JPH0722711A - 半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法 - Google Patents
半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法Info
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体レーザ装置3を構成する半導体レーザ
チップ5およびホトダイオードチップ4A,4Bの表面
に、樹脂を薄くかつ均一にコーティングできる樹脂コー
ティング方法を提供する。 【構成】 キャップ7頂部のレーザー光出射用窓7Aが
上向きになる状態で半導体レーザ装置3(ステム8)を
回転台1に取り付ける。レーザー光出射用窓7Aを通し
てキャップ7内のチップ5,4A,4B上に樹脂6を滴
下した後、回転台1を略鉛直方向の軸の回りに回転させ
る。これにより、上記滴下した樹脂6のうち余った部分
6Aをキャップ7の内壁に流す。
チップ5およびホトダイオードチップ4A,4Bの表面
に、樹脂を薄くかつ均一にコーティングできる樹脂コー
ティング方法を提供する。 【構成】 キャップ7頂部のレーザー光出射用窓7Aが
上向きになる状態で半導体レーザ装置3(ステム8)を
回転台1に取り付ける。レーザー光出射用窓7Aを通し
てキャップ7内のチップ5,4A,4B上に樹脂6を滴
下した後、回転台1を略鉛直方向の軸の回りに回転させ
る。これにより、上記滴下した樹脂6のうち余った部分
6Aをキャップ7の内壁に流す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体レーザ装置の
樹脂コーティング方法に関する。より詳しくは、半導体
レーザ装置を構成する半導体レーザチップおよびホトダ
イオードチップの表面を樹脂でコーティングする方法に
関する。
樹脂コーティング方法に関する。より詳しくは、半導体
レーザ装置を構成する半導体レーザチップおよびホトダ
イオードチップの表面を樹脂でコーティングする方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】図5に示すように、半導体レーザ装置3
としては、ステム8の突起部8Aに半導体レーザチップ
5と、ホトダイオードチップ4A,4Bとを取り付け、
これらをレーザー光出射用窓7Aを持つキャップ7で覆
ったものが多い。ホトダイオードチップ4Aは図示しな
い対象物によって反射されたレーザー光を受けるための
もの、ホトダイオードチップ4Bは半導体レーザチップ
5の出力をモニタするためのものである。
としては、ステム8の突起部8Aに半導体レーザチップ
5と、ホトダイオードチップ4A,4Bとを取り付け、
これらをレーザー光出射用窓7Aを持つキャップ7で覆
ったものが多い。ホトダイオードチップ4Aは図示しな
い対象物によって反射されたレーザー光を受けるための
もの、ホトダイオードチップ4Bは半導体レーザチップ
5の出力をモニタするためのものである。
【0003】従来は、図示のように、注射針18でキャ
ップ7内に樹脂6をポッティング(滴下)することによ
り、各チップ5,4A,4Bの表面をコーティングして
いる。これにより、半導体レーザ装置の信頼性を高める
ようにしている。
ップ7内に樹脂6をポッティング(滴下)することによ
り、各チップ5,4A,4Bの表面をコーティングして
いる。これにより、半導体レーザ装置の信頼性を高める
ようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の樹脂コーティング方法は、キャップ7内に樹脂6を
単にポッティングしているだけであるため、樹脂6が半
導体レーザチップ5やホトダイオードチップ4A,4B
上に余分に厚く盛られて、樹脂厚が不均一になり、半導
体レーザ装置3の光学的特性が悪影響を受けるという問
題がある。
来の樹脂コーティング方法は、キャップ7内に樹脂6を
単にポッティングしているだけであるため、樹脂6が半
導体レーザチップ5やホトダイオードチップ4A,4B
上に余分に厚く盛られて、樹脂厚が不均一になり、半導
体レーザ装置3の光学的特性が悪影響を受けるという問
題がある。
【0005】そこで、この発明の目的は、半導体レーザ
チップおよびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄く
かつ均一にコーティングできる半導体レーザ装置の樹脂
コーティング方法を提供することにある。
チップおよびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄く
かつ均一にコーティングできる半導体レーザ装置の樹脂
コーティング方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に記載の半導体レーザ装置の樹脂コーティ
ング方法は、ステム上に半導体レーザチップおよびホト
ダイオードチップが取り付けられ、上記両チップの周囲
が、頂部にレーザー光出射用窓を有するキャップで覆わ
れている半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法であ
って、上記レーザー光出射用窓が上向きになる状態で上
記ステムを所定の回転台に取り付け、上記レーザー光出
射用窓を通して上記キャップ内の両チップ上に樹脂を滴
下した後、上記回転台を略鉛直方向の軸の回りに回転さ
せて、上記滴下した樹脂のうち余った部分を上記キャッ
プの内壁に流すようにしたことを特徴としている。
に、請求項1に記載の半導体レーザ装置の樹脂コーティ
ング方法は、ステム上に半導体レーザチップおよびホト
ダイオードチップが取り付けられ、上記両チップの周囲
が、頂部にレーザー光出射用窓を有するキャップで覆わ
れている半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法であ
って、上記レーザー光出射用窓が上向きになる状態で上
記ステムを所定の回転台に取り付け、上記レーザー光出
射用窓を通して上記キャップ内の両チップ上に樹脂を滴
下した後、上記回転台を略鉛直方向の軸の回りに回転さ
せて、上記滴下した樹脂のうち余った部分を上記キャッ
プの内壁に流すようにしたことを特徴としている。
【0007】また、請求項2に記載の半導体レーザ装置
の樹脂コーティング方法は、ステム上に半導体レーザチ
ップおよびホトダイオードチップが取り付けられ、上記
両チップの周囲が、頂部にレーザー光出射用窓を有する
キャップで覆われている半導体レーザ装置の樹脂コーテ
ィング方法であって、上記レーザー光出射用窓を通して
上記キャップ内の両チップ上に樹脂を滴下した後、ガス
供給口とガス排出口とを持つエアブロー治具を上記レー
ザー光出射用窓に取り付け、上記ガス供給口から上記キ
ャップ内にガスを流し、このガスを上記ガス排出口から
キャップ外へ排出して、上記滴下した樹脂のうち余った
部分を上記ガスとともにキャップ外へ排出するようにし
たことを特徴としている。
の樹脂コーティング方法は、ステム上に半導体レーザチ
ップおよびホトダイオードチップが取り付けられ、上記
両チップの周囲が、頂部にレーザー光出射用窓を有する
キャップで覆われている半導体レーザ装置の樹脂コーテ
ィング方法であって、上記レーザー光出射用窓を通して
上記キャップ内の両チップ上に樹脂を滴下した後、ガス
供給口とガス排出口とを持つエアブロー治具を上記レー
ザー光出射用窓に取り付け、上記ガス供給口から上記キ
ャップ内にガスを流し、このガスを上記ガス排出口から
キャップ外へ排出して、上記滴下した樹脂のうち余った
部分を上記ガスとともにキャップ外へ排出するようにし
たことを特徴としている。
【0008】また、請求項3に記載の半導体レーザ装置
の樹脂コーティング方法は、ステム上に半導体レーザチ
ップおよびホトダイオードチップが取り付けられ、上記
両チップの周囲が、頂部にレーザー光出射用窓を有する
キャップで覆われている半導体レーザ装置の樹脂コーテ
ィング方法であって、上記レーザー光出射用窓が上向き
になる状態で上記ステムを所定の超音波振動子に取り付
け、上記レーザー光出射用窓を通して上記キャップ内の
両チップ上に樹脂を滴下した後、上記超音波振動子を略
水平方向に振動させて、上記滴下した樹脂のうち余った
部分を上記キャップの内壁に飛散させるようにしたこと
を特徴としている。
の樹脂コーティング方法は、ステム上に半導体レーザチ
ップおよびホトダイオードチップが取り付けられ、上記
両チップの周囲が、頂部にレーザー光出射用窓を有する
キャップで覆われている半導体レーザ装置の樹脂コーテ
ィング方法であって、上記レーザー光出射用窓が上向き
になる状態で上記ステムを所定の超音波振動子に取り付
け、上記レーザー光出射用窓を通して上記キャップ内の
両チップ上に樹脂を滴下した後、上記超音波振動子を略
水平方向に振動させて、上記滴下した樹脂のうち余った
部分を上記キャップの内壁に飛散させるようにしたこと
を特徴としている。
【0009】
【作用】請求項1に記載の半導体レーザ装置の樹脂コー
ティング方法では、半導体レーザ装置(ステム)を取り
付けたけた回転台を略鉛直方向の軸の回りに回転させ
て、滴下した樹脂のうち余った部分をキャップの内壁に
流すようにしているので、上記滴下した樹脂が、半導体
レーザチップおよびホトダイオードチップの表面に薄く
かつ均一に残る。したがって、両チップが薄くかつ均一
にコーティングされる。
ティング方法では、半導体レーザ装置(ステム)を取り
付けたけた回転台を略鉛直方向の軸の回りに回転させ
て、滴下した樹脂のうち余った部分をキャップの内壁に
流すようにしているので、上記滴下した樹脂が、半導体
レーザチップおよびホトダイオードチップの表面に薄く
かつ均一に残る。したがって、両チップが薄くかつ均一
にコーティングされる。
【0010】また、請求項2に記載の半導体レーザ装置
の樹脂コーティング方法では、エアブロー治具のガス供
給口からキャップ内にガスを流し、このガスを上記エア
ブロー治具のガス排出口からキャップ外へ排出して、滴
下した樹脂のうち余った部分を上記ガスとともにキャッ
プ外へ排出するようにしているので、上記滴下した樹脂
が、半導体レーザチップおよびホトダイオードチップの
表面に薄くかつ均一に残る。したがって、両チップが薄
くかつ均一にコーティングされる。
の樹脂コーティング方法では、エアブロー治具のガス供
給口からキャップ内にガスを流し、このガスを上記エア
ブロー治具のガス排出口からキャップ外へ排出して、滴
下した樹脂のうち余った部分を上記ガスとともにキャッ
プ外へ排出するようにしているので、上記滴下した樹脂
が、半導体レーザチップおよびホトダイオードチップの
表面に薄くかつ均一に残る。したがって、両チップが薄
くかつ均一にコーティングされる。
【0011】また、請求項3に記載の半導体レーザ装置
の樹脂コーティング方法では、半導体レーザ装置(ステ
ム)を取り付けた超音波振動子を略水平方向に振動させ
て、滴下した樹脂のうち余った部分をキャップの内壁に
飛散させるようにしているので、上記滴下した樹脂が、
半導体レーザチップおよびホトダイオードチップの表面
に薄くかつ均一に残る。したがって、両チップが薄くか
つ均一にコーティングされる。
の樹脂コーティング方法では、半導体レーザ装置(ステ
ム)を取り付けた超音波振動子を略水平方向に振動させ
て、滴下した樹脂のうち余った部分をキャップの内壁に
飛散させるようにしているので、上記滴下した樹脂が、
半導体レーザチップおよびホトダイオードチップの表面
に薄くかつ均一に残る。したがって、両チップが薄くか
つ均一にコーティングされる。
【0012】
【実施例】以下、この発明の半導体レーザ装置の樹脂コ
ーティング方法を実施例により詳細に説明する。
ーティング方法を実施例により詳細に説明する。
【0013】図5に示したのと同一の半導体レーザ装置
3に樹脂6をコーティングするものとする。すなわち、
半導体レーザ装置3は、ステム8の突起部8Aに半導体
レーザチップ5と、ホトダイオードチップ4A,4Bと
を取り付け、これらをレーザー光出射用窓7Aを持つキ
ャップ7で覆ったものとする。ホトダイオードチップ4
Aは図示しない対象物によって反射されたレーザー光を
受けるためのもの、ホトダイオードチップ4Bは半導体
レーザチップ5の出力をモニタするためのものである。
3に樹脂6をコーティングするものとする。すなわち、
半導体レーザ装置3は、ステム8の突起部8Aに半導体
レーザチップ5と、ホトダイオードチップ4A,4Bと
を取り付け、これらをレーザー光出射用窓7Aを持つキ
ャップ7で覆ったものとする。ホトダイオードチップ4
Aは図示しない対象物によって反射されたレーザー光を
受けるためのもの、ホトダイオードチップ4Bは半導体
レーザチップ5の出力をモニタするためのものである。
【0014】第1の樹脂コーティング方法について説明
する。
する。
【0015】まず、図1および図2に示すように、半
導体レーザ装置3(ステム8)を、キャップ7頂部のレ
ーザー光出射用窓7Aが上向きになる状態で回転台1に
取り付ける。
導体レーザ装置3(ステム8)を、キャップ7頂部のレ
ーザー光出射用窓7Aが上向きになる状態で回転台1に
取り付ける。
【0016】次に、図5に示したように、注射針18
を用いて、レーザー光出射用窓7Aを通してキャップ7
内の半導体レーザチップ5、ホトダイオードチップ4
A,4B上に樹脂6をポッティング(滴下)する。
を用いて、レーザー光出射用窓7Aを通してキャップ7
内の半導体レーザチップ5、ホトダイオードチップ4
A,4B上に樹脂6をポッティング(滴下)する。
【0017】この後、図1に示すように、回転台1を
鉛直方向の軸9の回りに回転させる(矢印2で示す方向
に回転させる)。すると、半導体レーザ装置3は外向き
に遠心力Gを受ける。この遠心力Gによって、図2に示
すように、上記ポッティングした樹脂6のうち余った部
分6Aが、キャップ7の内壁に流れる。この結果、樹脂
6が、半導体レーザチップ5およびホトダイオードチッ
プ4A,4Bの表面に薄くかつ均一に残る。したがっ
て、半導体レーザチップ5およびホトダイオードチップ
4A,4Bの表面に、樹脂6を薄くかつ均一にコーティ
ングすることができる。
鉛直方向の軸9の回りに回転させる(矢印2で示す方向
に回転させる)。すると、半導体レーザ装置3は外向き
に遠心力Gを受ける。この遠心力Gによって、図2に示
すように、上記ポッティングした樹脂6のうち余った部
分6Aが、キャップ7の内壁に流れる。この結果、樹脂
6が、半導体レーザチップ5およびホトダイオードチッ
プ4A,4Bの表面に薄くかつ均一に残る。したがっ
て、半導体レーザチップ5およびホトダイオードチップ
4A,4Bの表面に、樹脂6を薄くかつ均一にコーティ
ングすることができる。
【0018】次に、第2のコーティング方法について説
明する。
明する。
【0019】まず、図5に示したように、注射針18
を用いて、レーザー光出射用窓7Aを通してキャップ7
内の半導体レーザチップ5、ホトダイオードチップ4
A,4B上に樹脂6をポッティングする。
を用いて、レーザー光出射用窓7Aを通してキャップ7
内の半導体レーザチップ5、ホトダイオードチップ4
A,4B上に樹脂6をポッティングする。
【0020】次に、半導体レーザ装置3のキャップ7
のレーザー光出射用窓7Aに、エアブロー治具13を取
り付ける。
のレーザー光出射用窓7Aに、エアブロー治具13を取
り付ける。
【0021】このエアブロー治具13は、ステム8の外
周に嵌合する円筒部13Cと、この円筒部13Cの上端
を塞ぐ主部13Aを有している。主部13Aの中央に
は、上記キャップ7のレーザー光出射用窓7Aに嵌合す
る突起部13Bが下方に突出して設けられている。この
エアブロー治具13には、主部13Aを鉛直方向に貫通
するガス供給経路11と、主部13Aを鉛直方向から径
方向外向き(L字状)に貫通するガス排出経路14とが
設けられている。これらのガス供給経路11,ガス排出
経路14は、それぞれ上記突起部13Bの下面にガス供
給口,ガス排出口を形成している。突起部13Bの周り
にはゴム製のシールドリング15が設けられており、主
部13Aとキャップ7との間の気密を保つようになって
いる。
周に嵌合する円筒部13Cと、この円筒部13Cの上端
を塞ぐ主部13Aを有している。主部13Aの中央に
は、上記キャップ7のレーザー光出射用窓7Aに嵌合す
る突起部13Bが下方に突出して設けられている。この
エアブロー治具13には、主部13Aを鉛直方向に貫通
するガス供給経路11と、主部13Aを鉛直方向から径
方向外向き(L字状)に貫通するガス排出経路14とが
設けられている。これらのガス供給経路11,ガス排出
経路14は、それぞれ上記突起部13Bの下面にガス供
給口,ガス排出口を形成している。突起部13Bの周り
にはゴム製のシールドリング15が設けられており、主
部13Aとキャップ7との間の気密を保つようになって
いる。
【0022】次に、上記ガス供給経路11を通してキ
ャップ7内に、比較的高圧の窒素ガス(または空気)1
2を流し、このガス12を上記ガス排出経路14を通し
てキャップ7外へ排出する。これにより、上記ポッティ
ングした樹脂のうち余った部分を吹き飛ばして、上記窒
素ガス12とともにキャップ7外へ排出する。この結
果、樹脂6が、半導体レーザチップ5およびホトダイオ
ードチップ4A,4Bの表面に薄くかつ均一に残る。し
たがって、半導体レーザチップ5およびホトダイオード
チップ4A,4Bの表面に、樹脂6を薄くかつ均一にコ
ーティングすることができる。
ャップ7内に、比較的高圧の窒素ガス(または空気)1
2を流し、このガス12を上記ガス排出経路14を通し
てキャップ7外へ排出する。これにより、上記ポッティ
ングした樹脂のうち余った部分を吹き飛ばして、上記窒
素ガス12とともにキャップ7外へ排出する。この結
果、樹脂6が、半導体レーザチップ5およびホトダイオ
ードチップ4A,4Bの表面に薄くかつ均一に残る。し
たがって、半導体レーザチップ5およびホトダイオード
チップ4A,4Bの表面に、樹脂6を薄くかつ均一にコ
ーティングすることができる。
【0023】次に、第3のコーティング方法について説
明する。
明する。
【0024】まず、図4に示すように、半導体レーザ
装置3(ステム8)を、キャップ7のレーザー光出射用
窓7Aが上向きになる状態で、超音波振動子(超音波ホ
ーン)16に取り付ける。なお、図4は、超音波振動子
16に取り付けた半導体レーザ装置3を上方から見たと
ころを示している。
装置3(ステム8)を、キャップ7のレーザー光出射用
窓7Aが上向きになる状態で、超音波振動子(超音波ホ
ーン)16に取り付ける。なお、図4は、超音波振動子
16に取り付けた半導体レーザ装置3を上方から見たと
ころを示している。
【0025】次に、図5に示したように、注射針18
を用いて、レーザー光出射用窓7Aを通してキャップ7
内の半導体レーザチップ5、ホトダイオードチップ4
A,4B上に樹脂6をポッティングする。
を用いて、レーザー光出射用窓7Aを通してキャップ7
内の半導体レーザチップ5、ホトダイオードチップ4
A,4B上に樹脂6をポッティングする。
【0026】この後、図4に示すように、超音波振動
子16を、矢印17で示す略水平方向に振動させて、上
記ポッティングした樹脂6のうち余った部分をキャップ
7の内壁に飛散させる。この結果、樹脂6が、半導体レ
ーザチップ5およびホトダイオードチップ4A,4Bの
表面に薄くかつ均一に残る。したがって、半導体レーザ
チップ5およびホトダイオードチップ4A,4Bの表面
に、樹脂6を薄くかつ均一にコーティングすることがで
きる。
子16を、矢印17で示す略水平方向に振動させて、上
記ポッティングした樹脂6のうち余った部分をキャップ
7の内壁に飛散させる。この結果、樹脂6が、半導体レ
ーザチップ5およびホトダイオードチップ4A,4Bの
表面に薄くかつ均一に残る。したがって、半導体レーザ
チップ5およびホトダイオードチップ4A,4Bの表面
に、樹脂6を薄くかつ均一にコーティングすることがで
きる。
【0027】
【発明の効果】以上より明らかなように、請求項1に記
載の半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法は、半導
体レーザ装置を取り付けたけた回転台を略鉛直方向の軸
の回りに回転させて、滴下した樹脂のうち余った部分を
キャップの内壁に流すようにしているので、半導体レー
ザチップおよびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄
くかつ均一にコーティングすることができる。
載の半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法は、半導
体レーザ装置を取り付けたけた回転台を略鉛直方向の軸
の回りに回転させて、滴下した樹脂のうち余った部分を
キャップの内壁に流すようにしているので、半導体レー
ザチップおよびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄
くかつ均一にコーティングすることができる。
【0028】また、請求項2に記載の半導体レーザ装置
の樹脂コーティング方法は、エアブロー治具のガス供給
口からキャップ内にガスを流し、このガスを上記エアブ
ロー治具のガス排出口からキャップ外へ排出して、滴下
した樹脂のうち余った部分を上記ガスとともにキャップ
外へ排出するようにしているので、半導体レーザチップ
およびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄くかつ均
一にコーティングすることができる。
の樹脂コーティング方法は、エアブロー治具のガス供給
口からキャップ内にガスを流し、このガスを上記エアブ
ロー治具のガス排出口からキャップ外へ排出して、滴下
した樹脂のうち余った部分を上記ガスとともにキャップ
外へ排出するようにしているので、半導体レーザチップ
およびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄くかつ均
一にコーティングすることができる。
【0029】また、請求項3に記載の半導体レーザ装置
の樹脂コーティング方法では、半導体レーザ装置(ステ
ム)を取り付けた超音波振動子を略水平方向に振動させ
て、滴下した樹脂のうち余った部分をキャップの内壁に
飛散させるようにしているので、半導体レーザチップお
よびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄くかつ均一
にコーティングすることができる。
の樹脂コーティング方法では、半導体レーザ装置(ステ
ム)を取り付けた超音波振動子を略水平方向に振動させ
て、滴下した樹脂のうち余った部分をキャップの内壁に
飛散させるようにしているので、半導体レーザチップお
よびホトダイオードチップの表面に樹脂を薄くかつ均一
にコーティングすることができる。
【図1】 この発明の一実施例の第1の樹脂コーティン
グ方法を説明する図である。
グ方法を説明する図である。
【図2】 上記第1の樹脂コーティング方法を説明する
図である。
図である。
【図3】 この発明の一実施例の第2の樹脂コーティン
グ方法を説明する図である。
グ方法を説明する図である。
【図4】 この発明の一実施例の第3の樹脂コーティン
グ方法を説明する図である。
グ方法を説明する図である。
【図5】 半導体レーザ装置のキャップ内に樹脂をポッ
ティングする状態を示す図である。
ティングする状態を示す図である。
1 回転台 3 半導体レーザ装置 4A,4B ホトダイオードチップ 5 半導体レーザチップ 6 樹脂 7 キャップ 8 ステム 11 ガス供給経路 13 エアブロー治具 14 ガス排出経路 16 超音波振動子
Claims (3)
- 【請求項1】 ステム上に半導体レーザチップおよびホ
トダイオードチップが取り付けられ、上記両チップの周
囲が、頂部にレーザー光出射用窓を有するキャップで覆
われている半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法で
あって、 上記レーザー光出射用窓が上向きになる状態で上記ステ
ムを所定の回転台に取り付け、上記レーザー光出射用窓
を通して上記キャップ内の両チップ上に樹脂を滴下した
後、上記回転台を略鉛直方向の軸の回りに回転させて、 上記滴下した樹脂のうち余った部分を上記キャップの内
壁に流すようにしたことを特徴とする半導体レーザ装置
の樹脂コーティング方法。 - 【請求項2】 ステム上に半導体レーザチップおよびホ
トダイオードチップが取り付けられ、上記両チップの周
囲が、頂部にレーザー光出射用窓を有するキャップで覆
われている半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法で
あって、 上記レーザー光出射用窓を通して上記キャップ内の両チ
ップ上に樹脂を滴下した後、ガス供給口とガス排出口と
を持つエアブロー治具を上記レーザー光出射用窓に取り
付け、上記ガス供給口から上記キャップ内にガスを流
し、このガスを上記ガス排出口からキャップ外へ排出し
て、 上記滴下した樹脂のうち余った部分を上記ガスとともに
キャップ外へ排出するようにしたことを特徴とする半導
体レーザ装置の樹脂コーティング方法。 - 【請求項3】 ステム上に半導体レーザチップおよびホ
トダイオードチップが取り付けられ、上記両チップの周
囲が、頂部にレーザー光出射用窓を有するキャップで覆
われている半導体レーザ装置の樹脂コーティング方法で
あって、 上記レーザー光出射用窓が上向きになる状態で上記ステ
ムを所定の超音波振動子に取り付け、上記レーザー光出
射用窓を通して上記キャップ内の両チップ上に樹脂を滴
下した後、上記超音波振動子を略水平方向に振動させ
て、 上記滴下した樹脂のうち余った部分を上記キャップの内
壁に飛散させるようにしたことを特徴とする半導体レー
ザ装置の樹脂コーティング方法。
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