JPH07252188A - コーン型カリックスアレーン系化合物誘導体 - Google Patents
コーン型カリックスアレーン系化合物誘導体Info
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- JPH07252188A JPH07252188A JP6775694A JP6775694A JPH07252188A JP H07252188 A JPH07252188 A JP H07252188A JP 6775694 A JP6775694 A JP 6775694A JP 6775694 A JP6775694 A JP 6775694A JP H07252188 A JPH07252188 A JP H07252188A
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- corn
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面改質剤として好適であるレゾルシン環状
4量体からなるコーン型カリックスアレーン系化合物を
得る。 【構成】 下記一般式化1(ただし、Rは炭素数が3か
ら18までのアルキル基、アラルキル基、アルケニル基
もしくは置換又は非置換のアリール基を示し、R’は炭
素数が1から3までのカルボキシアルキル基を示す。)
で表されるレゾルシン環状4量体からなるコーン型カリ
ックスアレーン系化合物誘導体である。 【化1】
4量体からなるコーン型カリックスアレーン系化合物を
得る。 【構成】 下記一般式化1(ただし、Rは炭素数が3か
ら18までのアルキル基、アラルキル基、アルケニル基
もしくは置換又は非置換のアリール基を示し、R’は炭
素数が1から3までのカルボキシアルキル基を示す。)
で表されるレゾルシン環状4量体からなるコーン型カリ
ックスアレーン系化合物誘導体である。 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レゾルシン環状4量体
からなるコーン型カリックスアレーン系化合物誘導体に
関するものである。その主な用途は、表面改質剤であ
る。
からなるコーン型カリックスアレーン系化合物誘導体に
関するものである。その主な用途は、表面改質剤であ
る。
【0002】
【従来の技術】材料の表面は、材料の諸特性を決める上
で、極めて重要である。近時、材料表面に各種表面改質
剤を付与し、表面修飾して材料の表面特性、即ち、帯電
性、電気伝導性、防食性、親水性或いは疎水性などを制
御の試みが盛んに行なわれている。また、高機能化を目
指した複合材料の設計においても、複合化により生じる
材料間の界面の制御技術として表面改質の重要性が指摘
されている。
で、極めて重要である。近時、材料表面に各種表面改質
剤を付与し、表面修飾して材料の表面特性、即ち、帯電
性、電気伝導性、防食性、親水性或いは疎水性などを制
御の試みが盛んに行なわれている。また、高機能化を目
指した複合材料の設計においても、複合化により生じる
材料間の界面の制御技術として表面改質の重要性が指摘
されている。
【0003】表面の特性向上や機能化を目的として材料
表面を改質する場合、できるだけ少ない量で、しかも、
簡単な方法によって処理することができる表面改質剤が
必要である。このような表面改質剤としては、改質剤分
子が多くの吸着点を有することにより吸着性が大きいと
共に、その吸着が強固であることにより、安定な表面改
質層を形成させることができ、しかも、材料表面におい
ては、高い配向性、配列性を示すことが強く要求されて
いる。更に、多種多様な被処理物への適用が可能である
表面改質剤が強く要求されている。
表面を改質する場合、できるだけ少ない量で、しかも、
簡単な方法によって処理することができる表面改質剤が
必要である。このような表面改質剤としては、改質剤分
子が多くの吸着点を有することにより吸着性が大きいと
共に、その吸着が強固であることにより、安定な表面改
質層を形成させることができ、しかも、材料表面におい
ては、高い配向性、配列性を示すことが強く要求されて
いる。更に、多種多様な被処理物への適用が可能である
表面改質剤が強く要求されている。
【0004】従来、表面改質処理としては、界面活性剤
やカップリング剤が広く汎用されている。界面活性剤に
よる材料(以下、被処理物という。)の処理は、界面活
性剤の溶液に浸漬する方法、複合化のプロセスにおいて
被処理物とともに界面活性剤を添加して混合する方法等
があり、非常に簡単な方法で処理ができるという利点が
ある。
やカップリング剤が広く汎用されている。界面活性剤に
よる材料(以下、被処理物という。)の処理は、界面活
性剤の溶液に浸漬する方法、複合化のプロセスにおいて
被処理物とともに界面活性剤を添加して混合する方法等
があり、非常に簡単な方法で処理ができるという利点が
ある。
【0005】界面活性剤による表面改質層は、界面活性
剤の有する親水性部位が被処理物の表面と水素結合やク
ーロン結合すると共に、長鎖アルキル基相互間の疎水結
合によって結合状態が補強されることによって形成され
る。
剤の有する親水性部位が被処理物の表面と水素結合やク
ーロン結合すると共に、長鎖アルキル基相互間の疎水結
合によって結合状態が補強されることによって形成され
る。
【0006】カップリング剤は、本来、無機質・有機質
間の接着を目的としたものでシラン系・チタネート系が
代表的なものである。シランカップリング剤による表面
改質層は、末端のシリル基にある1〜3個のアルコキシ
基やクロリド基と被処理物の表面に存在する水酸基とが
水の存在下で化学反応を起こして形成されるシロキサン
結合により、強固な改質層が形成される。カップリング
剤のうち、特に、チタンカップリング剤は、多種多様の
被処理物への処理が可能であり、適用性が広いという特
徴を有する。
間の接着を目的としたものでシラン系・チタネート系が
代表的なものである。シランカップリング剤による表面
改質層は、末端のシリル基にある1〜3個のアルコキシ
基やクロリド基と被処理物の表面に存在する水酸基とが
水の存在下で化学反応を起こして形成されるシロキサン
結合により、強固な改質層が形成される。カップリング
剤のうち、特に、チタンカップリング剤は、多種多様の
被処理物への処理が可能であり、適用性が広いという特
徴を有する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】吸着性が大きいと共
に、その吸着が強固であり、しかも、被処理物表面にお
いて高い配向性・配列性を示し、更に、多種多様の被処
理物への処理が可能であり、適用性の広い表面改質剤
は、現在最も要求されているところであるが、未だこの
ような表面改質剤は得られていない。
に、その吸着が強固であり、しかも、被処理物表面にお
いて高い配向性・配列性を示し、更に、多種多様の被処
理物への処理が可能であり、適用性の広い表面改質剤
は、現在最も要求されているところであるが、未だこの
ような表面改質剤は得られていない。
【0008】界面活性剤について言えば、被処理物の表
面における界面活性剤分子の吸着点は、被処理物の表面
に露出した水素結合点や静電荷と1:1の割合で吸着す
る為、水素結合点の数や静電荷の密度に大きく依存する
ので、界面活性剤の吸着量を人為的に制御することは困
難かあるいは不可能である。
面における界面活性剤分子の吸着点は、被処理物の表面
に露出した水素結合点や静電荷と1:1の割合で吸着す
る為、水素結合点の数や静電荷の密度に大きく依存する
ので、界面活性剤の吸着量を人為的に制御することは困
難かあるいは不可能である。
【0009】しかも、分子設計されて疎水部に組み込ま
れた機能団がその機能を発現するためには、多くの処理
量が必要である上、その構造は脆く簡単に崩壊するもの
であった。例えば、複合材料中で遊離して複合体の特性
に悪影響を及ぼす場合が多く報告されている(特開昭6
4−75581号公報及び特開昭57−92339号公
報)。
れた機能団がその機能を発現するためには、多くの処理
量が必要である上、その構造は脆く簡単に崩壊するもの
であった。例えば、複合材料中で遊離して複合体の特性
に悪影響を及ぼす場合が多く報告されている(特開昭6
4−75581号公報及び特開昭57−92339号公
報)。
【0010】そして、被処理物表面に吸着した界面活性
剤分子の配向や配列に秩序性を与えることも困難であ
る。また、改質層は、疎水部(一般に長鎖アルキル基)
における分子間の疎水結合を活用しているため、疎水基
は十分に長いアルキル基からなることが必須であるとい
う分子構造上での制約もある。
剤分子の配向や配列に秩序性を与えることも困難であ
る。また、改質層は、疎水部(一般に長鎖アルキル基)
における分子間の疎水結合を活用しているため、疎水基
は十分に長いアルキル基からなることが必須であるとい
う分子構造上での制約もある。
【0011】更に、どのような被処理物でも界面活性剤
で表面改質ができるとは限らず、被処理物の適用範囲が
制約されるという問題点があった。
で表面改質ができるとは限らず、被処理物の適用範囲が
制約されるという問題点があった。
【0012】カップリング剤のうち、シランカップリン
グ剤は、上記界面活性剤と同様に被処理物の適用範囲が
制約されるという欠点があり、ガラス等のケイ酸質の材
料に対しては、吸着性が優れているが、ケイ酸質以外の
材料に対しては、ほとんど吸着性を示さないものであ
る。そして、処理法の条件が非常に微妙であり、わずか
な違いで吸着形態や分子配向性などの性質が異なった改
質層が形成されやすいという欠点がある。
グ剤は、上記界面活性剤と同様に被処理物の適用範囲が
制約されるという欠点があり、ガラス等のケイ酸質の材
料に対しては、吸着性が優れているが、ケイ酸質以外の
材料に対しては、ほとんど吸着性を示さないものであ
る。そして、処理法の条件が非常に微妙であり、わずか
な違いで吸着形態や分子配向性などの性質が異なった改
質層が形成されやすいという欠点がある。
【0013】一方、チタンカップリング剤の一種である
テトラアルキルチタネートは水又は湿った空気に出会う
と急速に加水分解し、取扱いが不便であるという欠点が
ある。
テトラアルキルチタネートは水又は湿った空気に出会う
と急速に加水分解し、取扱いが不便であるという欠点が
ある。
【0014】そこで、本発明は、吸着性が大きいと共
に、その吸着が強固であり、しかも、被処理物表面にお
いて高い配向性・配列性を示し、更に、多種多様の被処
理物への処理が可能である化合物を得ることを技術的課
題とする。
に、その吸着が強固であり、しかも、被処理物表面にお
いて高い配向性・配列性を示し、更に、多種多様の被処
理物への処理が可能である化合物を得ることを技術的課
題とする。
【0015】
【課題を解決する為の手段】前記技術的課題は、次の通
りの本発明によって達成できる。
りの本発明によって達成できる。
【0016】即ち、本発明は、下記一般式化1(ただ
し、Rは炭素数が3から18までのアルキル基、アラル
キル基、アルケニル基もしくは置換又は非置換のアリー
ル基を示し、R’は炭素数が1〜3までのカルボキシア
ルキル基を示す。)で表されるレゾルシン環状4量体か
らなるコーン型カリックスアレーン系化合物誘導体であ
る。
し、Rは炭素数が3から18までのアルキル基、アラル
キル基、アルケニル基もしくは置換又は非置換のアリー
ル基を示し、R’は炭素数が1〜3までのカルボキシア
ルキル基を示す。)で表されるレゾルシン環状4量体か
らなるコーン型カリックスアレーン系化合物誘導体であ
る。
【0017】
【化1】
【0018】次に、本発明実施にあたっての諸条件につ
いて述べる。
いて述べる。
【0019】本発明のコーン型カリックスアレーン系化
合物誘導体において、一般式中のRにおいて、アルキル
基、アラルキル基、又はアルケニル基の炭素数は、3か
ら18までとすることが、表面改質剤として使用した場
合の、被処理物表面の疎水化特性を十分発揮するために
必要であり、特に8から18までの炭素数のものが、か
かる特性をより向上させるために好ましい。また、アリ
ール基を含めたこれらの基は、表面改質剤としての本発
明における所期の性能を著しく低下しない範囲で他の置
換基を結合しても良い。
合物誘導体において、一般式中のRにおいて、アルキル
基、アラルキル基、又はアルケニル基の炭素数は、3か
ら18までとすることが、表面改質剤として使用した場
合の、被処理物表面の疎水化特性を十分発揮するために
必要であり、特に8から18までの炭素数のものが、か
かる特性をより向上させるために好ましい。また、アリ
ール基を含めたこれらの基は、表面改質剤としての本発
明における所期の性能を著しく低下しない範囲で他の置
換基を結合しても良い。
【0020】更に、R’は、カルボキシアルキル基であ
ることが、被処理物表面への吸着特性をより発揮するた
めに必要であり、そのうち、特に、該アルキル基の炭素
数が1から3までのものが好適である。
ることが、被処理物表面への吸着特性をより発揮するた
めに必要であり、そのうち、特に、該アルキル基の炭素
数が1から3までのものが好適である。
【0021】本発明のコーン型カリックスアレーン系化
合物誘導体において、好適なものを具体的に例示すれ
ば、下記化2〜化6のそれぞれに示される化合物誘導体
等が挙げられる。
合物誘導体において、好適なものを具体的に例示すれ
ば、下記化2〜化6のそれぞれに示される化合物誘導体
等が挙げられる。
【0022】
【化2】
【0023】
【化3】
【0024】
【化4】
【0025】
【化5】
【0026】
【化6】
【0027】また、本発明の上記コーン型カリックスア
レーン系化合物誘導体は、一般に、常温で、白色乃至黄
色の針状結晶として存在し、下記の(イ)又は(ロ)の
手段によって確認することができる。
レーン系化合物誘導体は、一般に、常温で、白色乃至黄
色の針状結晶として存在し、下記の(イ)又は(ロ)の
手段によって確認することができる。
【0028】(イ)プロトン 1H−核磁気共鳴スペクト
ル(NMR)を測定することにより、分子中に存在する
プロトンの種類と個数を知ることができる。
ル(NMR)を測定することにより、分子中に存在する
プロトンの種類と個数を知ることができる。
【0029】(ロ)元素分析によって、炭素、水素、窒
素、イオウ、ハロゲン等の各重量割合を求めることがで
きる。また、認知された元素の重量割合の和を100か
ら減ずることによって、酸素の重量割合を算出すること
ができる。
素、イオウ、ハロゲン等の各重量割合を求めることがで
きる。また、認知された元素の重量割合の和を100か
ら減ずることによって、酸素の重量割合を算出すること
ができる。
【0030】本発明に係るカリックスアレーン系化合物
誘導体は、下記の方法により合成することができる。
誘導体は、下記の方法により合成することができる。
【0031】本発明において、コーン型カリックスアレ
ーン系化合物誘導体は、窒素等の不活性ガス雰囲気下
で、反応溶媒としてメタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール、メトキシエチルアルコール、エトキシ
エチルアルコール等のアルコール系溶媒を使用し、塩
酸、燐酸、パラトルエンスルホン酸等の酸触媒の存在下
に、レゾルシノールと下記一般式で示されるアルデヒド
とを還流させて反応させる方法によって製造することが
できる。
ーン系化合物誘導体は、窒素等の不活性ガス雰囲気下
で、反応溶媒としてメタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール、メトキシエチルアルコール、エトキシ
エチルアルコール等のアルコール系溶媒を使用し、塩
酸、燐酸、パラトルエンスルホン酸等の酸触媒の存在下
に、レゾルシノールと下記一般式で示されるアルデヒド
とを還流させて反応させる方法によって製造することが
できる。
【0032】R−CHO (ただし、Rは炭素数が3から18までのアルキル基、
アラルキル基、又はアルケニル基、もしくは置換又は非
置換のアリール基、又は上記アルキル基、アラルキル
基、又はアルケニル基、もしくは置換又は非置換のアリ
ール基を導入し得る基を示す。)
アラルキル基、又はアルケニル基、もしくは置換又は非
置換のアリール基、又は上記アルキル基、アラルキル
基、又はアルケニル基、もしくは置換又は非置換のアリ
ール基を導入し得る基を示す。)
【0033】この場合、各原料比は、レゾルシノール1
モルに対して、アルデヒド0.5〜1.5モル、好まし
くは等モルとなる割合が一般的である。
モルに対して、アルデヒド0.5〜1.5モル、好まし
くは等モルとなる割合が一般的である。
【0034】また、反応時間は、2時間以上、好ましく
は、10時間以上、更に好ましくは、10〜20時間反
応させることが、目的のコーン型カリックスアレーン系
化合物誘導体を収率よく得るために好ましい。
は、10時間以上、更に好ましくは、10〜20時間反
応させることが、目的のコーン型カリックスアレーン系
化合物誘導体を収率よく得るために好ましい。
【0035】Rがアルキル基、アラルキル基、アルケニ
ル基、置換又は非置換のアリール基を導入し得る基の場
合は、反応後に公知の手段によって所定の基を導入すれ
ばよい。
ル基、置換又は非置換のアリール基を導入し得る基の場
合は、反応後に公知の手段によって所定の基を導入すれ
ばよい。
【0036】導入法としては、例えば、末端に二重結合
やハロゲン等を有する官能基を、あらかじめ導入してお
き、次いで、この二重結合やハロゲン等の部分を既知の
反応により、目的に応じて官能基で変換すればよい。
やハロゲン等を有する官能基を、あらかじめ導入してお
き、次いで、この二重結合やハロゲン等の部分を既知の
反応により、目的に応じて官能基で変換すればよい。
【0037】本発明のコーン型カリックスアレーン系化
合物誘導体のR’は、上記反応後に導入することができ
る。
合物誘導体のR’は、上記反応後に導入することができ
る。
【0038】かかるR’、即ち、炭素数1から3のカル
ボキシルアルキル基の導入は、公知の方法により行なう
ことができる。
ボキシルアルキル基の導入は、公知の方法により行なう
ことができる。
【0039】代表的な方法を例示すれば、上記反応生成
物を炭酸カリウム等の塩基の存在下に、ω−ハロカルボ
ン酸エステルと、N,Nジメチルホルムアルデヒド(D
MF)等の極性溶媒中、70〜100℃で2〜10時間
反応させた後、加水分解することによってカルボキシア
ルキル基を導入することができる。
物を炭酸カリウム等の塩基の存在下に、ω−ハロカルボ
ン酸エステルと、N,Nジメチルホルムアルデヒド(D
MF)等の極性溶媒中、70〜100℃で2〜10時間
反応させた後、加水分解することによってカルボキシア
ルキル基を導入することができる。
【0040】本発明に係るカリックスアレーン系化合物
誘導体は、製法が簡単であって収率が高く工業的・経済
的に好ましいものである。
誘導体は、製法が簡単であって収率が高く工業的・経済
的に好ましいものである。
【0041】次に、本発明に係るカリックスアレーン系
化合物誘導体を用いる表面改質方法について述べる。
化合物誘導体を用いる表面改質方法について述べる。
【0042】本発明に係る表面改質剤を使用した被処理
物の改質方法は、該表面改質剤が処理物の表面に均一に
接触する方法が特に制限なく採用される。
物の改質方法は、該表面改質剤が処理物の表面に均一に
接触する方法が特に制限なく採用される。
【0043】本発明に係るコーン型カリックスアレーン
系化合物誘導体は、結晶状態で得られ、使用に際して
は、このまま結晶状態で使用してもよいし、また、溶液
状態で使用してもよい。
系化合物誘導体は、結晶状態で得られ、使用に際して
は、このまま結晶状態で使用してもよいし、また、溶液
状態で使用してもよい。
【0044】代表的な方法を例示すれば、コーン型カリ
ックスアレーン系化合物誘導体を溶解した処理液に被処
理物を該処理液中に浸漬する方法、該処理液を被処理物
にスプレー、塗布等の方法で接触させる方法等が挙げら
れる。
ックスアレーン系化合物誘導体を溶解した処理液に被処
理物を該処理液中に浸漬する方法、該処理液を被処理物
にスプレー、塗布等の方法で接触させる方法等が挙げら
れる。
【0045】上記コーン型カリックスアレーン系化合物
誘導体の溶解には、コーン型カリックスアレーン系化合
物誘導体を溶解し、且つ低極性の有機溶媒を使用するこ
とが、被処理物への吸着を効果的に行なうために好まし
い。
誘導体の溶解には、コーン型カリックスアレーン系化合
物誘導体を溶解し、且つ低極性の有機溶媒を使用するこ
とが、被処理物への吸着を効果的に行なうために好まし
い。
【0046】かかる有機溶媒を具体的に例示すれば、ト
ルエン、ベンゼン、クロロホルム、キシレン、塩化メチ
レン、ヘキサン、シクロヘキサン等の低極性有機溶媒が
挙げられる。
ルエン、ベンゼン、クロロホルム、キシレン、塩化メチ
レン、ヘキサン、シクロヘキサン等の低極性有機溶媒が
挙げられる。
【0047】また、コーン型カリックスアレーン系化合
物誘導体の溶解性を高めるために、上記有機溶媒に、被
処理物への吸着性を阻害しない範囲で、テトラヒドロフ
ラン(THF)、アセトン、アルコール類等の極性溶媒
を混合して使用してもよい。
物誘導体の溶解性を高めるために、上記有機溶媒に、被
処理物への吸着性を阻害しない範囲で、テトラヒドロフ
ラン(THF)、アセトン、アルコール類等の極性溶媒
を混合して使用してもよい。
【0048】また、上記処理液中のコーン型カリックス
アレーン系化合物誘導体の濃度は、一般に、10-6〜1
0-1mol/l程度でよく、特に被処理物の表面に緻密
な改質層を形成するためには、10-5〜10-2mol/
lの濃度を採用することが好ましい。
アレーン系化合物誘導体の濃度は、一般に、10-6〜1
0-1mol/l程度でよく、特に被処理物の表面に緻密
な改質層を形成するためには、10-5〜10-2mol/
lの濃度を採用することが好ましい。
【0049】本発明において、被処理物は、表面に極性
基を有するものが好適である。例えば、表面に極性基を
有する金属、金属酸化物及び樹脂、具体的には、鉄及び
鉄を主成分とする合金、銅及び銅を主成分とする合金、
チタン及びチタンを主成分とする合金、アルミニウム及
びアルミニウムを主成分とする合金、ニッケル及びニッ
ケルを主成分とする合金等の金属、シリカ、石英等の二
酸化珪素、二酸化珪素を主成分とする複合金属酸化物、
酸化鉄、酸化亜鉛、チタニア、アルミナ、フェライト等
の金属酸化物、ポリビニルアルコール、セルロース、ポ
リアミド、ポリウレタン、ポリイミド等の樹脂からなる
粉体、成形体等が挙げられる。
基を有するものが好適である。例えば、表面に極性基を
有する金属、金属酸化物及び樹脂、具体的には、鉄及び
鉄を主成分とする合金、銅及び銅を主成分とする合金、
チタン及びチタンを主成分とする合金、アルミニウム及
びアルミニウムを主成分とする合金、ニッケル及びニッ
ケルを主成分とする合金等の金属、シリカ、石英等の二
酸化珪素、二酸化珪素を主成分とする複合金属酸化物、
酸化鉄、酸化亜鉛、チタニア、アルミナ、フェライト等
の金属酸化物、ポリビニルアルコール、セルロース、ポ
リアミド、ポリウレタン、ポリイミド等の樹脂からなる
粉体、成形体等が挙げられる。
【0050】そのうち、表面の極性の強い二酸化珪素、
酸化鉄等は、表面改質剤が極めて強固に吸着するため、
安定性が優れた表面改質物が得られる。
酸化鉄等は、表面改質剤が極めて強固に吸着するため、
安定性が優れた表面改質物が得られる。
【0051】
【作用】先ず、本発明において最も重要な点は、本発明
に係るカリックスアレーン系化合物誘導体は、表面処理
剤として用いた場合、被処理物表面に吸着しやすいもの
であると共に、その吸着が強固であり、しかも、被処理
物表面において高い配向性・配列性を示し、更に、多種
多様の被処理物への処理が可能であり、適用性の広いも
のであるという事実である。
に係るカリックスアレーン系化合物誘導体は、表面処理
剤として用いた場合、被処理物表面に吸着しやすいもの
であると共に、その吸着が強固であり、しかも、被処理
物表面において高い配向性・配列性を示し、更に、多種
多様の被処理物への処理が可能であり、適用性の広いも
のであるという事実である。
【0052】この事実について、本発明者は、本発明に
係るコーン型カリックスアレーン系化合物誘導体は、三
次元的に剛直である特徴的な構造を持ち、分子の一方向
に複数の吸着部位をもち、その反対方向に複数の化学基
を持っていることによるものと考えている。即ち、一分
子が複数の吸着部位を持つことにより材料表面の吸着サ
イト(水酸基や電荷など)の密度の影響が少なくなるこ
とにより吸着性が大きくなり、一分子が複数の吸着平衡
を同時に持つことができることにより、強固に吸着で
き、そして緊密な吸着層が形成された場合、複数の吸着
部位と材料表面との相互作用に加えて被処理物の表面に
吸着している吸着分子相互間で水素結合などによる相互
作用も生じることによって、より配向性・配列性の高い
強固な改質層を形成するものと考えている。
係るコーン型カリックスアレーン系化合物誘導体は、三
次元的に剛直である特徴的な構造を持ち、分子の一方向
に複数の吸着部位をもち、その反対方向に複数の化学基
を持っていることによるものと考えている。即ち、一分
子が複数の吸着部位を持つことにより材料表面の吸着サ
イト(水酸基や電荷など)の密度の影響が少なくなるこ
とにより吸着性が大きくなり、一分子が複数の吸着平衡
を同時に持つことができることにより、強固に吸着で
き、そして緊密な吸着層が形成された場合、複数の吸着
部位と材料表面との相互作用に加えて被処理物の表面に
吸着している吸着分子相互間で水素結合などによる相互
作用も生じることによって、より配向性・配列性の高い
強固な改質層を形成するものと考えている。
【0053】
【実施例】次に、実施例で本発明に関して詳しく説明す
る。尚、以下の実施例は、本発明の範囲を限定するもの
ではなく、本発明の性質をより明確に例示させるための
ものである。
る。尚、以下の実施例は、本発明の範囲を限定するもの
ではなく、本発明の性質をより明確に例示させるための
ものである。
【0054】次に、実施例並びに比較例により、本発明
を説明する。
を説明する。
【0055】尚、以下の実施例並びに比較例において、
UVスペクトルの測定は、日立製作所製UV−320型
を用いて測定した。
UVスペクトルの測定は、日立製作所製UV−320型
を用いて測定した。
【0056】接触角の測定は、協和化学(株)CA−P
型を用いて、一定量の水滴を処理基板上に落として30
秒後に測定した。
型を用いて、一定量の水滴を処理基板上に落として30
秒後に測定した。
【0057】液晶配向の測定法は、表面改質された石英
板2枚の間にネマチック液晶(NPC−02)ロディッ
ク社製を挟み、これをコノスコープで観察して液晶の配
向を調べた。
板2枚の間にネマチック液晶(NPC−02)ロディッ
ク社製を挟み、これをコノスコープで観察して液晶の配
向を調べた。
【0058】<コーン型レゾルシン環状4量体からなる
カリックスアレーン系化合物誘導体の合成> 実施例1〜3;
カリックスアレーン系化合物誘導体の合成> 実施例1〜3;
【0059】実施例1 一般式化1で表される化合物でR=CH3 (C
H2 )10,R’=Hの化合物を、既知の方法(Jour
nal of American ChemicalS
ociety 111巻 14号 1989年 539
7−5404頁参照)で合成した。
H2 )10,R’=Hの化合物を、既知の方法(Jour
nal of American ChemicalS
ociety 111巻 14号 1989年 539
7−5404頁参照)で合成した。
【0060】
【化1】
【0061】マグネチックスターラー、水冷冷却器及び
加熱装置の付いた50mlの三つ口フラスコに、上記化
合物1.0gを10mlのDMFに溶解した。これに炭
酸カリウム2.0gとブロモ酢酸エチル1.6mlを加
え(それぞれが原料化合物のR’に対して約2当量に該
当する。)、80℃に加熱しながら5時間攪拌した。
加熱装置の付いた50mlの三つ口フラスコに、上記化
合物1.0gを10mlのDMFに溶解した。これに炭
酸カリウム2.0gとブロモ酢酸エチル1.6mlを加
え(それぞれが原料化合物のR’に対して約2当量に該
当する。)、80℃に加熱しながら5時間攪拌した。
【0062】反応混合物から目的物をエーテルで抽出
し、水で洗浄後、飽和食塩水、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。
し、水で洗浄後、飽和食塩水、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。
【0063】次いで、エーテルを減圧で留去するとやや
黄色い透明な針状の結晶が得られた。
黄色い透明な針状の結晶が得られた。
【0064】該針状の結晶は、融点30〜31℃、NM
Rの測定からR’がCH2 COOC2 H5 となっている
ことがわかった。この時の収率は89%であった。
Rの測定からR’がCH2 COOC2 H5 となっている
ことがわかった。この時の収率は89%であった。
【0065】マグネチックスターラー、水冷冷却器及び
加熱装置の付いた50mlの三つ口フラスコに、この化
合物1.0gをエタノール10mlに溶解して入れ、水
酸化カリウム0.5g(原料化合物のR’に対して約2
当量に該当する。)を加えた。生成した白色の沈澱を水
を適当量加えて溶解した。60℃に加熱しながら1時間
攪拌した。次いで、希塩酸水溶液で反応混合物の溶液の
pH値を3.5に調節すると白色の沈澱が生成した。
加熱装置の付いた50mlの三つ口フラスコに、この化
合物1.0gをエタノール10mlに溶解して入れ、水
酸化カリウム0.5g(原料化合物のR’に対して約2
当量に該当する。)を加えた。生成した白色の沈澱を水
を適当量加えて溶解した。60℃に加熱しながら1時間
攪拌した。次いで、希塩酸水溶液で反応混合物の溶液の
pH値を3.5に調節すると白色の沈澱が生成した。
【0066】これをエーテルで抽出し、水で洗浄後、飽
和食塩水、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
和食塩水、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
【0067】次いで、エーテルを減圧で留去すると白い
粉末を得た。収率は98%であった。
粉末を得た。収率は98%であった。
【0068】この化合物の元素分析値は、C:64.9
9%、H:8.31%であり、組成式C88H128 O24・
3H2 O(1624.03)に対する計算値C:65.
08%、H:8.31%によく一致していた。
9%、H:8.31%であり、組成式C88H128 O24・
3H2 O(1624.03)に対する計算値C:65.
08%、H:8.31%によく一致していた。
【0069】また、 1H−核磁気共鳴スペクトル(δ;
ppm:テトラメチルシラン規準、重DMSO溶媒)を
測定した結果を図1に示した。その解析結果は以下の通
りである。
ppm:テトラメチルシラン規準、重DMSO溶媒)を
測定した結果を図1に示した。その解析結果は以下の通
りである。
【0070】即ち、0.8ppmにプロトン12個分に
相当する三重線が認められ、4つのメチル基(a)によ
るものと帰属できる。1.2ppmにプロトン72個分
に相当するピークが認められアルキル鎖中のメチレン基
(b)によるものと帰属できる。1.7ppmにプロト
ン8個分に相当するピークが認められアルキル鎖中のメ
チレン基(c)に帰属できる。4.0〜4.7ppm付
近にプロトン20個分に相当する複数のピークが認めら
れるが、これは分子内に不斉点が存在するため(d)の
メチレン基の二つのプロトンが磁気的に非等価となり、
それぞれが二重線として現れ4.5ppmのメチン基
(e)のピークと重なっていると解釈される。6.4p
pmと6.6ppmに併せてプロトン8個分に相当する
一重線が二つ認められ、ベンゼン環の二つのプロトン
(f)、(g)に帰属できる。12.5ppmにプロト
ン8個分のブロードなピークが認められ、これは重水を
添加すると消えてしまうことからカルボン酸のプロトン
(h)、(i)に帰属できる。
相当する三重線が認められ、4つのメチル基(a)によ
るものと帰属できる。1.2ppmにプロトン72個分
に相当するピークが認められアルキル鎖中のメチレン基
(b)によるものと帰属できる。1.7ppmにプロト
ン8個分に相当するピークが認められアルキル鎖中のメ
チレン基(c)に帰属できる。4.0〜4.7ppm付
近にプロトン20個分に相当する複数のピークが認めら
れるが、これは分子内に不斉点が存在するため(d)の
メチレン基の二つのプロトンが磁気的に非等価となり、
それぞれが二重線として現れ4.5ppmのメチン基
(e)のピークと重なっていると解釈される。6.4p
pmと6.6ppmに併せてプロトン8個分に相当する
一重線が二つ認められ、ベンゼン環の二つのプロトン
(f)、(g)に帰属できる。12.5ppmにプロト
ン8個分のブロードなピークが認められ、これは重水を
添加すると消えてしまうことからカルボン酸のプロトン
(h)、(i)に帰属できる。
【0071】以上の結果から、単離生成物は、化2に示
す通り、R=CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COO
Hである一般式化1で表される化合物であることが明ら
かとなった。この化合物の融点は174−175℃であ
った。
す通り、R=CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COO
Hである一般式化1で表される化合物であることが明ら
かとなった。この化合物の融点は174−175℃であ
った。
【0072】
【化2】
【0073】実施例2 出発物質を一般式化1で表される化合物でR=CH
3 (CH2 )2 ,R’=Hの化合物を用いた以外は、実
施例1と同様の方法で合成を行なった。収率は97%で
あった。
3 (CH2 )2 ,R’=Hの化合物を用いた以外は、実
施例1と同様の方法で合成を行なった。収率は97%で
あった。
【0074】この化合物の元素分析値は、C:57.9
8%、H:5.78%であり、組成式C56H64O24・2
H2 O(1157.15)に対する計算値C:58.1
3%、H:5.92%によく一致していた。
8%、H:5.78%であり、組成式C56H64O24・2
H2 O(1157.15)に対する計算値C:58.1
3%、H:5.92%によく一致していた。
【0075】また、 1H−核磁気共鳴スペクトル(δ;
ppm:テトラメチルシラン規準、重DMSO溶媒)を
測定した結果を図2に示した。
ppm:テトラメチルシラン規準、重DMSO溶媒)を
測定した結果を図2に示した。
【0076】即ち、0.8ppmにプロトン12個分に
相当する三重線が認められ、4つのメチル基(a)によ
るものと帰属できる。1.2ppmにプロトン8個分に
相当するピークが認められアルキル鎖中のメチレン基
(b)によるものと帰属できる。1.7ppmにプロト
ン8個分に相当するピークが認められアルキル鎖中のメ
チレン基(c)に帰属できる。4.0〜4.7ppm付
近にプロトン20個分に相当する複数のピークが認めら
れるが、これは分子内に不斉点が存在するため(d)の
メチレン基の二つのプロトンが磁気的に非等価となり、
それぞれが二重線として現れ4.5ppmのメチン基
(e)のピークと重なっていると解釈される。6.4p
pmと6.6ppmに合わせてプロトン8個分に相当す
る一重線が二つ認められ、ベンゼン環の二つのプロトン
(f)、(g)に帰属できる。12.5ppmにプロト
ン8個分のブロードなピークが認められ、これは重水を
添加すると消えてしまうことからカルボン酸のプロトン
(h)、(i)に帰属できる。
相当する三重線が認められ、4つのメチル基(a)によ
るものと帰属できる。1.2ppmにプロトン8個分に
相当するピークが認められアルキル鎖中のメチレン基
(b)によるものと帰属できる。1.7ppmにプロト
ン8個分に相当するピークが認められアルキル鎖中のメ
チレン基(c)に帰属できる。4.0〜4.7ppm付
近にプロトン20個分に相当する複数のピークが認めら
れるが、これは分子内に不斉点が存在するため(d)の
メチレン基の二つのプロトンが磁気的に非等価となり、
それぞれが二重線として現れ4.5ppmのメチン基
(e)のピークと重なっていると解釈される。6.4p
pmと6.6ppmに合わせてプロトン8個分に相当す
る一重線が二つ認められ、ベンゼン環の二つのプロトン
(f)、(g)に帰属できる。12.5ppmにプロト
ン8個分のブロードなピークが認められ、これは重水を
添加すると消えてしまうことからカルボン酸のプロトン
(h)、(i)に帰属できる。
【0077】以上の結果から、単離生成物は、化3に示
す通り、R=CH3 (CH2 )2 ,R’=CH2 COO
Hである一般式化1で表される化合物であることが明ら
かとなった。この化合物の融点は209〜210℃であ
った。
す通り、R=CH3 (CH2 )2 ,R’=CH2 COO
Hである一般式化1で表される化合物であることが明ら
かとなった。この化合物の融点は209〜210℃であ
った。
【0078】
【化3】
【0079】<吸着テスト> 使用例1〜3、比較使用例1〜3;
【0080】使用例1 実施例1で得られた一般式化1で表される化合物でR=
CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COOHである化合
物32.5mgをトルエンとTHFの混合溶媒(体積比
率9:1)20mlに溶解(1.0×10-3mol/l
に相当する。)した。これに十分洗浄した石英板(1×
3cm)を15分間浸漬した。
CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COOHである化合
物32.5mgをトルエンとTHFの混合溶媒(体積比
率9:1)20mlに溶解(1.0×10-3mol/l
に相当する。)した。これに十分洗浄した石英板(1×
3cm)を15分間浸漬した。
【0081】この石英板を取り出し、トルエンで洗浄
し、乾燥した。
し、乾燥した。
【0082】同様の操作を処理濃度を代えて数点行なっ
た。
た。
【0083】吸着量は、UVスペクトルの測定(日立U
V320)で得た吸光度と化合物の吸光係数ε=1.6
×104 からLambert−Beerの式に従い単分
子層仮定で計算した一分子占有面積(Å2 /molec
ule)で表した。
V320)で得た吸光度と化合物の吸光係数ε=1.6
×104 からLambert−Beerの式に従い単分
子層仮定で計算した一分子占有面積(Å2 /molec
ule)で表した。
【0084】また、処理した石英板の一定量の水滴に対
する接触角の測定を行なった。
する接触角の測定を行なった。
【0085】更に、吸着した分子の配向性の目安として
処理基板の間に挟み液晶(NPC−02)のホメオトロ
ピック配向が誘起されるかどうかをコノスコープでで観
察した。
処理基板の間に挟み液晶(NPC−02)のホメオトロ
ピック配向が誘起されるかどうかをコノスコープでで観
察した。
【0086】結果を表1に示した。これを見てわかるよ
うに一般式化1で表される化合物でR=CH3 (C
H2 )10,R’=CH2 COOHである化合物は、石英
板によく吸着しており、10-4/mol/lという低い
濃度でも分子膜型から予想される一分子占有面積120
Å2 /molecule前後に近い値が出ている。ま
た、吸着量が少なくても液晶が配向している。
うに一般式化1で表される化合物でR=CH3 (C
H2 )10,R’=CH2 COOHである化合物は、石英
板によく吸着しており、10-4/mol/lという低い
濃度でも分子膜型から予想される一分子占有面積120
Å2 /molecule前後に近い値が出ている。ま
た、吸着量が少なくても液晶が配向している。
【0087】使用例2 使用例1と同様の方法で実施例2で得られた一般式化1
で表されるR=CH3(CH2 )2 ,R’=CH2 CO
OHの化合物で石英板の処理を行なった。結果は表1に
示した。これから長いアルキル鎖がなくても自己配列的
な吸着が起こることがわかった。
で表されるR=CH3(CH2 )2 ,R’=CH2 CO
OHの化合物で石英板の処理を行なった。結果は表1に
示した。これから長いアルキル鎖がなくても自己配列的
な吸着が起こることがわかった。
【0088】比較使用例1 4−ドデシルレゾシノールの二つの水酸基を−OCH2
COOHに代えた化合物を用い、使用例1と同様に行な
った。結果は表1に示した。接触角が低く液晶の配向も
遅い。
COOHに代えた化合物を用い、使用例1と同様に行な
った。結果は表1に示した。接触角が低く液晶の配向も
遅い。
【0089】比較使用例2 p−ドデシルフェノールの水酸基を−OCH2 COOH
に代えた化合物を用い、使用例1と同様に行なった。結
果は表1に示した。吸光係数が1600程度と小さく吸
着量も少ないため定量できなかった、接触角も低く配向
しない。
に代えた化合物を用い、使用例1と同様に行なった。結
果は表1に示した。吸光係数が1600程度と小さく吸
着量も少ないため定量できなかった、接触角も低く配向
しない。
【0090】使用例3 実施例1で得られた一般式化1で表される化合物でR=
CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COOHである化合
物32.5mgをトルエンとTHFの混合溶液(体積比
率9:1)20mlに溶解(1.0×10-3mol/l
に相当する。)した。これにポビニルアルコールをスピ
ンコートした石英板(1×3cm2 )を15分間浸漬し
た。この後コートした石英板を取り出しトルエンで洗浄
し、乾燥した。
CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COOHである化合
物32.5mgをトルエンとTHFの混合溶液(体積比
率9:1)20mlに溶解(1.0×10-3mol/l
に相当する。)した。これにポビニルアルコールをスピ
ンコートした石英板(1×3cm2 )を15分間浸漬し
た。この後コートした石英板を取り出しトルエンで洗浄
し、乾燥した。
【0091】吸着量は、UVスペクトルの測定で得た吸
光度と化合物の吸光係数ε=1.6×104 からLam
bert−Beerの式に従い単分子層仮定で計算した
一分子占有面積(Å2 /molecule)で表した。
また、吸着した分子の配向性の目安として処理基板の間
に液晶を挟み、液晶(NPC−02)のホメオトロピッ
ク配向が誘起されるかどうかをコノスコープで観察し
た。結果を表2に示した。その結果、使用例1と同様の
良好な吸着をしていることがわかった。
光度と化合物の吸光係数ε=1.6×104 からLam
bert−Beerの式に従い単分子層仮定で計算した
一分子占有面積(Å2 /molecule)で表した。
また、吸着した分子の配向性の目安として処理基板の間
に液晶を挟み、液晶(NPC−02)のホメオトロピッ
ク配向が誘起されるかどうかをコノスコープで観察し
た。結果を表2に示した。その結果、使用例1と同様の
良好な吸着をしていることがわかった。
【0092】比較使用例3 4−ドデシルレゾルシノールの二つの水酸基を−OCH
2 COOHに代えた化合物を用い、使用例3と同様に行
なった、結果は表2に示した。吸着しても配向性が劣っ
ていることがわかった。
2 COOHに代えた化合物を用い、使用例3と同様に行
なった、結果は表2に示した。吸着しても配向性が劣っ
ていることがわかった。
【0093】<吸着層の安定性>吸着により形成された
表面改質層の安定性をみるため、上記各使用例及び各比
較使用例で得られた処理済基板をトルエン、クロロホル
ム、THF、メタノールの順で順次極性の高い溶媒で洗
浄し、それぞれがどの溶媒で吸着層が破壊されるかをU
Vスペクトルで測定した。その結果を表3に示す。表3
に示される通り、本発明に係るカリックスアレーン系化
合物は、各比較使用例に比べ安定な吸着層を形成するこ
とがわかった。
表面改質層の安定性をみるため、上記各使用例及び各比
較使用例で得られた処理済基板をトルエン、クロロホル
ム、THF、メタノールの順で順次極性の高い溶媒で洗
浄し、それぞれがどの溶媒で吸着層が破壊されるかをU
Vスペクトルで測定した。その結果を表3に示す。表3
に示される通り、本発明に係るカリックスアレーン系化
合物は、各比較使用例に比べ安定な吸着層を形成するこ
とがわかった。
【0094】この効果は、本発明の表面処理剤に係るコ
ーン型カリックスアレーン化合物誘導体が一分子中に多
数の吸着部位を有していることによるものと推定され
る。
ーン型カリックスアレーン化合物誘導体が一分子中に多
数の吸着部位を有していることによるものと推定され
る。
【0095】
【表1】
【0096】
【表2】
【0097】
【表3】
【0098】
【発明の効果】本発明に係るカリックスアレーン系化合
物誘導体は、前出実施例に示した通り、吸着性が大きい
と共に、その吸着が強固であり、しかも、被処理物表面
において、高い配向性・配列性を示し、更に、多種多様
の被処理物への処理が可能であり、適用性の広いもので
あるから、表面改質剤として好適である。
物誘導体は、前出実施例に示した通り、吸着性が大きい
と共に、その吸着が強固であり、しかも、被処理物表面
において、高い配向性・配列性を示し、更に、多種多様
の被処理物への処理が可能であり、適用性の広いもので
あるから、表面改質剤として好適である。
【0099】従って、極性表面を有する被処理物に、本
発明の表面処理剤を吸着させることにより、該処理物に
簡単に極めて安定な改質表面を形成することが可能であ
る。
発明の表面処理剤を吸着させることにより、該処理物に
簡単に極めて安定な改質表面を形成することが可能であ
る。
【図1】 実施例1で得られた一般式化1で表されるR
=CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COOHであるコ
ーン型カレックスアレーン系化合物誘導体の構造式と 1
H−核磁気共鳴スペクトルである。
=CH3 (CH2 )10,R’=CH2 COOHであるコ
ーン型カレックスアレーン系化合物誘導体の構造式と 1
H−核磁気共鳴スペクトルである。
【図2】 実施例2で得られた一般式化1で表されるR
=CH3 (CH2 )2 ,R’=CH2 COOHであるコ
ーン型カレックスアレーン系化合物誘導体の構造式と 1
H−核磁気共鳴スペクトルである。
=CH3 (CH2 )2 ,R’=CH2 COOHであるコ
ーン型カレックスアレーン系化合物誘導体の構造式と 1
H−核磁気共鳴スペクトルである。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式化1(ただし、Rは炭素数が
3から18までのアルキル基、アラルキル基、アルケニ
ル基もしくは置換又は非置換のアリール基を示し、R’
は炭素数が1から3までのカルボキシアルキル基を示
す。)で表されるレゾルシン環状4量体からなるコーン
型カリックスアレーン系化合物誘導体。 【化1】
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06775694A JP3226194B2 (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | コーン型カリックスアレーン系化合物誘導体 |
| US08/401,499 US5688998A (en) | 1994-03-11 | 1995-03-10 | Surface reforming agent, surface reforming method and cone-type calix 4! re |
| EP95301590A EP0671220B1 (en) | 1994-03-11 | 1995-03-10 | Surface reforming agent, surface reforming method and cone-type calix resorcinarene compounds |
| DE69510705T DE69510705T2 (de) | 1994-03-11 | 1995-03-10 | Oberflächenverbesserungsmittel, Verfahren zur Oberflächenverbesserung und kegelförmige Calixresorcinarenverbindungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06775694A JP3226194B2 (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | コーン型カリックスアレーン系化合物誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07252188A true JPH07252188A (ja) | 1995-10-03 |
| JP3226194B2 JP3226194B2 (ja) | 2001-11-05 |
Family
ID=13354109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06775694A Expired - Fee Related JP3226194B2 (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | コーン型カリックスアレーン系化合物誘導体 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3226194B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1048858A (ja) * | 1996-04-26 | 1998-02-20 | Canon Inc | 電子写真感光体、この電子写真感光体を用いた電子写真装置及びプロセスカートリッジ |
| JP2007009082A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Jsr Corp | カリックスアレーン系ポリマー及びその製造方法 |
| JP2008247725A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Kanazawa Univ | セラミックス・有機物複合構造体の製造方法 |
-
1994
- 1994-03-11 JP JP06775694A patent/JP3226194B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1048858A (ja) * | 1996-04-26 | 1998-02-20 | Canon Inc | 電子写真感光体、この電子写真感光体を用いた電子写真装置及びプロセスカートリッジ |
| JP2007009082A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Jsr Corp | カリックスアレーン系ポリマー及びその製造方法 |
| JP2008247725A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Kanazawa Univ | セラミックス・有機物複合構造体の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3226194B2 (ja) | 2001-11-05 |
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