JPH0717820B2 - 微粒子含有ポリエステル組成物およびその製造方法 - Google Patents
微粒子含有ポリエステル組成物およびその製造方法Info
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- JPH0717820B2 JPH0717820B2 JP60286410A JP28641085A JPH0717820B2 JP H0717820 B2 JPH0717820 B2 JP H0717820B2 JP 60286410 A JP60286410 A JP 60286410A JP 28641085 A JP28641085 A JP 28641085A JP H0717820 B2 JPH0717820 B2 JP H0717820B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はポリエステル組成物およびその製造方法に関す
るものである。詳しくは特定の二酸化ケイ素と特定量の
イオウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物を含有
してなる微粒子含有ポリエステル組成物およびその製造
方法に関するものであり、更に詳しくは水またはグリコ
ール系分散媒中に二酸化ケイ素の微細粒子を存在させた
ゾルおよびの特定量のイオウ原子含有化合物、塩素原子
含有化合物を添加してなる微粒子含有ポリエステル組成
物の製造方法に関するものである。
るものである。詳しくは特定の二酸化ケイ素と特定量の
イオウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物を含有
してなる微粒子含有ポリエステル組成物およびその製造
方法に関するものであり、更に詳しくは水またはグリコ
ール系分散媒中に二酸化ケイ素の微細粒子を存在させた
ゾルおよびの特定量のイオウ原子含有化合物、塩素原子
含有化合物を添加してなる微粒子含有ポリエステル組成
物の製造方法に関するものである。
［従来の技術］ ポリエチレンテレフタレートで代表されるポリエステル
は優れた物理的、化学的を特性有しており、繊維、フィ
ルム、その他の成形品として広く使用されている。しか
しながら、上記成形品を得る成形工程における工程通過
性、表面処理等の後加工工程あるいは製品自体での取扱
い性の面で、滑り性が悪いため作業性の悪化、商品価値
の低下といった好ましくない性質がある。このため、通
常ポリエステル中に微細粒子を含有せしめ成形品の表面
に適度の凹凸を与えて成形品の表面滑性を向上させるこ
とが行なわれている。このような微細粒子として、タル
ク、シリカ、カオリン、酸化アルミニウム、二酸化チタ
ン、カーボンなどのポリエステルに不溶な無機化合物粒
子をポリエステルに添加することが知られている。これ
らの無機粒子の中で、シリカ粒子は平均粒子径の異なる
種々の製品が市販されていて、上記目的に供せられてい
る。シリカ粒子をポリエステルに添加する方法として
は、粉末状のシリカを水、メタノール、グリコールなど
の分散媒に物理的混合、またはさらに界面活性剤、分散
剤を併用して分散させ、スラリー状でポリエステル製造
工程に添加する方法、あるいは特開昭59−108028号公
報、特開昭56−47429号公報などに開示されているよう
に水系コロイダルシリカへグリコールを少量づつ添加し
て水を蒸留除去し、水を７％以下にしてポリエステル反
応等に添加する方法などが知られている。上記方法で、
粉末状シリカをスラリー状でポリエステル反応系へ添加
する方法に比べ、水系コロイダルシリカをエチレングリ
コール（以下EGと略す）で大部分置換して添加する方法
は添加前の分散媒中でのシリカ粒子の分散状態はやや良
好である。
は優れた物理的、化学的を特性有しており、繊維、フィ
ルム、その他の成形品として広く使用されている。しか
しながら、上記成形品を得る成形工程における工程通過
性、表面処理等の後加工工程あるいは製品自体での取扱
い性の面で、滑り性が悪いため作業性の悪化、商品価値
の低下といった好ましくない性質がある。このため、通
常ポリエステル中に微細粒子を含有せしめ成形品の表面
に適度の凹凸を与えて成形品の表面滑性を向上させるこ
とが行なわれている。このような微細粒子として、タル
ク、シリカ、カオリン、酸化アルミニウム、二酸化チタ
ン、カーボンなどのポリエステルに不溶な無機化合物粒
子をポリエステルに添加することが知られている。これ
らの無機粒子の中で、シリカ粒子は平均粒子径の異なる
種々の製品が市販されていて、上記目的に供せられてい
る。シリカ粒子をポリエステルに添加する方法として
は、粉末状のシリカを水、メタノール、グリコールなど
の分散媒に物理的混合、またはさらに界面活性剤、分散
剤を併用して分散させ、スラリー状でポリエステル製造
工程に添加する方法、あるいは特開昭59−108028号公
報、特開昭56−47429号公報などに開示されているよう
に水系コロイダルシリカへグリコールを少量づつ添加し
て水を蒸留除去し、水を７％以下にしてポリエステル反
応等に添加する方法などが知られている。上記方法で、
粉末状シリカをスラリー状でポリエステル反応系へ添加
する方法に比べ、水系コロイダルシリカをエチレングリ
コール（以下EGと略す）で大部分置換して添加する方法
は添加前の分散媒中でのシリカ粒子の分散状態はやや良
好である。
しかし、上記したいずれの方法においても、シリカ粒子
のように粒子表面の活性が比較的高く、凝集した二次粒
子を形成しやすい粒子においては、ポリエステル反応系
に添加する前に分散媒中で完全に分散させることが困難
であり、また、反応等に添加後、ポリエステル製造中に
おいて、粒子の凝集が進行する傾向が見られ、得られた
ポリエステル中に粗大な凝集粒子が存在する。ポリエス
テル中に粗大な二次凝集粒子が存在すると繊維の成形工
程においては高速紡糸時に糸切れが発生する原因にな
り、また、フイルム成形した場合は表面の凹凸が不均一
になり、フィルム製品の価値を低下させ特に蒸着テー
プ、メタルテープなどの磁気テープの支持体に適用した
場合には出力の低下やドロツプアウトの原因になつて好
ましくない。
のように粒子表面の活性が比較的高く、凝集した二次粒
子を形成しやすい粒子においては、ポリエステル反応系
に添加する前に分散媒中で完全に分散させることが困難
であり、また、反応等に添加後、ポリエステル製造中に
おいて、粒子の凝集が進行する傾向が見られ、得られた
ポリエステル中に粗大な凝集粒子が存在する。ポリエス
テル中に粗大な二次凝集粒子が存在すると繊維の成形工
程においては高速紡糸時に糸切れが発生する原因にな
り、また、フイルム成形した場合は表面の凹凸が不均一
になり、フィルム製品の価値を低下させ特に蒸着テー
プ、メタルテープなどの磁気テープの支持体に適用した
場合には出力の低下やドロツプアウトの原因になつて好
ましくない。
本発明は、特定量のイオウ原子含有化合物および塩素原
子含有化合物を添加含有させることで、表面活性の高い
二酸化ケイ素の微細粒子の二次凝集を防ぐことにより、
従来の方法で得たシリカ粒子含有ポリエステルを用いた
場合に繊維、フィルムなどの成形工程あるいは成形品に
見られる上記欠点を改善するものである。
子含有化合物を添加含有させることで、表面活性の高い
二酸化ケイ素の微細粒子の二次凝集を防ぐことにより、
従来の方法で得たシリカ粒子含有ポリエステルを用いた
場合に繊維、フィルムなどの成形工程あるいは成形品に
見られる上記欠点を改善するものである。
［問題を解決するための手段］ 上記問題点の解決は、（１）ジカルボン酸もしくはその
エステル形成性誘導体とエチレングリコールとの反応に
よって得られる平均粒子径0.01〜2.0μの二酸化ケイ素
を含有するポリエステル組成物であって、かつイオウ原
子含有化合物および塩素原子含有化合物を下記式を満足
する様に含有することを特徴とする微粒子含有ポリエス
テル組成物。
エステル形成性誘導体とエチレングリコールとの反応に
よって得られる平均粒子径0.01〜2.0μの二酸化ケイ素
を含有するポリエステル組成物であって、かつイオウ原
子含有化合物および塩素原子含有化合物を下記式を満足
する様に含有することを特徴とする微粒子含有ポリエス
テル組成物。
10≦Ｓ≦2000 ５≦Cl≦2500 20≦Ｓ＋Cl≦3000 ［S:イオウ原子含有化合物中のＳ原子の二酸化ケイ素に
対する割合（ppm）、Cl:塩素原子含有化合物中のCl原子
の二酸化ケイ素に対する割合（ppm）］ （２）ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体
とエチレングリコールとの反応によってポリエステルを
製造するに際し、平均粒子径0.01〜2.0μを有する二酸
化ケイ素の水またはエチレングリコールゾルならびにイ
オウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物を下記式
を満足する様にポリエステル製造工程の任意の段階で反
応系へ添加することを特徴とする微粒子含有ポリエステ
ル組成物の製造方法。
対する割合（ppm）、Cl:塩素原子含有化合物中のCl原子
の二酸化ケイ素に対する割合（ppm）］ （２）ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体
とエチレングリコールとの反応によってポリエステルを
製造するに際し、平均粒子径0.01〜2.0μを有する二酸
化ケイ素の水またはエチレングリコールゾルならびにイ
オウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物を下記式
を満足する様にポリエステル製造工程の任意の段階で反
応系へ添加することを特徴とする微粒子含有ポリエステ
ル組成物の製造方法。
10≦Ｓ≦2000 ５≦Cl≦2500 20≦Ｓ＋Cl≦3000 ［S:イオウ原子含有化合物中のＳ原子の二酸化ケイ素に
対する割合（ppm）、Cl:塩素原子含有化合物中のCl原子
の二酸化ケイ素に対する割合（ppm）］ によって達成できる。
対する割合（ppm）、Cl:塩素原子含有化合物中のCl原子
の二酸化ケイ素に対する割合（ppm）］ によって達成できる。
本発明のポリエステルとは、ジカルボン酸もしくはその
エステル誘導体とEGとのエステル交換もしくはエステル
化反応ならびに重縮合反応によつて製造される。ポリエ
ステルの種類については繊維、フイルム、その他の成形
品に成形しうるものであれば特に限定されない。繊維、
フイルム、その他の成形品に成形しうる好適なポリエス
テルとしては、ジカルボン酸成分が芳香族ジカルボン酸
を使用したものがよく、たとえばポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート、ポリ
エチレン−1,2−ビス（２−クロロフエノキシ）エタン
−4,4′−ジカルボキシレート、ポリエチレン−1,2−ビ
ス（フエノキシ）エタン−4,4′−ジカルボキシレー
ト、ポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレー
ト等が挙げられ、なかでもポリエチレンテレフタレート
が好ましい。もちろんこれらのポリエステルはホモポリ
エステルであつても、コポリエステルであつてもよく、
共重合する成分としてはたとえば、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、平均分子量150〜20000の
ポリアルキレングリコール、ｐ−キシリレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサンジメタノール、５−ナトリウ
ムスルホレゾルシン等のジオール成分、アジピン酸、セ
バシン酸、フタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタリン
ジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等の
ジカルボン酸成分、トリメリツト酸、ピロメリツト酸等
の多官能カルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸
等のオキシカルボン酸成分などが挙げられる。
エステル誘導体とEGとのエステル交換もしくはエステル
化反応ならびに重縮合反応によつて製造される。ポリエ
ステルの種類については繊維、フイルム、その他の成形
品に成形しうるものであれば特に限定されない。繊維、
フイルム、その他の成形品に成形しうる好適なポリエス
テルとしては、ジカルボン酸成分が芳香族ジカルボン酸
を使用したものがよく、たとえばポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート、ポリ
エチレン−1,2−ビス（２−クロロフエノキシ）エタン
−4,4′−ジカルボキシレート、ポリエチレン−1,2−ビ
ス（フエノキシ）エタン−4,4′−ジカルボキシレー
ト、ポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレー
ト等が挙げられ、なかでもポリエチレンテレフタレート
が好ましい。もちろんこれらのポリエステルはホモポリ
エステルであつても、コポリエステルであつてもよく、
共重合する成分としてはたとえば、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、平均分子量150〜20000の
ポリアルキレングリコール、ｐ−キシリレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサンジメタノール、５−ナトリウ
ムスルホレゾルシン等のジオール成分、アジピン酸、セ
バシン酸、フタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタリン
ジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等の
ジカルボン酸成分、トリメリツト酸、ピロメリツト酸等
の多官能カルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸
等のオキシカルボン酸成分などが挙げられる。
本発明でいう二酸化ケイ素の水またはEGゾルとは、平均
粒子径0.01〜2.0μを有する二酸化ケイ素を水またはEG
に物理的混合、またはさらに界面活性剤、分散剤を併用
して分散添加しゾル化させたもの、あるいは化学的な方
法、例えば水ガラス、アルキルシリケートなどから製造
された二酸化ケイ素の水分散ゾル、さらには該二酸化ケ
イ素の水分散ゾルの水をEGによつて置換して得られたも
のなどが挙げられる。
粒子径0.01〜2.0μを有する二酸化ケイ素を水またはEG
に物理的混合、またはさらに界面活性剤、分散剤を併用
して分散添加しゾル化させたもの、あるいは化学的な方
法、例えば水ガラス、アルキルシリケートなどから製造
された二酸化ケイ素の水分散ゾル、さらには該二酸化ケ
イ素の水分散ゾルの水をEGによつて置換して得られたも
のなどが挙げられる。
本発明において用いられる二酸化ケイ素の平均粒子径は
0.01〜2.0μであり、0.02〜1.5μが好ましい。平均粒子
径が2.0μを越えると磁気テープ用途においてはフイル
ムの表面突起の粗大化に伴う出力低下、ドロツプアウト
等の欠点が生じやすくなる。また0.01μより小さい粒子
は溶融ポリマの粘度上昇が大きく重合反応および成形加
工時の操業性が低下し、フイルム特性においては表面突
起が不十分で有効な滑性は得られない。二酸化ケイ素の
水またはEGゾル中の二酸化ケイ素含有量は50重量％以
下、さらに好ましくは10重量％以下において粒子分散性
の特に優れたポリエステル組成物が得られる。
0.01〜2.0μであり、0.02〜1.5μが好ましい。平均粒子
径が2.0μを越えると磁気テープ用途においてはフイル
ムの表面突起の粗大化に伴う出力低下、ドロツプアウト
等の欠点が生じやすくなる。また0.01μより小さい粒子
は溶融ポリマの粘度上昇が大きく重合反応および成形加
工時の操業性が低下し、フイルム特性においては表面突
起が不十分で有効な滑性は得られない。二酸化ケイ素の
水またはEGゾル中の二酸化ケイ素含有量は50重量％以
下、さらに好ましくは10重量％以下において粒子分散性
の特に優れたポリエステル組成物が得られる。
本発明の二酸化ケイ素の水またはEGゾルの添加方法とし
ては特に限定されるものではなく、水またはEGゾルのま
まで添加してもよく、あるいはEGなどの有機溶媒などと
適宜希釈したのち添加してもよい。好ましくはEGゾルと
して添加する方法がよい。さらに好ましくはEGゾルを15
0℃以上の温度で留出する水を系外に除去しながら加熱
処理したのち添加する方法であり、さらにはEGゾル中の
水分率が二酸化ケイ素に対して7.0重量％以下としたの
ち添加する方法である。また、二酸化ケイ素の水または
EGゾルのポリエステル反応系への添加時期は特に限定さ
れないが、好ましくはポリエステル製造時のエステル交
換もしくはエステル化反応前から重縮合反応初期であ
る。
ては特に限定されるものではなく、水またはEGゾルのま
まで添加してもよく、あるいはEGなどの有機溶媒などと
適宜希釈したのち添加してもよい。好ましくはEGゾルと
して添加する方法がよい。さらに好ましくはEGゾルを15
0℃以上の温度で留出する水を系外に除去しながら加熱
処理したのち添加する方法であり、さらにはEGゾル中の
水分率が二酸化ケイ素に対して7.0重量％以下としたの
ち添加する方法である。また、二酸化ケイ素の水または
EGゾルのポリエステル反応系への添加時期は特に限定さ
れないが、好ましくはポリエステル製造時のエステル交
換もしくはエステル化反応前から重縮合反応初期であ
る。
本発明におけるイオウ原子含有化合物とは硫酸化合物、
硫化物その他のイオウ化合物など化合物中にイオウ原子
が含有されている化合物であり、好ましくはイオウ原子
含有化合物が本発明のゾル中で硫酸イオン、亜硫酸イオ
ン等として解離する化合物である。具体的には硫酸カリ
ウム、硫酸ナトリウム、硫酸リチウム、硫酸マグネシウ
ムなどを挙げることができるが、特にこれらの化合物に
限定されるものではない。
硫化物その他のイオウ化合物など化合物中にイオウ原子
が含有されている化合物であり、好ましくはイオウ原子
含有化合物が本発明のゾル中で硫酸イオン、亜硫酸イオ
ン等として解離する化合物である。具体的には硫酸カリ
ウム、硫酸ナトリウム、硫酸リチウム、硫酸マグネシウ
ムなどを挙げることができるが、特にこれらの化合物に
限定されるものではない。
また、本発明の塩素原子含有化合物とは、塩素原子を含
有している化合物であれば特に限定されるものではな
く、好ましくは塩化物がよい。さらに好ましくは本発明
ゾル中で塩素イオンとして解離する化合物である。具体
的には塩化カルシウム、塩化リチウム、塩化ナトリウ
ム、塩化マグネシウム、塩化マンガン、塩化アンモニウ
ムなどを挙げることができる。
有している化合物であれば特に限定されるものではな
く、好ましくは塩化物がよい。さらに好ましくは本発明
ゾル中で塩素イオンとして解離する化合物である。具体
的には塩化カルシウム、塩化リチウム、塩化ナトリウ
ム、塩化マグネシウム、塩化マンガン、塩化アンモニウ
ムなどを挙げることができる。
本発明のイオウ原子含有化合物のＳ原子あるいは塩素原
子含有化合物のCl原子とは化合物中のＳ原子あるいはCl
原子および／またはゾル中でイオンとして理解している
ものを意味する。
子含有化合物のCl原子とは化合物中のＳ原子あるいはCl
原子および／またはゾル中でイオンとして理解している
ものを意味する。
本発明においてイオウ原子含有化合物および塩素原子含
有化合物のポリエステルへの添加量は、下記式を満足す
る様に添加する必要があり、 10≦Ｓ≦2000 ５≦Cl≦2500 20≦Ｓ＋Cl≦3000 好ましくは、 15≦Ｓ≦1500 ７≦Cl≦1700 25≦Ｓ＋Cl≦2000 である。
有化合物のポリエステルへの添加量は、下記式を満足す
る様に添加する必要があり、 10≦Ｓ≦2000 ５≦Cl≦2500 20≦Ｓ＋Cl≦3000 好ましくは、 15≦Ｓ≦1500 ７≦Cl≦1700 25≦Ｓ＋Cl≦2000 である。
イオウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物のポリ
エステルへの添加量がＳ原子、Cl原子およびＳ＋Cl原子
として二酸化ケイ素に対して2000ppm、2500ppmおよび30
00ppmを越えると、ポリエステル組成物中で二酸化ケイ
素の粒子が二次凝集粒子を形成したり、イオウ原子含有
化合物および塩素原子含有化合物に起因する異物が生成
する。また添加量がＳ原子、Cl原子およびＳ＋Cl原子と
して10ppm、5ppmおよび20ppm未満であつてもやはりポリ
エステル組成物中で二酸化ケイ素の粒子が二次凝集粒子
を形成する。
エステルへの添加量がＳ原子、Cl原子およびＳ＋Cl原子
として二酸化ケイ素に対して2000ppm、2500ppmおよび30
00ppmを越えると、ポリエステル組成物中で二酸化ケイ
素の粒子が二次凝集粒子を形成したり、イオウ原子含有
化合物および塩素原子含有化合物に起因する異物が生成
する。また添加量がＳ原子、Cl原子およびＳ＋Cl原子と
して10ppm、5ppmおよび20ppm未満であつてもやはりポリ
エステル組成物中で二酸化ケイ素の粒子が二次凝集粒子
を形成する。
以上、述べた通り本発明のイオウ原子含有化合物および
塩素原子含有化合物のポリエステルへの添加量がＳ原
子、Cl原子およびＳ＋Cl原子として二酸化ケイ素に対し
て特定量添加される場合のみ、異物を含まず、かつ二酸
化ケイ素の粒子が一次粒子として存在したポリエステル
組成物を得ることができ、さらに、このポリエステル組
成物をフイルム成形した場合には、非常に均一微細化さ
れたフイルム表面凹凸が得られる。また本発明のイオウ
原子含有化合物および塩素原子含有化合物のポリエステ
ルへの添加方法は特に限定されるものではなく、二酸化
ケイ素の水またはEGゾル中に添加したのちポリエステル
反応系へ添加する方法、あるいは二酸化ケイ素の水また
はEGゾルとは別にポリエステル反応系へ添加する方法な
どが挙げられる。好ましくは二酸化ケイ素の水またはEG
ゾル中に添加、含有する方法がよい。
塩素原子含有化合物のポリエステルへの添加量がＳ原
子、Cl原子およびＳ＋Cl原子として二酸化ケイ素に対し
て特定量添加される場合のみ、異物を含まず、かつ二酸
化ケイ素の粒子が一次粒子として存在したポリエステル
組成物を得ることができ、さらに、このポリエステル組
成物をフイルム成形した場合には、非常に均一微細化さ
れたフイルム表面凹凸が得られる。また本発明のイオウ
原子含有化合物および塩素原子含有化合物のポリエステ
ルへの添加方法は特に限定されるものではなく、二酸化
ケイ素の水またはEGゾル中に添加したのちポリエステル
反応系へ添加する方法、あるいは二酸化ケイ素の水また
はEGゾルとは別にポリエステル反応系へ添加する方法な
どが挙げられる。好ましくは二酸化ケイ素の水またはEG
ゾル中に添加、含有する方法がよい。
また、ポリエステル反応系への添加時期は特に限定され
ないが、好ましくはポリエステル製造時のエステル交換
もしくはエステル化反応前から重縮合反応初期である。
ないが、好ましくはポリエステル製造時のエステル交換
もしくはエステル化反応前から重縮合反応初期である。
また、本発明の二酸化ケイ素ゾル中にアルミニウム化合
物、ジルコニウム化合物あるいはアルミニウムイオン、
ジルコニウムイオンなどを添加、含有してもよい。
物、ジルコニウム化合物あるいはアルミニウムイオン、
ジルコニウムイオンなどを添加、含有してもよい。
また、ポリエステル組成物中の二酸化ケイ素含有量は溶
融ポリマの粘度上昇、添加粒子の分散性の点から５重量
％以下、特に２重量％以下が好適である。さらにポリエ
ステルの製造時に通常用いられるリチウム、ナトリウ
ム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、アン
チモン、ゲルマニウム、チタン等の金属化合物触媒、着
色防止剤としてのリン化合物、顔料、界面活性剤、二酸
化ケイ素以外の無機粒子も必要に応じて適宜添加でき
る。
融ポリマの粘度上昇、添加粒子の分散性の点から５重量
％以下、特に２重量％以下が好適である。さらにポリエ
ステルの製造時に通常用いられるリチウム、ナトリウ
ム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、アン
チモン、ゲルマニウム、チタン等の金属化合物触媒、着
色防止剤としてのリン化合物、顔料、界面活性剤、二酸
化ケイ素以外の無機粒子も必要に応じて適宜添加でき
る。
なお本発明の二酸化ケイ素含有ポリエステル組成物から
フイルムを製造する場合には、該ポリエステル組成物を
通常の方法でシート状に成形し少なくとも一方向に延伸
したのち、150℃以上の温度で熱固定して製造されるこ
とが好ましい。
フイルムを製造する場合には、該ポリエステル組成物を
通常の方法でシート状に成形し少なくとも一方向に延伸
したのち、150℃以上の温度で熱固定して製造されるこ
とが好ましい。
上述の方法で得られたポリエステルフイルムは本発明の
二酸化ケイ素の平均粒子径が0.1μ前後であればフイル
ム中の粒子濃度が0.005〜2.0重量％、より好ましくは0.
01〜1.0重量％、さらには平均粒子径が1.0μ前後であれ
ばフイルム中粒子濃度が0.001〜1.0重量％、より好まし
く0.005〜0.5重量％で特に各種用途の高次加工時の優れ
た工程通過性を有すると共に、フイルム表面凹凸が非常
に均一微細であり、各種のフイルム用途、特に磁気記録
媒体用、さらには高密度磁気記録媒体用のベースフイル
ムとして好ましく用いられる。
二酸化ケイ素の平均粒子径が0.1μ前後であればフイル
ム中の粒子濃度が0.005〜2.0重量％、より好ましくは0.
01〜1.0重量％、さらには平均粒子径が1.0μ前後であれ
ばフイルム中粒子濃度が0.001〜1.0重量％、より好まし
く0.005〜0.5重量％で特に各種用途の高次加工時の優れ
た工程通過性を有すると共に、フイルム表面凹凸が非常
に均一微細であり、各種のフイルム用途、特に磁気記録
媒体用、さらには高密度磁気記録媒体用のベースフイル
ムとして好ましく用いられる。
以下本発明を実施例により、さらに詳細に説明する。
なお実施例中の特性は次の様にして測定した。
A. ポリマの極限粘度 Ｏ−クロロフエノールを溶媒として25℃にて測定した。
B. ポリマの軟化点 ポリマチツプを加熱浴中に入れ６℃/5分の昇温速度にて
加熱し、荷重の先端がチツプ中に5mm以上浸入する温度
を測定した。
加熱し、荷重の先端がチツプ中に5mm以上浸入する温度
を測定した。
C. ポリマ中の粒子分散状態 ポリマを超薄膜作成装置によつて800Å前後の超薄切片
にしたのち、透過型電子顕微鏡により、ポリマ中の粒子
分散状態を観察した。分散状態の判定は次のとおり行な
つた。
にしたのち、透過型電子顕微鏡により、ポリマ中の粒子
分散状態を観察した。分散状態の判定は次のとおり行な
つた。
○：二次凝集粒子は観察されない。
△：わずかに二次凝集粒子が存在し、目的を達成しな
い。
い。
×：ほとんどの粒子が二次凝集粒子である。
実施例１ 芒硝（Na2SO4・10H2O）をＳ原子として二酸化ケイ素に
対して700ppm、塩化ナトリウムをCl原子として二酸化ケ
イ素に対して50ppm含有し、かつ平均粒子径0.1μの二酸
化ケイ素を40重量％含む水系ゾルにEGを加え、100℃減
圧下で水分を除去しながら置換を終了し、二酸化ケイ素
５重量％含有EGゾルを得た。次にジメチルテレフタレー
ト100重量部、EG70重量部と酢酸リチウム0.002重量部、
酢酸マグネシウム0.04重量部を触媒として、常法に従い
エステル交換反応せしめたのち、着色防止剤としてトリ
メチルホスフエートを0.015重量部、前期の二酸化ケイ
素EGゾル20重量部を添加し、次いで重合触媒として三酸
化アンチモン0.02重量部添加した。
対して700ppm、塩化ナトリウムをCl原子として二酸化ケ
イ素に対して50ppm含有し、かつ平均粒子径0.1μの二酸
化ケイ素を40重量％含む水系ゾルにEGを加え、100℃減
圧下で水分を除去しながら置換を終了し、二酸化ケイ素
５重量％含有EGゾルを得た。次にジメチルテレフタレー
ト100重量部、EG70重量部と酢酸リチウム0.002重量部、
酢酸マグネシウム0.04重量部を触媒として、常法に従い
エステル交換反応せしめたのち、着色防止剤としてトリ
メチルホスフエートを0.015重量部、前期の二酸化ケイ
素EGゾル20重量部を添加し、次いで重合触媒として三酸
化アンチモン0.02重量部添加した。
その後、高温減圧下にて常法に従い重縮合反応を行ない
極限粘度0.615、軟化点260.8℃のポリエチレンテレフタ
レートを得た。ポリマ中の二酸化ケイ素の粒子分散状態
を透過型電子顕微鏡によつて観察した結果、二次凝集粒
子は観察されず、ほぼ一次粒子として存在していた。
極限粘度0.615、軟化点260.8℃のポリエチレンテレフタ
レートを得た。ポリマ中の二酸化ケイ素の粒子分散状態
を透過型電子顕微鏡によつて観察した結果、二次凝集粒
子は観察されず、ほぼ一次粒子として存在していた。
得られたポリエステルと粒子を実質的に含まないポリエ
チレンテレフタレートをブレンドし、常法に従い厚み12
μ、粒子含有量0.05重量％の２軸延伸フイルムを得た。
該フイルムの表面観察を行なつたところ粒子の凝集によ
る粗大突起は全く認められなかつた。
チレンテレフタレートをブレンドし、常法に従い厚み12
μ、粒子含有量0.05重量％の２軸延伸フイルムを得た。
該フイルムの表面観察を行なつたところ粒子の凝集によ
る粗大突起は全く認められなかつた。
実施例２ 芒硝（Na2SO4・10H2O）をＳ原子として二酸化ケイ素に
対して200ppm、塩化ナトリウムをCl原子として500ppm含
有し、かつ平均粒子径0.5μの二酸化ケイ素を30重量％
含む水系ゾルにEGを加え、二酸化ケイ素５重量％含有水
/EGゾルを得た。次にジメチルテレフタレート100重量
部、EG70重量部とを酢酸リチウム0.002重量部、酢酸マ
グネシウム0.04重量部を触媒として、常法に従いエステ
ル交換反応せしめたのち、着色防止剤としてトリメチル
ホスフエートを0.015重量部、前記の二酸化ケイ素水/EG
ゾル20重量部を添加し、次いで重合触媒として三酸化ア
ンチモン0.02重量部添加した。
対して200ppm、塩化ナトリウムをCl原子として500ppm含
有し、かつ平均粒子径0.5μの二酸化ケイ素を30重量％
含む水系ゾルにEGを加え、二酸化ケイ素５重量％含有水
/EGゾルを得た。次にジメチルテレフタレート100重量
部、EG70重量部とを酢酸リチウム0.002重量部、酢酸マ
グネシウム0.04重量部を触媒として、常法に従いエステ
ル交換反応せしめたのち、着色防止剤としてトリメチル
ホスフエートを0.015重量部、前記の二酸化ケイ素水/EG
ゾル20重量部を添加し、次いで重合触媒として三酸化ア
ンチモン0.02重量部添加した。
その後、高温減圧下にて常法に従い重縮合反応を行な
い、極限粘度0.618、軟化点260.9℃のポリエチレンテレ
フタレートを得た。
い、極限粘度0.618、軟化点260.9℃のポリエチレンテレ
フタレートを得た。
ポリマ中には異物の生成もなく、かつ二酸化ケイ素の粒
子分散状態を透過型電子顕微鏡によつて観察した結果、
二次凝集粒子は観察されず、ほぼ一次粒子として存在し
ていた。
子分散状態を透過型電子顕微鏡によつて観察した結果、
二次凝集粒子は観察されず、ほぼ一次粒子として存在し
ていた。
比較実施例１ 芒硝をＳ原子として二酸化ケイ素に対して5ppm、塩化ナ
トリウムをCl原子として2ppm含有した二酸化ケイ素の水
系ゾルを使用した以外は実施例１と同様の方法で二酸化
ケイ素含有ポリエチレンテレフタレートを得た。ポリマ
中の二酸化ケイ素の粒子分散状態を透過型電子顕微鏡に
よつて観察した結果、二酸化ケイ素の粒子は多数二次凝
集していた。
トリウムをCl原子として2ppm含有した二酸化ケイ素の水
系ゾルを使用した以外は実施例１と同様の方法で二酸化
ケイ素含有ポリエチレンテレフタレートを得た。ポリマ
中の二酸化ケイ素の粒子分散状態を透過型電子顕微鏡に
よつて観察した結果、二酸化ケイ素の粒子は多数二次凝
集していた。
さらに該ポリマを実施例１と同様の方法で２軸延伸フイ
ルムを製造した。該フイルムの表面観察を行なつたとこ
ろ、粒子の凝集による粗大突起が出現していた。
ルムを製造した。該フイルムの表面観察を行なつたとこ
ろ、粒子の凝集による粗大突起が出現していた。
実施例３〜８、比較実施例２〜５ 実施例１と同様の方法で表−１に示した二酸化ケイ素含
有ポリエチレンテレフタレートを得た。
有ポリエチレンテレフタレートを得た。
実施例３〜８は本発明の範囲内のものであり良好な粒子
分散性を示した。
分散性を示した。
一方、比較実施例２〜４はいずれも本発明の範囲外のも
のであり、得られたポリマ中には二酸化ケイ素の二次凝
集粒子が多数認められた。
のであり、得られたポリマ中には二酸化ケイ素の二次凝
集粒子が多数認められた。
また該ポリマから得られたフイルムには粗大表面突起が
出現した。
出現した。
また比較実施例５は二酸化ケイ素の粒子径が本発明の範
囲外でありポリマ中の粒子分散性は良好であつたが、該
ポリマから得られたフイルムは粗大な表面突起を有して
おり磁気テープ用としては耐えがたいものであつた。
囲外でありポリマ中の粒子分散性は良好であつたが、該
ポリマから得られたフイルムは粗大な表面突起を有して
おり磁気テープ用としては耐えがたいものであつた。
［発明の効果］ 本発明は上述したように特定の二酸化ケイ素とイオウ原
子含有化合物および塩素原子含有化合物のそれぞれ特定
量とを含有してなるポリエステル組成物ならびにその製
造方法である。すなわち、平均粒子径0.01〜2.0μを有
する二酸化ケイ素の水またはEGゾルならびに特定量のイ
オウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物をポリエ
ステル反応系内に添加することにより、従来得られなか
った粗大凝集粒子を含まず、かつ均一微細な粒子をほぼ
単一粒子状態で多数含有したポリエステル組成物が得ら
れたものである。
子含有化合物および塩素原子含有化合物のそれぞれ特定
量とを含有してなるポリエステル組成物ならびにその製
造方法である。すなわち、平均粒子径0.01〜2.0μを有
する二酸化ケイ素の水またはEGゾルならびに特定量のイ
オウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物をポリエ
ステル反応系内に添加することにより、従来得られなか
った粗大凝集粒子を含まず、かつ均一微細な粒子をほぼ
単一粒子状態で多数含有したポリエステル組成物が得ら
れたものである。
本発明のポリエステル組成物は成形品の製造工程におけ
る目づまりの減少、糸切れ、フイルム破れの解消はむろ
んのこと、非常に均一微細化された表面凹凸を有する成
形品を得ることができ、繊維、フィルム、その他の成形
品分野において、特に易滑性と表面凹凸の微細性が強く
要求されるフィルム分野において好ましく用いることが
できる。
る目づまりの減少、糸切れ、フイルム破れの解消はむろ
んのこと、非常に均一微細化された表面凹凸を有する成
形品を得ることができ、繊維、フィルム、その他の成形
品分野において、特に易滑性と表面凹凸の微細性が強く
要求されるフィルム分野において好ましく用いることが
できる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 3:16 3:24 3:30 3:36）
Claims (2)
- 【請求項１】ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性
誘導体とエチレングリコールとの反応によって得ら入れ
る、平均粒子径0.01〜2.0μの二酸化ケイ素を含有する
ポリエステル組成物であって、かつイオウ原子含有化合
物および塩素原子含有化合物を下記式を満足する様に含
有することを特徴とする微粒子含有ポリエステル組成
物。 10≦Ｓ≦2000 ５≦Cl≦2500 20≦Ｓ＋Cl≦3000 ［S:イオウ原子含有化合物中のＳ原子の二酸化ケイ素に
対する割合（ppm）、Cl:塩素原子含有化合物中のCl原子
の二酸化ケイ素に対する割合（ppm）］ - 【請求項２】ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性
誘導体とエチレングリコールとの反応によってポリエス
テルを製造するに際し、平均粒子径0.01〜2.0μを有す
る二酸化ケイ素の水またはエチレングリコールゾルなら
びにイオウ原子含有化合物および塩素原子含有化合物を
下記式を満足する様にポリエステル製造工程の任意の段
階で反応系へ添加することを特徴とする微粒子含有ポリ
エステル組成物の製造方法。 10≦Ｓ≦2000 ５≦Cl≦2500 20≦Ｓ＋Cl≦3000 ［S:イオウ原子含有化合物中のＳ原子の二酸化ケイ素に
対する割合（ppm）、Cl:塩素原子含有化合物中のCl原子
の二酸化ケイ素に対する割合（ppm）］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60286410A JPH0717820B2 (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 微粒子含有ポリエステル組成物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60286410A JPH0717820B2 (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 微粒子含有ポリエステル組成物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62146919A JPS62146919A (ja) | 1987-06-30 |
| JPH0717820B2 true JPH0717820B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=17704035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60286410A Expired - Lifetime JPH0717820B2 (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 微粒子含有ポリエステル組成物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717820B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4843193A (ja) * | 1971-10-02 | 1973-06-22 | ||
| JPS4843192A (ja) * | 1971-10-06 | 1973-06-22 | ||
| JPS51597A (en) * | 1974-06-22 | 1976-01-06 | Toray Industries | Horiesuteruno seizohoho |
-
1985
- 1985-12-19 JP JP60286410A patent/JPH0717820B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62146919A (ja) | 1987-06-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |