JPH0714838B2 - タイルの釉掛け方法 - Google Patents

タイルの釉掛け方法

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JPH0714838B2
JPH0714838B2 JP1005370A JP537089A JPH0714838B2 JP H0714838 B2 JPH0714838 B2 JP H0714838B2 JP 1005370 A JP1005370 A JP 1005370A JP 537089 A JP537089 A JP 537089A JP H0714838 B2 JPH0714838 B2 JP H0714838B2
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glazed
opposite side
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JP1005370A
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Inventor
勝 大岩
Original Assignee
株式会社イナックス
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5022Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はタイルの釉掛け方法に係り、特に外装用タイル
の如く一度焼きにてタイルを製造する際の釉掛け方法に
おいて、施釉、乾燥、焼成に至るまでの間の成形体の反
りによりひび割れの問題を解決するタイルの釉掛け方法
に関する。
[従来の技術] 外装用タイルは、長石、粘土、陶石等を原料とし、これ
を粉砕調合し、更に細かく砕いて泥状としてものを脱水
乾燥し、これを更に粉砕して得られる坏土を成形型に入
れ乾式プレスし、得られる成形体(圧粉体)に釉掛けし
た後、乾燥、焼成する所謂−度焼により製造されてい
る。施釉法としては、釉漿をスプレー法、幕掛け法等で
釉掛けする湿式施釉法が採用されており、施釉後、成形
体は移載機のゴムパッドを押し付け、吸引して焼成用の
セッタ又は鞘に移送される。
[発明が解決しようとする課題] 上記従来の方法においては、成形体の施釉面は釉漿の水
分を吸収して膨張することから、成形体には施釉面側が
凸となるような反りが生じる。また、その後の乾燥にお
いては、施釉面側の水分が失われて収縮することから、
成形体には施釉面側が凹となるような反りが生じる。
更に、乾燥後の焼成においては、成形体(焼結体)は平
板状に回復する。
このように、成形体は、施釉、乾燥、焼成の工程を終る
間に、凸反り、凹反り、平板状へとその形状が変わり、
このことは、成形体にひび割れが生じる原因となってい
た。
また、移送機にて施釉後の成形体を移送する場合におい
ては、反りが生じた成形体に移送機のゴムパッドを強く
押し付けることとなり、この押し付け力により、成形体
にひび割れが生じることもある。
このようなことから、従来の方法では、成形体にひび割
れが生じ易く、製品の歩留りを低下させていた。
本発明は上記従来の問題点を解決し、成形体のひび割れ
を効果的に防止することができるタイルの釉掛け方法を
提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明のタイルの釉掛け方法は、乾式プレス成形された
成形体に釉漿をかけるタイルの釉掛け方法において、釉
漿をかける直前又は直後或は釉漿をかけると同時に、施
釉面の反対側の面に水を含ませる方法であって、該施釉
面の反対側の面に含ませる水の量を、施釉面に施釉され
た釉漿中の水の量の50〜80%とすることを特徴とする。
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明のタイルの釉掛け方法においては、施釉の直前又
は直後、或いは施釉と同時に、成形体の施釉面と反対側
の面(以下、単に「反対側面」と言う場合がある。)に
水を含ませること以外は、従来の方法と同様に実施する
ことができ、施釉方法についても従来と同様、スプレー
法、膜掛け法等の湿式施釉法を採用することができる。
本発明において、施釉の直前とは施釉前1分以内、ま
た、施釉の直後とは施釉後1分以内とするのが好まし
い。即ち、本発明の方法においては、後述の「作用」の
項で説明する如く、成形体の反対側面に水を含ませて、
施釉面と反対側面とにほぼ同程度の水分吸収による膨潤
及び乾燥による収縮を生じさせることにより、成形体の
反りを防止してひび割れを解消するものであることか
ら、水を含ませる時期は、施釉の時期とほぼ同じ時期と
する。具体的には、本発明においては、施釉の1分前か
ら1分後の間に水を含ませるようにするのが好ましい。
成形体の反対側面に水を含ませる方法としては特に制限
はなく、例えば次の〜の方法を採用することができ
る。
スプレーにより水を吹き付ける。
成形体を水を含んだスポンジローラーの上に通す。
浅く水に浸す。
このようにして成形体の反対側面に含ませる水の量は、
施釉面に施釉された釉漿中の水の量の50〜80%とする。
即ち、成形体の施釉面と反対側面とが同じ乾燥速度で乾
燥される場合には、施釉面とほぼ同程度の水分を反対側
面に含ませるのが好ましい。しかしながら、実際には、
表面側の施釉面の方が裏面側となる反対側面よりも乾燥
が速く進み、反対側面は乾燥速度が遅い。従って、施釉
面と反対側面とを同程度の膨潤、収縮状態とするため
に、反対側面の水分量は施釉面の釉漿中の水分量の50〜
80%とする。
このような本発明の方法により釉掛けを行なった後は、
常法に従って、乾燥、焼成を行ない、製品を得ることが
できる。
[作用] 本発明の方法においては、成形体に施釉する直前又は直
後或いは施釉と同時に反対側面に適当量の水を含ませる
ため、成形体の施釉面と反対側面はともに、水分吸収に
よる膨潤及び乾燥による収縮をおこすこととなり、結果
的に成形体に凸反りや凹反りが生じることが防止され
る。このため、成形体は施釉、乾燥、焼成の間におい
て、常にほぼ平板状に保たれるようになり、ひび割れの
発生は防止される。
また、このように成形体は平板状に保たれるために、移
送機のゴムパッドを押し付けた場合においても成形体に
ひび割れが生じることは殆どない。
本発明は、乾式成形体を仮焼しない外装用タイルの製造
法に好適に採用される。
[実施例] 以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的
に説明する。
実施例1 長石55重量%、陶石15重量%及び粘土30重量%よりなる
生地原料にて平均粒径0.45mmのスプレー粉を調製し、こ
のスプレー粉を用いて成形圧力310kgf/cm2にて249.0mm
×65.7mm×10.2mm(厚さ)の成形体(圧粉体)を製造し
た。
次いで、この成形体に下記組成の釉漿(比重1.60)を6.
5g(水分量2g)施釉し、施釉後ただちに、成形体の施釉
面と反対側の面に含水スポンジローラーにて1gの水を含
ませた。釉薬組成 (重量%) 長 石 :55 ジルコニット:15 石 灰 :13 珪 砂 :10 蛙 目 : 7 タルク : 5 このようにして水を含ませた後の成形体の反りの程度を
ダイヤルゲージにて経時的に測定し、結果を第1表及び
第1図に示した。
比較例1 反対側面に水を含ませなかかったこと以外は実施例1と
同様にして施釉成形体を得、この成形体の反りの程度を
調べ、結果を第1表及び第1図に示した。
第1表及び第1図より、本発明の方法によれば、成形体
の反りの程度が著しく低減されるため、ひび割れが防止
されることが明らかである。
[発明の効果] 以上詳述した通り、本発明のタイルの釉掛け方法によれ
ば、成形体の反りが防止され、成形体は施釉、乾燥、焼
成の間において、常にほぼ平板状に保たれるようにな
る。このため、凸反り、凹反りの繰り返しによるひび割
れ発生や、移送機のゴムパッドの押し付け力によるひび
割れ発生等の問題が解消され、寸法精度の良い製品を歩
留り良く、容易かつ効率的に製造することが可能とされ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1及び比較例1の効果を示すグラフであ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】乾式プレス成形された成形体に釉漿をかけ
    るタイルの釉掛け方法において、釉漿をかける直前又は
    直後或は釉漿をかけると同時に、施釉面の反対側の面に
    水を含ませる方法であって、該施釉面の反対側の面に含
    ませる水の量を、施釉面に施釉された釉漿中の水の量の
    50〜80%とすることを特徴とするタイルの釉掛け方法。
JP1005370A 1989-01-12 1989-01-12 タイルの釉掛け方法 Expired - Lifetime JPH0714838B2 (ja)

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JP1005370A JPH0714838B2 (ja) 1989-01-12 1989-01-12 タイルの釉掛け方法

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JP1005370A JPH0714838B2 (ja) 1989-01-12 1989-01-12 タイルの釉掛け方法

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Publication Number Publication Date
JPH02184551A JPH02184551A (ja) 1990-07-19
JPH0714838B2 true JPH0714838B2 (ja) 1995-02-22

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JPS63190783A (ja) * 1987-02-03 1988-08-08 株式会社イナックス 乾式及び湿式方式による施釉方法

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JPH02184551A (ja) 1990-07-19

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