JPH07210809A - 磁気消去ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

磁気消去ヘッド及びその製造方法

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JPH07210809A
JPH07210809A JP262194A JP262194A JPH07210809A JP H07210809 A JPH07210809 A JP H07210809A JP 262194 A JP262194 A JP 262194A JP 262194 A JP262194 A JP 262194A JP H07210809 A JPH07210809 A JP H07210809A
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JP262194A
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Ikuo Shinoda
郁夫 信太
Masahiko Fujishiro
昌彦 藤城
Keiko Kitahara
景子 北原
Noboru Hotta
昇 堀田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 非晶質金属磁性薄膜とフェライトのような金
属酸化物磁性材料とを組み合わせた複合型磁気ヘッド構
造をとる磁気消去ヘッドにおいて、コア接合強度を充分
に確保できると共に、製作性を良好に保ち得る、総じて
製造歩留まりの良い磁気消去ヘッドを提供すること。 【構成】 金属酸化物磁性材料上に非晶質金属磁性薄膜
を成膜してなるI形コア半体と、金属酸化物磁性材料の
みで形成されたC形コア半体とを、突合せ・接合してな
る磁気消去ヘッドにおいて、I形コア半体の突合せ面側
の両サイドにフロント側からリヤ側まで連なるように形
成した切欠きには、接合前に接合用ガラスを予め充填し
ておき、C形コア半体の突合せ面側の両サイドにフロン
ト側のみに形成した切欠きには、I形コア半体とC形コ
ア半体との接合工程時に接合用ガラスを充填する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、VTRの回転ドラム等
に搭載される磁気消去ヘッド及びその製造方法に係り、
特に、高飽和磁束密度の非晶質金属磁性薄膜と高透磁率
フェライト単結晶のような金属酸化物磁性材料とを組み
合わせた複合型磁気ヘッド構造をとる磁気消去ヘッド及
びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】フェライト材よりなるコア基体の突合せ
面側に、高飽和磁束密度の非晶質金属磁性薄膜を形成し
てコア半体を形成し、一対のコア半体同志を突合せ・接
合してなる複合型磁気ヘッド構造をとる磁気ヘッドは、
メタルインギャップヘッドと称されて、VTR等の磁気
記録再生装置に採用されている。上記メタルインギャッ
プヘッドは、記録再生用のみならず、磁気消去ヘッド
(回転消去ヘッド)にも採用されており、例えば特開昭
60−89805号公報等にメタルインギャップヘッド
の磁気消去ヘッドが開示されている。
【0003】図10及び図11は、複合型磁気ヘッド構
造(メタルインギャップヘッド)の磁気消去ヘッドの第
1従来例を示す図で、図10はテープ摺動面を示す平面
図、図11は側面図である。図10,図11において、
51はI形コア半体、52はC形コア半体である。I形
コア半体51は、高透磁率フェライトよりなるコア基体
53と、該コア基体53の突合せ面側にCr薄膜54を
介して被着・成膜された高飽和磁束密度の非晶質金属磁
性薄膜55とによって構成されており、他方、C形コア
半体52は高透磁率フェライトのみで構成されていて、
巻線窓56が設けられている。そして、I形コア半体5
1とC形コア半体52の突合せ面側の両サイドのフロン
ト側には、それぞれトラック幅Twを規定すると共に接
合用ガラス57を充填するための切欠き58及び59が
形成されており、I形コア半体51とC形コア半体52
とを接合する際に、上記各切欠き58,59内に低融点
の接合用ガラス57が充填されるようになっていた。
【0004】図12及び図13は、複合型磁気ヘッド構
造(メタルインギャップヘッド)の磁気消去ヘッドの第
2従来例を示す図で、図12はテープ摺動面を示す平面
図、図13は側面図である。図12,図13において、
61はI形コア半体、62はC形コア半体である。I形
コア半体61は、高透磁率フェライトよりなるコア基体
63と、該コア基体63の突合せ面側にCr薄膜64を
介して被着・成膜された高飽和磁束密度の非晶質金属磁
性薄膜65とによって構成されており、他方、C形コア
半体62は高透磁率フェライトのみで構成されていて、
巻線窓66が設けられている。そして、I形コア半体6
1とC形コア半体62の突合せ面側の両サイドには、そ
れぞれフロント側からリヤ側まで連なる形で、トラック
幅Twを規定すると共に接合用ガラス67を充填するた
めの切欠き68及び69が形成されている。この第2従
来例のI形コア半体61とC形コア半体62の上記各切
欠き68,69には、接合工程前に予め低融点の接合用
ガラス67が充填された後研磨されており、I形コア半
体61とC形コア半体62の接合は、加熱によって接合
用ガラス67をメルティングすることによって行われる
ようになっていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで前記の第1従
来例の磁気消去ヘッドは、I形コア半体51とC形コア
半体52との接合工程時に、フロント側の切欠き58,
59に接合用ガラス57を充填するものであるので、製
造プロセス的には比較的に簡単であるが、接合用ガラス
57がフロント側のみであるのでリヤ側の接着力がとれ
ず、コア半体同志の接合強度が不足するという問題があ
った。特に、VTRの磁気消去ヘッド(回転消去ヘッ
ド)は、磁気テープに記録された映像信号,音声信号,
パイロット信号等を交流消去するようになっており、磁
気テープの深層部まで十分に消去する必要があるため、
映像ヘッドに比べてその磁気ギャップ長が大きく、磁気
ギャップ長を規定する非磁性ギャップ材に厚みを持たせ
るとコア半体同志の接合強度がもともと低下する傾向に
あるため、接合強度の不足は大いに問題となる。また、
高飽和磁束密度の非晶質金属磁性薄膜(例えば、Co−
Nb−Zr系非晶質金属磁性薄膜)55を成膜したコア
半体51を用いた場合には、コア半体同志を接合・一体
化するための接合用ガラス57に、非晶質金属磁性薄膜
55の結晶化温度以下で充填可能なものを選択せざるを
えなく(接合力の強い高い融点のガラスを用いると、非
晶質金属磁性薄膜が結晶化して磁気特性が損なわれるの
で)、このため、さらに接合強度が低下する傾向にあ
る。さらにまた、金属酸化物磁性材料(フェライト)の
みで対となったコア半体を構成する磁気消去ヘッドの場
合には、接合用ガラスを充填する前にコア半体を高温で
熱処理して(焼出しして)表面の汚れを取り去ることが
できることによって、接合時に同時にガラスを溶融させ
て充填する構成であっても、表面の汚れ等に起因してガ
ラスに発生する気泡は少ない。これに対して、金属酸化
物磁性材料(フェライト)に非晶質金属磁性薄膜を被着
したコア半体を用いると、非晶質金属磁性薄膜は接合工
程前に磁区方向を揃える処理がなされているので、焼出
しして表面の汚れを取り去ることができず、接合時に同
時にガラスを溶融させて充填するようになすと、表面の
汚れ等に起因してガラスに発生する気泡が接合後に残留
して接合強度を一層低下させ、製造歩留が悪いものとな
っていた。
【0006】一方、前記した第2従来例の磁気消去ヘッ
ドは、I形コア半体61とC形コア半体62の両者にフ
ロント側からリヤ側まで連なった切欠き68,69を設
けてあり、この切欠き68,69に接合用ガラス67が
充填されているので、接合強度は大きい。しかしなが
ら、各コア半体61,62の切欠き68,69に充填さ
れた接合用ガラス67を、接合前に平坦にラップする研
磨工程において、I形コア半体61の方は、非晶質金属
磁性薄膜55が見えることを基準に高精度にラップする
ことが可能であるが、フェライト材のみで構成されたC
形コア半体62の方は、ラップ基準が得られずラップ加
工精度がバラツキをもってしまい、後工程の寸法精度が
劣化し、製造歩留まりを低下させるという問題があっ
た。
【0007】なお、第2従来例の磁気消去ヘッドにおい
て、第1従来例と同様に接合工程時に同時にガラスを充
填することも考えられるが、こうすると充填不足が生じ
て、結局のところ接合強度が不足する。
【0008】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
その目的とするところは、高飽和磁束密度の非晶質金属
磁性薄膜と高透磁率フェライト単結晶のような金属酸化
物磁性材料とを組み合わせた複合型磁気ヘッド構造をと
る磁気消去ヘッドにおいて、コア接合強度を充分に確保
できると共に、製作性を良好に保ち得る、総じて製造歩
留まりの良い磁気消去ヘッドを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、金属酸化物磁性材料上に高飽和磁束密度
の非晶質金属磁性薄膜を成膜してなるI形コア半体と、
金属酸化物磁性材料のみで形成されたC形コア半体と
を、非磁性ギャップ材を介して突合せ・接合してなる磁
気消去ヘッドにおいて、I形コア半体の突合せ面側の両
サイドにフロント側からリヤ側まで連なるように形成し
た切欠きには、接合前に接合用ガラスを予め充填してお
き、C形コア半体の突合せ面側の両サイドにフロント側
のみに形成した切欠きには、I形コア半体とC形コア半
体との接合工程時に接合用ガラスを充填するようにされ
る。
【0010】
【作用】I形コア半体にはフロント側からリヤ側まで連
なった切欠きに接合用ガラスが充填されているので、C
形コア半体に充填される接合用ガラスがフロント側のみ
であっても、コア半体同志の接合強度は充分に確保でき
る。また、C形コア半体のフロント側のみに形成した切
欠きには接合工程時に接合用ガラスを充填するので、C
形コア半体に接合前にガラスを充填してラップする必要
がなく、従ってC形コア半体の寸法精度は良好なものと
なる。しかも、C形コア半体は金属酸化物磁性材料(フ
ェライト)のみで構成されているので、接合前に高温で
熱処理して(焼出して)表面の汚れを除去することが可
能となり、このことと、接合時に同時にC形コア半体に
充填する接合用ガラスをI形コア半体に予め充填した接
合用ガラスよりも低融点のものとしたこと(低融点であ
るので例え気泡の発生があったとしてもガラス表面から
抜け易いこと)とが相俟って、気泡の発生もしくは残留
を可及的に抑止できる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の1実施例を図1〜図9によっ
て説明する。図1及び図2は、本発明の1実施例に係る
磁気消去ヘッドを示す図で、図1はテープ摺動面を示す
平面図、図2は側面図である。
【0012】図1,図2において、1はI形コア半体、
2はC形コア半体である。I形コア半体1は、金属酸化
物磁性材(本実施例では、高透磁率のフェライト単結晶
材)よりなるコア基体3と、該コア基体3の突合せ面側
にCr薄膜4を介して被着・成膜された高飽和磁束密度
の非晶質金属磁性薄膜(本実施例では、Co−Nb−Z
r系非晶質金属磁性薄膜)5とによって構成されてい
る。また、C形コア半体52は金属酸化物磁性材(本実
施例では、高透磁率のフェライト単結晶材)のみで構成
されていて、巻線窓6が設けられている。
【0013】また、I形コア半体1の突合せ面側の両サ
イドには、フロント側からリヤ側まで連なる形で、トラ
ック幅Twを規定すると共に第1の接合用ガラス7を充
填するための切欠き8が形成されており、該切欠き8に
は接合工程前に予め第1の接合用ガラス7が充填される
ようになっている。一方、C形コア半体2の突合せ面側
の両サイドのフロント側には、それぞれトラック幅Tw
を規定すると共に第2の接合用ガラス9を充填するため
の切欠き10が形成されており、該切欠き10にはI形
コア半体1とC形コア半体2とを接合する際に第2の接
合用ガラス9が充填されるようになっている。この第2
の接合用ガラス9は、その融点が、上記第1の接合用ガ
ラス7の融点よりも低いものを選定してある。
【0014】上記したI形コア半体1とC形コア半体2
とは、図示せぬ非磁性ギャップ材(例えば、SiO2
膜)を介して突き合わされると共に、第1の接合用ガラ
ス7及び第2の接合用ガラス9の接合力によって接合・
一体化され、巻線窓6には図示せぬコイルが巻回され
る。なお、図示していないが、I形コア半体1とC形コ
ア半体2のテープ摺動面側(磁気消去ヘッドのテープ摺
動面側)は適宜形状に研磨加工されたものとなってい
る。
【0015】次に、本実施例の磁気消去ヘッドの製造方
法を、図3〜図9を用いて説明する。図3は、I形コア
半体1を作製するための第1のコア母材11を示す図
で、同図に示すように、高透磁率のフェライト単結晶材
よりなる第1のコア母材11には、先ず、トラック幅T
wを規定するための溝12が平行に複数本切削加工され
る。この溝12は前記切欠き8の前身となるものであ
る。
【0016】次に、溝12を形成した第1のコア母材1
1上には、前記Cr薄膜4がスパッタリングによって被
着・成膜され、この上に非晶質金属磁性薄膜(Co−N
b−Zr系非晶質磁性薄膜)5が同じくスパッタリング
によって被着・成膜されて、図4に示した状態となる。
【0017】この後図5に示すように、第1のコア母材
11上には、溝12を埋めつくし且つ非晶質金属磁性薄
膜5を完全に覆うように、前記第1の接合用ガラス7が
充填される。この際、溶融した第1の接合用ガラス7中
に気泡が発生することもあるが、気泡は第1の接合用ガ
ラス7の上部表面から抜け出るか、上部表面側に溜り、
次の研磨工程で気泡残留部は除去される。
【0018】続いて、第1のコア母材11上の第1の接
合用ガラス7は、非晶質金属磁性薄膜5が露出するまで
平坦にラップされ、第1のコア母材11の突合せ・接合
面の平面精度が整えられる。この際、第1の接合用ガラ
ス7と識別のし易い非晶質金属磁性薄膜5をラップ基準
とするので、ラップ精度(研磨精度)は容易に得られ
る。これによって、図6に示したような状態に加工され
た第1のコア母材11となる。
【0019】図7は、C形コア半体2を作製するための
第2のコア母材13の切削加工後の状態を示す斜視図で
あり、図8は、図7のA−A線断面図である。図7,図
8に示すように、高透磁率のフェライト単結晶材よりな
る第2のコア母材13には、前記巻線窓6を形成するた
めの巻線窓用溝14と、トラック幅Twを規定するため
の複数本の平行な溝15と、ガラス載置用の浅溝16と
が切削・形成される。そして、上記各溝15が、前記切
欠き10の前身となる。この後、C形コア半体2は焼出
し処理されて、表面の汚れが飛ばされて清浄化される。
【0020】そして本実施例では、図7,図8の状態に
切削加工された第2のコア母材13の突合せ面側に、図
示していないがSiO2 薄膜よりなる非磁性ギャップ材
がスパッタリングによって所定膜厚に成膜形成される。
なお、非磁性ギャップ材は第1のコア母材11の突合せ
面側に形成しても良いし、第1のコア母材11と第2の
コア母材13の両者に形成しても良い。
【0021】上記した如く加工・形成された第1のコア
母材11と第2のコア母材13とは、図9に示すように
正確に位置合わせして突き合わされ、互いの突合せ面同
志が密着するように加圧保持された状態で加熱されると
共に、前記浅溝16と各溝15とに前記第2の接合用ガ
ラス9が充填される。これによって、第1のコア母材1
1と第2のコア母材13とは、第1のコア母材11のフ
ロント側からリヤ側までにわたって予め充填された前記
第1の接合用ガラス7と、第2のコア母材13のフロン
ト側に充填された第2の接合用ガラス9とによって、確
実に接合・一体化される。なお、第2の接合用ガラス9
が充填される第2のコア母材13側の表面は清浄化され
ていることと、第2の接合用ガラス9の融点が第1の接
合用ガラス7のそれよりも低いこととが相俟って、気泡
の発生は可及的に抑止できる。しかも、第2の接合用ガ
ラス9の融点が低いので、該第2の接合用ガラス9は溝
15内に確実に入り込む。
【0022】この後、一体化された第1のコア母材11
と第2のコア母材13のテープ摺動面側は研磨加工され
て、少なくとも第2のコア母材13の浅溝16の面が露
出するまで研磨されるとともに、テープ摺動面を所定の
形状に整えられる。然る後、一体化された第1のコア母
材11と第2のコア母材13から、各磁気消去ヘッドチ
ップが切り出される。
【0023】以上のように本実施例では、I形コア半体
1にはフロント側からリヤ側まで連なった切欠き7に第
1の接合用ガラス7が充填されているので、C形コア半
体2に充填される第2の接合用ガラス9がフロント側の
みであっても、コア半体1,2同志の接合強度は充分に
確保できる。また、C形コア半体2のフロント側のみに
形成した切欠き10には、接合工程時に第2の接合用ガ
ラス9を充填するので、C形コア半体2に接合前にガラ
スを充填してラップする必要がなく、従ってC形コア半
体2の寸法精度は良好なものとなる。しかも、C形コア
半体2は金属酸化物磁性材料(フェライト)のみで構成
されているので、接合前に高温で熱処理して(焼出し
て)表面の汚れを除去することが可能となり、このこと
と、接合時に同時にC形コア半体2に充填する第2の接
合用ガラス9を、I形コア半体1に予め充填した第1の
接合用ガラス7よりも低融点のものとしたこと(低融点
であるので例え気泡の発生があったとしてもガラス表面
から抜け易いこと)とが相俟って、気泡の発生もしくは
残留を可及的に抑止できる。
【0024】
【発明の効果】叙上のように本発明によれば、非晶質金
属磁性薄膜と金属酸化物磁性材料とを組み合わせた複合
型磁気ヘッド構造をとる磁気消去ヘッドにおいて、コア
接合強度を充分に確保できると共に、製作性を良好なも
のになし得て、総じて製造歩留まりの良い磁気消去ヘッ
ドが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドのテー
プ摺動面を示す平面図である。
【図2】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの側面
図である。
【図3】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの製造
過程を示す説明図である。
【図4】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの製造
過程を示す説明図である。
【図5】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの製造
過程を示す説明図である。
【図6】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの製造
過程を示す説明図である。
【図7】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの製造
過程を示す説明図である。
【図8】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの製造
過程を示す説明図である。
【図9】本発明の1実施例に係る磁気消去ヘッドの製造
過程を示す説明図である。
【図10】第1従来例に係る磁気消去ヘッドのテープ摺
動面を示す平面図である。
【図11】第1従来例に係る磁気消去ヘッドの側面図で
ある。
【図12】第2従来例に係る磁気消去ヘッドのテープ摺
動面を示す平面図である。
【図13】第2従来例に係る磁気消去ヘッドの側面図で
ある。
【符号の説明】
1 I形コア半体 2 C形コア半体 3 コア基体 4 Cr薄膜 5 非晶質金属磁性薄膜 6 巻線窓 7 第1の接合用ガラス 8 切欠き 9 第2の接合用ガラス 10 切欠き 11 第1のコア母材 12 溝 13 第2のコア母材 14 巻線窓用溝 15 溝 16 ガラス載置用の浅溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀田 昇 茨城県勝田市稲田1410番地 株式会社日立 製作所AV機器事業部内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属酸化物磁性材料上に高飽和磁束密度
    の非晶質金属磁性薄膜を成膜してなるI形コア半体と、
    金属酸化物磁性材料のみで形成されたC形コア半体と
    を、非磁性ギャップ材を介して突合せ・接合してなる磁
    気消去ヘッドであって、 前記I形コア半体の突合せ面側の両サイドには、フロン
    ト側からリヤ側まで連なる切欠きが形成されると共に、
    該切欠きに接合用ガラスが充填され、前記C形コア半体
    の突合せ面側の両サイドには、フロント側のみに切欠き
    が形成されると共に、該切欠きに接合用ガラスが充填さ
    れたことを特徴とする磁気消去ヘッド。
  2. 【請求項2】 請求項1記載において、 前記C形コア半体側に充填された接合用ガラスの融点
    が、前記I形コア半体側に充填された接合用ガラスの融
    点よりも低いことを特徴とする磁気消去ヘッド。
  3. 【請求項3】 金属酸化物磁性材料上に高飽和磁束密度
    の非晶質金属磁性薄膜を成膜してなるI形コア半体と、
    金属酸化物磁性材料のみで形成されたC形コア半体と
    を、非磁性ギャップ材を介して突合せ・接合してなる磁
    気消去ヘッドの製造方法であって、 前記I形コア半体の突合せ面側の両サイドにフロント側
    からリヤ側まで連なるように形成した切欠きには、接合
    前に接合用ガラスを予め充填しておき、前記C形コア半
    体の突合せ面側の両サイドにフロント側のみに形成した
    切欠きには、前記I形コア半体と前記C形コア半体との
    接合工程時に接合用ガラスが充填されることを特徴とす
    る磁気消去ヘッドの製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項3記載において、 前記C形コア半体側に充填された接合用ガラスの融点
    が、前記I形コア半体側に充填された接合用ガラスの融
    点よりも低いことを特徴とする磁気消去ヘッドの製造方
    法。
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