JPH07232802A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
- Publication number
- JPH07232802A JPH07232802A JP5134994A JP5134994A JPH07232802A JP H07232802 A JPH07232802 A JP H07232802A JP 5134994 A JP5134994 A JP 5134994A JP 5134994 A JP5134994 A JP 5134994A JP H07232802 A JPH07232802 A JP H07232802A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- arm
- cassette
- axis motor
- substrates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 カセット内に収納された基板をアームと干渉
することなく取り出せる基板搬送装置を提供する。 【構成】 支持台１０と門型フレーム１５とに立設され
た第２のガイド１６に昇降支持部材１７が外嵌されると
ともに、第２ネジ軸１８に螺合され、第２ネジ軸１８の
下部に正逆可能なＺ軸モータ１１が連動連結されてい
る。昇降支持部材１７の昇降台２０上に、第３のガイド
２１と、正逆可能なＸ軸モータ１２に連動連結された第
１のプーリー２２と第２のプーリー２３とに張設された
無端状のベルト２４とが配備され、ベルト２４に移動台
３０が取り付けられるとともに、第３のガイド２１に外
嵌されている。支柱３１を介して移動台３０にアーム３
２が片持ち支持され、ＣＰＵのＸ軸，Ｚ軸モータ１２，
１１の駆動制御によりアーム３２を前進駆動中に微小な
距離だけ上昇するように構成されている。
することなく取り出せる基板搬送装置を提供する。 【構成】 支持台１０と門型フレーム１５とに立設され
た第２のガイド１６に昇降支持部材１７が外嵌されると
ともに、第２ネジ軸１８に螺合され、第２ネジ軸１８の
下部に正逆可能なＺ軸モータ１１が連動連結されてい
る。昇降支持部材１７の昇降台２０上に、第３のガイド
２１と、正逆可能なＸ軸モータ１２に連動連結された第
１のプーリー２２と第２のプーリー２３とに張設された
無端状のベルト２４とが配備され、ベルト２４に移動台
３０が取り付けられるとともに、第３のガイド２１に外
嵌されている。支柱３１を介して移動台３０にアーム３
２が片持ち支持され、ＣＰＵのＸ軸，Ｚ軸モータ１２，
１１の駆動制御によりアーム３２を前進駆動中に微小な
距離だけ上昇するように構成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハや光ディ
スク用基板等の基板を搬送する基板搬送装置に係り、特
に、基板を多段に収納するカセットから基板を取り出す
技術に関する。
スク用基板等の基板を搬送する基板搬送装置に係り、特
に、基板を多段に収納するカセットから基板を取り出す
技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ等の基板を製造する工程
は、フォトレジストのコーティングや熱処理等の複数の
処理工程に別れており、基板を収納したカセットと各工
程間とで基板の搬送が行われる。従来、カセットに対し
て基板を出し入れするために、吸引装置を備えた吸着ア
ーム等を用い、カセットから基板を取り出すにあたって
はこの吸着アームをカセット内に多段に収納された基板
の下方に移動させる。そして、この吸着アームで基板の
下面を吸着保持し、カセット内から取り出するように構
成されている。しかし、吸着アーム等で基板の下面を直
接吸着保持するので、吸着部の跡や吸着部に付着してい
た塵等が基板の下面に付着するという問題がある。そこ
で、従来の基板搬送装置として、例えば、実公平３−１
８４３５号に記載された装置が知られている。
は、フォトレジストのコーティングや熱処理等の複数の
処理工程に別れており、基板を収納したカセットと各工
程間とで基板の搬送が行われる。従来、カセットに対し
て基板を出し入れするために、吸引装置を備えた吸着ア
ーム等を用い、カセットから基板を取り出すにあたって
はこの吸着アームをカセット内に多段に収納された基板
の下方に移動させる。そして、この吸着アームで基板の
下面を吸着保持し、カセット内から取り出するように構
成されている。しかし、吸着アーム等で基板の下面を直
接吸着保持するので、吸着部の跡や吸着部に付着してい
た塵等が基板の下面に付着するという問題がある。そこ
で、従来の基板搬送装置として、例えば、実公平３−１
８４３５号に記載された装置が知られている。
【０００３】この基板搬送装置は、固定された一対のア
ームの先端に設けられたローラ状の押さえ部材と、移動
可能なアームの先端に設けられたローラ状の押さえ部材
等で構成され、各アームをカセット内の基板の真下まで
水平に進入させた後、各アームを上昇させ、各アームの
３つの押さえ部材によって基板の端部が支持される。そ
して、基板を支持したアームを後退させ、カセットから
取り出すように構成されている。
ームの先端に設けられたローラ状の押さえ部材と、移動
可能なアームの先端に設けられたローラ状の押さえ部材
等で構成され、各アームをカセット内の基板の真下まで
水平に進入させた後、各アームを上昇させ、各アームの
３つの押さえ部材によって基板の端部が支持される。そ
して、基板を支持したアームを後退させ、カセットから
取り出すように構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た基板搬送機構では、基板の端部を支持するため基板の
大きさよりも長く所定の厚みのアームが形成されている
ので、カセット内の基板収納状態によっては、アームの
先端が基板に干渉するという問題点がある。以下、図１
０，図１１を参照して具体的に説明する。図１０（ａ）
は、カセットＣの内部を示す平面図、図１０（ｂ）は、
図１０（ａ）のＡ−Ａ矢視断面図、図１１は、従来の基
板搬送装置の動作を示す図である。
た基板搬送機構では、基板の端部を支持するため基板の
大きさよりも長く所定の厚みのアームが形成されている
ので、カセット内の基板収納状態によっては、アームの
先端が基板に干渉するという問題点がある。以下、図１
０，図１１を参照して具体的に説明する。図１０（ａ）
は、カセットＣの内部を示す平面図、図１０（ｂ）は、
図１０（ａ）のＡ−Ａ矢視断面図、図１１は、従来の基
板搬送装置の動作を示す図である。
【０００５】カセットＣは、極力多数枚の基板Ｗを収納
するために、上下の基板Ｗ間の間隔が狭く、また、図１
０（ｂ）に示すように、基板Ｗの端部を載置する基板保
持部１００は、基板Ｗを点接触状態で支持するように、
先端が下方に傾斜した先細り状に形成されている。一
方、基板Ｗが位置合わせされる前の初期の段階では、基
板ＷはカセットＣ内にランダムに収納されており、図１
０（ａ）に示すように、基板Ｗ1 のオリエンテーション
フラットＯＦの位置がカセットＣの基板支持部材１００
の位置にくることもある。このような場合、カセットＣ
内で基板Ｗが水平に支持されず、図１０（ｂ），図１１
に示すように、基板Ｗ1 ，Ｗ2 が傾き、基板Ｗを出し入
れする開口部１０１側に前倒れした姿勢で保持される。
このように、カセット内で前傾れした姿勢で保持された
基板Ｗ1 ，Ｗ2 と水平に保持された基板Ｗとの間に、ア
ーム１０２を水平方向に進入させると、アーム１０２の
先端部分が基板Ｗ1 の先端部に干渉して基板Ｗ1 を破損
するおそれがある。これを避けるために、アーム１０２
のカセットＣ内への進入位置を低くすると、カセットＣ
の奥側で下の基板Ｗ2 の表面に接触して下の基板Ｗ2 に
傷を与えたり、パーティクルが発生するといった問題が
生じる。
するために、上下の基板Ｗ間の間隔が狭く、また、図１
０（ｂ）に示すように、基板Ｗの端部を載置する基板保
持部１００は、基板Ｗを点接触状態で支持するように、
先端が下方に傾斜した先細り状に形成されている。一
方、基板Ｗが位置合わせされる前の初期の段階では、基
板ＷはカセットＣ内にランダムに収納されており、図１
０（ａ）に示すように、基板Ｗ1 のオリエンテーション
フラットＯＦの位置がカセットＣの基板支持部材１００
の位置にくることもある。このような場合、カセットＣ
内で基板Ｗが水平に支持されず、図１０（ｂ），図１１
に示すように、基板Ｗ1 ，Ｗ2 が傾き、基板Ｗを出し入
れする開口部１０１側に前倒れした姿勢で保持される。
このように、カセット内で前傾れした姿勢で保持された
基板Ｗ1 ，Ｗ2 と水平に保持された基板Ｗとの間に、ア
ーム１０２を水平方向に進入させると、アーム１０２の
先端部分が基板Ｗ1 の先端部に干渉して基板Ｗ1 を破損
するおそれがある。これを避けるために、アーム１０２
のカセットＣ内への進入位置を低くすると、カセットＣ
の奥側で下の基板Ｗ2 の表面に接触して下の基板Ｗ2 に
傷を与えたり、パーティクルが発生するといった問題が
生じる。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、カセット内に多段に収納された基板を
アームと干渉することなく取り出すことができる基板搬
送装置を提供することを目的とする。
たものであって、カセット内に多段に収納された基板を
アームと干渉することなく取り出すことができる基板搬
送装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために次のような構成をとる。すなわち、基板を
多段に収納するカセットから前記基板を取り出し、かつ
前記基板をカセットへ収納する基板搬送装置において、
前記基板の端部を支持するアームと、前記アームを昇降
させる昇降駆動手段と、前記アームを前進・後退させる
前進・後退駆動手段と、前記アームがカセット内へ進入
している間に、前記アームを水平姿勢で微小距離だけ上
昇変位させる上昇変位手段と、を備えたものである。
成するために次のような構成をとる。すなわち、基板を
多段に収納するカセットから前記基板を取り出し、かつ
前記基板をカセットへ収納する基板搬送装置において、
前記基板の端部を支持するアームと、前記アームを昇降
させる昇降駆動手段と、前記アームを前進・後退させる
前進・後退駆動手段と、前記アームがカセット内へ進入
している間に、前記アームを水平姿勢で微小距離だけ上
昇変位させる上昇変位手段と、を備えたものである。
【０００８】
【作用】本発明によれば、前進・後退駆動手段によりア
ームが前進駆動されるとともに、上昇変位手段によりア
ームが水平姿勢で微小距離だけ上昇される結果、アーム
はカセット内に多段に収納された基板の下方に斜めに上
昇しながら進入する。アームが基板の下方に進入した状
態で、昇降駆動手段によりアームが上昇され、カセット
内の基板がアーム上に移載される。そして、前進・後退
駆動手段により、基板を載置保持したアームが後退さ
れ、カセット内から基板が取り出される。
ームが前進駆動されるとともに、上昇変位手段によりア
ームが水平姿勢で微小距離だけ上昇される結果、アーム
はカセット内に多段に収納された基板の下方に斜めに上
昇しながら進入する。アームが基板の下方に進入した状
態で、昇降駆動手段によりアームが上昇され、カセット
内の基板がアーム上に移載される。そして、前進・後退
駆動手段により、基板を載置保持したアームが後退さ
れ、カセット内から基板が取り出される。
【０００９】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。 ＜第１実施例＞図１は、本発明の第１実施例に係る基板
搬送装置が使用させた半導体製造装置の概略構成を示す
斜視図である。この装置は、シリコンウエハ等の半導体
基板（以下、単に「基板」という）Ｗをレジスト塗布等
の各種の処理をするための装置であり、大別すると、未
処理基板Ｗや処理済み基板Ｗを保管する部分（以下、イ
ンデクサという）１と、基板Ｗを処理する基板処理部２
とから構成されている。
に説明する。 ＜第１実施例＞図１は、本発明の第１実施例に係る基板
搬送装置が使用させた半導体製造装置の概略構成を示す
斜視図である。この装置は、シリコンウエハ等の半導体
基板（以下、単に「基板」という）Ｗをレジスト塗布等
の各種の処理をするための装置であり、大別すると、未
処理基板Ｗや処理済み基板Ｗを保管する部分（以下、イ
ンデクサという）１と、基板Ｗを処理する基板処理部２
とから構成されている。
【００１０】インデクサ１は、固定の基台３上に一列状
態に載置された複数個のカセットＣと、このカセットＣ
と受け渡し位置Ｐとの間で基板Ｗを搬送する基板搬送装
置４とを配備して構成されている。各カセットＣ内に
は、基板Ｗを多段に収納できるようになっている。
態に載置された複数個のカセットＣと、このカセットＣ
と受け渡し位置Ｐとの間で基板Ｗを搬送する基板搬送装
置４とを配備して構成されている。各カセットＣ内に
は、基板Ｗを多段に収納できるようになっている。
【００１１】基板搬送装置４は、図２の斜視図、及び図
３の側面図それぞれに示すように、支持台１０上に設け
られた本発明の昇降駆動手段に含まれる昇降用のＺ軸モ
ータ１１と、前進・後退駆動手段に含まれる前進・後退
用のＸ軸モータ１２とを備えて構成されている。
３の側面図それぞれに示すように、支持台１０上に設け
られた本発明の昇降駆動手段に含まれる昇降用のＺ軸モ
ータ１１と、前進・後退駆動手段に含まれる前進・後退
用のＸ軸モータ１２とを備えて構成されている。
【００１２】支持台１０は、各カセットＣの並設方向に
平行に設けられた一対の第１のガイド１３に外嵌される
とともに、図示しないＹ軸モータによって回転駆動され
る第１ネジ軸１４に螺合されている。支持台１０は図示
しないＹ軸モータの駆動によりカセットＣの並設方向に
沿って往復移動するとともに、所定のカセットＣの前
方、及び前記した基板の受け渡し位置Ｐそれぞれの位置
において停止できるように構成されている。
平行に設けられた一対の第１のガイド１３に外嵌される
とともに、図示しないＹ軸モータによって回転駆動され
る第１ネジ軸１４に螺合されている。支持台１０は図示
しないＹ軸モータの駆動によりカセットＣの並設方向に
沿って往復移動するとともに、所定のカセットＣの前
方、及び前記した基板の受け渡し位置Ｐそれぞれの位置
において停止できるように構成されている。
【００１３】支持台１０に門型フレーム１５が設けられ
るとともに、支持台１０と門型フレーム１５とに一対の
第２のガイド１６が立設されている。この第２のガイド
１６に昇降支持部材１７が外嵌されるとともに、昇降支
持部材１７に第２ネジ軸１８が螺合されている。第２ネ
ジ軸１８の下部に前記した正逆可能なＺ軸モータ１１が
連動連結され、昇降支持部材１７を昇降できるように構
成されている。また、本実施例において、Ｚ軸モータ１
１は、上昇変位手段としての機能も備え、後述するカセ
ットＣ内へのアームの前進駆動中に、アームを微小な距
離だけ上昇させるように制御されている。アームの前進
駆動中の上昇距離は、カセットＣに収納された基板Ｗの
前傾の度合いに応じて設定されるもので、例えば、本実
施例では、カセットＣ内に向かってアームが２４０ｍｍ
前進する間に１ｍｍ上昇するようにＺ軸モータ１１は制
御されている。
るとともに、支持台１０と門型フレーム１５とに一対の
第２のガイド１６が立設されている。この第２のガイド
１６に昇降支持部材１７が外嵌されるとともに、昇降支
持部材１７に第２ネジ軸１８が螺合されている。第２ネ
ジ軸１８の下部に前記した正逆可能なＺ軸モータ１１が
連動連結され、昇降支持部材１７を昇降できるように構
成されている。また、本実施例において、Ｚ軸モータ１
１は、上昇変位手段としての機能も備え、後述するカセ
ットＣ内へのアームの前進駆動中に、アームを微小な距
離だけ上昇させるように制御されている。アームの前進
駆動中の上昇距離は、カセットＣに収納された基板Ｗの
前傾の度合いに応じて設定されるもので、例えば、本実
施例では、カセットＣ内に向かってアームが２４０ｍｍ
前進する間に１ｍｍ上昇するようにＺ軸モータ１１は制
御されている。
【００１４】昇降支持部材１７に取り付けられた昇降台
２０上には、各カセットＣの並設方向と直交する水平方
向に第３のガイド２１が設けられ、第１のプーリー２２
と第２のプーリー２３とが回動自在に軸支されている。
この第１のプーリー２２と第２のプーリー２３とにわた
って無端状のベルト２４が張設されている。ベルト２４
に移動台３０が取り付けられるとともに、移動台３０が
第３のガイド２１に外嵌されている。第１のプーリー２
２に前記した正逆可能なＸ軸モータ１２が連動連結さ
れ、カセットＣに対して移動台３０を前進・後退できる
ように構成されている。
２０上には、各カセットＣの並設方向と直交する水平方
向に第３のガイド２１が設けられ、第１のプーリー２２
と第２のプーリー２３とが回動自在に軸支されている。
この第１のプーリー２２と第２のプーリー２３とにわた
って無端状のベルト２４が張設されている。ベルト２４
に移動台３０が取り付けられるとともに、移動台３０が
第３のガイド２１に外嵌されている。第１のプーリー２
２に前記した正逆可能なＸ軸モータ１２が連動連結さ
れ、カセットＣに対して移動台３０を前進・後退できる
ように構成されている。
【００１５】移動台３０に支柱３１が立設され、この支
柱３１の上端にアーム３２が片持ち支持されている。ア
ーム３２は、図３に示すように、Ｘ方向の両端に、段付
きに形成された一対の基板支持部３３と、基板Ｗの端面
を位置決めするための一対のガイド部３４とに形成さ
れ、一対のガイド部３４との間で基板Ｗの端部が一対の
基板支持部３３に支持されて水平に保持されるように構
成されている。
柱３１の上端にアーム３２が片持ち支持されている。ア
ーム３２は、図３に示すように、Ｘ方向の両端に、段付
きに形成された一対の基板支持部３３と、基板Ｗの端面
を位置決めするための一対のガイド部３４とに形成さ
れ、一対のガイド部３４との間で基板Ｗの端部が一対の
基板支持部３３に支持されて水平に保持されるように構
成されている。
【００１６】次に、図４を参照して、基板搬送装置４の
制御系の構成を説明する。図４は、基板搬送装置の制御
系の構成を示したブロック図である。なお、ここでは、
Ｘ，Ｙ方向へのモータ制御について説明する。
制御系の構成を説明する。図４は、基板搬送装置の制御
系の構成を示したブロック図である。なお、ここでは、
Ｘ，Ｙ方向へのモータ制御について説明する。
【００１７】操作部４０はキーボード等によって構成さ
れ、この操作部４０を介してオペレータが基板の種類や
搬送条件等の情報を入力設定するものである。
れ、この操作部４０を介してオペレータが基板の種類や
搬送条件等の情報を入力設定するものである。
【００１８】ＣＰＵ４１は、装置全体の制御プログラ
ム、例えば、基板搬送装置４の走査経路の情報等が記憶
されている。また、アーム３２のＸ方向への前進駆動中
に、アーム３２をＺ方向へ微小距離だけ上昇させる上昇
変位量が設定されている。
ム、例えば、基板搬送装置４の走査経路の情報等が記憶
されている。また、アーム３２のＸ方向への前進駆動中
に、アーム３２をＺ方向へ微小距離だけ上昇させる上昇
変位量が設定されている。
【００１９】操作部４０から入力された情報は、ＣＰＵ
４１を介してＸ軸，Ｚ軸モータコントローラ４２，４３
へ送られる。Ｘ軸，Ｚ軸モータコントローラ４２，４３
は、ＣＰＵ４１からの指示に基づき、Ｘ軸，Ｚ軸モータ
１２，１１を駆動制御するためのものである。
４１を介してＸ軸，Ｚ軸モータコントローラ４２，４３
へ送られる。Ｘ軸，Ｚ軸モータコントローラ４２，４３
は、ＣＰＵ４１からの指示に基づき、Ｘ軸，Ｚ軸モータ
１２，１１を駆動制御するためのものである。
【００２０】次に、基板搬送装置４の動作を、図４，図
５を参照して説明する。なお、ここではアーム３２によ
るカセットＣから基板Ｗを取り出す場合について説明す
る。
５を参照して説明する。なお、ここではアーム３２によ
るカセットＣから基板Ｗを取り出す場合について説明す
る。
【００２１】（１） 先ず、操作部４０から開始の指示
があると、ＣＰＵ４１は図示しないＹ軸モータコントロ
ーラに移動指示を与える。その結果、Ｙ軸モータが回転
駆動されて支持台１０がＹ方向へ移動され、所定のカセ
ットＣの前方に位置決めされる。
があると、ＣＰＵ４１は図示しないＹ軸モータコントロ
ーラに移動指示を与える。その結果、Ｙ軸モータが回転
駆動されて支持台１０がＹ方向へ移動され、所定のカセ
ットＣの前方に位置決めされる。
【００２２】（２） 支持台１０が所定のカセットＣの
前方に位置決めされると、次にＣＰＵ４１は、Ｚ軸モー
タコントローラ４３に移動指示を与え、Ｚ軸モータ１１
が回転駆動される。これにより昇降台２０がＺ方向へ昇
降し、図５（ａ）に示すように、アーム３２を、カセッ
トＣに対向し、かつ所望の基板Ｗ2 と基板Ｗ1 との略間
に位置する高さに位置決めする。
前方に位置決めされると、次にＣＰＵ４１は、Ｚ軸モー
タコントローラ４３に移動指示を与え、Ｚ軸モータ１１
が回転駆動される。これにより昇降台２０がＺ方向へ昇
降し、図５（ａ）に示すように、アーム３２を、カセッ
トＣに対向し、かつ所望の基板Ｗ2 と基板Ｗ1 との略間
に位置する高さに位置決めする。
【００２３】（３） アーム３２が位置決めされた状態
で、ＣＰＵ４１は、Ｘ軸モータコントローラ４２に前進
移動指示を与えるとともに、Ｚ軸モータコントローラ４
３に前記したアーム３２をＺ方向へ微小距離だけ上昇さ
せる移動指示を与える。その結果、アーム３２は、図５
（ｂ）に示すように、水平状態でカセットＣ側に前進さ
れながら、微小な距離だけ上昇される。そして、アーム
３２は基板Ｗ1 と基板Ｗ2 との間隙から進入され、アー
ム３２が基板Ｗ2 の真下に位置した状態でＺ軸モータ１
１とＸ軸モータ１２とが停止される。
で、ＣＰＵ４１は、Ｘ軸モータコントローラ４２に前進
移動指示を与えるとともに、Ｚ軸モータコントローラ４
３に前記したアーム３２をＺ方向へ微小距離だけ上昇さ
せる移動指示を与える。その結果、アーム３２は、図５
（ｂ）に示すように、水平状態でカセットＣ側に前進さ
れながら、微小な距離だけ上昇される。そして、アーム
３２は基板Ｗ1 と基板Ｗ2 との間隙から進入され、アー
ム３２が基板Ｗ2 の真下に位置した状態でＺ軸モータ１
１とＸ軸モータ１２とが停止される。
【００２４】（４） アーム３２が基板Ｗ2 の真下に位
置した状態で、Ｚ軸モータ１１により、アーム３２を上
昇させてカセット内の基板Ｗ2 を下からすくい上げるよ
うにして移載し、基板Ｗ2 の端部をアーム３２の基板支
持部３３に支持する。アーム３２上に基板Ｗ2 を水平に
保持した状態で、Ｘ軸モータ１２を逆回転駆動させて後
退させることにより、カセットＣ内から基板Ｗ2 が取り
出される。なお、基板ＷのカセットＣ内への収納は、上
記した逆の手順で行われる。
置した状態で、Ｚ軸モータ１１により、アーム３２を上
昇させてカセット内の基板Ｗ2 を下からすくい上げるよ
うにして移載し、基板Ｗ2 の端部をアーム３２の基板支
持部３３に支持する。アーム３２上に基板Ｗ2 を水平に
保持した状態で、Ｘ軸モータ１２を逆回転駆動させて後
退させることにより、カセットＣ内から基板Ｗ2 が取り
出される。なお、基板ＷのカセットＣ内への収納は、上
記した逆の手順で行われる。
【００２５】＜第２実施例＞図６は、第２実施例の要部
の平面図、図７は、図６の側面図であり、この装置は、
カセットＣ内の基板Ｗの前倒れ状態を検出する基板検出
装置を備えたものである。なお、図中、上述した第１実
施例装置と同一符号で示す部分、また、基板搬送装置４
等は、第１実施例装置と同一構成であるので、ここでの
説明は省略する。
の平面図、図７は、図６の側面図であり、この装置は、
カセットＣ内の基板Ｗの前倒れ状態を検出する基板検出
装置を備えたものである。なお、図中、上述した第１実
施例装置と同一符号で示す部分、また、基板搬送装置４
等は、第１実施例装置と同一構成であるので、ここでの
説明は省略する。
【００２６】インデクサ１の基台３に、カセットＣを挟
むようにコの字状に形成された昇降自在の支持アーム５
０が設けられ、この支持アーム５０の一端に投光用光セ
ンサ５１が、そして他端に受光用光センサ５２がそれぞ
れ配備されている。投光用光センサ５１及び受光用光セ
ンサ５２は、カセットＣの基板Ｗを出し入れする開口部
５３、及び奥側の窓５４を介して対向し、かつ水平に取
り付けられている。支持アーム５０を昇降駆動しなが
ら、投光用光センサ５１を通じて投射した光に対する受
光用光センサ５２での受光状態に基づいて遮光・透光の
タイミングを計測することにより、基板Ｗの前倒れの度
合いを検出するように光センサ５５が構成されている。
すなわち、基板Ｗが水平状態であれば遮光状態の時間は
短く、基板Ｗが前倒れの度合いが増すに従って、遮光時
間が長くなるので、この遮光時間を検出することによっ
て基板Ｗの前倒れ度合いを知ることができる。
むようにコの字状に形成された昇降自在の支持アーム５
０が設けられ、この支持アーム５０の一端に投光用光セ
ンサ５１が、そして他端に受光用光センサ５２がそれぞ
れ配備されている。投光用光センサ５１及び受光用光セ
ンサ５２は、カセットＣの基板Ｗを出し入れする開口部
５３、及び奥側の窓５４を介して対向し、かつ水平に取
り付けられている。支持アーム５０を昇降駆動しなが
ら、投光用光センサ５１を通じて投射した光に対する受
光用光センサ５２での受光状態に基づいて遮光・透光の
タイミングを計測することにより、基板Ｗの前倒れの度
合いを検出するように光センサ５５が構成されている。
すなわち、基板Ｗが水平状態であれば遮光状態の時間は
短く、基板Ｗが前倒れの度合いが増すに従って、遮光時
間が長くなるので、この遮光時間を検出することによっ
て基板Ｗの前倒れ度合いを知ることができる。
【００２７】基台３の下方には、支持部材５６を介して
支持アーム５０に取り付けられた昇降支持部材５８と、
立設された一対の第４のガイド５７とが配備されてい
る。この第４のガイド５７に昇降支持部材５８が外嵌さ
れるとともに、昇降支持部材５８に第３ネジ軸５９が螺
合されている。第３ネジ軸５９の下部に正逆可能なｚ軸
モータ６０が連動連結され、昇降支持部材５８を昇降で
きるように構成されている。すなわち、光センサ５５を
カセットＣに収納された基板Ｗの並列収納方向に移動す
るように構成されている。
支持アーム５０に取り付けられた昇降支持部材５８と、
立設された一対の第４のガイド５７とが配備されてい
る。この第４のガイド５７に昇降支持部材５８が外嵌さ
れるとともに、昇降支持部材５８に第３ネジ軸５９が螺
合されている。第３ネジ軸５９の下部に正逆可能なｚ軸
モータ６０が連動連結され、昇降支持部材５８を昇降で
きるように構成されている。すなわち、光センサ５５を
カセットＣに収納された基板Ｗの並列収納方向に移動す
るように構成されている。
【００２８】次に、図８を参照して、第２実施例装置の
制御系の構成を説明する。図８は、第２実施例装置の制
御系の構成を示したブロック図である。ＣＰＵ６１は、
受光用光センサ５２からの検出信号を入力することによ
り各基板Ｗの前倒れ状態量を算出し、また、各基板Ｗの
前倒れ状態量からカセットＣ内へのアーム３２の前進駆
動時の上昇変位量を算出するものである。
制御系の構成を説明する。図８は、第２実施例装置の制
御系の構成を示したブロック図である。ＣＰＵ６１は、
受光用光センサ５２からの検出信号を入力することによ
り各基板Ｗの前倒れ状態量を算出し、また、各基板Ｗの
前倒れ状態量からカセットＣ内へのアーム３２の前進駆
動時の上昇変位量を算出するものである。
【００２９】ＲＡＭ６２は、後述するｚ軸モータコント
ローラ６３からの基板Ｗの位置情報と、その位置情報に
おける前記した基板Ｗの前倒れ状態量を対応付けて記憶
するものである。
ローラ６３からの基板Ｗの位置情報と、その位置情報に
おける前記した基板Ｗの前倒れ状態量を対応付けて記憶
するものである。
【００３０】操作部４０から基板Ｗの検出の指示が入力
されると、その指示情報は、ＣＰＵ６１を介して光セン
サ５１，５２へ送られるとともに、ｚ軸モータコントロ
ーラ６３へ送られる。ｚ軸モータコントローラ６３は、
ＣＰＵ６１からの指示に基づき、ｚ軸モータ６０を駆動
制御するためのものである。ｚ軸モータ６０には、回転
角検出用のロータリエンコーダであるｚ軸エンコーダ６
４が取り付けられている。ｚ軸モータコントローラ６３
は、ｚ軸エンコーダ６４からのパルス信号を計数するこ
とにより光センサ５１，５２の移動距離を検出する。な
お、ｚ軸モータコントローラ６３で検出された光センサ
５１，５２の移動距離はＣＰＵ６１にも与えられる。
されると、その指示情報は、ＣＰＵ６１を介して光セン
サ５１，５２へ送られるとともに、ｚ軸モータコントロ
ーラ６３へ送られる。ｚ軸モータコントローラ６３は、
ＣＰＵ６１からの指示に基づき、ｚ軸モータ６０を駆動
制御するためのものである。ｚ軸モータ６０には、回転
角検出用のロータリエンコーダであるｚ軸エンコーダ６
４が取り付けられている。ｚ軸モータコントローラ６３
は、ｚ軸エンコーダ６４からのパルス信号を計数するこ
とにより光センサ５１，５２の移動距離を検出する。な
お、ｚ軸モータコントローラ６３で検出された光センサ
５１，５２の移動距離はＣＰＵ６１にも与えられる。
【００３１】ＣＰＵ６１で、光センサ５１，５２の移動
距離と、受光用光センサ５２から送られた遮光・透光の
タイミング信号とから、カセットＣ内に各基板Ｗの前倒
れ状態量が算出される。算出された前倒れ状態量は、一
旦ＲＡＭ６２に記憶される。
距離と、受光用光センサ５２から送られた遮光・透光の
タイミング信号とから、カセットＣ内に各基板Ｗの前倒
れ状態量が算出される。算出された前倒れ状態量は、一
旦ＲＡＭ６２に記憶される。
【００３２】アーム３２の前進駆動時（図５（ｂ）参
照）に、ＣＰＵ６１は、取り出し対象の基板Ｗの下側の
基板Ｗの前倒れ状態を、ＲＡＭ６２からを読み出し、そ
の前倒れ状態量からアーム３２のＺ方向への上昇変位量
を算出する。すなわち、下側の基板Ｗの前倒れの度合い
が多い場合には、それに応じて上昇変位量を大きくす
る。そして、算出した上昇変位量に基づいてＺ軸モータ
１１が駆動制御され、上記した第１実施例と同様にして
カセットＣ内から基板Ｗが取り出される。
照）に、ＣＰＵ６１は、取り出し対象の基板Ｗの下側の
基板Ｗの前倒れ状態を、ＲＡＭ６２からを読み出し、そ
の前倒れ状態量からアーム３２のＺ方向への上昇変位量
を算出する。すなわち、下側の基板Ｗの前倒れの度合い
が多い場合には、それに応じて上昇変位量を大きくす
る。そして、算出した上昇変位量に基づいてＺ軸モータ
１１が駆動制御され、上記した第１実施例と同様にして
カセットＣ内から基板Ｗが取り出される。
【００３３】なお、上記第１実施例では、ＣＰＵでアー
ム３２の前進駆動時の上昇変位を制御するようにした
が、これに限らずその変形例としてＸ軸方向にカム機構
を並設してもよい。例えば、図９に示すように、移動台
７０の両側部に配備された一対のガイド板７１のカム溝
７２に、移動台７０の両側面に突設された一対のピン７
３を嵌合し、図示しないベルト駆動等の駆動源により、
移動台７０を前進させながら上昇させるようにしてもよ
い。
ム３２の前進駆動時の上昇変位を制御するようにした
が、これに限らずその変形例としてＸ軸方向にカム機構
を並設してもよい。例えば、図９に示すように、移動台
７０の両側部に配備された一対のガイド板７１のカム溝
７２に、移動台７０の両側面に突設された一対のピン７
３を嵌合し、図示しないベルト駆動等の駆動源により、
移動台７０を前進させながら上昇させるようにしてもよ
い。
【００３４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の基板搬送装置によれば、カセット内の基板が前傾した
姿勢で収納されていても、基板を載置するアームがカセ
ット内へ僅かに上昇しながら前進して進入するので、基
板とアームとの干渉が避けられ、その結果、基板に傷を
与えることなく、またパーティクルの発生を防止して基
板を取り出すことができる。
の基板搬送装置によれば、カセット内の基板が前傾した
姿勢で収納されていても、基板を載置するアームがカセ
ット内へ僅かに上昇しながら前進して進入するので、基
板とアームとの干渉が避けられ、その結果、基板に傷を
与えることなく、またパーティクルの発生を防止して基
板を取り出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例に係る基板搬送装置が使用
された半導体製造装置の全体概略構成を示す斜視図であ
る。
された半導体製造装置の全体概略構成を示す斜視図であ
る。
【図２】基板搬送装置の斜視図である。
【図３】基板搬送装置の一部切欠側面図である。
【図４】基板搬送装置の制御系の構成を示すブロック図
である。
である。
【図５】基板搬送装置の動作を示す図である。
【図６】第２実施例の要部を示す平面図である。
【図７】図６における側面図である。
【図８】第２実施例装置の制御系の構成を示すブロック
図である。
図である。
【図９】その他の実施例の要部を示す斜視図である。
【図１０】カセット内の基板収納状態を示す図である。
【図１１】従来の基板搬送装置の動作を示す図である。
１ … インデクサ ２ … 基板処理部 ４ … 基板搬送装置 １１ … Ｚ軸モータ（昇降駆動手段、上昇変位手段） １２ … Ｘ軸モータ（前進・後退駆動手段） ３２ … アーム ４０ … 操作部 ４１ … ＣＰＵ Ｃ … カセット Ｗ … 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤田 健二 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日本スクリーン製造株式会社洛西工場 内 (72)発明者 岡 義二 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日本スクリーン製造株式会社洛西工場 内
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を多段に収納するカセットから前記
基板を取り出し、かつ前記基板をカセットへ収納する基
板搬送装置において、 前記基板の端部を支持するアームと、 前記アームを昇降させる昇降駆動手段と、 前記アームを前進・後退させる前進・後退駆動手段と、 前記アームがカセット内へ進入している間に、前記アー
ムを水平姿勢で微小距離だけ上昇変位させる上昇変位手
段と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5134994A JP2882746B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5134994A JP2882746B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07232802A true JPH07232802A (ja) | 1995-09-05 |
| JP2882746B2 JP2882746B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=12884457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5134994A Expired - Fee Related JP2882746B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2882746B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6578891B1 (en) | 1999-07-08 | 2003-06-17 | Ebara Corporation | Substrate holder and substrate transfer apparatus using the same |
| CN107785296A (zh) * | 2016-08-29 | 2018-03-09 | 乐华科技股份有限公司 | 晶圆搬运装置改良结构 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5185853B2 (ja) | 2009-02-16 | 2013-04-17 | アテル株式会社 | 基板搬送装置 |
| CN103820803A (zh) * | 2012-10-18 | 2014-05-28 | 常州泰坦机械有限公司 | 一种二极管半成品酸洗转换设备 |
-
1994
- 1994-02-23 JP JP5134994A patent/JP2882746B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6578891B1 (en) | 1999-07-08 | 2003-06-17 | Ebara Corporation | Substrate holder and substrate transfer apparatus using the same |
| CN107785296A (zh) * | 2016-08-29 | 2018-03-09 | 乐华科技股份有限公司 | 晶圆搬运装置改良结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2882746B2 (ja) | 1999-04-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100350693B1 (ko) | 카세트 반송 기구 | |
| US20090016857A1 (en) | Substrate-replacing apparatus, substrate-processing apparatus, and substrate-inspecting apparatus | |
| TW201616259A (zh) | 加工裝置 | |
| EP1079429A1 (en) | Alignment processing mechanism and semiconductor processing device using it | |
| JPH06246658A (ja) | 基板搬送装置 | |
| CN1405839A (zh) | 基板搬运装置、基板处理系统及基板搬运方法 | |
| KR101366754B1 (ko) | 고속의 기판 정렬기 장치 | |
| JPH07232802A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JPH11165864A (ja) | 基板搬送装置及び基板処理装置 | |
| JP3246514B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP2002076097A (ja) | ウェハ転送装置およびウェハアライメント方法 | |
| JP2024052004A (ja) | 搬送システムおよび搬送方法 | |
| JP4249498B2 (ja) | 表面検査装置 | |
| JP2884522B2 (ja) | ウエハ移し換え装置 | |
| JP2011003695A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JPH05286526A (ja) | ウエハ移載装置 | |
| JP2001093960A (ja) | 処理装置用ウエファ位置決め装置 | |
| JPH0722495A (ja) | ウェーハ姿勢合わせ装置 | |
| JP2503732Y2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH10116869A (ja) | ウエハ検査装置 | |
| JPH05291376A (ja) | ウエハ移載装置 | |
| KR102076166B1 (ko) | 정렬부가 포함된 카세트모듈 로드락 장치 | |
| JPH0652753B2 (ja) | 基板搬出入装置 | |
| JP2002319559A (ja) | 研削装置 | |
| JPH03280447A (ja) | 基板有無検出方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080205 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090205 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100205 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100205 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100205 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110205 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110205 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120205 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120205 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120205 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 15 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140205 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |