JPH0717622B2 - チアジアゾリルアセトアミド誘導体 - Google Patents

チアジアゾリルアセトアミド誘導体

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JPH0717622B2
JPH0717622B2 JP61129233A JP12923386A JPH0717622B2 JP H0717622 B2 JPH0717622 B2 JP H0717622B2 JP 61129233 A JP61129233 A JP 61129233A JP 12923386 A JP12923386 A JP 12923386A JP H0717622 B2 JPH0717622 B2 JP H0717622B2
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D285/00—Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D275/00 - C07D283/00
    • C07D285/01—Five-membered rings
    • C07D285/02—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles
    • C07D285/04—Thiadiazoles; Hydrogenated thiadiazoles not condensed with other rings
    • C07D285/08—1,2,4-Thiadiazoles; Hydrogenated 1,2,4-thiadiazoles
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明は抗菌剤の中間体およびその製造方法に関するも
のである。
特開昭57-158769号公報には,7−アシルアミノセファロ
スポリン化合物を製造するためのアシル化剤として有用
なチアジアゾリル酢酸誘導体の製造方法が示されてい
る。この方法は，対応するアセトニトリル体を塩基の存
在下に加水分解する方法であるが，副反応物が生成して
収率が30％以下と非常に低く，工業的に満足できる方法
とはいえない。
そこで本発明者等は，チアジアゾリル酢酸誘導体の工業
的製造法について研究した結果，対応するチアジアゾリ
ルアセトアミド誘導体を加水分解することにより収率よ
く目的物が得られることを見い出した。本発明はそのチ
アジアゾリルアセトアミド誘導体に関するものである。
したがって本発明の目的は，抗菌剤の中間体として有用
な新規チアジアゾリルアセトアミド誘導体およびその製
造方法を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明は一般式： 〔式中，R1は低級アルキル基，R2は保護基で保護されて
いてもよいアミノ基を示す〕で表わされるチアジアゾリ
ルアセトアミド誘導体およびその塩である。
上記一般式（Ｉ）の化合物のR1の低級アルキル基として
は、メチル，エチル,n−プロピル,i−プロピル,n−ブチ
ル,t−ブチル,sec−ブチルなどがあげられる。また，R2
の「保護基で保護されていてもよいアミノ基」における
保護基の種類としては，通常アミノ基の保護基として知
られているものを使用することができる。例えば，ホル
ミル，アセチル，クロロアセチル，ジクロルアセチル，
プロピオニル，フェノキシアセチルなどの置換または非
置換の低級アルカノイル基；ベンジルオキシカルボニ
ル,t−ブトキシカルボニル,p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルなどの置換または非置換の低級アルコキシカル
ボニル基；トリチル,p−メトキシベンジル，ジフェニル
メチルなどの置換低級アルキル基；トリメチルシル,t−
ブチルジメチルシリルなどの置換シリル基；ベンジリデ
ン，サリチリデン,3,5−ジ（ｔ−ブチル）−４−ハイド
ロキシベンジリデン,3,5−ジ（ｔ−ブチル）ベンジリデ
ン，などの置換または非置換のベンジリデン基等があげ
られる。
また，一般式（Ｉ）の化合物の塩としては，塩酸塩，硫
酸塩，炭酸塩，重炭酸塩，臭化水素酸塩，沃化水素酸塩
などの無機酸塩；酢酸塩，マレイン酸塩，乳酸塩，酒石
酸塩，トリフルオロ酢酸塩などの有機カルボン酸塩；メ
タンスルホン酸塩，ベンゼンスルホン酸塩，トルエンス
ルホン酸塩などの有機スルホン酸塩；アスパラギン酸
塩，グルタミン酸塩などのアミノ酸塩等があげられる。
本発明化合物は次に示す方法により製造することができ
る。一般式： 〔式中，R1およびR2は前記の定義に同じ〕で表わされる
化合物またはその塩を，酸化剤および塩基の存在下で加
水分解し，必要により保護基を脱離することにより前記
一般式（Ｉ）の化合物またはその塩を得ることができ
る。一般式（II）の化合物の塩としては，前記一般式
（Ｉ）の化合物の塩としてあげたものを使用することが
できる。
上記反応は，水性溶媒中，酸化剤および塩基の存在下，
反応温度０℃〜70℃，好ましくは15℃〜50℃で行うこと
ができる。保護基の脱離は，保護基の種類に応じて，常
法，例えば加水分解，還元などの方法により行うことが
できる。
酸化剤としては，過酸化水素，酸素などが用いられる。
また，反応の場で酸素を発生させる電解酸化法なども採
用することができる。
塩基としては，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，炭
酸ナトリウム，炭酸カリウム，炭酸水素ナトリウム，炭
酸水素カリウム，酢酸ナトリウム，酢酸カリウム，アン
モニア水などを用いることができる。
水性溶媒としては，水，緩衝液，あるいはこれらとメタ
ノール，エタノールなどの低級アルコールとの混合溶媒
を用いることができる。
本発明の一般式（Ｉ）の化合物およびその塩を，上記と
同様な塩基の存在下で加水分解することにより，対応す
るチアジアゾリル酢酸誘導体を高収率で得ることができ
る。このチアジアゾリル酢酸誘導体の製造方法は，チア
ジアゾリルアセトニトリル誘導体よりチアジアゾリルア
セトアミド誘導体を得，ついでチアジアゾリルアセトア
ミド誘導体よりチアジアゾリル酢酸誘導体を得るという
２段階反応であるが，前に示したチアジアゾリルアセト
ニトリル誘導体より直接にチアジアゾリル酢酸誘導体を
得る従来法に比べて高収率であり工業的に優れた方法で
ある。したがって，その重要なる中間体である本発明化
合物チアジアゾリルアセトアミド誘導体は非常に有用な
化合物である。
次に実施例および実験例を示し，本発明をさらに詳しく
説明する。
実施例１ ２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド 水400ml,水酸化ナトリウム10g,35％過酸化水素水160ml
の混合溶液に２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−３−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトニ
トリル80gを加え，水冷下で５時間撹拌した。析出物を
取し，水，アセトンで洗浄した後，乾燥して目的物7
7.7g（収率88.4％）を得た。
実施例２ ２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イ
ル）−（Ｚ）−２−エトキシイミノアセトアミド 水150ml,水酸化ナトリウム6.0g,および35％過酸化水素
水30mlの混合溶液にメタノール75mlを加え，室温まで冷
却した。ついでこの溶液に２−（５−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−２−エトキシイ
ミノアセトニトリル15.0gを加え，室温下で約６時間撹
拌した。反応液を10℃まで冷却後，析出物を取し，
水，イソプロピルアルコール，エチルエーテルで洗浄し
た。これを乾燥して目的物13.2g（収率80.6％）を得
た。
実施例３ ２−（５−クロロアセトアミド−1,2,4−チアジアゾー
ル−３−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
ミド 水100ml,水酸化ナトリウム2.0g,および35％過酸化水素
水10.0mlの混合溶液に２−（５−クロロアセトアミド−
1,2,4−チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−２−メ
トキシイミノアセトニトリル5.0gを加え,30分間撹拌し
た。反応液を−２℃まで冷却し，析出物を取した。こ
れを氷水，エチレーテルで洗浄後，乾燥して目的物2.0g
を得た。
さらに，上記の液を酢酸エチル抽出した。これに無水
硫酸マグネシウムを加えて乾燥した後，酢酸エチルを留
去した。残渣にイソプロピルエーテルを加えて結晶化を
行ない，目的物2,2gを得た。
目的物として合計4.2g（収率78.6％）を得た。
実施例４ ２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド 水480ml,28％アンモニア水30mlおよび35％過酸化水素水
134mlの混合液に２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−３−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセト
ニトリル60gを加え，氷冷下で６時間撹拌した。析出物
を取し，水，アセトンで洗浄した後、乾燥して目的物
61g（収率92.6％）を得た。
〔発明の効果〕
次に本発明化合物を用いた，抗菌剤中間体として知られ
ているチアジアゾリル酢酸誘導体の製造に関する実験
例，および従来法による同化合物の製造に関する実験例
を示す。
実験例１（本発明化合物を用いる方法） ２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ酢酸 2N水酸化ナトリウム水溶液80mlおよび２−（５−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）−（Ｚ）−２−
メトキシイミノアセトアミド4.02gの混合物を50℃で５
時間撹拌した。反応液を10℃まで冷却し，濃塩酸にて溶
液のpHを１に調整した。これを酢酸エチルで抽出し，無
水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。ついでこれを減
圧濃縮した後，濃縮液にイソプロピルエーテル100mlを
滴下した。不溶物を取し、イソプロピルエーテルで洗
浄後，乾燥して目的物3.2g（収率79.2％）を白色粉末と
して得た。純度は,HPLC分析で98.2％であった。
実験例２（従来法） ２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノ酢酸 ２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イ
ル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトニトリル7.50
g,水40mlの懸濁液に,40℃にて,4N水酸化ナトリウム水溶
液95mlを滴下し,50℃〜55℃にて５時間撹拌した。反応
液を10℃に冷却した後,6N塩酸を滴下して溶液のpHを2.4
に調整した。これに酢酸エチル50mlを加えて不純物を抽
出，除去した。水層に6N塩酸を加えてpH0.8に調整した
後，活性炭0.5gを加えて過した。液を酢酸エチルで
抽出し，抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し
た。酢酸エチルを減圧留去し，残渣にイソプロピルエー
テル100mlを加え，析出物を取した。これを乾燥し
て，粗製物3.5g（HPLC分析による純度79.5％）を淡黄色
粉末として得た。
ついで，この粗製物3.5gに酢酸エチル−メチルエチルケ
トン（1:1）70mlを加え,45℃〜50℃に15分間加熱した。
同温度で過し，酢酸エチル7mlで洗浄し，乾燥して目
的物1.6g（収率19.7％）を白色粉末として得た。HPLC分
析による純度は97.5％であった。
フロントページの続き (72)発明者 杉山 功 茨城県筑波郡谷田部町東荒井29−４ 審査官 池田 正人

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式： 〔式中，R1は低級アルキル基，R2は保護基で保護されて
    いてもよいアミノ基を示す〕で表わされるチアジアゾリ
    ルアセトアミド誘導体およびその塩。
  2. 【請求項２】２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
    ル−３−イル）−（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトア
    ミドおよびその塩である特許請求の範囲第１項記載の化
    合物。
  3. 【請求項３】一般式： 〔式中，R1は低級アルキル基，R2は保護基で保護されて
    いてもよいアミノ基を示す〕で表わされる化合物または
    その塩を，酸化剤および塩基の存在下で加水分解し，必
    要により保護基を脱離することを特徴とする一般式： 〔式中，R1およびR2は前記の定義に同じ〕で表わされる
    化合物またはその塩の製造方法。
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