JPH0721021B2 - オレフイン重合用触媒 - Google Patents
オレフイン重合用触媒Info
- Publication number
- JPH0721021B2 JPH0721021B2 JP7049486A JP7049486A JPH0721021B2 JP H0721021 B2 JPH0721021 B2 JP H0721021B2 JP 7049486 A JP7049486 A JP 7049486A JP 7049486 A JP7049486 A JP 7049486A JP H0721021 B2 JPH0721021 B2 JP H0721021B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- polymerization
- compound
- heptane
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 title claims description 11
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 title claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 29
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 15
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 101
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 48
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 45
- -1 aluminum halogen compound Chemical class 0.000 description 37
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 36
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 26
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 20
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N diheptyl phthalate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(diethyl)alumane Chemical compound CCO[Al](CC)CC GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 4
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXNOYRCWKRFNIM-UHFFFAOYSA-N 2-carbonochloridoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O RXNOYRCWKRFNIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical class CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N Ethyl p-anisate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SESFRYSPDFLNCH-UHFFFAOYSA-N benzyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 SESFRYSPDFLNCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N butyl benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N ethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N octanal Chemical compound CCCCCCCC=O NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLYBTZIQSIBWLI-UHFFFAOYSA-N octyl acetate Chemical compound CCCCCCCCOC(C)=O YLYBTZIQSIBWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000576 tactic polymer Polymers 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3},10$l^{3}-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=CC=C1C#N NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIGWAXDAPKFNCQ-UHFFFAOYSA-N 4-isopropylbenzyl alcohol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(CO)C=C1 OIGWAXDAPKFNCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical class NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFDIRQKJPRINOQ-HWKANZROSA-N Ethyl crotonate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C ZFDIRQKJPRINOQ-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- ICMAFTSLXCXHRK-UHFFFAOYSA-N Ethyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OCC ICMAFTSLXCXHRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- MXMOTZIXVICDSD-UHFFFAOYSA-N anisoyl chloride Chemical compound COC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 MXMOTZIXVICDSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDEWPOVQBGFNGE-UHFFFAOYSA-N benzoic acid n-propyl ester Natural products CCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 UDEWPOVQBGFNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002903 benzyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M bis(2-methylpropyl)alumanylium;chloride Chemical compound CC(C)C[Al](Cl)CC(C)C HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- DQZKGSRJOUYVPL-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1CCCCC1 DQZKGSRJOUYVPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- DLRHRQTUCJTIIV-UHFFFAOYSA-N diethoxy(ethyl)alumane Chemical compound CC[O-].CC[O-].CC[Al+2] DLRHRQTUCJTIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWAMTZZJXXCIOH-UHFFFAOYSA-M diethyl(phenoxy)alumane Chemical compound CC[Al+]CC.[O-]C1=CC=CC=C1 UWAMTZZJXXCIOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical compound CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- IWYBVQLPTCMVFO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,2-dichloroacetate Chemical compound CCOC(=O)C(Cl)Cl IWYBVQLPTCMVFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUZCDRGUTZLAGO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxybenzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1OCC OUZCDRGUTZLAGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJOYCHKVKWDMEA-UHFFFAOYSA-N ethyl cyclohexanecarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCCCC1 JJOYCHKVKWDMEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroacetate Chemical compound COC(=O)CCl QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- DDIZAANNODHTRB-UHFFFAOYSA-N methyl p-anisate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 DDIZAANNODHTRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLXYLDUSSBULGU-UHFFFAOYSA-N methyl pyridine-4-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=NC=C1 OLXYLDUSSBULGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004002 naphthaldehydes Chemical class 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VECVSKFWRQYTAL-UHFFFAOYSA-N octyl benzoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 VECVSKFWRQYTAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N phenyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229940067107 phenylethyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N transbutenic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGRHYJIWZFEDBT-UHFFFAOYSA-N tridecylaluminum Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[Al] YGRHYJIWZFEDBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N trihexylalumane Chemical compound CCCCCC[Al](CCCCCC)CCCCCC ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N trioctylalumane Chemical compound CCCCCCCC[Al](CCCCCCCC)CCCCCCCC LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、オレフィン重合用触媒に関するものである。
本発明の触媒は、重合活性の持続性に優れるオレフィン
類の重合が可能で、また重合温度を高めて重合操作を行
うことができる。
本発明の触媒は、重合活性の持続性に優れるオレフィン
類の重合が可能で、また重合温度を高めて重合操作を行
うことができる。
先行技術 近年、チタン、マグネシウム、ハロゲンを必須成分とし
て含有する固体成分を使用して、炭素数3以上のα−オ
レフィンの高立体規則性重合体を製造することが数多く
提案されている。従来の提案方法によれば、実際に重合
するにあたっては、上記の固体成分と有機アルミニウム
化合物の他に、製品重合体の立体規則性を高くするため
に、重合時に電子供与性化合物を使用する必要があっ
た。
て含有する固体成分を使用して、炭素数3以上のα−オ
レフィンの高立体規則性重合体を製造することが数多く
提案されている。従来の提案方法によれば、実際に重合
するにあたっては、上記の固体成分と有機アルミニウム
化合物の他に、製品重合体の立体規則性を高くするため
に、重合時に電子供与性化合物を使用する必要があっ
た。
このように第3成分として電子供与性化合物を使用する
ことは、触媒系を複雑にするために、製品性能を制御す
ることが難しくなる。また有機アルミニウム化合物と第
3成分の電子供与性化合物との反応のために、重合速度
の持続性が低いこと、重合温度を上昇できないこと、重
合体の分子量を制御しにくいことなどの問題点があげら
れる。したがって、第3成分として電子供与性化合物を
使用しないで高立体規則性重合体を、高い触媒収率で製
造できる触媒系の開発が望まれている。
ことは、触媒系を複雑にするために、製品性能を制御す
ることが難しくなる。また有機アルミニウム化合物と第
3成分の電子供与性化合物との反応のために、重合速度
の持続性が低いこと、重合温度を上昇できないこと、重
合体の分子量を制御しにくいことなどの問題点があげら
れる。したがって、第3成分として電子供与性化合物を
使用しないで高立体規則性重合体を、高い触媒収率で製
造できる触媒系の開発が望まれている。
この解決法として、特開昭58−138715号が提案されてい
る。本提案は、4価のチタン、マグネシウム、ハロゲン
及び電子供与体を必須成分として含有するチタン複合体
(1)と、Si−O−C結合を有する有機ケイ素化合物
(2)とを、有機アルミニウム化合物の共存下で反応さ
せるか、または該チタン複合体を有機アルミニウム化合
物で処理した後、該有機ケイ素化合物を反応させた固体
成分と、有機アルミニウムから形成される触媒系で重合
する方法である。
る。本提案は、4価のチタン、マグネシウム、ハロゲン
及び電子供与体を必須成分として含有するチタン複合体
(1)と、Si−O−C結合を有する有機ケイ素化合物
(2)とを、有機アルミニウム化合物の共存下で反応さ
せるか、または該チタン複合体を有機アルミニウム化合
物で処理した後、該有機ケイ素化合物を反応させた固体
成分と、有機アルミニウムから形成される触媒系で重合
する方法である。
この提案では、ある程度高い立体規則性を有する重合体
が得られているが、現在、製品重合体が使用されている
全ての分野をまかなうには不充分である。また固体成分
の製造時に有機アルミニウムを使用するために触媒の経
時劣化、ポリオレフィン重合時の固体成分と有機アルミ
ニウム化合物の使用量の量比の制約、生成する重合体の
立体規則性、分子量などが重合時間とともに変化するな
ど解決すべき点が多い。
が得られているが、現在、製品重合体が使用されている
全ての分野をまかなうには不充分である。また固体成分
の製造時に有機アルミニウムを使用するために触媒の経
時劣化、ポリオレフィン重合時の固体成分と有機アルミ
ニウム化合物の使用量の量比の制約、生成する重合体の
立体規則性、分子量などが重合時間とともに変化するな
ど解決すべき点が多い。
発明の要旨 本発明は、下記成分(A)および成分(B)を組合せた
ことを特徴とするオレフィン重合用触媒を提供するもの
である。
ことを特徴とするオレフィン重合用触媒を提供するもの
である。
成分(A):下記成分(a)、成分(b)および成分
(c)を接触させて得られる触媒成分、 成分(a):マグネシウムジハライドおよび一般式Ti
(OR1)4-nXn(但し、R1は炭素数1〜10の炭化水素残
基、Xはハロゲン、nは0≦n≦4の数、をそれぞれ示
す)で表わされるチタン化合物を必須成分として使用し
て接触させて得られる固体成分、 成分(b):Si−O−C結合を有するケイ素化合物、 成分(c):Si−H結合を有するケイ素化合物、 成分(B):有機アルミニウム化合物。
(c)を接触させて得られる触媒成分、 成分(a):マグネシウムジハライドおよび一般式Ti
(OR1)4-nXn(但し、R1は炭素数1〜10の炭化水素残
基、Xはハロゲン、nは0≦n≦4の数、をそれぞれ示
す)で表わされるチタン化合物を必須成分として使用し
て接触させて得られる固体成分、 成分(b):Si−O−C結合を有するケイ素化合物、 成分(c):Si−H結合を有するケイ素化合物、 成分(B):有機アルミニウム化合物。
また、本発明は、下記成分(A)および成分(B)を組
合せたことを特徴とするオレフィン重合用触媒を提供す
るものである。
合せたことを特徴とするオレフィン重合用触媒を提供す
るものである。
成分(A):下記成分(a)、成分(b)および成分
(c)を接触させて得られる触媒成分、 成分(a):マグネシウムジハライドおよび一般式Ti
(OR1)4-nXn(但し、R1は炭素数1〜10の炭化水素残
基、Xはハロゲン、nは0≦n≦4の数、をそれぞれ示
す)で表わされるチタン化合物を必須成分として使用し
て接触させて得られる固体成分、 成分(b):Si−O−C結合を有するケイ素化合物、 成分(c):Si−H結合を有するケイ素化合物、 成分(d):アルミニウムハロゲン化合物、 成分(B):有機アルミニウム化合物。
(c)を接触させて得られる触媒成分、 成分(a):マグネシウムジハライドおよび一般式Ti
(OR1)4-nXn(但し、R1は炭素数1〜10の炭化水素残
基、Xはハロゲン、nは0≦n≦4の数、をそれぞれ示
す)で表わされるチタン化合物を必須成分として使用し
て接触させて得られる固体成分、 成分(b):Si−O−C結合を有するケイ素化合物、 成分(c):Si−H結合を有するケイ素化合物、 成分(d):アルミニウムハロゲン化合物、 成分(B):有機アルミニウム化合物。
発明の効果 本発明によれば、上記先行技術の有していた問題点を解
消できる。また、第3成分として電気供与性化合物を使
用する触媒等の公知の触媒に比較して、重合活性の持続
性がよく重合温度を高くすることができるなどの優れた
特徴を有する。これらの特徴は、工業生産上極めて重要
なことであり、著しく有利な工業生産が可能となる。
消できる。また、第3成分として電気供与性化合物を使
用する触媒等の公知の触媒に比較して、重合活性の持続
性がよく重合温度を高くすることができるなどの優れた
特徴を有する。これらの特徴は、工業生産上極めて重要
なことであり、著しく有利な工業生産が可能となる。
発明の具体的説明 (触媒) 本発明の触媒は、成分(A)および成分(B)を組合せ
たことを特徴とするものである。
たことを特徴とするものである。
成分(A) 本発明に用いられる成分(A)の製造に使用されるマグ
ネシウムジハライドおよび一般式Ti(OR1)4-nXn(但
し、R1は炭素数1〜10の炭化水素残基、Xはハロゲン、
nは0≦n≦4の数、をそれぞれ示す)で表わされるチ
タン化合物を必須成分として使用して接触させて得られ
る固体成分である成分(a)は、公知のものが使用でき
る。
ネシウムジハライドおよび一般式Ti(OR1)4-nXn(但
し、R1は炭素数1〜10の炭化水素残基、Xはハロゲン、
nは0≦n≦4の数、をそれぞれ示す)で表わされるチ
タン化合物を必須成分として使用して接触させて得られ
る固体成分である成分(a)は、公知のものが使用でき
る。
例えば、特開昭53−45688号、同54−3894号、同54−310
92号、同54−39483号、同54−94591号、同54−118484
号、同54−131589号、同55−75411号、同55−90510号、
同55−90511号、同55−127405号、同55−147507号、同5
5−155003号、同56−18609号、同56−70005号、同56−7
2001号、同56−86905号、同56−90807号、同56−155206
号、同57−3803号、同57−34103号、同57−92007号、同
57−121003号、同58−5309号、同58−5310号、同58−53
11号、同58−8706号、同58−27732号、同58−32604号、
同58−32605号、同58−67703号、同58−117206号、同58
−127708号、同58−183708号、同58−183709号、同59−
149905号、同59−149906号、等の先行技術に記載のもの
を使用することができる。
92号、同54−39483号、同54−94591号、同54−118484
号、同54−131589号、同55−75411号、同55−90510号、
同55−90511号、同55−127405号、同55−147507号、同5
5−155003号、同56−18609号、同56−70005号、同56−7
2001号、同56−86905号、同56−90807号、同56−155206
号、同57−3803号、同57−34103号、同57−92007号、同
57−121003号、同58−5309号、同58−5310号、同58−53
11号、同58−8706号、同58−27732号、同58−32604号、
同58−32605号、同58−67703号、同58−117206号、同58
−127708号、同58−183708号、同58−183709号、同59−
149905号、同59−149906号、等の先行技術に記載のもの
を使用することができる。
上記成分(a)は、前記必須成分の他にケイ素、アルミ
ニウム、ホウ素等の他成分の使用も可能であり、これら
が成分(a)中に残存してもよい。
ニウム、ホウ素等の他成分の使用も可能であり、これら
が成分(a)中に残存してもよい。
上記成分(a)を製造するために使用されるマグネシウ
ム源としては、マグネシウムジハライドが使用される。
ム源としては、マグネシウムジハライドが使用される。
また、チタン源としては、一般式 Ti(OR1)4-nXn(ここでR1は、炭化水素残基、好ましく
は炭素数1〜10程度のものであり、Xはハロゲンを示
し、nは0≦n≦4の数を示す。)で表わされるチタン
化合物があげられる。具体例としては、TiCl4、TiBr4、
Ti(OC2H5)Cl3、Ti(OC2H5)2Cl2、Ti(OC2H5)3Cl、T
i(O−iC3H7)Cl3、Ti(O−nC4H9)Cl3、Ti(O−nC4
H9)2Cl2、Ti(OC2H5)Br3、Ti(OC2H5)(OC4H9)2C
l、Ti(O−nC4H9)3Cl、Ti(O−C6H5)Cl3、Ti(O−
iC4H9)2Cl2、Ti(OC5H11)Cl3、Ti(OC6H13)Cl3、Ti
(OC2H5)4、Ti(O−nC3H7)4、Ti(O−nC
4H9)4、Ti(O−iC4H9)4、Ti(O−nC6H13)4、Ti
(O−nC8H17)4、Ti〔OCH2CH(C2H5)C4H9〕4等があ
る。
は炭素数1〜10程度のものであり、Xはハロゲンを示
し、nは0≦n≦4の数を示す。)で表わされるチタン
化合物があげられる。具体例としては、TiCl4、TiBr4、
Ti(OC2H5)Cl3、Ti(OC2H5)2Cl2、Ti(OC2H5)3Cl、T
i(O−iC3H7)Cl3、Ti(O−nC4H9)Cl3、Ti(O−nC4
H9)2Cl2、Ti(OC2H5)Br3、Ti(OC2H5)(OC4H9)2C
l、Ti(O−nC4H9)3Cl、Ti(O−C6H5)Cl3、Ti(O−
iC4H9)2Cl2、Ti(OC5H11)Cl3、Ti(OC6H13)Cl3、Ti
(OC2H5)4、Ti(O−nC3H7)4、Ti(O−nC
4H9)4、Ti(O−iC4H9)4、Ti(O−nC6H13)4、Ti
(O−nC8H17)4、Ti〔OCH2CH(C2H5)C4H9〕4等があ
る。
またTi▲X′ 4▼(ここでX′はハロゲンを示す)に電
子供与体を反応させた分子化合物でもよい。
子供与体を反応させた分子化合物でもよい。
具体例としては、TiCl4・CH3COC2H5、TiCl4・CH3CO2C2H
5、TiCl4・C6H5NO2、TiCl4・CH3COCl、TiCl4・C6H5COC
l、TiCl4・C6H5CO2C2H5、TiCl4・ClCOC2H5、TiCl4・C4H
4O、等があげられる。
5、TiCl4・C6H5NO2、TiCl4・CH3COCl、TiCl4・C6H5COC
l、TiCl4・C6H5CO2C2H5、TiCl4・ClCOC2H5、TiCl4・C4H
4O、等があげられる。
成分(a)中に含まれるハロゲンのハロゲン源として
は、上述のハロゲン源やチタン源等の化合物に含まれる
ハロゲンが通常用いられるが、その他の公知のハロゲン
化剤も使用することができる。
は、上述のハロゲン源やチタン源等の化合物に含まれる
ハロゲンが通常用いられるが、その他の公知のハロゲン
化剤も使用することができる。
この成分(a)を製造する時に電子供与体を使用するこ
とができる。この電子供与体としては、アルコール類、
フェノール類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸
類、有機酸又は無機酸類のエステル類、エーテル類、酸
アミド類、酸無水物類の如き含酸素電子供与体、アンモ
ニア、アミン、ニトリル、イソシアネートの如き含窒素
電子供与体などを例示することができる。
とができる。この電子供与体としては、アルコール類、
フェノール類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸
類、有機酸又は無機酸類のエステル類、エーテル類、酸
アミド類、酸無水物類の如き含酸素電子供与体、アンモ
ニア、アミン、ニトリル、イソシアネートの如き含窒素
電子供与体などを例示することができる。
より具体的には、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、ドデ
カノール、オクタデシルアルコール、ベンジルアルコー
ル、フェニルエチルアルコール、クミルアルコール、イ
ソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1ないし18
のアルコール類;フェノール、クレゾール、キシレノー
ル、エチルフェノール、プロピルフェノール、クミルフ
ェノール、ノニルフェノール、ナフトールなどのアルキ
ル基を有してよい炭素数6ないし25のフェノール類;ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アセトフェノン、ベンゾフェノンなどの炭素数3な
いし15のケトン類;アセトアルデヒド、プロピオンアル
デヒド、オクチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、トル
アルデヒド、ナフトアルデヒドなどの炭素数2ないし15
のアルデヒド類;ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ビニル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シ
クロヘキシル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草
酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メチル、ジ
クロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸エ
チル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチ
ル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息
香酸フェニル、安息香酸ベンジル、トルイル酸メチル、
トルイル酸エチル、トルイル酸アミル、エチル安息香酸
エチル、アニス酸メチル、アニス酸エチル、エトキシ安
息香酸エチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘプチル、γ−ブチロラクトン、α−パレロ
ラクトン、クマリン、フタリド、炭酸エチレンなどの炭
素数2ないし20の有機酸エステル類;ケイ酸エチル、ケ
イ酸ブチル、フェニルトリエトキシシランなどのケイ酸
エステルの如き無機酸エステル類;アセチルクロリド、
ベンゾイルクロリド、トルイル酸クロリド、アニス酸ク
ロリド、塩化フタロイル、イソ−塩化フタロイルなどの
炭素数2ないし15の酸ハライド類;メチルエーテル、エ
チルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、アルミエーテル、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジフェニルエーテルなどの炭素数2ないし20のエー
テル類;酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル酸アミ
ドなどの酢アミド類;メチルアミン、エチルアミン、ジ
エチルアミン、トリブチルアミン、ピペリジン、トリベ
ンジルアミン、アニリン、ピリジン、ピコリン、テトラ
メチルエチレンジアミンなどのアミン類;アセトニトリ
ル、ベンゾニトリル、トルニトリルなどのニトリル類;
などを挙げることができる。これら電子供与体は、2種
以上用いることができる。
ル、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、ドデ
カノール、オクタデシルアルコール、ベンジルアルコー
ル、フェニルエチルアルコール、クミルアルコール、イ
ソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1ないし18
のアルコール類;フェノール、クレゾール、キシレノー
ル、エチルフェノール、プロピルフェノール、クミルフ
ェノール、ノニルフェノール、ナフトールなどのアルキ
ル基を有してよい炭素数6ないし25のフェノール類;ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アセトフェノン、ベンゾフェノンなどの炭素数3な
いし15のケトン類;アセトアルデヒド、プロピオンアル
デヒド、オクチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、トル
アルデヒド、ナフトアルデヒドなどの炭素数2ないし15
のアルデヒド類;ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ビニル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シ
クロヘキシル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草
酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メチル、ジ
クロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸エ
チル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチ
ル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息
香酸フェニル、安息香酸ベンジル、トルイル酸メチル、
トルイル酸エチル、トルイル酸アミル、エチル安息香酸
エチル、アニス酸メチル、アニス酸エチル、エトキシ安
息香酸エチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘプチル、γ−ブチロラクトン、α−パレロ
ラクトン、クマリン、フタリド、炭酸エチレンなどの炭
素数2ないし20の有機酸エステル類;ケイ酸エチル、ケ
イ酸ブチル、フェニルトリエトキシシランなどのケイ酸
エステルの如き無機酸エステル類;アセチルクロリド、
ベンゾイルクロリド、トルイル酸クロリド、アニス酸ク
ロリド、塩化フタロイル、イソ−塩化フタロイルなどの
炭素数2ないし15の酸ハライド類;メチルエーテル、エ
チルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、アルミエーテル、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジフェニルエーテルなどの炭素数2ないし20のエー
テル類;酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル酸アミ
ドなどの酢アミド類;メチルアミン、エチルアミン、ジ
エチルアミン、トリブチルアミン、ピペリジン、トリベ
ンジルアミン、アニリン、ピリジン、ピコリン、テトラ
メチルエチレンジアミンなどのアミン類;アセトニトリ
ル、ベンゾニトリル、トルニトリルなどのニトリル類;
などを挙げることができる。これら電子供与体は、2種
以上用いることができる。
上記各成分の使用量は公知の範囲で用いられ、本発明の
効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、一般
的には、次の範囲内である。
効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、一般
的には、次の範囲内である。
チタン化合物の使用量は、使用するマグネシウム化合物
の使用量に対してモル比で1×10-4〜1000の範囲内でよ
く、好ましくは0.01〜10の範囲内である。ハロゲン源を
有する化合物を使用する場合は、チタン化合物および/
またはマグネシウム化合物がハロゲンを含む含まないに
かかわらず、使用するマグネシウムの使用量に対してモ
ル比で1×10-2〜1000の範囲内でよく、好ましくは0.1
〜100の範囲内である。
の使用量に対してモル比で1×10-4〜1000の範囲内でよ
く、好ましくは0.01〜10の範囲内である。ハロゲン源を
有する化合物を使用する場合は、チタン化合物および/
またはマグネシウム化合物がハロゲンを含む含まないに
かかわらず、使用するマグネシウムの使用量に対してモ
ル比で1×10-2〜1000の範囲内でよく、好ましくは0.1
〜100の範囲内である。
電子供与性化合物の使用量は、上記のマグネシウム化合
物の使用量に対してモル比で1×10-3〜10の範囲内でよ
く、好ましくは0.01〜5の範囲内である。
物の使用量に対してモル比で1×10-3〜10の範囲内でよ
く、好ましくは0.01〜5の範囲内である。
成分(a)は、上述のチタン源、マグネシウム源および
ハロゲン源、更には必要により電子供与体等の他成分を
用いて、例えば以下の様な製造法により製造される。
ハロゲン源、更には必要により電子供与体等の他成分を
用いて、例えば以下の様な製造法により製造される。
イ. ハロゲン化マグネシウムと電子供与体とチタン含
有化合物とを接触させる方法。
有化合物とを接触させる方法。
ロ. アルミナまたはマグネシアをハロゲン化リン化合
物で処理を行ない、それにハロゲン化マグネシウム、電
子供与体、チタンハロゲン含有化合物を接触させる方
法。
物で処理を行ない、それにハロゲン化マグネシウム、電
子供与体、チタンハロゲン含有化合物を接触させる方
法。
ハ. ハロゲン化マグネシウムとチタニウムテトラアル
コキシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を接触させ
て得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物およびま
たはケイ素のハロゲン化合物を接触させる方法。
コキシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を接触させ
て得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物およびま
たはケイ素のハロゲン化合物を接触させる方法。
このポリマーケイ素化合物としては、下式で示されるも
のが適当である。
のが適当である。
(ここで、Rは炭素数1〜10程度の炭化水素残基、nは
このポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100センチスト
ークス程度となるような重合度を示す)。具体的には、
メチルハイドロジエンポリシロキサン、エチルハイドロ
ジエンポリシロキサン、フエニルハイドロジエンポリシ
ロキサン、シクロヘキシルハイドロジエンポリシロキサ
ン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、
1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサンなど
を例示できる。
このポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100センチスト
ークス程度となるような重合度を示す)。具体的には、
メチルハイドロジエンポリシロキサン、エチルハイドロ
ジエンポリシロキサン、フエニルハイドロジエンポリシ
ロキサン、シクロヘキシルハイドロジエンポリシロキサ
ン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、
1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサンなど
を例示できる。
ニ. マグネシウム化合物をチタニウムテトラアルコキ
シドおよび電子供与体で溶解させて、ハロゲン化剤また
はチタンハロゲン化合物で析出させた固体成分に、チタ
ン化合物を接触させる方法。
シドおよび電子供与体で溶解させて、ハロゲン化剤また
はチタンハロゲン化合物で析出させた固体成分に、チタ
ン化合物を接触させる方法。
ホ. グリニヤール試薬等の有機マグネシウム化合物を
ハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、これに電子供
与体とチタン化合物とを接触させる方法。
ハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、これに電子供
与体とチタン化合物とを接触させる方法。
ヘ. アルコキシマグネシウム化合物にハロゲン化剤お
よび/またはチタン化合物を電子供与体の存在もしくは
不存在下に接触させる方法。
よび/またはチタン化合物を電子供与体の存在もしくは
不存在下に接触させる方法。
成分(A)を製造するために使用する成分(b)は、Si
−O−C結合を有するケイ素化合物である。
−O−C結合を有するケイ素化合物である。
具体例としては、(CH3)Si(OCH3)3、(CH3)Si(OC
2H5)3、(C2H5)2Si(OCH3)2、(n−C6H11)Si(O
CH3)3、(C2H5)Si(OC2H5)3、(n−C10H21)Si
(OC2H5)3、(CH2=CH)Si(OCH3)3、Cl(CH2)3Si
(OCH3)3、Si(OCH3)4、(C2H5)2Si(OC2H5)2、
(C17H35)Si(OCH3)3、Si(OC2H5)4、(C6H5)Si
(OCH3)3、(C6H5)2Si(OCH3)2、(C6H5)(CH3)
Si(OCH3)2、(C6H5)Si(OC2H5)3、(C6H5)2Si
(OC2H5)2、NC(CH2)2Si(OC2H5)3、(C6H5)(CH
3)Si(OC2H5)2、(n−C3H7)Si(OC2H5)3、(C
H3)Si(OC3H7)3、(C6H5)(CH2)Si(OC2H5)3、 (CH3)3C−Si(OCH3)3、(CH3)3C−Si(OC2H5)3
(C2H5)3C−Si(OC2H5)3、 等のSi−O−C結合を有するがSi−H結合を持たないケ
イ素化合物が例示できる。
2H5)3、(C2H5)2Si(OCH3)2、(n−C6H11)Si(O
CH3)3、(C2H5)Si(OC2H5)3、(n−C10H21)Si
(OC2H5)3、(CH2=CH)Si(OCH3)3、Cl(CH2)3Si
(OCH3)3、Si(OCH3)4、(C2H5)2Si(OC2H5)2、
(C17H35)Si(OCH3)3、Si(OC2H5)4、(C6H5)Si
(OCH3)3、(C6H5)2Si(OCH3)2、(C6H5)(CH3)
Si(OCH3)2、(C6H5)Si(OC2H5)3、(C6H5)2Si
(OC2H5)2、NC(CH2)2Si(OC2H5)3、(C6H5)(CH
3)Si(OC2H5)2、(n−C3H7)Si(OC2H5)3、(C
H3)Si(OC3H7)3、(C6H5)(CH2)Si(OC2H5)3、 (CH3)3C−Si(OCH3)3、(CH3)3C−Si(OC2H5)3
(C2H5)3C−Si(OC2H5)3、 等のSi−O−C結合を有するがSi−H結合を持たないケ
イ素化合物が例示できる。
本発明で使用する成分(C)は、Si−H結合を有するケ
イ素化合物である。具体例としては、HSiCl3、H2SiC
l2、H3SiCl、H(CH3)SiCl2、H(C2H5)SiCl2、(C2H
5)3SiH、H(CH3)2SiCl、(C2H5)2SiH2、H(CH3)S
i(OCH3)2、HSi(OCH3)3、H2Si(OC2H5)2、H(C
H3)2SiN(CH3)2、(ClCH2CH2O)2Si(CH3)H、(CH
3)(C2H5)2SiH、(CH3)HSi(OC2H5)2、(CH3)HSi
(NCH3)2、(C6H5)SiHCl2、(C6H5)SiH3、HSi(OCH
2CH2Cl)3、CH3(CH2)3SiH(CH3)2、HSi(OC2H5)
3、(CH3)2HSiN(C2H5)2、HSi(N(CH3)2)3、
(C6H5)(CH3)SiH2、(C6H5)(CH3)2SiH、CH3(C
H2)7SiH3、(CH3CH2CH2)3SiH、(C6H5)2SiH2、(C6H
5)2SiH(CH3)、(n−C5H11O)3SiH、(C6H5)3SiH、
H(CH3)2SiOSi(CH3)2H、H(CH3)2SiNHSi(CH3)2
H、(CH3)3SiOSi(CH3)2H、H(CH3)2Si(C6H4)Si
(CH3)2H、 (CH3SiO)3SiH、 (CH3SiO)3SiH、 メチルハイドロジエンポリシロキサン、エチルハイドロ
ジエンシロキサン等があげられる。
イ素化合物である。具体例としては、HSiCl3、H2SiC
l2、H3SiCl、H(CH3)SiCl2、H(C2H5)SiCl2、(C2H
5)3SiH、H(CH3)2SiCl、(C2H5)2SiH2、H(CH3)S
i(OCH3)2、HSi(OCH3)3、H2Si(OC2H5)2、H(C
H3)2SiN(CH3)2、(ClCH2CH2O)2Si(CH3)H、(CH
3)(C2H5)2SiH、(CH3)HSi(OC2H5)2、(CH3)HSi
(NCH3)2、(C6H5)SiHCl2、(C6H5)SiH3、HSi(OCH
2CH2Cl)3、CH3(CH2)3SiH(CH3)2、HSi(OC2H5)
3、(CH3)2HSiN(C2H5)2、HSi(N(CH3)2)3、
(C6H5)(CH3)SiH2、(C6H5)(CH3)2SiH、CH3(C
H2)7SiH3、(CH3CH2CH2)3SiH、(C6H5)2SiH2、(C6H
5)2SiH(CH3)、(n−C5H11O)3SiH、(C6H5)3SiH、
H(CH3)2SiOSi(CH3)2H、H(CH3)2SiNHSi(CH3)2
H、(CH3)3SiOSi(CH3)2H、H(CH3)2Si(C6H4)Si
(CH3)2H、 (CH3SiO)3SiH、 (CH3SiO)3SiH、 メチルハイドロジエンポリシロキサン、エチルハイドロ
ジエンシロキサン等があげられる。
本発明の触媒の成分(A)は、上記成分(a)、成分
(b)および成分(c)を接触させて得られるが、これ
らの成分に更に下記成分(d)を加えた成分(a)〜
(d)の接触によって製造することもできる。
(b)および成分(c)を接触させて得られるが、これ
らの成分に更に下記成分(d)を加えた成分(a)〜
(d)の接触によって製造することもできる。
上記の本発明に用いられる成分(d)は、アルミニウム
ハロゲン化合物である。具体的にはAlCl3、AlBr3等の無
機ハロゲン化アルミニウム、Al(OC2H5)Cl2、Al(OC
H3)2Cl、Al(OC2H5)2ClAl(OiCH3)Cl2、Al(O−nC4
H9)Cl2、Al(OC6H5)Cl2、Al(OC8H19)Cl2、Al(O−
nC4H9)2Cl、Al(OC2H5)Br2、等の炭素数1〜10程度の
炭化水素残基を有するハロゲン化アルミニウム等が例示
できる。
ハロゲン化合物である。具体的にはAlCl3、AlBr3等の無
機ハロゲン化アルミニウム、Al(OC2H5)Cl2、Al(OC
H3)2Cl、Al(OC2H5)2ClAl(OiCH3)Cl2、Al(O−nC4
H9)Cl2、Al(OC6H5)Cl2、Al(OC8H19)Cl2、Al(O−
nC4H9)2Cl、Al(OC2H5)Br2、等の炭素数1〜10程度の
炭化水素残基を有するハロゲン化アルミニウム等が例示
できる。
成分(a)と成分(b)と成分(c)又はこれらの各成
分と成分(d)の接触条件は、本発明の効果が認められ
るかぎり任意のものでありうるが、一般的には、次の条
件が好ましい。接触温度としては−50〜200℃程度、好
ましくは0〜150℃である。接触方法としては回転ボー
ルミル、振動ミル、ジェットミル、媒体撹拌粉砕機など
による機械的な方法、不活性希釈剤の存在下に、撹拌に
より接触させる方法などがあげられる。このとき使用す
る不活性希釈剤としては、脂肪族または芳香族の炭化水
素およびハロ炭化水素、ポリシロキサン等があげられ
る。
分と成分(d)の接触条件は、本発明の効果が認められ
るかぎり任意のものでありうるが、一般的には、次の条
件が好ましい。接触温度としては−50〜200℃程度、好
ましくは0〜150℃である。接触方法としては回転ボー
ルミル、振動ミル、ジェットミル、媒体撹拌粉砕機など
による機械的な方法、不活性希釈剤の存在下に、撹拌に
より接触させる方法などがあげられる。このとき使用す
る不活性希釈剤としては、脂肪族または芳香族の炭化水
素およびハロ炭化水素、ポリシロキサン等があげられ
る。
成分(a)と成分(b)と成分(c)の量比は、本発明
の効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、一
般的には、次の範囲内が好ましい。成分(a)と成分
(b)の量比は、成分(a)を構成するチタン成分に対
する成分(b)のケイ素の原子比(ケイ素/チタン)で
0.01〜1000の範囲内でよく、好ましくは0.1〜100の範囲
内である。
の効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、一
般的には、次の範囲内が好ましい。成分(a)と成分
(b)の量比は、成分(a)を構成するチタン成分に対
する成分(b)のケイ素の原子比(ケイ素/チタン)で
0.01〜1000の範囲内でよく、好ましくは0.1〜100の範囲
内である。
成分(a)と成分(c)の量比は、成分(a)を構成す
るチタン成分に対する成分(c)のケイ素の原子比(ケ
イ素/チタン)で0.01〜1000の範囲内でよく、好ましく
は0.1〜100の範囲内である。
るチタン成分に対する成分(c)のケイ素の原子比(ケ
イ素/チタン)で0.01〜1000の範囲内でよく、好ましく
は0.1〜100の範囲内である。
成分(A)の製造において上記成分(a)〜(c)に加
えて成分(d)を用いる場合には、成分(a)〜成分
(d)の量比は、成分(a)〜成分(c)の量比は上述
のこれら3成分を使用する場合と同じで、加えて用いる
成分(d)を、成分(a)を構成するチタン成分に対す
る成分(d)のアルミニウムの原子比(アルミニウム/
チタン)で0.01〜1000の範囲内でよく、好ましくは0.1
〜100の範囲内である。
えて成分(d)を用いる場合には、成分(a)〜成分
(d)の量比は、成分(a)〜成分(c)の量比は上述
のこれら3成分を使用する場合と同じで、加えて用いる
成分(d)を、成分(a)を構成するチタン成分に対す
る成分(d)のアルミニウムの原子比(アルミニウム/
チタン)で0.01〜1000の範囲内でよく、好ましくは0.1
〜100の範囲内である。
成分(B) 成分(B)は有機アルミニウム化合物である。具体例と
しては、▲R2 3−n▼AlXnまたは、▲R3 3−m▼Al
(OR4)m(ここでR2、R3は同一または異ってもよい炭
素数1〜20程度の炭化水素残基または水素、R4は炭化水
素残基、Xはハロゲン、nおよびmはそれぞれ0n<
3、0<m<3の数である。)で表わされるものがあ
る。具体的には、(イ) トリメチルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウ
ム、トリデシルアルミニウム、などのトリアルキルアル
ミニウム、(ロ) ジエチルアルミニウムモノクロライ
ド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、エチル
アルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジ
クロライド、などのアルキルアルミニウムハライド、
(ハ) ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブ
チルアルミニウムハイドライド、(ニ) ジエチルアル
ミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシ
ドなどのアルミニウムアルコキシド、などがあげられ
る。
しては、▲R2 3−n▼AlXnまたは、▲R3 3−m▼Al
(OR4)m(ここでR2、R3は同一または異ってもよい炭
素数1〜20程度の炭化水素残基または水素、R4は炭化水
素残基、Xはハロゲン、nおよびmはそれぞれ0n<
3、0<m<3の数である。)で表わされるものがあ
る。具体的には、(イ) トリメチルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウ
ム、トリデシルアルミニウム、などのトリアルキルアル
ミニウム、(ロ) ジエチルアルミニウムモノクロライ
ド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、エチル
アルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジ
クロライド、などのアルキルアルミニウムハライド、
(ハ) ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブ
チルアルミニウムハイドライド、(ニ) ジエチルアル
ミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシ
ドなどのアルミニウムアルコキシド、などがあげられ
る。
これら(イ)〜(ハ)の有機アルミニウム化合物に他の
有機金属化合物、たとえば▲R4 3−a▼Al(OR5)a
(1a3、R4およびR5は、同一または異なってもよ
い炭素数1〜20程度の炭化水素残基である。)で表わさ
れるアルキルアルミニウムアルコキシドを併用すること
もできる。たとえば、トリエチルアルミニウムとジエチ
ルアルミニウムエトキシドの併用、ジエチルアルミニウ
ムモノクロライドとジエチルアルミニウムエトキシドと
の併用、エチルアルミニウムジクロライドとエチルアル
ミニウムジエトキシドとの併用、トリエチルアルミニウ
ムとジエチルアルミニウムエトキシドとジエチルアルミ
ニウムクロライドとの併用があげられる。
有機金属化合物、たとえば▲R4 3−a▼Al(OR5)a
(1a3、R4およびR5は、同一または異なってもよ
い炭素数1〜20程度の炭化水素残基である。)で表わさ
れるアルキルアルミニウムアルコキシドを併用すること
もできる。たとえば、トリエチルアルミニウムとジエチ
ルアルミニウムエトキシドの併用、ジエチルアルミニウ
ムモノクロライドとジエチルアルミニウムエトキシドと
の併用、エチルアルミニウムジクロライドとエチルアル
ミニウムジエトキシドとの併用、トリエチルアルミニウ
ムとジエチルアルミニウムエトキシドとジエチルアルミ
ニウムクロライドとの併用があげられる。
(重合) 本発明の触媒系は、通常のスラリー重合に適用されるの
はもちろんであるが、実質的に溶媒を用いない液相無溶
媒重合、溶液重合、または気相重合法にも適用される。
また連続重合、回分式重合、または予備重合を行なう方
式にも適用される。
はもちろんであるが、実質的に溶媒を用いない液相無溶
媒重合、溶液重合、または気相重合法にも適用される。
また連続重合、回分式重合、または予備重合を行なう方
式にも適用される。
スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ヘキサン、ヘ
プタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あるいは
混合物が用いられる。
プタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あるいは
混合物が用いられる。
重合温度は、室温から200℃程度、好ましくは50〜150℃
であり、そのときの分子量調節剤として補助的に水素を
用いることができる。また成分(A)および成分(B)
の使用量は、特に制限はないが、一般的には、次の範囲
内が好ましい。成分(A)に対する成分(B)の重量比
で0.1〜1000、好ましくは10〜500である。
であり、そのときの分子量調節剤として補助的に水素を
用いることができる。また成分(A)および成分(B)
の使用量は、特に制限はないが、一般的には、次の範囲
内が好ましい。成分(A)に対する成分(B)の重量比
で0.1〜1000、好ましくは10〜500である。
(オレフィン) 本発明の触媒系で重合するのに用いられるオレフィン
は、一般式R−CH=CH2(ここでRは水素原子、または
炭素数1〜10の炭化水素残基であり、分枝基を有しても
よい)で表わされるものである。具体的には、エチレ
ン、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン
−1、4−メチルペンテン−1などのオレフィン類があ
る。好ましくはエチレンおよびプロピレンである。
は、一般式R−CH=CH2(ここでRは水素原子、または
炭素数1〜10の炭化水素残基であり、分枝基を有しても
よい)で表わされるものである。具体的には、エチレ
ン、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン
−1、4−メチルペンテン−1などのオレフィン類があ
る。好ましくはエチレンおよびプロピレンである。
これらの重合の場合に、エチレンに対して50重量パーセ
ント、好ましくは20重量パーセント、までの上記オレフ
ィンとの共重合を行なうことができ、プロピレンに対し
ては30重量パーセントまでの上記オレフィン、特にエチ
レンとの共重合を行なうことができる。その他の共重合
性モノマー(たとえば酢酸ビニル、ジオレフィン)との
共重合を行なうこともできる。
ント、好ましくは20重量パーセント、までの上記オレフ
ィンとの共重合を行なうことができ、プロピレンに対し
ては30重量パーセントまでの上記オレフィン、特にエチ
レンとの共重合を行なうことができる。その他の共重合
性モノマー(たとえば酢酸ビニル、ジオレフィン)との
共重合を行なうこともできる。
実験例 実施例A−1 〔成分(A)の製造〕 充分に乾燥し、窒素置換した0.4リットルのボールミル
に12mmφのステンレス鋼製ボールを40個充てんし、MgCl
2を20g、フタル酸ジヘプチルを15.5ミリリットル導入
し、回転ボールミルで48時間粉砕した。粉砕終了後、ド
ライボックス内で混合粉砕組成物をミルより取り出し
た。続いて、充分に窒素置換したフラスコに、粉砕組成
物を8.8グラル導入し、さらにn−ヘプタン25ミリリッ
トルとTiCl425ミリリットルを導入して100℃で3時間反
応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄し
た。得られた固体成分の一部分をとり出して組成分析し
たところ、Ti含量は、3.01重量パーセントであった(成
分(a))。
に12mmφのステンレス鋼製ボールを40個充てんし、MgCl
2を20g、フタル酸ジヘプチルを15.5ミリリットル導入
し、回転ボールミルで48時間粉砕した。粉砕終了後、ド
ライボックス内で混合粉砕組成物をミルより取り出し
た。続いて、充分に窒素置換したフラスコに、粉砕組成
物を8.8グラル導入し、さらにn−ヘプタン25ミリリッ
トルとTiCl425ミリリットルを導入して100℃で3時間反
応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄し
た。得られた固体成分の一部分をとり出して組成分析し
たところ、Ti含量は、3.01重量パーセントであった(成
分(a))。
充分に窒素置換したフラスコに充分精製したn−ヘプタ
ンを50ミリリットル導入し、次いで上記で得た成分
(a)を5グラム導入し、次いで成分(c)として を2.3ミリリットル導入し、70℃で2時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、次いで成分(b)
としてフェニルトリエトキシシランを4.5ミリリットル
導入し、30℃で2時間接触させた。接触終了後、n−ヘ
プタンで洗浄し成分(A)とした。
ンを50ミリリットル導入し、次いで上記で得た成分
(a)を5グラム導入し、次いで成分(c)として を2.3ミリリットル導入し、70℃で2時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、次いで成分(b)
としてフェニルトリエトキシシランを4.5ミリリットル
導入し、30℃で2時間接触させた。接触終了後、n−ヘ
プタンで洗浄し成分(A)とした。
撹拌および温度制御装置を有する内容積1.5リットルの
ステンレス鋼製オートクレーブに、充分に脱水および脱
酸素したn−ヘプタンを500ミリリットル、トリエチル
アルミニウム125ミリグラム(成分(B))、および上
記で合成した触媒成分(成分(A))を15ミリグラム導
入した。次いで、H2を60ミリリットル導入し、昇温昇圧
し、重合圧力=5kg/cm2G、重合温度=75℃、重合時間=
2時間の条件で重合した。
ステンレス鋼製オートクレーブに、充分に脱水および脱
酸素したn−ヘプタンを500ミリリットル、トリエチル
アルミニウム125ミリグラム(成分(B))、および上
記で合成した触媒成分(成分(A))を15ミリグラム導
入した。次いで、H2を60ミリリットル導入し、昇温昇圧
し、重合圧力=5kg/cm2G、重合温度=75℃、重合時間=
2時間の条件で重合した。
重合終了後、得られたポリマースラリーを過により分
離し、ポリマーを乾燥した。その結果83.6グラムのポリ
マーが得られた。一方の過液から0.92グラムのポリマ
ーが得られた。沸騰ヘプタン抽出試験より、全製品I.I
(以下T−I.Iと略す)は、95.3重量パーセントであっ
た。またこのポリマーのMFR=8.7g/10分、ポリマー嵩比
重=0.38g/ccであった。
離し、ポリマーを乾燥した。その結果83.6グラムのポリ
マーが得られた。一方の過液から0.92グラムのポリマ
ーが得られた。沸騰ヘプタン抽出試験より、全製品I.I
(以下T−I.Iと略す)は、95.3重量パーセントであっ
た。またこのポリマーのMFR=8.7g/10分、ポリマー嵩比
重=0.38g/ccであった。
実施例A−2 〔成分(A)の製造〕 充分に窒素置換したフラスコに脱水および脱酸素したn
−ヘプタン100ミリリットルを導入し、次いでMgCl2を0.
1モル、Ti(O−nC4H9)4を0.2モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次い
でメチルヒドロポリシロキサン(20センチストークスの
もの)を12ミリリットル導入し、3時間反応させた。生
成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。
−ヘプタン100ミリリットルを導入し、次いでMgCl2を0.
1モル、Ti(O−nC4H9)4を0.2モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次い
でメチルヒドロポリシロキサン(20センチストークスの
もの)を12ミリリットル導入し、3時間反応させた。生
成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。
ついで充分に窒素置換したフラスコに前記と同様に精製
した。n−ヘプタンを50ミリリットル導入し、上記で合
成した固体成分をMg原子換算で0.03モル導入した。つい
でn−ヘプタン25ミリリットルにSiCl40.05モルを混合
して30℃、30分間でフラスコへ導入し、70℃で1時間反
応させた。反応終了後、n−ヘプタンで洗浄した。次い
でn−ヘプタン25ミリリットルにフタル酸ジヘプチル0.
003モルを混合して70℃で30分間でフラスコへ導入し、9
5℃で1時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで
洗浄した。次いでTiCl45ミリリットルを導入して、100
℃で6時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充
分に洗浄した。チタン含量は、2.45重量パーセントであ
った。固体成分(A)を製造するための成分(a)とし
た。
した。n−ヘプタンを50ミリリットル導入し、上記で合
成した固体成分をMg原子換算で0.03モル導入した。つい
でn−ヘプタン25ミリリットルにSiCl40.05モルを混合
して30℃、30分間でフラスコへ導入し、70℃で1時間反
応させた。反応終了後、n−ヘプタンで洗浄した。次い
でn−ヘプタン25ミリリットルにフタル酸ジヘプチル0.
003モルを混合して70℃で30分間でフラスコへ導入し、9
5℃で1時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで
洗浄した。次いでTiCl45ミリリットルを導入して、100
℃で6時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充
分に洗浄した。チタン含量は、2.45重量パーセントであ
った。固体成分(A)を製造するための成分(a)とし
た。
実施例A−1と同様に精製したフラスコにn−ヘプタン
50ミリリットル導入し、次いで上記で得た成分(a)を
5グラム、次いで成分(c)としてメチルハイドロジエ
ンポリシロキサンを1.8ミリリットル導入し、60℃で2
時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、
次いで成分(b)としてジフェニルジメトキシシランを
4.7ミリリットル導入し、25℃で2時間接触させた。接
触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、成分(A)とした。
50ミリリットル導入し、次いで上記で得た成分(a)を
5グラム、次いで成分(c)としてメチルハイドロジエ
ンポリシロキサンを1.8ミリリットル導入し、60℃で2
時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、
次いで成分(b)としてジフェニルジメトキシシランを
4.7ミリリットル導入し、25℃で2時間接触させた。接
触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、成分(A)とした。
実施例A−1の重合条件において、トリエチルアルミニ
ウムの使用量を250ミリグラムにした以外は、実施例A
−1と同様にプロピレンの重合を行った。その結果、12
3グラムのポリマーが得られ、このポリマーのMFR=6.5g
/10分、T−I.I=96.0重量パーセント、ポリマー嵩比重
=0.46g/ccであった。
ウムの使用量を250ミリグラムにした以外は、実施例A
−1と同様にプロピレンの重合を行った。その結果、12
3グラムのポリマーが得られ、このポリマーのMFR=6.5g
/10分、T−I.I=96.0重量パーセント、ポリマー嵩比重
=0.46g/ccであった。
実施例A−3 〔成分(A)の製造〕 実施例A−2の成分(a)の合成において、SiCl4の反
応時間を90℃、4時間にし、フタル酸ジヘプチルのかわ
りにフタル酸クロライド0.003モルを使用し、95℃で1
時間反応させた以外は、実施例A−2と同様に成分
(a)の合成を行なった。
応時間を90℃、4時間にし、フタル酸ジヘプチルのかわ
りにフタル酸クロライド0.003モルを使用し、95℃で1
時間反応させた以外は、実施例A−2と同様に成分
(a)の合成を行なった。
実施例A−1と同様に上記で得た成分(a)をフラスコ
に導入し、次いで成分(c)として、メチルハイドロジ
エンポリシロキサン2.0ミリリットル導入し、50℃で2
時間接触させた。接触終了後n−ヘプタンで洗浄し、次
いで成分(b)として 3.2ミリリットルを導入し、30℃で4時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
に導入し、次いで成分(c)として、メチルハイドロジ
エンポリシロキサン2.0ミリリットル導入し、50℃で2
時間接触させた。接触終了後n−ヘプタンで洗浄し、次
いで成分(b)として 3.2ミリリットルを導入し、30℃で4時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
上記で得た成分(A)を使用した以外は実施例A−1と
同様にプロピレンの重合を行った。その結果、148グラ
ムのポリマーが得られ、このポリマーのMFR=5.8g/10
分、T−I.I=97.5重量パーセント、ポリマー嵩比重=
0.46g/ccであった。
同様にプロピレンの重合を行った。その結果、148グラ
ムのポリマーが得られ、このポリマーのMFR=5.8g/10
分、T−I.I=97.5重量パーセント、ポリマー嵩比重=
0.46g/ccであった。
実施例A−4 〔成分(A)の製造〕 充分に窒素置換したフラスコに脱水および脱酸素したn
−ヘプタン100ミリリットルを導入し、次いでMgCl2を0.
1モル、Ti(O−nC4H9)4を0.2モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、35℃に温度を下げ、1,3,
5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン15ミリリッ
トル導入し、5時間反応させた。生成した固体成分をn
−ヘプタンで洗浄した。ついで充分に窒素置換したフラ
スコにn−ヘプタン50ミリリットル導入し、上記で合成
した固体成分をMg原子換算で0.03モル導入した。ついで
SiCl40.06モルを20℃、30分間で導入し、50℃で3時間
反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで洗浄し、成分
(A)を製造するための固体成分(a)とした。この固
体成分中のチタン含量は、4.52重量パーセントであっ
た。
−ヘプタン100ミリリットルを導入し、次いでMgCl2を0.
1モル、Ti(O−nC4H9)4を0.2モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、35℃に温度を下げ、1,3,
5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン15ミリリッ
トル導入し、5時間反応させた。生成した固体成分をn
−ヘプタンで洗浄した。ついで充分に窒素置換したフラ
スコにn−ヘプタン50ミリリットル導入し、上記で合成
した固体成分をMg原子換算で0.03モル導入した。ついで
SiCl40.06モルを20℃、30分間で導入し、50℃で3時間
反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで洗浄し、成分
(A)を製造するための固体成分(a)とした。この固
体成分中のチタン含量は、4.52重量パーセントであっ
た。
実施例A−1と同様に上記で得た成分(a)をフラスコ
に導入し、次いで 4.6ミリリットル(成分(b))およびメチルハイドロ
ジエンポリシロキサン2.7ミリリットル(成分(c))
を導入して、20℃で2時間接触させた。接触終了後、n
−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
に導入し、次いで 4.6ミリリットル(成分(b))およびメチルハイドロ
ジエンポリシロキサン2.7ミリリットル(成分(c))
を導入して、20℃で2時間接触させた。接触終了後、n
−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
上記で得た成分(A)を用い、トリエチルアルミニウム
の使用量を50ミリグラムにした以外は、実施例A−1と
同様にプロピレンの重合を行った。その結果92グラムの
ポリマーが得られ、このポリマーのMFR=10.8g/10分、
T−I.I=93.8重量パーセント、ポリマー嵩比重=0.46g
/ccであった。
の使用量を50ミリグラムにした以外は、実施例A−1と
同様にプロピレンの重合を行った。その結果92グラムの
ポリマーが得られ、このポリマーのMFR=10.8g/10分、
T−I.I=93.8重量パーセント、ポリマー嵩比重=0.46g
/ccであった。
実施例A−5〜7 実施例A−2の成分(A)の製造において、成分(c)
として表A−1に示す化合物を使用した以外は、実施例
A−2と同様に触媒製造を行い、プロピレンの重合も実
施例A−2と同様に行った。その結果を表A−1に示
す。
として表A−1に示す化合物を使用した以外は、実施例
A−2と同様に触媒製造を行い、プロピレンの重合も実
施例A−2と同様に行った。その結果を表A−1に示
す。
実施例A−8〜10 実施例A−2の成分(A)の製造において、成分(b)
として表A−2に示す化合物を使用した以外は、実施例
A−3と同様に触媒の製造を行い、プロピレンの重合も
実施例A−3と同様に行った。その結果を表A−2に示
す。
として表A−2に示す化合物を使用した以外は、実施例
A−3と同様に触媒の製造を行い、プロピレンの重合も
実施例A−3と同様に行った。その結果を表A−2に示
す。
実施例A−11〜13 実施例A−3のプロピレンの重合において、成分(B)
の有機アルミニウム化合物として、表A−3に示す化合
物を使用した以外は、実施例A−3と同様にプロピレン
の重合を行った。その結果を表A−3に示す。
の有機アルミニウム化合物として、表A−3に示す化合
物を使用した以外は、実施例A−3と同様にプロピレン
の重合を行った。その結果を表A−3に示す。
実施例B−1 〔成分(A)の製造〕 充分に窒素置換したフラスコに充分精製したn−ヘプタ
ンを50ミリリットル導入し、次いで実施例A−1の触媒
成分(A)の製造で得られたのと同様の成分(a)を5
グラム導入し、次いで成分(c)として を1.9ミリリットル導入し、50℃で2時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、次いで成分(b)
としてジフェニルジメトキシシラン4.6ミリリットルお
よび成分(d)としてAlCl30.2グラムを導入し、35℃で
3時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで洗浄
し、成分(A)とした。
ンを50ミリリットル導入し、次いで実施例A−1の触媒
成分(A)の製造で得られたのと同様の成分(a)を5
グラム導入し、次いで成分(c)として を1.9ミリリットル導入し、50℃で2時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し、次いで成分(b)
としてジフェニルジメトキシシラン4.6ミリリットルお
よび成分(d)としてAlCl30.2グラムを導入し、35℃で
3時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで洗浄
し、成分(A)とした。
上記で得た成分(A)を15ミリグラム使用した以外は実
施例A−1と同様にプロピレンの重合を行った。
施例A−1と同様にプロピレンの重合を行った。
その結果85.8グラムのポリマーが得られた。一方の過
液から0.77グラムのポリマーが得られた。沸騰ヘプタン
抽出試験より、全製品I.I(以下T−I.Iと略す)は、9
6.1重量パーセントであった。またこのポリマーのMFR=
8.1g/10分、ポリマー嵩比重=0.37g/ccであった。
液から0.77グラムのポリマーが得られた。沸騰ヘプタン
抽出試験より、全製品I.I(以下T−I.Iと略す)は、9
6.1重量パーセントであった。またこのポリマーのMFR=
8.1g/10分、ポリマー嵩比重=0.37g/ccであった。
実施例B−2 〔成分(A)の製造〕 充分に窒素置換したフラスコに充分精製したn−ヘプタ
ンを50ミリリットルを導入し、実施例A−2の触媒成分
(A)の製造で得られたのと同様の成分(a)を5グラ
ム導入し、次いでAlCl30.2グラム(成分(d))、メチ
ルハイドロジエンポリシロキサン2.0ミリリットルを導
入し、70℃で2時間接触させた。接触終了後n−ヘプタ
ンで洗浄した。次いでフェニルトリエトキシシラン4.8
ミリリットルを導入して、30℃で2時間接触させた。接
触終了後、n−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
ンを50ミリリットルを導入し、実施例A−2の触媒成分
(A)の製造で得られたのと同様の成分(a)を5グラ
ム導入し、次いでAlCl30.2グラム(成分(d))、メチ
ルハイドロジエンポリシロキサン2.0ミリリットルを導
入し、70℃で2時間接触させた。接触終了後n−ヘプタ
ンで洗浄した。次いでフェニルトリエトキシシラン4.8
ミリリットルを導入して、30℃で2時間接触させた。接
触終了後、n−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
上記で得た成分(A)を用い、トリエチルアルミニウム
(成分(B))の使用量を250ミリグラムとした以外
は、実施例B−1と同様にプロピレンの重合を行った。
(成分(B))の使用量を250ミリグラムとした以外
は、実施例B−1と同様にプロピレンの重合を行った。
その結果、131グラムのポリマーが得られ、このポリマ
ーのMFR=5.8g/10分、T−I.I=97.0重量パーセント、
ポリマー嵩比重=0.44g/ccであった。
ーのMFR=5.8g/10分、T−I.I=97.0重量パーセント、
ポリマー嵩比重=0.44g/ccであった。
実施例B−3 〔成分(A)の製造〕 実施例B−2の成分(a)の合成において、SiCl4の反
応時間を90℃、4時間にし、フタル酸ジヘプチルのかわ
りにフタル酸クロライド0.003モルを使用し、95℃で1
時間反応させた以外は、実施例B−2と同様に成分
(a)の合成を行った。
応時間を90℃、4時間にし、フタル酸ジヘプチルのかわ
りにフタル酸クロライド0.003モルを使用し、95℃で1
時間反応させた以外は、実施例B−2と同様に成分
(a)の合成を行った。
実施例B−1と同様に上記で得た成分(a)をフラスコ
に導入し、次いで成分(c)として、メチルハイドロジ
エンポリシロキサン2.0ミリリットル、および成分
(d)としてAlCl30.2グラムを導入して、70℃で2時間
接触させた。接触終了後n−ヘプタンで洗浄し、次いで
成分(b)として、 3.2ミリリットルを導入し、30℃で3時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
に導入し、次いで成分(c)として、メチルハイドロジ
エンポリシロキサン2.0ミリリットル、および成分
(d)としてAlCl30.2グラムを導入して、70℃で2時間
接触させた。接触終了後n−ヘプタンで洗浄し、次いで
成分(b)として、 3.2ミリリットルを導入し、30℃で3時間接触させた。
接触終了後、n−ヘプタンで洗浄し成分(A)とした。
上記で得た成分(A)を用いた以外は実施例B−1と同
様にプロピレンの重合を行った。
様にプロピレンの重合を行った。
その結果、155グラムのポリマーが得られ、このポリマ
ーのMFR=5.5g/10分、T−I.I=97.8重量パーセント、
ポリマー嵩比重=0.46g/ccであった。
ーのMFR=5.5g/10分、T−I.I=97.8重量パーセント、
ポリマー嵩比重=0.46g/ccであった。
実施例B−4 〔成分(A)の製造〕 実施例A−4の成分(A)の製造で得られたのと同様の
成分(a)を5グラム充分に窒素置換したフラスコに導
入し、これに成分(d)としてAlBr30.35グラムを添加
して50℃で1時間反応させた。次いで 5.7ミリリットル(成分(b))およびメチルハイドロ
ジエンポリシロキサン2.2ミリリットルを導入して、20
℃で2時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで洗
浄し成分(A)とした。
成分(a)を5グラム充分に窒素置換したフラスコに導
入し、これに成分(d)としてAlBr30.35グラムを添加
して50℃で1時間反応させた。次いで 5.7ミリリットル(成分(b))およびメチルハイドロ
ジエンポリシロキサン2.2ミリリットルを導入して、20
℃で2時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで洗
浄し成分(A)とした。
上記で得た成分(A)を用い、トリエチルアルミニウム
の使用量を50ミリグラムにした以外は、実施例B−1と
同様にプロピレンの重合を行った。その結果95グラムの
ポリマーが得られ、このポリマーのMFR=9.6g/10分、T
−I.I=94.5重量パーセント、ポリマー嵩比重=0.46g/c
cであった。
の使用量を50ミリグラムにした以外は、実施例B−1と
同様にプロピレンの重合を行った。その結果95グラムの
ポリマーが得られ、このポリマーのMFR=9.6g/10分、T
−I.I=94.5重量パーセント、ポリマー嵩比重=0.46g/c
cであった。
実施例B−5〜7 実施例B−2の成分(A)の製造において、成分(c)
として表B−1に示す化合物を使用した以外は、実施例
B−2と同様に触媒成分の製造を行い、プロピレンの重
合も実施例B−2と同様に行った。その結果を表B−1
に示す。
として表B−1に示す化合物を使用した以外は、実施例
B−2と同様に触媒成分の製造を行い、プロピレンの重
合も実施例B−2と同様に行った。その結果を表B−1
に示す。
実施例B−8〜10 実施例B−3の成分(A)の製造において、成分(b)
として表B−2に示す化合物を使用した以外は、実施例
B−3と同様に製造を行い、プロピレンの重合も実施例
B−3と同様に行った。その結果を表B−2に示す。
として表B−2に示す化合物を使用した以外は、実施例
B−3と同様に製造を行い、プロピレンの重合も実施例
B−3と同様に行った。その結果を表B−2に示す。
実施例B−11〜13 実施例B−3のプロピレンの重合において、成分(B)
の有機アルミニウム化合物として、表B−3に示す化合
物を使用した以外は、実施例A−3と同様にプロピレン
の重合を行った。その結果を表B−3に示す。
の有機アルミニウム化合物として、表B−3に示す化合
物を使用した以外は、実施例A−3と同様にプロピレン
の重合を行った。その結果を表B−3に示す。
実施例B−14〜16 実施例B−3の成分(A)の製造において、成分(d)
のAlCl3の使用量を表B−4に示すようにした以外は、
実施例B−3と同様に製造を行い、プロピレンの重合も
実施例B−3と同様に行った。その結果を表B−4に示
す。
のAlCl3の使用量を表B−4に示すようにした以外は、
実施例B−3と同様に製造を行い、プロピレンの重合も
実施例B−3と同様に行った。その結果を表B−4に示
す。
第1図は、チーグラー触媒に関する本発明の技術内容の
理解を助けるためのものである。
理解を助けるためのものである。
Claims (1)
- 【請求項1】下記成分(A)および成分(B)を組合せ
たことを特徴とするオレフィン重合用触媒。 成分(A):下記成分(a)、成分(b)および成分
(c)を接触させて得られる触媒成分、 成分(a):マグネシウムジハライドおよび一般式Ti
(OR1)4-nXn(但し、R1は炭素数1〜10の炭化水素残
基、Xはハロゲン、nは0≦n≦4の数、をそれぞれ示
す)で表わされるチタン化合物を必須成分として使用し
て接触させて得られる固体成分、 成分(b):Si−O−C結合を有するケイ素化合物、 成分(c):Si−H結合を有するケイ素化合物、 成分(B):有機アルミニウム化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7049486A JPH0721021B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | オレフイン重合用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7049486A JPH0721021B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | オレフイン重合用触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62246906A JPS62246906A (ja) | 1987-10-28 |
| JPH0721021B2 true JPH0721021B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=13433129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7049486A Expired - Lifetime JPH0721021B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | オレフイン重合用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721021B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140083971A (ko) * | 2011-07-26 | 2014-07-04 | 차이나 페트로리움 앤드 케미컬 코포레이션 | 올레핀 중합용 촉매 성분, 그의 제조 방법 및 올레핀 중합용 촉매 |
-
1986
- 1986-03-28 JP JP7049486A patent/JPH0721021B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140083971A (ko) * | 2011-07-26 | 2014-07-04 | 차이나 페트로리움 앤드 케미컬 코포레이션 | 올레핀 중합용 촉매 성분, 그의 제조 방법 및 올레핀 중합용 촉매 |
| US10150822B2 (en) | 2011-07-26 | 2018-12-11 | China Petroleum & Chemical Corporation | Catalyst component for olefin polymerization, preparation method therefor and catalyst thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62246906A (ja) | 1987-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0735410B2 (ja) | オレフィンの立体規則性重合用触媒 | |
| JP3421202B2 (ja) | プロピレンの重合方法及びそれを用いて得られるプロピレン系重合体 | |
| JP2752404B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2758415B2 (ja) | α−オレフィン重合体の製造 | |
| JP2568211B2 (ja) | オレフィンの重合方法 | |
| JP2877921B2 (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
| JP2823662B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2521676B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JP2615632B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JPH0819176B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JP3370188B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2541538B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JPH1045834A (ja) | プロピレンの重合方法 | |
| JP2541562B2 (ja) | オレフィンの立体規則性重合用触媒 | |
| JPH06172432A (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2559747B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2541535B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JP2615637B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JP2758414B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2807027B2 (ja) | α‐オレフィン重合体の製造 | |
| JP2559744B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JP3215129B2 (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
| JPH0692456B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JP2543521B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JPH0826096B2 (ja) | オレフイン重合用触媒 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |