K−I)、(K−II)、(K−III)、(K
−IV)及び(K−V)からなる群から選ばれる少なくと
も1個の化合物の微結晶分散体としてハロゲン化銀乳剤
層または親水性コロイド層中に含有される。一般式(K
−I)
なくとも1層にフィルター機能、アンチハレーション機
能、その他の目的で染料を添加する場合は、微結晶分散
体の染料を用いることが好ましい。本発明に用いられる
微結晶分散体の染料について説明する。これらの染料は
下記一般式(K−I)、(K−II)、(K−III)、(K
−IV)及び(K−V)からなる群から選ばれる少なくと
も1個の化合物の微結晶分散体としてハロゲン化銀乳剤
層または親水性コロイド層中に含有される。一般式(K
−I)
【0099】
【化48】
【0100】一般式(K−II)
【0101】
【化49】
【0102】一般式(K−III)
【0103】
【化50】
【0104】一般式(K−IV)
【0105】
【化51】
【0106】一般式(K−V)
【0107】
【化52】
【0108】(式中、A3 、A3 ′は同じでも異なって
いても良く、カルボキシフェニル基、スルファモイルフ
ェニル基、スルホンアミドフェニル基、カルボキシアル
キル基、ヒドロキシフェニル基をもつ置換もしくは無置
換の酸性核を表わし、酸性核ととしては、2−ピラゾリ
ン−5−オン、ロダニン、ヒダントイン、チオヒダント
イン、2,4−オキサゾリジンジオン、イソオキサゾリ
ジノン、バルビツル酸、チオバルビツル酸、インダンジ
オン、ピラゾロピリジン及びヒドロキシピリドンからな
る群から選ばれる。B3 はカルボキシル基、スルファモ
イル基もしくはスルホンアミド基をもつ置換もしくは無
置換の塩基性核を表わし、塩基性核としては、ピリジ
ン、キノリン、インドレニン、オキサゾール、ベンゾオ
キサゾール、ナフトオキサゾール及びピロールからなる
群から選ばれる。R30は水素原子又はアルキル基を表わ
し、R31、R32は各々置換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアリール基、アシル基又はス
ルホニル基を表わし、R31とR32が連結して5又は5員
環を形成しても良い。R33、R36は水素原子、ヒドロキ
シ基、カルボキシ基、アルキル基、アルコキシ基又はハ
ロゲン原子を表わし、R34、R35は各々水素原子又はR
31とR34もしくはR32とR35が連結して5又は6員環を
形成するのに必要な非金属原子群を表わす。但し、一般
式(K−I)、(K−II)、(K−III)、(K−IV)及
び(K−V)で表される化合物は、1分子中に水とエタ
ノールの容積比が1対1の混合溶液中におけるpKaが
4〜11の範囲にある解離性基を少なくとも1個有す
る。)
いても良く、カルボキシフェニル基、スルファモイルフ
ェニル基、スルホンアミドフェニル基、カルボキシアル
キル基、ヒドロキシフェニル基をもつ置換もしくは無置
換の酸性核を表わし、酸性核ととしては、2−ピラゾリ
ン−5−オン、ロダニン、ヒダントイン、チオヒダント
イン、2,4−オキサゾリジンジオン、イソオキサゾリ
ジノン、バルビツル酸、チオバルビツル酸、インダンジ
オン、ピラゾロピリジン及びヒドロキシピリドンからな
る群から選ばれる。B3 はカルボキシル基、スルファモ
イル基もしくはスルホンアミド基をもつ置換もしくは無
置換の塩基性核を表わし、塩基性核としては、ピリジ
ン、キノリン、インドレニン、オキサゾール、ベンゾオ
キサゾール、ナフトオキサゾール及びピロールからなる
群から選ばれる。R30は水素原子又はアルキル基を表わ
し、R31、R32は各々置換もしくは無置換のアルキル
基、置換もしくは無置換のアリール基、アシル基又はス
ルホニル基を表わし、R31とR32が連結して5又は5員
環を形成しても良い。R33、R36は水素原子、ヒドロキ
シ基、カルボキシ基、アルキル基、アルコキシ基又はハ
ロゲン原子を表わし、R34、R35は各々水素原子又はR
31とR34もしくはR32とR35が連結して5又は6員環を
形成するのに必要な非金属原子群を表わす。但し、一般
式(K−I)、(K−II)、(K−III)、(K−IV)及
び(K−V)で表される化合物は、1分子中に水とエタ
ノールの容積比が1対1の混合溶液中におけるpKaが
4〜11の範囲にある解離性基を少なくとも1個有す
る。)
【0109】一般式(K−I)、(K−II)、(K−II
I)、(K−IV)及び(K−V)について詳しく説明す
る。A3 又はA3 ′で表わされる酸性核は、好ましくは
2−ピラゾリン−5−オン、ロダニン、ヒダントイン、
チオヒダントイン、2,4−オキサゾリジンジオン、イ
ソオキサゾリジノン、バルビツール酸、チオバルビツー
ル酸、インダンジオン、ピラゾロピリジン又はヒドロキ
シピリドンを表わす。B3 で表わされる塩基性核は、好
ましくはピリジン、キノリン、インドレニン、オキサゾ
ール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール又はピ
ロールを表わす。水とエタノールの容積比が1対1の混
合溶液中におけるpKa(酸解離定数)が4〜11の範
囲にある解離性プロトンを有する基は、pH6又はpH
6以下で実質的に色素分子を水不溶性にし、pH8又は
pH8以上で実質的に色素分子を水溶性にするものであ
れば、種類及び色素分子への置換位置に特に制限はない
が、好ましくはカルボキシル基、スルファモイル基、ス
ルホンアミド基、ヒドロキシ基であり、より好ましいも
のはカルボキシル基である。解離性基は色素分子に直接
置換するだけでなく、2価の連結基(例えばアルキレン
基、フェニレン基)を介して置換していても良い。2価
の連結基を介した例としては、4−カルボキシフェニ
ル、2−メチル−3−カルボキシフェニル、2,4−ジ
カルボキシフェニル、3,5−ジカルボキシフェニル、
3−カルボキシフェニル、2,5−ジカルボキシフェニ
ル、3−エチルスルファモイルフェニル、4−フェニル
スルファモイルフェニル、2−カルボキシフェニル、
2,4,6−トリヒドロキシフェニル、3−ベンゼンス
ルホンアミドフェニル、4−(p−シアミベンゼンスル
ホンアミド)フェニル、3−ヒドロキシフェニル、2−
ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、2−ヒ
ドロキシ−4−カルボキシフェニル、3−メトキシ−4
−カルボキシフェニル、2−メチル−4−フェニルスル
ファモイルフェニル、4−カルボキシベンジル、2−カ
ルボキシベンジル、3−スルファモイルフェニル、4−
スルファモイルフェニル、2,5−ジスルファモイルフ
ェニル、カルボキシメチル、2−カルボキシエチル、3
−カルボキシプロピル、4−カルボキシブチル、8−カ
ルボキシオクチル等を挙げることができる。R30、R33
又はR36で表わされるアルキル基は炭素数1〜10のア
ルキル基が好ましく、例えばメチル、エチル、n−プロ
ピル、イソアミル、n−オクチル等の基を挙げることが
できる。R31、R32で表わされるアルキル基は炭素数1
〜20のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、n−ブチル、n−オクチル、n−オクタデシ
ル、イソブチル、イソプロピル)が好ましく、置換基
〔例えば、塩素、臭素等のハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基
(例えば、メトキシ、エトキシ)、アルコキシカルボニ
ル基(例えば、メトキシカルボニル、i−プロポキシカ
ルボニル)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ
基)、フェニル基、アミド基(例えば、アセチルアミ
ノ、メタンスルホンアミド)、カルバモイル基(例え
ば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル)、スル
ファモイル基(例えばメチルスルファモイル、フェニル
スルファモイル)〕を有していても良い。R31又はR32
で表わされるアリール基はフェニル基、ナフチル基が好
ましく、置換基〔置換基としては上記のR31及びR32で
表わされるアルキル基が有する置換基として挙げた基及
びアルキル基(例えばメチル、エチル)が含まれる。〕
を有していても良い。R31又はR32で表わされるアシル
基は炭素数2〜10のアシル基が好ましく、例えば、ア
セチル、プロピオニル、n−オクタノイル、n−デカノ
イル、イソブタノイル、ベンゾイル等の基を挙げること
ができる。R31又はR32で表わされるアルキルスルホニ
ル基もしくはアリールスルホニル基としては、メタンス
ルホニル、エタンスルホニル、n−ブタンスルホニル、
n−オクタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル、o−カルボキシベンゼンスルホニル
等の基を挙げることができる。R33又はR36で表わされ
るアルコキシ基は炭素数1〜10のアルコキシ基が好ま
しく、例えばメトキシ、エトキシ、n−ブトキシ、n−
オクトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、イソブトキ
シ、イソプロポキシ等の基を挙げることができる。R33
又はR36で表わされるハロゲン原子としては塩素、臭
素、フッ素を挙げることができる。R31とR34又はR32
とR35が連結して形成される環としては、例えばジュロ
リジン環を挙げることができる。R31とR32が連結して
形成される5又は6員環としては、例えばピペリジン
環、モルホリン環、ピロリジン環を挙げることができ
る。L31、L32又はL33で表わされるメチン基は、置換
基(例えばメチル、エチル、シアノ、フェニル、塩素原
子、ヒドロキシプロピル)を有していても良い。X3 又
はY3 で表わされる電子吸引性基は同じでも異なってい
てもよく、シアノ基、カルボキシ基、アルキルカルボニ
ル基(置換されてよいアルキルカルボニル基であり、例
えば、アセチル、プロピオニル、ヘプタノイル、ドデカ
ノイル、ヘキサデカノイル、1−オキソ−7−クロロヘ
プチル基など)、アリールカルボニル基(置換されてよ
いアリールカルボニル基であり、例えば、ベンゾイル、
4−エトキシカルボニルベンゾイル、3−クロロベンゾ
イル基など)、アルコキシカルボニル基(置換されてよ
いアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
t−アミルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニ
ル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル、オクチルオ
キシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ドデシルオ
キシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル、オク
タデシルオキシカルボニル、2−ブトキシエトキシカル
ボニル、2−メチルスルホニルエトキシカルボニル、2
−シアノエトキシカルボニル、2−(2−クロロエトキ
シ)エトキシカルボニル、2−〔2−(2−クロロエト
キシ)エトキシ〕エトキシカルボニル基など)、アリー
ルオキシカルボニルカルバモイル基など)、スルホニル
基(例えば、メチルスルホニル、フェニルスルホニル基
など)、スルファモイル基(置換されてよいスルファモ
イル基であり、例えば、スルファモイル、メチルスルフ
ァモイル基など)を表わす。次に本発明に用いられる染
料の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
I)、(K−IV)及び(K−V)について詳しく説明す
る。A3 又はA3 ′で表わされる酸性核は、好ましくは
2−ピラゾリン−5−オン、ロダニン、ヒダントイン、
チオヒダントイン、2,4−オキサゾリジンジオン、イ
ソオキサゾリジノン、バルビツール酸、チオバルビツー
ル酸、インダンジオン、ピラゾロピリジン又はヒドロキ
シピリドンを表わす。B3 で表わされる塩基性核は、好
ましくはピリジン、キノリン、インドレニン、オキサゾ
ール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール又はピ
ロールを表わす。水とエタノールの容積比が1対1の混
合溶液中におけるpKa(酸解離定数)が4〜11の範
囲にある解離性プロトンを有する基は、pH6又はpH
6以下で実質的に色素分子を水不溶性にし、pH8又は
pH8以上で実質的に色素分子を水溶性にするものであ
れば、種類及び色素分子への置換位置に特に制限はない
が、好ましくはカルボキシル基、スルファモイル基、ス
ルホンアミド基、ヒドロキシ基であり、より好ましいも
のはカルボキシル基である。解離性基は色素分子に直接
置換するだけでなく、2価の連結基(例えばアルキレン
基、フェニレン基)を介して置換していても良い。2価
の連結基を介した例としては、4−カルボキシフェニ
ル、2−メチル−3−カルボキシフェニル、2,4−ジ
カルボキシフェニル、3,5−ジカルボキシフェニル、
3−カルボキシフェニル、2,5−ジカルボキシフェニ
ル、3−エチルスルファモイルフェニル、4−フェニル
スルファモイルフェニル、2−カルボキシフェニル、
2,4,6−トリヒドロキシフェニル、3−ベンゼンス
ルホンアミドフェニル、4−(p−シアミベンゼンスル
ホンアミド)フェニル、3−ヒドロキシフェニル、2−
ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、2−ヒ
ドロキシ−4−カルボキシフェニル、3−メトキシ−4
−カルボキシフェニル、2−メチル−4−フェニルスル
ファモイルフェニル、4−カルボキシベンジル、2−カ
ルボキシベンジル、3−スルファモイルフェニル、4−
スルファモイルフェニル、2,5−ジスルファモイルフ
ェニル、カルボキシメチル、2−カルボキシエチル、3
−カルボキシプロピル、4−カルボキシブチル、8−カ
ルボキシオクチル等を挙げることができる。R30、R33
又はR36で表わされるアルキル基は炭素数1〜10のア
ルキル基が好ましく、例えばメチル、エチル、n−プロ
ピル、イソアミル、n−オクチル等の基を挙げることが
できる。R31、R32で表わされるアルキル基は炭素数1
〜20のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、n−ブチル、n−オクチル、n−オクタデシ
ル、イソブチル、イソプロピル)が好ましく、置換基
〔例えば、塩素、臭素等のハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基
(例えば、メトキシ、エトキシ)、アルコキシカルボニ
ル基(例えば、メトキシカルボニル、i−プロポキシカ
ルボニル)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ
基)、フェニル基、アミド基(例えば、アセチルアミ
ノ、メタンスルホンアミド)、カルバモイル基(例え
ば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル)、スル
ファモイル基(例えばメチルスルファモイル、フェニル
スルファモイル)〕を有していても良い。R31又はR32
で表わされるアリール基はフェニル基、ナフチル基が好
ましく、置換基〔置換基としては上記のR31及びR32で
表わされるアルキル基が有する置換基として挙げた基及
びアルキル基(例えばメチル、エチル)が含まれる。〕
を有していても良い。R31又はR32で表わされるアシル
基は炭素数2〜10のアシル基が好ましく、例えば、ア
セチル、プロピオニル、n−オクタノイル、n−デカノ
イル、イソブタノイル、ベンゾイル等の基を挙げること
ができる。R31又はR32で表わされるアルキルスルホニ
ル基もしくはアリールスルホニル基としては、メタンス
ルホニル、エタンスルホニル、n−ブタンスルホニル、
n−オクタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル、o−カルボキシベンゼンスルホニル
等の基を挙げることができる。R33又はR36で表わされ
るアルコキシ基は炭素数1〜10のアルコキシ基が好ま
しく、例えばメトキシ、エトキシ、n−ブトキシ、n−
オクトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、イソブトキ
シ、イソプロポキシ等の基を挙げることができる。R33
又はR36で表わされるハロゲン原子としては塩素、臭
素、フッ素を挙げることができる。R31とR34又はR32
とR35が連結して形成される環としては、例えばジュロ
リジン環を挙げることができる。R31とR32が連結して
形成される5又は6員環としては、例えばピペリジン
環、モルホリン環、ピロリジン環を挙げることができ
る。L31、L32又はL33で表わされるメチン基は、置換
基(例えばメチル、エチル、シアノ、フェニル、塩素原
子、ヒドロキシプロピル)を有していても良い。X3 又
はY3 で表わされる電子吸引性基は同じでも異なってい
てもよく、シアノ基、カルボキシ基、アルキルカルボニ
ル基(置換されてよいアルキルカルボニル基であり、例
えば、アセチル、プロピオニル、ヘプタノイル、ドデカ
ノイル、ヘキサデカノイル、1−オキソ−7−クロロヘ
プチル基など)、アリールカルボニル基(置換されてよ
いアリールカルボニル基であり、例えば、ベンゾイル、
4−エトキシカルボニルベンゾイル、3−クロロベンゾ
イル基など)、アルコキシカルボニル基(置換されてよ
いアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
t−アミルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニ
ル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル、オクチルオ
キシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ドデシルオ
キシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル、オク
タデシルオキシカルボニル、2−ブトキシエトキシカル
ボニル、2−メチルスルホニルエトキシカルボニル、2
−シアノエトキシカルボニル、2−(2−クロロエトキ
シ)エトキシカルボニル、2−〔2−(2−クロロエト
キシ)エトキシ〕エトキシカルボニル基など)、アリー
ルオキシカルボニルカルバモイル基など)、スルホニル
基(例えば、メチルスルホニル、フェニルスルホニル基
など)、スルファモイル基(置換されてよいスルファモ
イル基であり、例えば、スルファモイル、メチルスルフ
ァモイル基など)を表わす。次に本発明に用いられる染
料の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【0110】
【化53】
【0111】
【化54】
【0112】
【化55】
【0113】
【化56】
【0114】
【化57】
【0115】
【化58】
【0116】
【化59】
【0117】
【化60】
【0118】
【化61】
【0119】
【化62】
【0120】
【化63】
【0121】
【化64】
【0122】
【化65】
【0123】
【化66】
【0124】
【化67】
【0125】
【化68】
【0126】
【化69】
【0127】
【化70】
【0128】
【化71】
【0129】
【化72】
【0130】
【化73】
【0131】
【化74】
【0132】
【化75】
【0133】
【化76】
【0134】
【化77】
【0135】
【化78】
【0136】本発明に用いられる染料は国際特許WO8
8/04794号、ヨーロッパ特許EP0274723
A1号、同276,566号、同299,435号、特
開昭52−92716号、同55−155350号、同
55−155351号、同61−205934号、同4
8−68623号、米国特許第2,527,583号、
同3,486,897号、同3,746,539号、同
3,933,798号、同4,130,429号、同
4,040,841号等に記載された方法およびその方
法に準じて容易に合成することができる。
8/04794号、ヨーロッパ特許EP0274723
A1号、同276,566号、同299,435号、特
開昭52−92716号、同55−155350号、同
55−155351号、同61−205934号、同4
8−68623号、米国特許第2,527,583号、
同3,486,897号、同3,746,539号、同
3,933,798号、同4,130,429号、同
4,040,841号等に記載された方法およびその方
法に準じて容易に合成することができる。
【0137】本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光
材料のハロゲン化銀乳剤の平均粒子サイズに特に制限は
ないが、好ましくは0.30μm 以下である。特に0.
08〜0.16μm であることが好ましい。本発明にお
いてハロゲン化銀粒子を調整するには混合条件として反
応温度は50℃以下、好ましくは40℃以下で、均一混
合するために十分攪拌速度の高い条件下で銀電位70m
V以上、好ましくは300mV〜500mVあるいは、
5,6−シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデンの様な安定剤の共存下におい
て80mV〜120mVで調整すると良好な結果を得る
ことができる。粒子サイズ分布は基本的には制限はない
が単分散である方が好ましい。ここでいう単分散とは重
量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子サ
イズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成さ
れ、より好ましくは±20%以内である。本発明のハロ
ゲン化銀粒子は立方体、八面体の様な規則的な結晶体を
有するものが好ましく、特に立方体が好ましい。又、ハ
ロゲン化銀粒子内には遷移金属を含有することが好まし
い。
材料のハロゲン化銀乳剤の平均粒子サイズに特に制限は
ないが、好ましくは0.30μm 以下である。特に0.
08〜0.16μm であることが好ましい。本発明にお
いてハロゲン化銀粒子を調整するには混合条件として反
応温度は50℃以下、好ましくは40℃以下で、均一混
合するために十分攪拌速度の高い条件下で銀電位70m
V以上、好ましくは300mV〜500mVあるいは、
5,6−シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデンの様な安定剤の共存下におい
て80mV〜120mVで調整すると良好な結果を得る
ことができる。粒子サイズ分布は基本的には制限はない
が単分散である方が好ましい。ここでいう単分散とは重
量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子サ
イズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成さ
れ、より好ましくは±20%以内である。本発明のハロ
ゲン化銀粒子は立方体、八面体の様な規則的な結晶体を
有するものが好ましく、特に立方体が好ましい。又、ハ
ロゲン化銀粒子内には遷移金属を含有することが好まし
い。
【0138】本発明に用いられるRh、Ru、Reまた
はOsから選ばれる遷移金属化合物として好ましいもの
は、遷移金属配位錯体であり、下の一般式で現される六
配位錯体である。 〔M(NY)m L6-m 〕n (式中、MはRh、Ru、ReまたはOsである。Lは
架橋配位子である。Yは酸素又は硫黄である。m=0、
1、2であり、n=0、−1、−2、−3である。) Lの好ましい具体例としてはハロゲン化物配位子(フッ
化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物)、シアン化物配位
子、シアネート配位子、チオシアネート配位子、セレノ
シアネート配位子、テルロシアネート配位子、アシド配
位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配位子が存在す
る場合には、配位子の1つ又は2つを占めることが好ま
しい。本発明では、更にイリジウム化合物を併用しても
よく、イリジウム化合物としては上記した式で表わされ
る六配位錯体が好ましい。
はOsから選ばれる遷移金属化合物として好ましいもの
は、遷移金属配位錯体であり、下の一般式で現される六
配位錯体である。 〔M(NY)m L6-m 〕n (式中、MはRh、Ru、ReまたはOsである。Lは
架橋配位子である。Yは酸素又は硫黄である。m=0、
1、2であり、n=0、−1、−2、−3である。) Lの好ましい具体例としてはハロゲン化物配位子(フッ
化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物)、シアン化物配位
子、シアネート配位子、チオシアネート配位子、セレノ
シアネート配位子、テルロシアネート配位子、アシド配
位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配位子が存在す
る場合には、配位子の1つ又は2つを占めることが好ま
しい。本発明では、更にイリジウム化合物を併用しても
よく、イリジウム化合物としては上記した式で表わされ
る六配位錯体が好ましい。
【0139】以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。 1.〔Rh(H2O)Cl5 〕-2 2.〔RuCl6 〕-3 3.〔Ru(NO)Cl5 〕-2 4.〔RhCl6 〕-3 5.〔Ru(H2O)Cl5 〕-2 6.〔Ru(NO)(H2O)Cl4 〕-1 7.〔Re(NO)Cl5 〕-2 8.〔Os(NO)Cl5 〕-2 9.〔Ir(NO)Cl5 〕-2 10.〔Ir(H2O)Cl5 〕-2 11.〔Re(H2O)Cl5 〕-2 12.〔RhBr6 〕-2 13.〔Os(NS)Cl(SCN)4 〕-2 14.〔ReCl6 〕-3 15.〔IrCl6 〕-3 16.〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕-2
【0140】上記金属錯体をハロゲン化銀に含有せしめ
るには、粒子調製時に添加することができる。本発明の
ハロゲン化銀粒子中の該遷移金属の含有率はハロゲン化
銀1モル当り少なくとも1×10-6モルであるが、好ま
しくは1×10-6〜5×10-4モル、特に×10-6〜2
×10-4モルである。又上記遷移金属は併用してもよ
い。ハロゲン化銀粒子中の該遷移金属の分布に特に制限
はないが粒子外部により多く存在することが好ましい。
るには、粒子調製時に添加することができる。本発明の
ハロゲン化銀粒子中の該遷移金属の含有率はハロゲン化
銀1モル当り少なくとも1×10-6モルであるが、好ま
しくは1×10-6〜5×10-4モル、特に×10-6〜2
×10-4モルである。又上記遷移金属は併用してもよ
い。ハロゲン化銀粒子中の該遷移金属の分布に特に制限
はないが粒子外部により多く存在することが好ましい。
【0141】本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光
材料のハロゲン化銀乳剤は90モル%以上が塩化銀から
なる塩臭化銀あるいは塩沃臭化銀である。臭化銀あるい
は沃化銀の比率が増加すると明室下でのセーフライト安
全性の悪化、あるいはγが低下して好ましくない。
材料のハロゲン化銀乳剤は90モル%以上が塩化銀から
なる塩臭化銀あるいは塩沃臭化銀である。臭化銀あるい
は沃化銀の比率が増加すると明室下でのセーフライト安
全性の悪化、あるいはγが低下して好ましくない。
【0142】本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は
化学増感されていなくてもよいが、化学増感されていて
もよい。ハロゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫
黄増感、還元増感及び貴金属増感法が知られており、こ
れらのいずれをも単独で用いても、又併用して化学増感
してもよい。貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の
貴金属、たとえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯
塩を含有しても差支えない。具体例は米国特許2,44
8,060号、英国特許618,061号などに記載さ
れている。硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる
硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫
酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用
いることができる。還元増感剤としては第1すず塩、ア
ミン塩、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物な
どを用いることができる。本発明の感光材料には、上記
遷移金属と共にポーラログラフの陽極電位と陰極電位の
和が正である有機減感剤を用いて感度を下げることがで
きる。有機減感剤としては RESESRCH DISCLOSURE 誌1
67巻 Item 16735(1978年3月)、第67頁
右欄に記載された化合物、同誌176巻 Item 1764
3(1978年12月)第23頁J項、第24頁K項に
記載された減感剤を用いることができる。
化学増感されていなくてもよいが、化学増感されていて
もよい。ハロゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫
黄増感、還元増感及び貴金属増感法が知られており、こ
れらのいずれをも単独で用いても、又併用して化学増感
してもよい。貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の
貴金属、たとえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯
塩を含有しても差支えない。具体例は米国特許2,44
8,060号、英国特許618,061号などに記載さ
れている。硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる
硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫
酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用
いることができる。還元増感剤としては第1すず塩、ア
ミン塩、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物な
どを用いることができる。本発明の感光材料には、上記
遷移金属と共にポーラログラフの陽極電位と陰極電位の
和が正である有機減感剤を用いて感度を下げることがで
きる。有機減感剤としては RESESRCH DISCLOSURE 誌1
67巻 Item 16735(1978年3月)、第67頁
右欄に記載された化合物、同誌176巻 Item 1764
3(1978年12月)第23頁J項、第24頁K項に
記載された減感剤を用いることができる。
【0143】本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロ
イド層に、フィルター染料として、あるいはイラジエー
ション防止その他、種々の目的で、水溶性染料を含有し
てもよい。フィルター染料としては、写真感度をさらに
低めるための染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感
度域に分光吸収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光
材料として取り扱われる際のセーフライト光に対する安
全性を高めるための、主として380nm〜600nmの領
域に実質的な光吸収をもつ染料を用いてもよい。これら
の染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あるいは
ハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関してハロ
ゲン化銀乳剤層より遠くの比感光性親水性コロイド層に
添加して固定して用いるのが好ましい。紫外線吸収剤と
しては、例えば、アリール基で置換されたベンゾトリア
ゾール化合物、4−チアゾリドン化合物、ベンゾフェノ
ン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブタジエン化合物、
ベンゾオキサゾール化合物さらに紫外線吸収ポリマーを
用いることができる。紫外線吸収剤の具体例は、米国特
許3,533,794号、同3,314,794号、同
3,352,681号、特開昭46−2784号、米国
特許3,705,805号、同3,707,375号、
同4,045,229号、同3,700,455号、同
3,499,762号、西独特許出願広告1,547,
863号などに記載されている。紫外線吸収剤のモル吸
光係数により異なるが、通常10-2g/m2〜1g/m2の
範囲で添加される。好ましくは20mg〜500mg/m2で
ある。
イド層に、フィルター染料として、あるいはイラジエー
ション防止その他、種々の目的で、水溶性染料を含有し
てもよい。フィルター染料としては、写真感度をさらに
低めるための染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感
度域に分光吸収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光
材料として取り扱われる際のセーフライト光に対する安
全性を高めるための、主として380nm〜600nmの領
域に実質的な光吸収をもつ染料を用いてもよい。これら
の染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あるいは
ハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関してハロ
ゲン化銀乳剤層より遠くの比感光性親水性コロイド層に
添加して固定して用いるのが好ましい。紫外線吸収剤と
しては、例えば、アリール基で置換されたベンゾトリア
ゾール化合物、4−チアゾリドン化合物、ベンゾフェノ
ン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブタジエン化合物、
ベンゾオキサゾール化合物さらに紫外線吸収ポリマーを
用いることができる。紫外線吸収剤の具体例は、米国特
許3,533,794号、同3,314,794号、同
3,352,681号、特開昭46−2784号、米国
特許3,705,805号、同3,707,375号、
同4,045,229号、同3,700,455号、同
3,499,762号、西独特許出願広告1,547,
863号などに記載されている。紫外線吸収剤のモル吸
光係数により異なるが、通常10-2g/m2〜1g/m2の
範囲で添加される。好ましくは20mg〜500mg/m2で
ある。
【0144】セーフライト染料は、ハロゲン化銀乳剤の
固有感光波長域のうち400nm以上の感光域の感度を低
下させるものが好ましく、フィルム膜中で420〜55
0nmに吸収極大をもつ染料が好ましく用いられる。染料
の化学構造には特別な限定はなく、オキソノール染料、
ヘミオキソノール染料、メロシアニン染料、シアニン染
料、アゾ染料、アリーリデン染料などを使用しうるが、
処理後の残色をなくす意味から水溶性の染料が有用であ
る。具体的には、例えば米国特許第2,274,782
号に記載のピラゾロンオキソノール染料、米国特許第
2,956,879号に記載のジアリールアゾ染料、米
国特許第3,423,207号、同第3,384,48
7号に記載のスチリル染料やブタジエニル染料、米国特
許第2,527,583号に記載のメロシアニン染料、
米国特許第3,486,897号、同第3,652,2
84号、同第3,718,472号に記載のメロシアニ
ン染料やオキソノール染料、米国特許第3,976,6
61号に記載のエナミヘミオキソノール染料、特開昭5
1−3623号、特開昭52−20822号に記載のア
リーリデン染料、特願昭60−54883号、同60−
21306号、同60−117456号、同60−17
8324号に記載のビス型染料及び英国特許第584,
609号、同第1,177,429号、特開昭48−8
5130号、同49−99620号、同49−1144
20号、米国特許第2,533,472号、同第3,1
48,187号、同第3,177,078号、同第3,
247,127号、同第3,540,887号、同第
3,575,704号、同第3,653,905号に記
載の染料が用いられる。染料の添加量は感光材料1m2あ
たり10mgから400mg含有させるのが好ましく、特に
20mgから300mgの範囲が好ましい添加量であ。
固有感光波長域のうち400nm以上の感光域の感度を低
下させるものが好ましく、フィルム膜中で420〜55
0nmに吸収極大をもつ染料が好ましく用いられる。染料
の化学構造には特別な限定はなく、オキソノール染料、
ヘミオキソノール染料、メロシアニン染料、シアニン染
料、アゾ染料、アリーリデン染料などを使用しうるが、
処理後の残色をなくす意味から水溶性の染料が有用であ
る。具体的には、例えば米国特許第2,274,782
号に記載のピラゾロンオキソノール染料、米国特許第
2,956,879号に記載のジアリールアゾ染料、米
国特許第3,423,207号、同第3,384,48
7号に記載のスチリル染料やブタジエニル染料、米国特
許第2,527,583号に記載のメロシアニン染料、
米国特許第3,486,897号、同第3,652,2
84号、同第3,718,472号に記載のメロシアニ
ン染料やオキソノール染料、米国特許第3,976,6
61号に記載のエナミヘミオキソノール染料、特開昭5
1−3623号、特開昭52−20822号に記載のア
リーリデン染料、特願昭60−54883号、同60−
21306号、同60−117456号、同60−17
8324号に記載のビス型染料及び英国特許第584,
609号、同第1,177,429号、特開昭48−8
5130号、同49−99620号、同49−1144
20号、米国特許第2,533,472号、同第3,1
48,187号、同第3,177,078号、同第3,
247,127号、同第3,540,887号、同第
3,575,704号、同第3,653,905号に記
載の染料が用いられる。染料の添加量は感光材料1m2あ
たり10mgから400mg含有させるのが好ましく、特に
20mgから300mgの範囲が好ましい添加量であ。
【0145】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載された物を好ましく用いることができる。 項 目 該 当 箇 所 1)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m )ないし(II−p)及び化合物II−1ないしII−2 2、特開平1−179939号公報に記載の化合物 。 2)界面活性剤、帯電防 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か 止剤 ら同右下欄7行目、及び特開平2−18542号公 報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄18行 目。 3)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 4)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12 行目から同20行目。 5)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目。 6)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15 可塑剤 行目から同第19頁右上欄15行目。 7)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同17行目。 8)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目か ら20行目。 9) 黒ポツ防止剤 米国特許第4,956,257号及び特開平1−1 18832号公報に記載の化合物。
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載された物を好ましく用いることができる。 項 目 該 当 箇 所 1)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m )ないし(II−p)及び化合物II−1ないしII−2 2、特開平1−179939号公報に記載の化合物 。 2)界面活性剤、帯電防 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か 止剤 ら同右下欄7行目、及び特開平2−18542号公 報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄18行 目。 3)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 4)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12 行目から同20行目。 5)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目。 6)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15 可塑剤 行目から同第19頁右上欄15行目。 7)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同17行目。 8)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目か ら20行目。 9) 黒ポツ防止剤 米国特許第4,956,257号及び特開平1−1 18832号公報に記載の化合物。
【0146】
【実施例】以下に実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明
する。 実施例1 以下の方法により乳剤〔A〕〜〔D〕を調製した。 〔乳剤A〕40℃に保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水
溶液と銀1モルあたり5×10-5モルの(NH4)3Rh(H2O)C
l5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に3分間で添加
し、その間の電位を95mVにコントロールすることによ
り芯部の粒子0.08μm を調製した。その後、硝酸銀
水溶液と銀1モルあたり、1.5×10-4モルの(NH4)3
Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に、6分
間で添加しその間の電位を100mVにコントロールする
ことにより、平均粒子サイズ0.15μ、総(NH4)3Rh(H
2O)Cl5量5×10-5モル/モルAgの塩化銀立方体粒子
を調製した。安定剤として、1×10-3モル/モルAg
の6−ヒドロキシ−4−メチル−1,3,3a,7−テ
トラザインデンを添加し、フロキュレーション法により
可溶性を除去したのち、ゼラチンを加えた。同様の方法
で乳剤〔B〕〜〔D〕を調製した。乳剤〔A〕〜〔D〕
の特徴を表1にまとめた。
する。 実施例1 以下の方法により乳剤〔A〕〜〔D〕を調製した。 〔乳剤A〕40℃に保ったゼラチン水溶液中に硝酸銀水
溶液と銀1モルあたり5×10-5モルの(NH4)3Rh(H2O)C
l5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に3分間で添加
し、その間の電位を95mVにコントロールすることによ
り芯部の粒子0.08μm を調製した。その後、硝酸銀
水溶液と銀1モルあたり、1.5×10-4モルの(NH4)3
Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に、6分
間で添加しその間の電位を100mVにコントロールする
ことにより、平均粒子サイズ0.15μ、総(NH4)3Rh(H
2O)Cl5量5×10-5モル/モルAgの塩化銀立方体粒子
を調製した。安定剤として、1×10-3モル/モルAg
の6−ヒドロキシ−4−メチル−1,3,3a,7−テ
トラザインデンを添加し、フロキュレーション法により
可溶性を除去したのち、ゼラチンを加えた。同様の方法
で乳剤〔B〕〜〔D〕を調製した。乳剤〔A〕〜〔D〕
の特徴を表1にまとめた。
【0147】
【表1】
【0148】乳剤〔A〕〜〔E〕にヒドラジン化合物、
造核促進剤を表2の様に添加した。
造核促進剤を表2の様に添加した。
【0149】その後銀1モルあたり2×10-4モルの1
−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、ポリエチル
アクリレートラテックスを固形分で対ゼラチン30wt%
添加し、硬膜剤として、1,3−ジビニルスルホニル−
2−プロパノール(150mg/m2)を加え、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に3.0g/m2のAg量に
なるように塗布し、その上層に下記処方の保護層上層、
保護層下層およびバッキング層、バック保護層を塗設し
サンプルを作成した。
−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、ポリエチル
アクリレートラテックスを固形分で対ゼラチン30wt%
添加し、硬膜剤として、1,3−ジビニルスルホニル−
2−プロパノール(150mg/m2)を加え、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に3.0g/m2のAg量に
なるように塗布し、その上層に下記処方の保護層上層、
保護層下層およびバッキング層、バック保護層を塗設し
サンプルを作成した。
【0150】 〔保護層下層〕 ゼラチン 1g/m2 チオクト酸 6g/m2 エチルチトスルホン酸ナトリウム塩 4mg/m2 染料〔a〕 100mg/m2
【0151】
【化79】
【0152】 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 35mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 10mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 エチルアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ) 0.2mg/m2
【0153】 〔保護層上層〕 ゼラチン 0.6g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径2.5μ) 20mg/m2 二酸化ケイ素微粒子(平均粒径2.8μ) 30mg/m2 N−パーフルオロト クタンスルホニル−N−プロピレン グリシンポタジウム塩 3mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 20mg/m2 〔バック層〕 ゼラチン 2.5g/m2 染料−〔b〕 0.26g/m2 〃 −〔c〕 30mg/m2 〃 −〔d〕 40mg/m2 〃 −〔e〕 90mg/m2
【0154】
【化80】
【0155】 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 30mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 35mg/m2 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 130mg/m2 エチレンアクリレートラテックス(平均粒径0.05μ) 0.5g/m2 導電性化合物SnO2/Sb(重量比9/1、粒径0.2μ) 0.1g/m2
【0156】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ) 40mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 フッ素系界面活性剤 5mg/m2
【0157】
【化81】
【0158】 酢酸ナトリウム 40mg/m2
【0159】露光は、特開昭58−190943号公報
の第1図に示す様な原稿構成で大日本スクリーン(株)
製明室プリンターP607で露光し富士写真フイルム
(株)製自動現像機FG−660Fにて、38℃、20
秒の条件で処理を行なった。現像は下記組成の現像液で
行なった。
の第1図に示す様な原稿構成で大日本スクリーン(株)
製明室プリンターP607で露光し富士写真フイルム
(株)製自動現像機FG−660Fにて、38℃、20
秒の条件で処理を行なった。現像は下記組成の現像液で
行なった。
【0160】 現像液処方 D−1 D−2 D−3 水酸化ナトリウム 10.0g 10.0g 10.0g ジエチレントリアミン五酢酸 1.5g 1.5g 1.5g 炭酸カリウム 15.0g 15.0g 15.0g 臭化カリウム 3.0g 3.0g 3.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.10g 0.10g 0.10g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g 0.02g 0.02g 亜硫酸カリウム 10.0g 10.0g 65.0g ハイドロキノン − − 25.0g 4−ヒドロキシメチル−4−1−フェニル −3−ピラゾリドン 0.4g − 0.4g N−メチル−p−アミノフェノール − 1.2g − 本発明の化合物(II−1) 30.0g 30.0g − 水を加えて 1リットル 1リットル 1リットル pH 10.7 10.7 10.7
【0161】抜文字画質、物理現像ムラ、セーフライト
安全性の評価は以下の方法で行なった。 抜文字画質;特開昭58−190943号の図1に
記載されている通り貼りこみベース/線画ポジ像が形成
されたフィルム(線画原稿)/貼りこみベース/網点画
像が形成されたフィルム(網点原稿)をこの順に重畳し
たものを各フィルム試料の保護層と前記網点原稿が面対
面で重なるように密着させ、50%の網点面積がフィル
ム試料上に50%の網点面積となる様な適性露光を与
え、前述のように処理したときに、線画原稿の30μm
巾の文字が再現できたものを5とし、150μm 巾以上
の文字しか再現できないものを1とし、5と1の間に官
能評価で4、3、2のランクを設けたものである。2が
ぎりぎり実用可能な限界である。
安全性の評価は以下の方法で行なった。 抜文字画質;特開昭58−190943号の図1に
記載されている通り貼りこみベース/線画ポジ像が形成
されたフィルム(線画原稿)/貼りこみベース/網点画
像が形成されたフィルム(網点原稿)をこの順に重畳し
たものを各フィルム試料の保護層と前記網点原稿が面対
面で重なるように密着させ、50%の網点面積がフィル
ム試料上に50%の網点面積となる様な適性露光を与
え、前述のように処理したときに、線画原稿の30μm
巾の文字が再現できたものを5とし、150μm 巾以上
の文字しか再現できないものを1とし、5と1の間に官
能評価で4、3、2のランクを設けたものである。2が
ぎりぎり実用可能な限界である。
【0162】 物理現像ムラ;未露光の試料を富士写
真フイルム(株)製自動現像機FG−360Aにてリン
ス浴機能を止めた状態で38℃、20秒の条件で処理を
行い、処理ムラのレベルを5段階で評価した。「5」が
最もよく、「1」が最も悪い品質を表す。「5」又は
「4」は実用可能で「3」は粗悪だがぎりぎり実用で
き、「2」又は「1」は実用不可である。
真フイルム(株)製自動現像機FG−360Aにてリン
ス浴機能を止めた状態で38℃、20秒の条件で処理を
行い、処理ムラのレベルを5段階で評価した。「5」が
最もよく、「1」が最も悪い品質を表す。「5」又は
「4」は実用可能で「3」は粗悪だがぎりぎり実用で
き、「2」又は「1」は実用不可である。
【0163】 セーフライト照射後のカブリ;東芝製
白色蛍光灯(El40SW)20lux の下で30分間照
射後、現像処理を行なったときのカブリ。
白色蛍光灯(El40SW)20lux の下で30分間照
射後、現像処理を行なったときのカブリ。
【0164】
【表2】
【0165】<結果>表2に示すように、本発明の画像
形成方法は抜き文字画質が良好で、処理ムラもなく、セ
ーフライトかぶりも小さく良好な性能が得られた。 実施例2 乳剤Aに試料4と同様の添加剤を加えて、ポリエチレン
テレフタレートフィルム上に3.0g/m2のAg量にな
るように塗布した。さらに、その上層に染料aを表3の
ように添加する以外は試料4と同様の処方の保護上層
と、微結晶状の染料を表3のように添加する以外は試料
4と同様の処方の保護下層を塗設した。また、バッキン
グ層、バック保護層を試料4と同様に塗設してサンプル
を作成した。
形成方法は抜き文字画質が良好で、処理ムラもなく、セ
ーフライトかぶりも小さく良好な性能が得られた。 実施例2 乳剤Aに試料4と同様の添加剤を加えて、ポリエチレン
テレフタレートフィルム上に3.0g/m2のAg量にな
るように塗布した。さらに、その上層に染料aを表3の
ように添加する以外は試料4と同様の処方の保護上層
と、微結晶状の染料を表3のように添加する以外は試料
4と同様の処方の保護下層を塗設した。また、バッキン
グ層、バック保護層を試料4と同様に塗設してサンプル
を作成した。
【0166】感度、復色の評価は、以下のようにおこな
った。 ・感度;濃度1.5を与える露光量の逆数の対数をと
り、実験番号11の感度値を100とした時の相対値で
ある。
った。 ・感度;濃度1.5を与える露光量の逆数の対数をと
り、実験番号11の感度値を100とした時の相対値で
ある。
【0167】・復色;未露光の試料を富士写真フイルム
(株)製自動現像機FG−660Fにて、38℃、20
秒の条件で処理をおこない、50℃、80%の環境下に
3日間保存した後の色味のレベルを5段階で評価した。
「5」が最もよく、「1」が最も悪い品質を表わす。
「5」又は「4」は実用可能で「3」は粗悪だがぎりぎ
り実用でき、「2」又は「1」は実用不可である。
(株)製自動現像機FG−660Fにて、38℃、20
秒の条件で処理をおこない、50℃、80%の環境下に
3日間保存した後の色味のレベルを5段階で評価した。
「5」が最もよく、「1」が最も悪い品質を表わす。
「5」又は「4」は実用可能で「3」は粗悪だがぎりぎ
り実用でき、「2」又は「1」は実用不可である。
【0168】
【表3】
【0169】表3に示すように、本発明の画像形成方法
は、抜き文字画質が良好で、かつ、復色がなく良好な性
能である。
は、抜き文字画質が良好で、かつ、復色がなく良好な性
能である。
Claims (4)
- 【請求項1】 塩化銀含有率が90モル%以上のハロゲ
ン化銀粒子からなり、かつ銀1モル当たり1×10-6モ
ル以上のロジウム、ルテニウム、レニウムまたはオスミ
ウム化合物を含有するハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳
剤層または他の親水性コロイド層中にヒドラジン化合物
を含有してなるハロゲン化銀写真感光材料を画像露光し
た後、現像主薬として実質的にジヒドロキシベンゼン系
現像主薬を含有せず、下記一般式(I)で表わされる現
像主薬を含有する現像液で現像処理することを特徴とす
る画像形成方法。一般式(I) 【化1】 式中、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ基、アミノ基、
アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリー
ルスルホニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ
基、メルカプト基またはアルキルチオ基を表す。P、Q
はヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコキシ基、ヒド
ロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホ基、
スルホアルキル基、アミノ基、アミノアルキル基、アル
キル基またはアリール基を表すか、または、PとQは互
いに結合して、R1 、R2 が置換している二つのビニル
炭素原子とYが置換している炭素原子と共に5〜8員環
を形成する原子群を表す。Yは=0、または=N−R3
を表す。R3 は水素原子、ヒドロキシル基、アルキル
基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、スルホアルキル
基、カルボキシアルキル基を表す。 - 【請求項2】 ハロゲン化銀乳剤層またはその他の親水
性コロイド層中に、造核促進剤としてアミン誘導体、オ
ニウム塩、ジスルフィド誘導体、およびヒドロキシメチ
ル誘導体のうち、少なくとも1種類を含有することを特
徴とする請求項1に記載の画像形成方法。 - 【請求項3】 ハロゲン化銀乳剤層またはその他の親水
性コロイド層中に、微結晶分散体の染料を含むことを特
徴とする請求項1または2に記載の画像形成方法。 - 【請求項4】 該現像液のpHが10.0以上、12.
0以下であることを特徴とする請求項1に記載の画像形
成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28211793A JPH07114152A (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28211793A JPH07114152A (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | 画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07114152A true JPH07114152A (ja) | 1995-05-02 |
Family
ID=17648354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28211793A Pending JPH07114152A (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07114152A (ja) |
-
1993
- 1993-10-18 JP JP28211793A patent/JPH07114152A/ja active Pending
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