JPH07118204A - 含フッ素化合物とそれを有する磁気記録媒体 - Google Patents
含フッ素化合物とそれを有する磁気記録媒体Info
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- JPH07118204A JPH07118204A JP5262174A JP26217493A JPH07118204A JP H07118204 A JPH07118204 A JP H07118204A JP 5262174 A JP5262174 A JP 5262174A JP 26217493 A JP26217493 A JP 26217493A JP H07118204 A JPH07118204 A JP H07118204A
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- chemical formula
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温度の環境下で走行した後でも潤滑性の低
下しない物質およびそれを有する磁気記録媒体の提供を
目的とする。 【構成】 化学式が（化１）で示される含フッ素化合物
である。また磁気記録媒体は、非磁性支持体の上に強磁
性膜を設け、その強磁性膜の上に直接または保護膜を介
して一般式が（化１）で示される含フッ素化合物を１種
類以上含有する潤滑剤層を設けた構造である。 【化１】
下しない物質およびそれを有する磁気記録媒体の提供を
目的とする。 【構成】 化学式が（化１）で示される含フッ素化合物
である。また磁気記録媒体は、非磁性支持体の上に強磁
性膜を設け、その強磁性膜の上に直接または保護膜を介
して一般式が（化１）で示される含フッ素化合物を１種
類以上含有する潤滑剤層を設けた構造である。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高精度な潤滑性が要求さ
れる精密機械、精密部品の潤滑剤、界面活性剤、離型
剤、防錆剤などに有用な新規な含フッ素化合物と、それ
を有する磁気記録媒体に関する。
れる精密機械、精密部品の潤滑剤、界面活性剤、離型
剤、防錆剤などに有用な新規な含フッ素化合物と、それ
を有する磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】機械装置、部品の小型化、高精度化に伴
いそれらの摺動部における潤滑形態も流体潤滑から境界
潤滑へと移行してきている。とりわけ、ＶＴＲ、磁気デ
ィスク等の電子機器、電子部品においては記録密度の向
上を目的とした強磁性金属薄膜の採用により、磁気記録
媒体と磁気ヘッドとの摺動には高精度の潤滑が必要とな
ってきた。例えば、ハードディスクでは耐久性と信頼性
を確保しながら磁気記録媒体と磁気ヘッドとのスペーシ
ングロスを極力小さくして高出力化を図るために、磁性
層表面の潤滑剤層はわずか数１０Åの厚さとなるように
形成される。したがって、この潤滑剤層を形成する材料
として、潤滑性の優れた有機化合物の開発が重要な課題
となっている。
いそれらの摺動部における潤滑形態も流体潤滑から境界
潤滑へと移行してきている。とりわけ、ＶＴＲ、磁気デ
ィスク等の電子機器、電子部品においては記録密度の向
上を目的とした強磁性金属薄膜の採用により、磁気記録
媒体と磁気ヘッドとの摺動には高精度の潤滑が必要とな
ってきた。例えば、ハードディスクでは耐久性と信頼性
を確保しながら磁気記録媒体と磁気ヘッドとのスペーシ
ングロスを極力小さくして高出力化を図るために、磁性
層表面の潤滑剤層はわずか数１０Åの厚さとなるように
形成される。したがって、この潤滑剤層を形成する材料
として、潤滑性の優れた有機化合物の開発が重要な課題
となっている。
【０００３】ハードディスク用の潤滑剤としては、（化
２）で示されるモンテジソン社製の商品名 ＦＯＭＢＬ
ＩＮ Ｚ ＤＯＬや、（化３）で示されるフロロアルキ
ルエーテル基付カルボン酸（特開平４−２７０２４３号
公報）等がある。
２）で示されるモンテジソン社製の商品名 ＦＯＭＢＬ
ＩＮ Ｚ ＤＯＬや、（化３）で示されるフロロアルキ
ルエーテル基付カルボン酸（特開平４−２７０２４３号
公報）等がある。
【０００４】
【化２】
【０００５】
【化３】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の（化
２）で示されるＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＯＬの潤滑剤
は、高温高湿度の環境下で摩擦係数が増大しＣＳＳ（コ
ンタクト・スタート・ストップ）耐久特性が劣化し、
（化３）で示されるフロロアルキルエーテル基付カルボ
ン酸の潤滑剤は高温度環境下の保存で潤滑剤量が減少
し、潤滑性が低下するという問題があった。
２）で示されるＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＯＬの潤滑剤
は、高温高湿度の環境下で摩擦係数が増大しＣＳＳ（コ
ンタクト・スタート・ストップ）耐久特性が劣化し、
（化３）で示されるフロロアルキルエーテル基付カルボ
ン酸の潤滑剤は高温度環境下の保存で潤滑剤量が減少
し、潤滑性が低下するという問題があった。
【０００７】本発明は上記の従来の問題を解決するもの
で、高温度環境下の保存後も潤滑性の低下しない物質の
提供を目的とする。
で、高温度環境下の保存後も潤滑性の低下しない物質の
提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の物質は一般式が（化４）で示される含フッ
素化合物である。
めの本発明の物質は一般式が（化４）で示される含フッ
素化合物である。
【０００９】
【化４】
【００１０】ただし、Ｒｆはフロロアルキル基、フロロ
アルケニル基、フロロフェニル基またはフロロアルキル
エーテル基を示し、Ｒ1は脂肪族アルキル基または脂肪
族アルケニル基を示し、Ｒ2は飽和または不飽和の炭化
水素鎖を示し、Ｒ3は炭素数２または３の脂肪族アルキ
レンオキサイド基を示し、ｋおよびｎは０もしくは１を
示し、ｍは１以上の整数を示す。
アルケニル基、フロロフェニル基またはフロロアルキル
エーテル基を示し、Ｒ1は脂肪族アルキル基または脂肪
族アルケニル基を示し、Ｒ2は飽和または不飽和の炭化
水素鎖を示し、Ｒ3は炭素数２または３の脂肪族アルキ
レンオキサイド基を示し、ｋおよびｎは０もしくは１を
示し、ｍは１以上の整数を示す。
【００１１】脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニル
基（Ｒ1）としては炭素数が６〜３０、好ましくは１０
〜２４が適しており、炭素数が６未満または３０を越え
ると潤滑性が低下する。Ｒｆとしては炭素数が３〜３
０、好ましくは６〜１８のフロロアルキル基、結合基と
してエーテルまたはフェニル付エーテルを有してもよい
炭素数が３〜３０、好ましくは６〜１８のフロロアルケ
ニル基、炭素数が６〜１８、好ましくは６〜１２のフロ
ロフェニル基、炭素数が５〜５０、好ましくは、５〜３
０フロロアルキルエーテル基が適しており、炭素数がこ
れらの範囲外であると潤滑性が低下する。
基（Ｒ1）としては炭素数が６〜３０、好ましくは１０
〜２４が適しており、炭素数が６未満または３０を越え
ると潤滑性が低下する。Ｒｆとしては炭素数が３〜３
０、好ましくは６〜１８のフロロアルキル基、結合基と
してエーテルまたはフェニル付エーテルを有してもよい
炭素数が３〜３０、好ましくは６〜１８のフロロアルケ
ニル基、炭素数が６〜１８、好ましくは６〜１２のフロ
ロフェニル基、炭素数が５〜５０、好ましくは、５〜３
０フロロアルキルエーテル基が適しており、炭素数がこ
れらの範囲外であると潤滑性が低下する。
【００１２】本発明の磁気記録媒体は非磁性支持体の上
に強磁性膜を設け、その強磁性膜の上に直接または保護
膜を介して一般式が（化４）で示される含フッ素化合物
を１種類以上含有する潤滑剤層を設けたものである。
に強磁性膜を設け、その強磁性膜の上に直接または保護
膜を介して一般式が（化４）で示される含フッ素化合物
を１種類以上含有する潤滑剤層を設けたものである。
【００１３】この潤滑剤層は一般式が（化４）で示され
る含フッ素化合物を単独もしくは他の潤滑剤、防錆剤な
どを添加して薄層状に存在させる。その存在量は表面１
m2当り０.０５〜１００mg、好ましくは０.１〜５０mgの
範囲が適している。また、前記他の潤滑剤、防錆剤とし
ては含フッ素化合物が好ましい。その添加量としては０
〜８０％、好ましくは０〜７０％の範囲が適している。
一般式が（化４）で示される含フッ素化合物が２０％未
満であると本発明の効果が得られ難い。保護膜としては
スパッタリング、プラズマＣＶＤなどの方法で得られる
アモルファス状、グラファイト状、ダイヤモンド状ある
いはそれらの混合状態、積層状態のカーボン薄膜が適用
でき、その厚さとしては５０〜５００Åが好ましい。
る含フッ素化合物を単独もしくは他の潤滑剤、防錆剤な
どを添加して薄層状に存在させる。その存在量は表面１
m2当り０.０５〜１００mg、好ましくは０.１〜５０mgの
範囲が適している。また、前記他の潤滑剤、防錆剤とし
ては含フッ素化合物が好ましい。その添加量としては０
〜８０％、好ましくは０〜７０％の範囲が適している。
一般式が（化４）で示される含フッ素化合物が２０％未
満であると本発明の効果が得られ難い。保護膜としては
スパッタリング、プラズマＣＶＤなどの方法で得られる
アモルファス状、グラファイト状、ダイヤモンド状ある
いはそれらの混合状態、積層状態のカーボン薄膜が適用
でき、その厚さとしては５０〜５００Åが好ましい。
【００１４】
【作用】本発明の含フッ素化合物は、同一分子内に１個
の脂肪族アルキレンオキサイド基付含フッ素炭化水素
基、すなわち脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロア
ルキル基、脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロアル
ケニル基、脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロフェ
ニル基または脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロア
ルキルエーテル基と１個の脂肪族炭化水素基、すなわち
脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニル基とカルボキ
シル基を有する構造である。ここで、脂肪族アルキレン
オキサイド基は潤滑剤の分子量の増大化に寄与してい
る。これにより、潤滑剤に揮発抑制効果を付与すること
ができる。
の脂肪族アルキレンオキサイド基付含フッ素炭化水素
基、すなわち脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロア
ルキル基、脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロアル
ケニル基、脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロフェ
ニル基または脂肪族アルキレンオキサイド基付フロロア
ルキルエーテル基と１個の脂肪族炭化水素基、すなわち
脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニル基とカルボキ
シル基を有する構造である。ここで、脂肪族アルキレン
オキサイド基は潤滑剤の分子量の増大化に寄与してい
る。これにより、潤滑剤に揮発抑制効果を付与すること
ができる。
【００１５】ところで、カルボキシル基は金属薄膜の表
面また保護膜の表面と磁気ヘッドの表面に強く付着す
る。また、含フッ素炭化水素基は表面に露出してその表
面の低エネルギー化に寄与し、非粘着面を形成する。さ
らに、脂肪族炭化水素基は柔軟な炭素−炭素結合鎖であ
り、かつ、隣接する他の分子の炭化水素鎖との適度な分
子間相互作用で配向するために良好な潤滑性を示す。
面また保護膜の表面と磁気ヘッドの表面に強く付着す
る。また、含フッ素炭化水素基は表面に露出してその表
面の低エネルギー化に寄与し、非粘着面を形成する。さ
らに、脂肪族炭化水素基は柔軟な炭素−炭素結合鎖であ
り、かつ、隣接する他の分子の炭化水素鎖との適度な分
子間相互作用で配向するために良好な潤滑性を示す。
【００１６】したがって、これらの各基の相乗効果によ
り、高温度環境下の保存後でも潤滑性の低下しない優れ
た潤滑性を発現する。
り、高温度環境下の保存後でも潤滑性の低下しない優れ
た潤滑性を発現する。
【００１７】
（実施例１）以下、本発明の第１の実施例について具体
的に説明する。
的に説明する。
【００１８】本実施例の物質の化学式は（化５）で示さ
れるものである。
れるものである。
【００１９】
【化５】
【００２０】（化５）の物質を（化４）の一般式と比較
しながら説明すると、Ｒ1が炭素数１８のオクタデシル
基で，Ｒfがフッ素と結合した炭素数を８個有するフロ
ロアルキル基で、Ｒ2が炭素数２の脂肪族アルキレン基
で、Ｒ3がエチレンオキサイド基で、ｋが０で、ｍが３
で、ｎが０のものである。
しながら説明すると、Ｒ1が炭素数１８のオクタデシル
基で，Ｒfがフッ素と結合した炭素数を８個有するフロ
ロアルキル基で、Ｒ2が炭素数２の脂肪族アルキレン基
で、Ｒ3がエチレンオキサイド基で、ｋが０で、ｍが３
で、ｎが０のものである。
【００２１】つぎに、（化５）で示される物質の製造方
法を説明する。出発原料は（化６）で示されるオクタデ
シル無水コハク酸３５.３g（０.１０モル）と（化７）
で示されるエチレンオキサイド基付フロロアルキルアル
コール５９.６g（０.１０モル）である。
法を説明する。出発原料は（化６）で示されるオクタデ
シル無水コハク酸３５.３g（０.１０モル）と（化７）
で示されるエチレンオキサイド基付フロロアルキルアル
コール５９.６g（０.１０モル）である。
【００２２】
【化６】
【００２３】
【化７】
【００２４】上記の原料とノルマルヘプタン５００mlと
を撹拌翼を備えた１lit.のフラスコに採取し、２４時間
反応を行なった。反応終了後、ノルマルヘプタンを留去
し、反応混合物をベンゼンに溶解し、−１０℃に冷却し
て未反応のオクタデシル無水コハク酸を除去した。さら
に、反応混合物をメタノール溶液として同様の処理によ
り、未反応のエチレンオキサイド基付フロロアルキルア
ルコールを除去して白色固体９４.９gを得た。この白色
固体は赤外分光分析（ＩＲ）、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィ（ＧＰＣ）および有機質量分析（ＦＤ−
ＭＳ）により、出発原料および副生成物を含まない（化
５）の式で表わされる物質であることが判明した。
を撹拌翼を備えた１lit.のフラスコに採取し、２４時間
反応を行なった。反応終了後、ノルマルヘプタンを留去
し、反応混合物をベンゼンに溶解し、−１０℃に冷却し
て未反応のオクタデシル無水コハク酸を除去した。さら
に、反応混合物をメタノール溶液として同様の処理によ
り、未反応のエチレンオキサイド基付フロロアルキルア
ルコールを除去して白色固体９４.９gを得た。この白色
固体は赤外分光分析（ＩＲ）、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィ（ＧＰＣ）および有機質量分析（ＦＤ−
ＭＳ）により、出発原料および副生成物を含まない（化
５）の式で表わされる物質であることが判明した。
【００２５】ＩＲ；酸無水物の１,７７５cm-1の吸収ピ
ークおよびアルコールの３,３３０cm-1の吸収ピーク消
滅、カルボン酸の１,７０５cm-1、エステルの１,７３５
cm-1の吸収ピーク出現。
ークおよびアルコールの３,３３０cm-1の吸収ピーク消
滅、カルボン酸の１,７０５cm-1、エステルの１,７３５
cm-1の吸収ピーク出現。
【００２６】ＧＰＣ；エチレンオキサイド基付フロロア
ルキルアルコール、オクタデシル無水コハク酸検出され
ず。
ルキルアルコール、オクタデシル無水コハク酸検出され
ず。
【００２７】ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ ９４９に主ピーク有
り。本実施例においては脂肪族アルキル無水コハク酸と
してオクタデシル無水コハク酸を用いたが、これに代え
て脂肪族アルケニル無水コハク酸を用いてもよい。この
ことは他の実施例においても同じである。
り。本実施例においては脂肪族アルキル無水コハク酸と
してオクタデシル無水コハク酸を用いたが、これに代え
て脂肪族アルケニル無水コハク酸を用いてもよい。この
ことは他の実施例においても同じである。
【００２８】（実施例２）以下、本発明の第２の実施例
について具体的に説明する。
について具体的に説明する。
【００２９】本実施例の物質の化学式は（化８）で示さ
れるものである。
れるものである。
【００３０】
【化８】
【００３１】（化８）の物質を（化４）の一般式と比較
しながら説明すると、Ｒ1が炭素数１８のオクタデシル
基で，Ｒfがフッ素と結合した平均炭素数を１１個有す
るフロロアルキルエーテル基で、Ｒ2が炭素数１の脂肪
族アルキレン基で、Ｒ3がエチレンオキサイド基で、ｋ
が１で、ｍが３で、ｎが０のものである。つぎに、（化
８）で示される物質の製造方法を説明する。
しながら説明すると、Ｒ1が炭素数１８のオクタデシル
基で，Ｒfがフッ素と結合した平均炭素数を１１個有す
るフロロアルキルエーテル基で、Ｒ2が炭素数１の脂肪
族アルキレン基で、Ｒ3がエチレンオキサイド基で、ｋ
が１で、ｍが３で、ｎが０のものである。つぎに、（化
８）で示される物質の製造方法を説明する。
【００３２】出発原料は（化９）で示されるオクタデシ
ル無水チオリンゴ酸３８.５g（０.１０モル）と（化１
０）で示されるエチレンオキサイド基付フロロアルキル
エーテルアルコール７９.６g（０.１０モル）である。
ル無水チオリンゴ酸３８.５g（０.１０モル）と（化１
０）で示されるエチレンオキサイド基付フロロアルキル
エーテルアルコール７９.６g（０.１０モル）である。
【００３３】
【化９】
【００３４】
【化１０】
【００３５】上記の原料とノルマルヘプタン５００mlと
を撹拌翼を備えた１lit.のフラスコに採取し、２４時間
反応を行なった。反応終了後、ノルマルヘプタンを留去
し、反応混合物をベンゼンに溶解し、−１０℃に冷却し
て未反応のオクタデシル無水チオリンゴ酸を除去した。
さらに、反応混合物をメタノール溶液として同様の処理
により、未反応のエチレンオキサイド基付フロロアルキ
ルエーテルアルコールを除去してワックス状の半固体１
１８.１gを得た。このワックス状の半固体はＩＲ、ＧＰ
ＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を
含まない（化８）の式で表わされる物質であることが判
明した。
を撹拌翼を備えた１lit.のフラスコに採取し、２４時間
反応を行なった。反応終了後、ノルマルヘプタンを留去
し、反応混合物をベンゼンに溶解し、−１０℃に冷却し
て未反応のオクタデシル無水チオリンゴ酸を除去した。
さらに、反応混合物をメタノール溶液として同様の処理
により、未反応のエチレンオキサイド基付フロロアルキ
ルエーテルアルコールを除去してワックス状の半固体１
１８.１gを得た。このワックス状の半固体はＩＲ、ＧＰ
ＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を
含まない（化８）の式で表わされる物質であることが判
明した。
【００３６】ＩＲ；酸無水物の１,７７５cm-1の吸収ピ
ークおよびアルコールの３,３３０cm-1の吸収ピーク消
滅、カルボン酸の１,７０５cm-1、エステルの１,７３５
cm-1の吸収ピーク出現。
ークおよびアルコールの３,３３０cm-1の吸収ピーク消
滅、カルボン酸の１,７０５cm-1、エステルの１,７３５
cm-1の吸収ピーク出現。
【００３７】ＧＰＣ；エチレンオキサイド基付フロロア
ルキルエーテルアルコール、オクタデシル無水チオリン
ゴ酸検出されず。
ルキルエーテルアルコール、オクタデシル無水チオリン
ゴ酸検出されず。
【００３８】ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ １,１８１に主ピー
ク有り。 （実施例３）つぎに、本発明の磁気記録媒体の実施例に
ついて具体的に説明する。
ク有り。 （実施例３）つぎに、本発明の磁気記録媒体の実施例に
ついて具体的に説明する。
【００３９】本実施例の磁気記録媒体の非磁性支持体
は、直径９５mm、厚さ１.２mmのＡｌ合金板の表面に厚
さ２５μｍの非磁性Ｎｉ−Ｐ合金メッキを施し、テクス
チャ加工により平均粗さ５０Å、最大高さ３００Åの突
起を形成したものを用いた。非磁性Ｎｉ−Ｐ合金メッキ
の上にスパッタリング法によって厚さ１３００ÅのＣｒ
下地と厚さ６００ÅのＣｏ−Ｎｉの強磁性膜を形成し、
さらにその強磁性膜の上にスパッタリング法によって厚
さ２００Åのグラファイトの保護膜を形成させたものを
ディスクＡとする。グラファイト保護膜の代わりにプラ
ズマＣＶＤ法によって厚さ５０Åのダイヤモンドライク
カーボンの保護膜を形成させたものをディスクＢとす
る。保護膜を形成していないものをディスクＣとする。
つぎに、これらのディスク上に（化５）の含フッ素化合
物を１m2当り１０mgの存在量となるように塗布して潤滑
剤層を設けて磁気ディスクを作製した。この磁気ディス
クをハードディスクドライブ装置に組み込み、６０℃の
環境下で３６００ｒｐｍで５００時間連続運転させた後
のディスク上の潤滑剤残存率より揮発特性の判定を、ま
た、潤滑剤塗布の初期のディスクと揮発特性試験後のデ
ィスクを用いて、走行性に対して過酷な４０℃−８０％
ＲＨでＣＳＳ試験を実施し、摩擦係数が１.０を超えた
時点のＣＳＳ回数またはヘッドクラッシュ発生時のＣＳ
Ｓ回数で耐久性の判定を行なった。
は、直径９５mm、厚さ１.２mmのＡｌ合金板の表面に厚
さ２５μｍの非磁性Ｎｉ−Ｐ合金メッキを施し、テクス
チャ加工により平均粗さ５０Å、最大高さ３００Åの突
起を形成したものを用いた。非磁性Ｎｉ−Ｐ合金メッキ
の上にスパッタリング法によって厚さ１３００ÅのＣｒ
下地と厚さ６００ÅのＣｏ−Ｎｉの強磁性膜を形成し、
さらにその強磁性膜の上にスパッタリング法によって厚
さ２００Åのグラファイトの保護膜を形成させたものを
ディスクＡとする。グラファイト保護膜の代わりにプラ
ズマＣＶＤ法によって厚さ５０Åのダイヤモンドライク
カーボンの保護膜を形成させたものをディスクＢとす
る。保護膜を形成していないものをディスクＣとする。
つぎに、これらのディスク上に（化５）の含フッ素化合
物を１m2当り１０mgの存在量となるように塗布して潤滑
剤層を設けて磁気ディスクを作製した。この磁気ディス
クをハードディスクドライブ装置に組み込み、６０℃の
環境下で３６００ｒｐｍで５００時間連続運転させた後
のディスク上の潤滑剤残存率より揮発特性の判定を、ま
た、潤滑剤塗布の初期のディスクと揮発特性試験後のデ
ィスクを用いて、走行性に対して過酷な４０℃−８０％
ＲＨでＣＳＳ試験を実施し、摩擦係数が１.０を超えた
時点のＣＳＳ回数またはヘッドクラッシュ発生時のＣＳ
Ｓ回数で耐久性の判定を行なった。
【００４０】（実施例４）実施例３のディスクＣにおい
て、（化５）に代えて（化８）を用いた磁気ディスクを
作製して同様の試験を行った。
て、（化５）に代えて（化８）を用いた磁気ディスクを
作製して同様の試験を行った。
【００４１】（実施例５）実施例３のディスクＢにおい
て、（化５）に代えて（化５）と公知の潤滑剤Ｃ8Ｆ17
Ｃ2Ｈ4ＮＨＣ18Ｈ35を重量比２：１の混合物を用いたデ
ィスクＢを作製して同様の試験を行った。
て、（化５）に代えて（化５）と公知の潤滑剤Ｃ8Ｆ17
Ｃ2Ｈ4ＮＨＣ18Ｈ35を重量比２：１の混合物を用いたデ
ィスクＢを作製して同様の試験を行った。
【００４２】（実施例６）実施例７のディスクＡにおい
て、（化５）に代えて（化８）と公知の潤滑剤Ｃ17Ｈ33
ＣＯＯＣ2Ｈ4Ｃ6Ｆ13を重量比１：１の混合物を用いた
磁気ディスクを作製して同様の試験を行った。
て、（化５）に代えて（化８）と公知の潤滑剤Ｃ17Ｈ33
ＣＯＯＣ2Ｈ4Ｃ6Ｆ13を重量比１：１の混合物を用いた
磁気ディスクを作製して同様の試験を行った。
【００４３】以上の実施例の試験結果を（表１）に示
す。表中の従来例１の潤滑剤は（化２）に示すもので、
従来例２、従来例３の潤滑剤は（化３）に示すものであ
る。
す。表中の従来例１の潤滑剤は（化２）に示すもので、
従来例２、従来例３の潤滑剤は（化３）に示すものであ
る。
【００４４】
【表１】
【００４５】（表１）より、本発明の含フッ素化合物を
１種以上含有する潤滑剤層を設けた磁気ディスクはすべ
て揮発特性および高温度環境試験後のＣＳＳの耐久性に
優れていることが明らかである。一方、従来の潤滑剤の
みから成る潤滑剤層を設けた磁気ディスクは揮発特性お
よび高温度環境試験後のＣＳＳの耐久性が劣ることが明
らかである。
１種以上含有する潤滑剤層を設けた磁気ディスクはすべ
て揮発特性および高温度環境試験後のＣＳＳの耐久性に
優れていることが明らかである。一方、従来の潤滑剤の
みから成る潤滑剤層を設けた磁気ディスクは揮発特性お
よび高温度環境試験後のＣＳＳの耐久性が劣ることが明
らかである。
【００４６】なお、実施例では（化５）および（化８）
の物質について説明したが、（化１１）、（化１２）、
（化１３）、（化１４）、（化１５）および（化１６）
の物質についても同様の効果が得られる。
の物質について説明したが、（化１１）、（化１２）、
（化１３）、（化１４）、（化１５）および（化１６）
の物質についても同様の効果が得られる。
【００４７】
【化１１】
【００４８】
【化１２】
【００４９】
【化１３】
【００５０】
【化１４】
【００５１】
【化１５】
【００５２】
【化１６】
【００５３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の含フッ素化合物は、同一分子内に１個の脂肪族アルキ
レンオキサイド基付含フッ素炭化水素基、すなわち脂肪
族アルキレンオキサイド基付フロロアルキル基、脂肪族
アルキレンオキサイド基付フロロアルケニル基、脂肪族
アルキレンオキサイド基付フロロフェニル基または脂肪
族アルキレンオキサイド基付フロロアルキルエーテル基
と１個の脂肪族炭化水素基、すなわち脂肪族アルキル基
または脂肪族アルケニル基とカルボキシル基を有する構
造であるために、高温度環境下の保存後でも潤滑性が低
下しないという優れた効果を示す。
の含フッ素化合物は、同一分子内に１個の脂肪族アルキ
レンオキサイド基付含フッ素炭化水素基、すなわち脂肪
族アルキレンオキサイド基付フロロアルキル基、脂肪族
アルキレンオキサイド基付フロロアルケニル基、脂肪族
アルキレンオキサイド基付フロロフェニル基または脂肪
族アルキレンオキサイド基付フロロアルキルエーテル基
と１個の脂肪族炭化水素基、すなわち脂肪族アルキル基
または脂肪族アルケニル基とカルボキシル基を有する構
造であるために、高温度環境下の保存後でも潤滑性が低
下しないという優れた効果を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１０Ｍ 105/54 9159−4Ｈ 105/72 Ｇ１１Ｂ 5/66 9196−5Ｄ 5/71 8721−5Ｄ // Ｃ１０Ｎ 30:08 40:02 40:18 40:36
Claims (2)
- 【請求項１】一般式が（化１）で示される含フッ素化合
物。 【化１】 ただし、Ｒｆはフロロアルキル基、フロロアルケニル
基、フロロフェニル基またはフロロアルキルエーテル基
を示し、Ｒ1は脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニ
ル基を示し、Ｒ2は飽和または不飽和の炭化水素鎖を示
し、Ｒ3は炭素数２または３の脂肪族アルキレンオキサ
イド基を示し、ｋおよびｎは０もしくは１を示し、ｍは
１以上の整数を示す。 - 【請求項２】非磁性支持体の上に強磁性膜を設け、その
強磁性膜の上に直接または保護膜を介して一般式が（化
１）で示される含フッ素化合物を１種類以上含有する潤
滑剤層を設けた磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5262174A JPH07118204A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 含フッ素化合物とそれを有する磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5262174A JPH07118204A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 含フッ素化合物とそれを有する磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07118204A true JPH07118204A (ja) | 1995-05-09 |
Family
ID=17372100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5262174A Pending JPH07118204A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 含フッ素化合物とそれを有する磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07118204A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6103677A (en) * | 1998-02-10 | 2000-08-15 | Hitachi Maxell, Ltd. | Lubricant and magnetic recording medium comprising the same |
| KR20240136808A (ko) | 2023-03-07 | 2024-09-19 | 손성근 | 차량용 조명장치 |
-
1993
- 1993-10-20 JP JP5262174A patent/JPH07118204A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6103677A (en) * | 1998-02-10 | 2000-08-15 | Hitachi Maxell, Ltd. | Lubricant and magnetic recording medium comprising the same |
| KR20240136808A (ko) | 2023-03-07 | 2024-09-19 | 손성근 | 차량용 조명장치 |
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