JPH0726907U - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】積層磁性薄膜部を磁路として構成した、高密度
記録再生用の磁気ヘッドにおける、磁気テープ接触面で
の偏磨耗の防止を図った磁気ヘッドを提供することにあ
る。 【構成】記録媒体と接する面を、ギャップ部を中心とし
て２０〜２００ミクロンミリの長さで、所定トラック幅
Ｔに形成された積層磁性薄膜部１３と、該積層磁性薄膜
部１３の周囲を囲む非磁性基板１４，１５部材とから構
成したことを特徴とする磁気ヘッド１０。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、高精細度のハイビジョンＶＴＲ装置等の高密度磁気記録再生装置等 に使用され、記録再生ギャップ形成部に積層磁性薄膜部を用いた磁気ヘッドに関 するものである。

【０００２】

【従来の技術】

従来、記録再生ギャップ部を形成する磁路に、積層磁性薄膜部を使用した磁気 ヘッドとしては、図１３に示す構成の磁気ヘッドが一般的であり、これについて 説明する。

【０００３】 図示するように、従来の磁気ヘッド１は、セラミック等の非磁性基板２ａ，２ ｂ間に、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の強磁性合金の磁性薄膜部３を、サンドイッチ状に 配設したコア半体４，５を接合してギャップ部６を設けた構成となっている。ま た、磁気ヘッド１の磁性薄膜部３は、積層形成された状態で磁気ヘッド１の記録 再生トラック幅Ｔとなるように形成されている。

【０００４】 尚ここで、磁気ヘッド１のギャップ部６の形成について詳説すると、磁気ヘッ ド１のコア半体４，５のブロック状態時に、各ブロックの磁性薄膜部３の両側に それぞれ接合溝７を形成し、各コア半体４，５のブロック状態接合時に形成され た接合溝７内に接合ガラス８を充填することにより接合され、ギャップ部６が形 成されると共に、接合されたブロック状態の各接合溝７部分を切り離すことより 、チップ状の磁気ヘッド１が形成されるものである。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記のように構成された従来の磁気ヘッド１においては、積層 状強磁性合金の磁性薄膜部３が、非磁性基板２ａ，２ｂの間でサンドイッチ状に 、トラック幅Ｔと同じ幅で、磁気ヘッド１の幅方向全体に配設されたものとなっ ている。

【０００６】 このため、磁気ヘッド１が磁気記録媒体であるところの磁気テープと接触して 走行する際に、トラック幅Ｔを形成するトラック両側の非磁性基板２ａ，２ｂと 、磁性基板３との摩擦係数の違いから生ずる偏磨耗が発生し、磁気ヘッド１の中 央に形成されたトラック幅の磁性薄膜部３の部分が、両側の非磁性基板２ａ，２ ｂより多く磨耗してテープタッチが不安定となり、記録再生特性が劣化するとい う課題が生じていた。

【０００７】 また、磁性薄膜部３の形成に際し、磁性薄膜部３を非磁性基板２ａに積層状に 形成した後、サンドイッチ状に非磁性基板２ａ，２ｂで挟み込むように重ね合わ せて接合するため、接合時の圧力が磁性薄膜部３に影響を及ぼし、圧力歪みが生 じるという課題もあった。

【０００８】 本考案は、上記した点に鑑みて考案されたもので、磁性薄膜部の偏磨耗を防止 し、圧力歪みの発生を防止して高密度磁気記録再生に対応した磁気ヘッドを提供 することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

そこで、上記した課題を解決するための手段として、本考案は、ギャップ部を 中心として、記録媒体と接する面を２０〜２００ミクロンミリの長さで、所定ト ラック幅に形成された積層磁性薄膜部と、この積層磁性薄膜部の周囲を囲む非磁 性基板部材とから磁気ヘッドを構成したものであ。

【００１０】

【作用】

上記構成によれば、磁気ヘッドはその磁路を形成する積層磁性薄膜部が、記録 媒体である磁気テープ接触面のギャップ部近傍にのみ形成され、磁気テープ接触 面全体に設けられることがなくなり、周囲を非磁性基板で囲まれた状態で形成さ れることとなり、偏磨耗の発生が防止されることとなる。

【００１１】

【実施例】

以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明すると、図１は本考案に係る磁気 ヘッドの一実施例を示し、図２から図１２は磁気ヘッドの製造工程を示す。

【００１２】 図１で示すように、本考案に係る磁気ヘッド１０はコア半体１１，１２を接合 して形成されている。 このコア半体１１，１２は、それぞれ接合面ギャップ形成部に、トラック幅Ｔ でテープ慴動方向に１０〜１００ミクロンミリの長さで露出した積層状の磁性薄 膜部１３が、コア半体１１，１２を形成するセラミック等の非磁性基板１４，１ ５によって、ギャップ部１６を残して三面を囲まれた状態で配設されている。 そして、このコア半体１１，１２を接合して、積層磁性薄膜部１３が２０〜２ ００ミクロンミリの長さで、その磁路中にギャップ部１６を備えた磁気ヘッド１ ０が形成されている。

【００１３】 尚、図中符号１７は、磁気ヘッド１０の巻線用溝を示し、符号１８はコア半体 １１，１２を接合して形成される巻線穴を示す。

【００１４】 次に、本考案に係る磁気ヘッド１０の製造工程を図２〜図１２の各工程図に従 って説明する。

【００１５】 図２において、コア半体１１，１２を形成するコアブロック１９の一面１９ａ に積層磁性薄膜部１３を充填配設するとともに、巻線用溝１７となる溝を形成す る溝部２０をエッチング加工により、溝部２０の深さがトラック幅の厚みと同じ 深さとなるように設ける。

【００１６】 次に、図３において示すように、コアブロック１９の一面１９ａの全面に磁性 薄膜を図４の部分拡大図のように、磁性膜１３ａと非磁性層１３ｂを交互にスパ ッタリング等によって形成し、外側に非磁性膜１３ｃを設けた積層磁性薄膜部１ ３を形成する。

【００１７】 続いて、図５で示すように、積層磁性薄膜部１３を形成したコアブロック１９ の積層磁性薄膜部１３を研磨によって削除し、積層磁性薄膜部１３が溝部２０内 にのみに充填されて残るように一面１９ａを研磨形成するとともに、他面側１９ ｂも研磨して、コアブロック１９の両面に接合研磨を行う。

【００１８】 次に、図６で示すように接合面研磨を行ったコアブロック１９を重ね合わせて 互いに接合する。

【００１９】 次に、図７で示すように、接合されたコアブロック１９の接合面に対して、直 角方向で、溝部２０の中央部分をスライスして積層磁性薄膜部１３の切断面が露 出したコア半体ブロック２１を形成する。

【００２０】 次に、図８及び図９で示すようにコア半体ブロック２１の積層磁性薄膜部１３ の露出面とその半体面に巻線溝２２，２３を切削加工により形成し、コア半体ブ ロック２１の接合面２１ａを研磨加工する。

【００２１】 次に、図１０及び図１１で示すようにコア半体ブロック２１の接合面２１ａに 非磁性層を介在させて接合して、ギャップ部２５を設けた磁気ヘッドブロック２ ４を形成する。これにより、磁気ヘッドブロック２４には接合面に積層磁性薄膜 部１３が内部に形成されると共に、巻線溝２２，２３が形成される。

【００２２】 即ち、磁気ヘッドブロック２４はその接合面内部に点線２６で示す形状で、積 層磁性薄膜部１３が埋め込まれた状態となっている。そして、図１１で示す磁気 ヘッドブロック２４のギャップ部２５が形成された面を、図中点線Ａで示す深さ まで研磨する。

【００２３】 これにより、図１２で示すように、磁気ヘッドブロック２４はそのギャップ部 ２５形成面に、積層磁性薄膜部１３がトラック幅Ｔで露出した状態で形成される 。続いて、磁気ヘッドブロック２４は、図中点線Ｂで示す方向にスライスされて 図１で示した磁路に積層磁性薄膜部１３を配したチップ状の磁気ヘッド１０が形 成される。

【００２４】 本考案による磁気ヘッド１０は、以上のように構成されているため、トラック 幅Ｔで形成された積層磁性薄膜部１３は、その周囲に非磁性基板１４，１５によ って囲まれた状態で形成されることになる。

【００２５】 尚、本考案によるコアブロックの溝形成は、エッチング加工として、ウエット エッチング加工で行ってもよく、また、金型成形を利用しても良い。 更に、エッチングによる溝形成に際して、エッチング加工側面に角度（テーパ 面）をつけるようにして、積層磁性薄膜部のギャップ形成部分との平行部分を生 じない構成としてもよい。

【００２６】

【考案の効果】

上記したように、本考案に係る磁気ヘッドによれば、磁路として配設した積層 磁性薄膜部が、その周囲を非磁性基板で囲まれた構成とされているため、磁気ヘ ッドにおけるテープ接触面での偏磨耗の発生が防止される事となり、安定したテ ープタッチが得られる。 また、積層磁性薄膜部は非磁性基板に設けた溝の内部にスパッタリングによっ て形成されるため、非磁性基板を重ねて接合するに際して、接合時の磁性膜への 接合圧力の影響が及ばず、圧力歪みの発生が防止され、または軽減することがで き、磁気出力特性の向上を図ることができる。 さらに、磁路を形成する積層磁性薄膜部は溝内に充填された状態から切削によ り形成されるため、磁路のボリュウムを任意に選択して形成することができると いう効果も得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案による磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図である。

【図２】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図３】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図４】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図５】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図６】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図７】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図８】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図９】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図であ
る。

【図１０】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図で
ある。

【図１１】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図で
ある。

【図１２】図１の磁気ヘッドの製造工程を示す工程図で
ある。

【図１３】従来の磁気ヘッドを示す斜視図である。

【符号の説明】

１０ 磁気ヘッド １１，１２ コア半体 １３ 磁性薄膜部 １４，１５ 非磁性基板 １６ ギャップ部 １７ 巻線用溝 １８ 巻線穴 １９ コアブロック ２０ 溝部 ２１ コア半体ブロック ２２，２３ 巻線溝 ２４ 磁気ヘッドブロック ２５ 磁気ヘッドブロックのギャップ部

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録媒体と接する面を、ギャップ部を中
   心として２０〜２００ミクロンミリの長さで、所定トラ
   ック幅に形成された積層磁性薄膜部と、該積層磁性薄膜
   部の周囲を囲む非磁性基板部材とから構成したことを特
   徴とする磁気ヘッド。