JPH07219244A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
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- JPH07219244A JPH07219244A JP1295194A JP1295194A JPH07219244A JP H07219244 A JPH07219244 A JP H07219244A JP 1295194 A JP1295194 A JP 1295194A JP 1295194 A JP1295194 A JP 1295194A JP H07219244 A JPH07219244 A JP H07219244A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 導電性基体上に少なくとも光導電層を設けて
なる電子写真感光体の製造方法であって、該導電性基体
表面を、少なくともピロリドン化合物を含有する洗浄液
で洗浄する事を特徴とする電子写真感光体の製造方法。 【効果】 従来と同等以上の洗浄力を有し、且つコピー
画像における黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像のムラ
等の画像欠陥発生を減少させる。
なる電子写真感光体の製造方法であって、該導電性基体
表面を、少なくともピロリドン化合物を含有する洗浄液
で洗浄する事を特徴とする電子写真感光体の製造方法。 【効果】 従来と同等以上の洗浄力を有し、且つコピー
画像における黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像のムラ
等の画像欠陥発生を減少させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体の製造方
法に関し、主に電子写真感光体の洗浄方法に関するもの
である。
法に関し、主に電子写真感光体の洗浄方法に関するもの
である。
【0002】
【従来技術】一般的に電子写真感光体は円筒状導電性基
体に光導電層を形成したものである。この円筒状導電性
基体として用いられる材料としてはアルミニウム、鉄、
ステンレス、銅、亜鉛、ニッケル、導電化処理したプラ
スチック、ガラス等が挙げられるが、これらの中では比
較的安価で軽量で加工性が良く、電気特性を損なわない
アルミニウムが広く使用されている。
体に光導電層を形成したものである。この円筒状導電性
基体として用いられる材料としてはアルミニウム、鉄、
ステンレス、銅、亜鉛、ニッケル、導電化処理したプラ
スチック、ガラス等が挙げられるが、これらの中では比
較的安価で軽量で加工性が良く、電気特性を損なわない
アルミニウムが広く使用されている。
【0003】通常アルミニウムをドラム状の基体として
用いる場合は、アルミニウムビレットをポートホール
法、マンドレル法等により、押出管に加工し、続いて所
定の肉厚、外型寸法のドラムとする為、引抜加工、イン
パクト加工、しごき加工、あるいは切削による鏡面加工
を行うことにより作る事ができる。基体表面には引抜油
や鏡面加工に用いる切削油のミスト、空気中のダスト、
切粉等が付着する為、基体表面を洗浄処理して除去した
後に、光導電層が設けられる。光導電層としては、無機
系、有機系の各種光導電層が使用できるが、電荷発生
層、電荷移動層よりなる積層型光導電層を用いた場合が
極めて有用である。
用いる場合は、アルミニウムビレットをポートホール
法、マンドレル法等により、押出管に加工し、続いて所
定の肉厚、外型寸法のドラムとする為、引抜加工、イン
パクト加工、しごき加工、あるいは切削による鏡面加工
を行うことにより作る事ができる。基体表面には引抜油
や鏡面加工に用いる切削油のミスト、空気中のダスト、
切粉等が付着する為、基体表面を洗浄処理して除去した
後に、光導電層が設けられる。光導電層としては、無機
系、有機系の各種光導電層が使用できるが、電荷発生
層、電荷移動層よりなる積層型光導電層を用いた場合が
極めて有用である。
【0004】電荷発生層及び電荷輸送層は、電荷発生層
及び電荷輸送層を構成する物質を構成する物質をそれぞ
れ含有する塗布液にドラム状導電性基体を公知の方法で
浸漬する事によって該基体の表面に形成される。ここで
行う浸漬塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法
が使用し得るが、例えば特開昭49−130736、特
開昭57−5047及び特開昭59−46171に開示
される方法が挙げられる。
及び電荷輸送層を構成する物質を構成する物質をそれぞ
れ含有する塗布液にドラム状導電性基体を公知の方法で
浸漬する事によって該基体の表面に形成される。ここで
行う浸漬塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法
が使用し得るが、例えば特開昭49−130736、特
開昭57−5047及び特開昭59−46171に開示
される方法が挙げられる。
【0005】浸漬塗布方法において前処理である導電性
基体表面の洗浄が不十分であると、その表面に油、ダス
ト等が残り、塗布の際に塗布ムラ、異物等の塗布欠陥の
欠陥の原因になる。このような電子写真感光体上に発生
した欠陥は、コピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトー
ン画像のムラ等になって現れ、画像品質に悪影響を及ぼ
し、実用に適さない。
基体表面の洗浄が不十分であると、その表面に油、ダス
ト等が残り、塗布の際に塗布ムラ、異物等の塗布欠陥の
欠陥の原因になる。このような電子写真感光体上に発生
した欠陥は、コピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトー
ン画像のムラ等になって現れ、画像品質に悪影響を及ぼ
し、実用に適さない。
【0006】基体表面の洗浄方法としては、通常有機溶
媒中、または必要に応じて加温された有機溶媒中に、基
体を浸漬処理または超音波の作用下で浸漬処理する浸漬
洗浄;基体を溶媒に浸漬中または基体に溶媒を振りかけ
ながら、ブラシ、スポンジ等により物理的に接する接触
洗浄;溶媒を高圧下でノズルより基体表面に噴出するジ
ェット洗浄及び溶媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が
挙げられ、これらの単独または組み合わせにより基体表
面の洗浄が行われている。
媒中、または必要に応じて加温された有機溶媒中に、基
体を浸漬処理または超音波の作用下で浸漬処理する浸漬
洗浄;基体を溶媒に浸漬中または基体に溶媒を振りかけ
ながら、ブラシ、スポンジ等により物理的に接する接触
洗浄;溶媒を高圧下でノズルより基体表面に噴出するジ
ェット洗浄及び溶媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が
挙げられ、これらの単独または組み合わせにより基体表
面の洗浄が行われている。
【0007】ここで使用される有機溶媒としては、メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、1、1、1−ト
リクロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチ
レン等の塩素系溶剤、フロンー112、フロン−113
等のフッ素溶剤、該フッ素系溶剤とメタノール、メチレ
ンクロライド等の混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、石油系
炭化水素等及びこれらの混合物が挙げられる。しかしな
がらこれらの溶剤中には引火性、発火性を有するもの、
人体に有害であるので、使用許容濃度が低いもの、洗浄
能力が低いものが含まれており、最も一般的に使用され
ているのは、1、1、1−トリクロルエタンやトリクロ
ルエチレンである。
レンクロライド、エチレンクロライド、1、1、1−ト
リクロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチ
レン等の塩素系溶剤、フロンー112、フロン−113
等のフッ素溶剤、該フッ素系溶剤とメタノール、メチレ
ンクロライド等の混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、石油系
炭化水素等及びこれらの混合物が挙げられる。しかしな
がらこれらの溶剤中には引火性、発火性を有するもの、
人体に有害であるので、使用許容濃度が低いもの、洗浄
能力が低いものが含まれており、最も一般的に使用され
ているのは、1、1、1−トリクロルエタンやトリクロ
ルエチレンである。
【0008】しかしながら、これらの有機溶剤は洗浄力
が高い、取扱いが容易(不燃性)等の長所があるもの
の、前者は地球温暖化、オゾン層の破壊等を引き起こす
物質の1つとして推察され、1995年までに全廃が決
定されている。後者も年々厳しくなる環境規制により、
これらの有機溶媒の代替洗浄液の提供または代替洗浄法
の開発が要求されている。
が高い、取扱いが容易(不燃性)等の長所があるもの
の、前者は地球温暖化、オゾン層の破壊等を引き起こす
物質の1つとして推察され、1995年までに全廃が決
定されている。後者も年々厳しくなる環境規制により、
これらの有機溶媒の代替洗浄液の提供または代替洗浄法
の開発が要求されている。
【0009】従って、1、1、1−トリクロルエタンや
トリクロルエチレン等の塩素系有機溶媒の代替として、
純水または界面活性剤を含有する水に浸漬洗浄する、所
謂水系洗浄が提案されている。
トリクロルエチレン等の塩素系有機溶媒の代替として、
純水または界面活性剤を含有する水に浸漬洗浄する、所
謂水系洗浄が提案されている。
【0010】又、前述の有機溶媒による洗浄では油分を
溶解により除去するが、Si、Caなどの無機汚れの除
去は困難である。それに対して水系洗浄液は含有する界
面活性剤の分散・乳化及び可溶化作用により油分を除去
し、前述の無機汚れ除去に対しても有効である。
溶解により除去するが、Si、Caなどの無機汚れの除
去は困難である。それに対して水系洗浄液は含有する界
面活性剤の分散・乳化及び可溶化作用により油分を除去
し、前述の無機汚れ除去に対しても有効である。
【0011】ただし、有機溶媒の場合は汚染された洗浄
液を蒸留再生により繰り返し使用できるが、水系洗浄液
は回収再生が困難な為、液寿命に達したら廃棄処分を行
う為、コスト的に不利である。
液を蒸留再生により繰り返し使用できるが、水系洗浄液
は回収再生が困難な為、液寿命に達したら廃棄処分を行
う為、コスト的に不利である。
【0012】また有機溶媒による洗浄後の乾燥は、空気
中への解放により溶媒が瞬時に蒸発して乾燥が完了する
が、従来の水系洗浄の場合は、該洗浄液中の成分や空気
中のダストの付着の影響により、乾燥ムラ、シミが導電
性基体表面に形成される傾向がある。この導電性基体を
用いて製造した電子写真感光体はコピー画像に黒ポチ、
白ポチ、ハーフトーン画像のムラ等の画像欠陥が度々生
じる事がある。
中への解放により溶媒が瞬時に蒸発して乾燥が完了する
が、従来の水系洗浄の場合は、該洗浄液中の成分や空気
中のダストの付着の影響により、乾燥ムラ、シミが導電
性基体表面に形成される傾向がある。この導電性基体を
用いて製造した電子写真感光体はコピー画像に黒ポチ、
白ポチ、ハーフトーン画像のムラ等の画像欠陥が度々生
じる事がある。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】従って1、1、1−ト
リクロルエタンやトリクロルエチレン等の塩素系有機溶
媒と同等以上の洗浄力を有し、洗浄処理コストが安価な
洗浄液の提供と、更に導電性基体を洗浄した後に感光層
を形成する電子写真感光体において、コピー画像に黒ポ
チ、白ポチ、ハーフトーン画像のムラ等の画像欠陥が生
じない電子写真感光体の製造方法の開発が強く望まれて
いた。
リクロルエタンやトリクロルエチレン等の塩素系有機溶
媒と同等以上の洗浄力を有し、洗浄処理コストが安価な
洗浄液の提供と、更に導電性基体を洗浄した後に感光層
を形成する電子写真感光体において、コピー画像に黒ポ
チ、白ポチ、ハーフトーン画像のムラ等の画像欠陥が生
じない電子写真感光体の製造方法の開発が強く望まれて
いた。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者等の鋭意検討の
結果、導電性基体表面を少なくともピロリドン化合物を
含有する洗浄液、特にN−メチル−2−ピロリドンと水
を主成分とする洗浄液で洗浄する事により、1、1、1
−トリクロルエタンやトリクロルエチレン等の塩素系有
機溶媒と同等以上の洗浄力を有し、且つ洗液の長寿命化
が達成できた。更にかかる洗浄をおこなった感光体を用
いるとコピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像
のムラ等の画像欠陥発生の問題を解決出来る事を見いだ
し、本発明に到達した。
結果、導電性基体表面を少なくともピロリドン化合物を
含有する洗浄液、特にN−メチル−2−ピロリドンと水
を主成分とする洗浄液で洗浄する事により、1、1、1
−トリクロルエタンやトリクロルエチレン等の塩素系有
機溶媒と同等以上の洗浄力を有し、且つ洗液の長寿命化
が達成できた。更にかかる洗浄をおこなった感光体を用
いるとコピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像
のムラ等の画像欠陥発生の問題を解決出来る事を見いだ
し、本発明に到達した。
【0015】以下本発明を詳細に説明する。本発明にお
いて用いる電子写真感光体の導電性基体としては、本発
明に適したものであれば特に限られないが、主にアルミ
ニウムやアルミニウム合金が使用される。本発明として
用いられるアルミニウム基体は、インパクト加工、しご
き加工、あるいは切削による鏡面加工を行うことにより
作る事ができる。基体表面には引抜油や鏡面加工に用い
る切削油のミスト、空気中のダスト、切粉等が付着して
いる為、光導電層を形成する前に、主に下記に示す洗浄
処理が行われるが、それは(1)脱脂洗浄工程、(2)
水洗工程、(3)乾燥工程の3つの工程に分けられる。
いて用いる電子写真感光体の導電性基体としては、本発
明に適したものであれば特に限られないが、主にアルミ
ニウムやアルミニウム合金が使用される。本発明として
用いられるアルミニウム基体は、インパクト加工、しご
き加工、あるいは切削による鏡面加工を行うことにより
作る事ができる。基体表面には引抜油や鏡面加工に用い
る切削油のミスト、空気中のダスト、切粉等が付着して
いる為、光導電層を形成する前に、主に下記に示す洗浄
処理が行われるが、それは(1)脱脂洗浄工程、(2)
水洗工程、(3)乾燥工程の3つの工程に分けられる。
【0016】(1)脱脂洗浄:まず該アルミニウム基体
は脱脂槽にて処理される。脱脂槽には洗浄液として、本
願発明の洗浄液がが満たされており、該洗浄液はヒータ
ーにより一定温度に保温されており、且つ脱脂槽下部に
は超音波発振器が備え付けられており、アルミニウム基
体浸漬時に超音波が発振するようになっている。なお浸
漬中、必要に応じてアルミニウム基体を揺動させても良
い。
は脱脂槽にて処理される。脱脂槽には洗浄液として、本
願発明の洗浄液がが満たされており、該洗浄液はヒータ
ーにより一定温度に保温されており、且つ脱脂槽下部に
は超音波発振器が備え付けられており、アルミニウム基
体浸漬時に超音波が発振するようになっている。なお浸
漬中、必要に応じてアルミニウム基体を揺動させても良
い。
【0017】本発明で使用される洗浄液は、少なくとも
ピロリドン化合物を含有することを特徴とし、特にピロ
リドン化合物と水とを含有することが好ましい。ピロリ
ドン化合物としては2−ピロリドン、3−ピロリドン、
N−アルキル−2−ピロリドン(例えば、N−メチル−
ピロリドン、N−エチル−2ピロリドン、N−プロピル
−2−ピロリドン)、5−アルキル−2−ピロリドン
(例えば5−メチル−2−ピロリドン)、N−ビニル−
2−ピロリドン、N−アルキル−3−ピロリドン(例え
ば、N−メチル−3−ピロリドン、N−エチル−3−ピ
ロリドン、N−プロピル−3ピロリドン)等が例示され
るが、特にN−メチル−2−ピロリドンが有効である。
上記ピロリドン類は単独でもよく、又2種以上の混合物
で用いても良い。
ピロリドン化合物を含有することを特徴とし、特にピロ
リドン化合物と水とを含有することが好ましい。ピロリ
ドン化合物としては2−ピロリドン、3−ピロリドン、
N−アルキル−2−ピロリドン(例えば、N−メチル−
ピロリドン、N−エチル−2ピロリドン、N−プロピル
−2−ピロリドン)、5−アルキル−2−ピロリドン
(例えば5−メチル−2−ピロリドン)、N−ビニル−
2−ピロリドン、N−アルキル−3−ピロリドン(例え
ば、N−メチル−3−ピロリドン、N−エチル−3−ピ
ロリドン、N−プロピル−3ピロリドン)等が例示され
るが、特にN−メチル−2−ピロリドンが有効である。
上記ピロリドン類は単独でもよく、又2種以上の混合物
で用いても良い。
【0018】本発明の洗浄液中のピロリドン化合物と水
の含有量比は、ピロリドン5〜100重量%、水0〜9
5重量%の範囲から選択できるが、好ましくはピロリド
ンの含有量を50〜95重量%、50〜90重量%、更
に好ましくは70〜80重量%とし、水を、50〜5重
量%、好ましくは50〜10重量%、更に好ましくは3
0〜15重量%含むことがよい。水の含有量が少なすぎ
るとエマルジョン化し洗浄剤を繰り返し使用しにくい
し、引火する危険性がある。一方、水が多すぎると洗浄
効果が落ちる。但し、洗浄力が低くてよい場合は、該洗
浄液を水で希釈して使用しても差し支えない。
の含有量比は、ピロリドン5〜100重量%、水0〜9
5重量%の範囲から選択できるが、好ましくはピロリド
ンの含有量を50〜95重量%、50〜90重量%、更
に好ましくは70〜80重量%とし、水を、50〜5重
量%、好ましくは50〜10重量%、更に好ましくは3
0〜15重量%含むことがよい。水の含有量が少なすぎ
るとエマルジョン化し洗浄剤を繰り返し使用しにくい
し、引火する危険性がある。一方、水が多すぎると洗浄
効果が落ちる。但し、洗浄力が低くてよい場合は、該洗
浄液を水で希釈して使用しても差し支えない。
【0019】又、本発明の洗浄液にはその他、酸化防止
剤を添加すると過酸化物の生成を抑制し好ましい。酸化
防止剤は、洗浄液中に、0.01〜5.0重量%、好ま
しくは0.05〜2.0%、更に好ましくは0.05〜
1.5%添加すると良い。酸化防止剤としては下記に例
示される様なフェノール酸化防止剤、ホスファイト系酸
化防止剤、イオウ系酸化防止剤が挙げられる。
剤を添加すると過酸化物の生成を抑制し好ましい。酸化
防止剤は、洗浄液中に、0.01〜5.0重量%、好ま
しくは0.05〜2.0%、更に好ましくは0.05〜
1.5%添加すると良い。酸化防止剤としては下記に例
示される様なフェノール酸化防止剤、ホスファイト系酸
化防止剤、イオウ系酸化防止剤が挙げられる。
【0020】(1)フェノール系酸化防止剤:2,6−
ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,5
−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、2,6−ジ−t
ert−ブチル−α−ジメチルアミノ−P−クレゾール
等のモノフェノール系化合物、4,4′−ビス(2,6
ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2′−メチレ
ン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノー
ル)、4,4′−メチレン−ビス(2,6−ジ−ter
t−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデン−ビス
(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)等の
ビスフェノール系化合物、4,4′−チオビス(3−メ
チル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2′−
チオビス(6−tert−ブチル−o−クレゾール)、
2,2′−チオビス(4−メチル−6−tert−ブチ
ルフェノール)等のチオビスフェノール系化合物、テト
ラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタ
ン、トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−ter
t−ブチル−フェノール)ブタン等のトリスフェノール
系化合物等。
ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,5
−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、2,6−ジ−t
ert−ブチル−α−ジメチルアミノ−P−クレゾール
等のモノフェノール系化合物、4,4′−ビス(2,6
ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2′−メチレ
ン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノー
ル)、4,4′−メチレン−ビス(2,6−ジ−ter
t−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデン−ビス
(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)等の
ビスフェノール系化合物、4,4′−チオビス(3−メ
チル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2′−
チオビス(6−tert−ブチル−o−クレゾール)、
2,2′−チオビス(4−メチル−6−tert−ブチ
ルフェノール)等のチオビスフェノール系化合物、テト
ラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタ
ン、トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−ter
t−ブチル−フェノール)ブタン等のトリスフェノール
系化合物等。
【0021】(2)ホスファイト系酸化防止剤:トリフ
ェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイ
ト、トリオクチルホスファイト、トリス(モノ及びジ−
ノニルフェニル)ホスファイト等。 (3)イオウ系酸化防止剤:ジラウリルチオジプロピオ
ネート、ジステアリルチオジプロピオネート等。 又、本発明の洗浄液には、ノニオン系界面活性剤を含有
しても良い。ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル又はアミド、パーフルオロアルキル
基含有エチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル
基含有オリゴマー等の含フッ素系ノニオン系界面活性剤
など挙げられるが、好ましくはポリオキシエチレンアル
キルフェニルエーテルであり、この場合のエチレンオキ
サイドの付加モル数は通常1〜30、好ましくは2〜1
5である。以上のノニオン系界面活性剤は単独で用いて
もよく、また、2種以上の混合物で用いてもよい。
ェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイ
ト、トリオクチルホスファイト、トリス(モノ及びジ−
ノニルフェニル)ホスファイト等。 (3)イオウ系酸化防止剤:ジラウリルチオジプロピオ
ネート、ジステアリルチオジプロピオネート等。 又、本発明の洗浄液には、ノニオン系界面活性剤を含有
しても良い。ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル又はアミド、パーフルオロアルキル
基含有エチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル
基含有オリゴマー等の含フッ素系ノニオン系界面活性剤
など挙げられるが、好ましくはポリオキシエチレンアル
キルフェニルエーテルであり、この場合のエチレンオキ
サイドの付加モル数は通常1〜30、好ましくは2〜1
5である。以上のノニオン系界面活性剤は単独で用いて
もよく、また、2種以上の混合物で用いてもよい。
【0022】ノニオン系界面活性剤の含有量は、洗浄液
中、0.001〜20重量%、好ましくは0.01〜5
重量%更には0.01〜2重量%含有させるとよい。該
添加剤の含有効果はごく少量でも発現し、比較的広い範
囲で含有させることが可能である。但し、その含有量が
多すぎると洗浄効果の更なる改良が認められないほか、
油分とエマルジョン化して付着油分が多くなる場合があ
るので好ましくない。又、本発明の洗浄液に、pH調整
剤としてメタケイ酸ソーダ、オルトケイ酸ソーダなどケ
イ酸塩類を添加しても良い。ケイ酸塩類の添加量として
は、洗浄液中に0.001〜20重量%、好ましくは
0.005〜10重量%添加することが好ましい。
中、0.001〜20重量%、好ましくは0.01〜5
重量%更には0.01〜2重量%含有させるとよい。該
添加剤の含有効果はごく少量でも発現し、比較的広い範
囲で含有させることが可能である。但し、その含有量が
多すぎると洗浄効果の更なる改良が認められないほか、
油分とエマルジョン化して付着油分が多くなる場合があ
るので好ましくない。又、本発明の洗浄液に、pH調整
剤としてメタケイ酸ソーダ、オルトケイ酸ソーダなどケ
イ酸塩類を添加しても良い。ケイ酸塩類の添加量として
は、洗浄液中に0.001〜20重量%、好ましくは
0.005〜10重量%添加することが好ましい。
【0023】尚、本発明の洗浄液としては、例えばKa
seiクリーナー(三菱化成(株)製)を用いることが
できる。脱脂槽の処理温度は30〜80℃、好ましくは
40〜60℃の範囲に設定されるのが好い。処理温度が
30℃より低い場合は脱脂性が劣る為、洗浄ムラが発生
し易い。処理温度が70℃を越える場合、乾きムラが発
生し易いので好ましくない。
seiクリーナー(三菱化成(株)製)を用いることが
できる。脱脂槽の処理温度は30〜80℃、好ましくは
40〜60℃の範囲に設定されるのが好い。処理温度が
30℃より低い場合は脱脂性が劣る為、洗浄ムラが発生
し易い。処理温度が70℃を越える場合、乾きムラが発
生し易いので好ましくない。
【0024】脱脂槽の処理時間は10秒〜30分、好ま
しくは30秒〜5分が良い。処理時間が10秒より低い
場合は脱脂性が不十分の為、洗浄ムラが発生し易い。処
理温度が30分を越える場合、スループットが下がる
為、実生産上、好ましくない。 (2)水洗工程:脱脂処理後のアルミニウム基体は水洗
槽にて濯ぎ処理が行われる。水洗には、水道水を用いて
も良いが、純水またはイオン交換水を用いるのが好まし
い。水洗方法としては水洗槽にこれらの水を満たし、該
アルミニウム基体を浸漬して濯ぐか、或いはスプレーで
アルミニウム基体をシャワーリングしても良い。また両
者の組合せによる水洗でも構わない。なお浸漬して濯ぐ
場合、超音波の作用化で処理すると、基体に付着してい
る水分を基体表面より切り放し、水中に拡散し得る。
しくは30秒〜5分が良い。処理時間が10秒より低い
場合は脱脂性が不十分の為、洗浄ムラが発生し易い。処
理温度が30分を越える場合、スループットが下がる
為、実生産上、好ましくない。 (2)水洗工程:脱脂処理後のアルミニウム基体は水洗
槽にて濯ぎ処理が行われる。水洗には、水道水を用いて
も良いが、純水またはイオン交換水を用いるのが好まし
い。水洗方法としては水洗槽にこれらの水を満たし、該
アルミニウム基体を浸漬して濯ぐか、或いはスプレーで
アルミニウム基体をシャワーリングしても良い。また両
者の組合せによる水洗でも構わない。なお浸漬して濯ぐ
場合、超音波の作用化で処理すると、基体に付着してい
る水分を基体表面より切り放し、水中に拡散し得る。
【0025】(3)乾燥工程:水洗後のアルミニウム基
体は、乾燥工程により基体表面に付着している水分を除
去する。乾燥手段としては湯上げ乾燥、熱風乾燥、或い
は赤外線乾燥などが挙げられるが、基体表面の水分を除
去する方法であれば、手段は問わない。湯上げ乾燥の場
合は、純水またはイオン交換水を満たし、ヒーターによ
り一定温度に保温された槽にアルミニウム基体を浸漬
後、一定速度で基体を引き上げる。熱風乾燥の場合はヒ
ータ−により一定温度に加熱された空気を用いて、該基
体表面の水分を除去する。赤外線乾燥の場合は、赤外線
ヒータ−をアルミニウム基体と対峙する位置に取付け、
該基体を均等に加熱して、水分を除去する。
体は、乾燥工程により基体表面に付着している水分を除
去する。乾燥手段としては湯上げ乾燥、熱風乾燥、或い
は赤外線乾燥などが挙げられるが、基体表面の水分を除
去する方法であれば、手段は問わない。湯上げ乾燥の場
合は、純水またはイオン交換水を満たし、ヒーターによ
り一定温度に保温された槽にアルミニウム基体を浸漬
後、一定速度で基体を引き上げる。熱風乾燥の場合はヒ
ータ−により一定温度に加熱された空気を用いて、該基
体表面の水分を除去する。赤外線乾燥の場合は、赤外線
ヒータ−をアルミニウム基体と対峙する位置に取付け、
該基体を均等に加熱して、水分を除去する。
【0026】水洗水及び湯上げ乾燥に使用する純水また
はイオン交換水を用いる場合は、比抵抗が少なくとも比
抵抗1MΩcmの純水が好ましい。以上のようにして洗
浄処理されたアルミニウム基体上に電荷発生層、電荷移
動層よりなる積層型光導電体が設けられる。電荷発生層
及び電荷輸送層は、電荷発生層及び電荷輸送層を構成す
る物質をそれぞれの含有する塗布液をスプレー法や浸漬
塗布方法などによって、該アルミニウム基体の表面に形
成される。
はイオン交換水を用いる場合は、比抵抗が少なくとも比
抵抗1MΩcmの純水が好ましい。以上のようにして洗
浄処理されたアルミニウム基体上に電荷発生層、電荷移
動層よりなる積層型光導電体が設けられる。電荷発生層
及び電荷輸送層は、電荷発生層及び電荷輸送層を構成す
る物質をそれぞれの含有する塗布液をスプレー法や浸漬
塗布方法などによって、該アルミニウム基体の表面に形
成される。
【0027】電荷発生層に用いる光導電体としては、セ
レン及びその合金、ヒ素−セレン、硫化カドミウム、酸
化亜鉛、その他の無機光導電体、フタロシアニン、ア
ゾ、キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、
ベンズイミダゾール、などの各種有機顔料を使用するこ
とができる。特に無金属フタロシアニン;銅、塩化イン
ジウム、塩化カリウム、スズ、オキシチタニウム、亜
鉛、バナジウム、などの金属、またはその酸化物、塩化
物の配位したフタロシアニン類;モノアゾ、ビスアゾ、
トリ スアゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
レン及びその合金、ヒ素−セレン、硫化カドミウム、酸
化亜鉛、その他の無機光導電体、フタロシアニン、ア
ゾ、キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、
ベンズイミダゾール、などの各種有機顔料を使用するこ
とができる。特に無金属フタロシアニン;銅、塩化イン
ジウム、塩化カリウム、スズ、オキシチタニウム、亜
鉛、バナジウム、などの金属、またはその酸化物、塩化
物の配位したフタロシアニン類;モノアゾ、ビスアゾ、
トリ スアゾ、ポリアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。
【0028】電荷発生層はこれらの物質の均一層として
あるいはバインダー中に微粒子分散した状態で形成され
る。ここで使用されるバインダー樹脂としてはポリビニ
ルブチラール、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、メチルセルロース、ポリカー
ボネート、樹脂などが挙げられる。
あるいはバインダー中に微粒子分散した状態で形成され
る。ここで使用されるバインダー樹脂としてはポリビニ
ルブチラール、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、メチルセルロース、ポリカー
ボネート、樹脂などが挙げられる。
【0029】バインダー樹脂100重量部、上記光導電
体を20〜300重量部含有させることが好ましく、特
に30〜150重量部が好ましい。このような電荷発生
層の膜厚は通常5μm以下、好ましくは0.01〜1μ
mが適当である。
体を20〜300重量部含有させることが好ましく、特
に30〜150重量部が好ましい。このような電荷発生
層の膜厚は通常5μm以下、好ましくは0.01〜1μ
mが適当である。
【0030】電荷移動層中に用いる電荷移動材料として
は、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリ
アセナフチレンなどの高分子化合物、または各種ピラゾ
リン誘導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、
スチルベン誘導体、などの低分子化合物が使用できる。
これらの電荷移動材料と共に必要に応じて、バインダー
樹脂が配合される。好ましいバインダー樹脂としては、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニルなどのビニル重合体及びその共重合体、ポリカーボ
ネート、ポリエステル、ポリサルホン、フェノキシ樹
脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられ、ま
たこれらの部分的架橋硬化物も使用される。
は、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリ
アセナフチレンなどの高分子化合物、または各種ピラゾ
リン誘導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、
スチルベン誘導体、などの低分子化合物が使用できる。
これらの電荷移動材料と共に必要に応じて、バインダー
樹脂が配合される。好ましいバインダー樹脂としては、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニルなどのビニル重合体及びその共重合体、ポリカーボ
ネート、ポリエステル、ポリサルホン、フェノキシ樹
脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられ、ま
たこれらの部分的架橋硬化物も使用される。
【0031】上記電荷移動材料を、バインダー樹脂10
0重量部中に30〜200重量部、特に50〜150重
量部含有させる事が好ましい。また電荷移動層には、必
要に応じて酸化防止剤、増感剤などの各種添加剤を含ん
でいてもよい。電荷移動層の膜厚は通常10〜40μ
m、好ましくは10〜25μmの厚みで使用される。
0重量部中に30〜200重量部、特に50〜150重
量部含有させる事が好ましい。また電荷移動層には、必
要に応じて酸化防止剤、増感剤などの各種添加剤を含ん
でいてもよい。電荷移動層の膜厚は通常10〜40μ
m、好ましくは10〜25μmの厚みで使用される。
【0032】なお、光導電層の他の例として、バインダ
ー樹脂と上記電荷移動材料からなる結合剤中に、前記の
如き光導電体粒子を分散させてなる分散型光導電層があ
る。この場合には、光導電体と電荷移動材料の合計の含
有量は、バインダー樹脂100重量部に対して、20〜
200重量部が好ましく、特に40〜150重量部が好
ましい。
ー樹脂と上記電荷移動材料からなる結合剤中に、前記の
如き光導電体粒子を分散させてなる分散型光導電層があ
る。この場合には、光導電体と電荷移動材料の合計の含
有量は、バインダー樹脂100重量部に対して、20〜
200重量部が好ましく、特に40〜150重量部が好
ましい。
【0033】
【発明の効果】本発明の方法によれば、1、1、1−ト
リクロルエタンやトリクロルエチレン等の塩素系有機溶
媒と同等もしくはそれ以上の洗浄力が得られ、これらの
塩素系有機溶媒の代替が可能になった。また本発明の洗
浄液は主成分としてN−メチルー2−ピロリドンを含有
するが高沸溶媒なので、引火性、発火性による爆発の危
険はない。更に低毒性かつ生分解性の為、環境に対して
も優しい。従って塩素系有機溶媒の使用による地球温暖
化及びオゾン層の破壊、人体及び環境への影響等の問題
は解消される。また脱脂洗浄及び水洗工程で発生する廃
液を回収再生する事で、製造コストを大幅に下げる事が
可能になった。更に本発明の洗浄液により洗浄処理した
アルミニウム基体を用いた電子写真感光体は黒ポチ、白
ポチ等の画像欠陥は減少され、長期間の使用においても
特性の劣化が少なく、且つ優れた環境安定性を示す。
リクロルエタンやトリクロルエチレン等の塩素系有機溶
媒と同等もしくはそれ以上の洗浄力が得られ、これらの
塩素系有機溶媒の代替が可能になった。また本発明の洗
浄液は主成分としてN−メチルー2−ピロリドンを含有
するが高沸溶媒なので、引火性、発火性による爆発の危
険はない。更に低毒性かつ生分解性の為、環境に対して
も優しい。従って塩素系有機溶媒の使用による地球温暖
化及びオゾン層の破壊、人体及び環境への影響等の問題
は解消される。また脱脂洗浄及び水洗工程で発生する廃
液を回収再生する事で、製造コストを大幅に下げる事が
可能になった。更に本発明の洗浄液により洗浄処理した
アルミニウム基体を用いた電子写真感光体は黒ポチ、白
ポチ等の画像欠陥は減少され、長期間の使用においても
特性の劣化が少なく、且つ優れた環境安定性を示す。
【0034】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
【0035】表面を鏡面仕上げした肉厚1mmの円筒状
アルミニウム基体を下記組成の洗浄液に浸漬し、超音波
照射下で、60℃、2分間脱脂洗浄を行った。続いて比
抵抗が1MΩcm以上の純水を用いて水洗を行った。更
に95℃の熱風で、該基体表面の水分がなくなるまで乾
燥し、洗浄処理を終了した。
アルミニウム基体を下記組成の洗浄液に浸漬し、超音波
照射下で、60℃、2分間脱脂洗浄を行った。続いて比
抵抗が1MΩcm以上の純水を用いて水洗を行った。更
に95℃の熱風で、該基体表面の水分がなくなるまで乾
燥し、洗浄処理を終了した。
【0036】(洗浄液)N−メチル−2−ピロリドン8
0重量部に対して水を20重量部、酸化防止0.05部
加え、更にメタケイ酸ナトリウムを添加してpH約8.
0に調整した。
0重量部に対して水を20重量部、酸化防止0.05部
加え、更にメタケイ酸ナトリウムを添加してpH約8.
0に調整した。
【0037】電荷発生物質としてビスアゾ化合物1部を
用い、これにジメトキシエタン20部に加え、サンドグ
ラインダーで分散処理をした後、ポリビニルアセタール
樹脂(電気化学工業(株)製、商品名 電化ブチラール
#6000C)0.5部をジメトキシエタン10部に溶
解した溶液に加え電荷発生層形成用分散液を得た。この
分散液に、先に洗浄処理を行ったアルミニウム基体を浸
漬塗布し、乾燥後の膜厚が0.63μmとなるように電
荷発生層を設けた。この電荷発生層上に電荷輸送物質と
して下記構造を有するヒドラゾン化合物110部、
用い、これにジメトキシエタン20部に加え、サンドグ
ラインダーで分散処理をした後、ポリビニルアセタール
樹脂(電気化学工業(株)製、商品名 電化ブチラール
#6000C)0.5部をジメトキシエタン10部に溶
解した溶液に加え電荷発生層形成用分散液を得た。この
分散液に、先に洗浄処理を行ったアルミニウム基体を浸
漬塗布し、乾燥後の膜厚が0.63μmとなるように電
荷発生層を設けた。この電荷発生層上に電荷輸送物質と
して下記構造を有するヒドラゾン化合物110部、
【0038】
【化1】
【0039】下記の繰返し構造単位を有するポリカーボ
ネート樹脂(粘度平均分子量:約22000)100
部、
ネート樹脂(粘度平均分子量:約22000)100
部、
【0040】
【化2】
【0041】および、フェノール化合物8部をテトラヒ
ドロフラン500部に溶解した溶液を作製し、この溶解
液に、電荷発生層を設けたアルミニウム基体を浸漬塗布
し、125℃で20分間乾燥した。乾燥後の膜厚が21
μmとなるように電荷移動層を設け、電子写真感光体を
製造した。
ドロフラン500部に溶解した溶液を作製し、この溶解
液に、電荷発生層を設けたアルミニウム基体を浸漬塗布
し、125℃で20分間乾燥した。乾燥後の膜厚が21
μmとなるように電荷移動層を設け、電子写真感光体を
製造した。
【0042】
【比較例】表面を鏡面仕上げした肉厚1mmの円筒状ア
ルミニウム基体をトリクロルエチレン中で超音波洗浄5
分、リンス3分、蒸気洗浄3分の順に洗浄処理を行った
以外は実施例と同様に電子写真感光体を製造した。
ルミニウム基体をトリクロルエチレン中で超音波洗浄5
分、リンス3分、蒸気洗浄3分の順に洗浄処理を行った
以外は実施例と同様に電子写真感光体を製造した。
【0043】得られた電子写真感光体をまず、暗中にお
いてコロナ帯電器で−600vに帯電し、次いでハロゲ
ンランプで、1lux・sec、5lux・secでそ
れぞれ露光した時の表面電位VH、VRと、更に−60
0vに帯電したまま暗中に5秒間放置した時の暗減衰D
DRを測定し電気特性を評価した。
いてコロナ帯電器で−600vに帯電し、次いでハロゲ
ンランプで、1lux・sec、5lux・secでそ
れぞれ露光した時の表面電位VH、VRと、更に−60
0vに帯電したまま暗中に5秒間放置した時の暗減衰D
DRを測定し電気特性を評価した。
【0044】次ぎに電子写真感光体を市販の複写機に装
着し、白ベタ、黒ベタ、ハーフトーンで画像評価を行っ
た。
着し、白ベタ、黒ベタ、ハーフトーンで画像評価を行っ
た。
【0045】これらの結果を下表に示す。
【表1】
【0046】(注)表中の白ポチ及び黒ポチ、(ハーフ
トーン)ムラの本数は、該欠陥の発生している感光体の
数を不良品としてカウントしている。この結果、本発明
の洗浄液を用いた電子写真感光体は、従来と同様の電気
特性を保持するとともに、コピー画像形成時にその表面
に生じる黒ポチ、白ポチ及びムラ等の画像欠陥も、従来
品と比して同等もしくはそれ以上に改善されることがわ
かる。
トーン)ムラの本数は、該欠陥の発生している感光体の
数を不良品としてカウントしている。この結果、本発明
の洗浄液を用いた電子写真感光体は、従来と同様の電気
特性を保持するとともに、コピー画像形成時にその表面
に生じる黒ポチ、白ポチ及びムラ等の画像欠陥も、従来
品と比して同等もしくはそれ以上に改善されることがわ
かる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田口 将 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (10)
- 【請求項1】 導電性基体上に少なくとも光導電層を設
けてなる電子写真感光体の製造方法であって、該導電性
基体表面を、少なくともピロリドン化合物を含有する洗
浄液で洗浄する事を特徴とする電子写真感光体の製造方
法。 - 【請求項2】 該ピロリドン化合物が、N−メチルー2
−ピロリドンであることを特徴とする請求項1記載の電
子写真感光体の製造方法。 - 【請求項3】 該洗浄液が、少なくともピロリドン化合
物及び水を含有する事を特徴とする請求項1又は2記載
の電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項4】 導電性基体表面を該洗浄液で浸漬洗浄
し、水洗後、乾燥する事を特徴とする請求項1、2又は
3記載の電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項5】 導電性基体表面にアルマイトを形成する
処理前に、該洗浄を行うことを特徴とする請求項1、2
又は3記載の電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項6】 導電性基体表面にアルマイトを形成する
処理を行った後、該洗浄を行うことを特徴とする請求項
1、2又は3記載の電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項7】 表面に、導電性基体の製造時に付着した
汚れを該洗浄で洗浄することを特徴とする請求項1、2
又は3記載の電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項8】 該洗浄液が、ノニオン系界面活性剤を含
有してなることを特徴とする請求項1、2又は3記載の
電子写真感光体の製造方法。 - 【請求項9】 該洗浄液が、酸化防止剤を含有してなる
ことを特徴とする請求項1、2又は3記載の電子写真感
光体の製造方法。 - 【請求項10】 該洗浄液が、ケイ酸塩類を含有してな
ることを特徴とする請求項1、2又は3記載の電子写真
感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295194A JPH07219244A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295194A JPH07219244A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07219244A true JPH07219244A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=11819591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1295194A Pending JPH07219244A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07219244A (ja) |
-
1994
- 1994-02-04 JP JP1295194A patent/JPH07219244A/ja active Pending
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