JPH07285931A - 新規化合物 - Google Patents
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- JPH07285931A JPH07285931A JP8068594A JP8068594A JPH07285931A JP H07285931 A JPH07285931 A JP H07285931A JP 8068594 A JP8068594 A JP 8068594A JP 8068594 A JP8068594 A JP 8068594A JP H07285931 A JPH07285931 A JP H07285931A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】着色型の熱的安定性に優れ、紫外線の照射を止
めても室温付近であれば、上記着色型が良好に維持され
るフォトクロミック化合物であり、且つ着色と消色との
可逆的な繰り返し耐久性に優れるフォトクロミック化合
物を開発すること。 【構成】 下記一般式(I) 【化1】 (式中 【化2】 は、それぞれ置換基を有していてもよい芳香族炭化水素
基または不飽和複素環基Cprは、置換基を有してもよ
いのシクロプロピル基 【化3】 は、それぞれ置換基を有していてもよい7−ノルボルニ
リデン基、ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基ま
たは2−アダマンチリデン基Xは、酸素原子、または水
素原子が特定の基で置換されていても良いイミノ基)で
表わされる化合物。
めても室温付近であれば、上記着色型が良好に維持され
るフォトクロミック化合物であり、且つ着色と消色との
可逆的な繰り返し耐久性に優れるフォトクロミック化合
物を開発すること。 【構成】 下記一般式(I) 【化1】 (式中 【化2】 は、それぞれ置換基を有していてもよい芳香族炭化水素
基または不飽和複素環基Cprは、置換基を有してもよ
いのシクロプロピル基 【化3】 は、それぞれ置換基を有していてもよい7−ノルボルニ
リデン基、ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基ま
たは2−アダマンチリデン基Xは、酸素原子、または水
素原子が特定の基で置換されていても良いイミノ基)で
表わされる化合物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトクロミック作用
を有する新規化合物、およびその利用に関する。更に詳
しくは、太陽光もしくは水銀灯の光のような紫外線を含
む光の作用により無色から着色した形態に変化し、その
変化が可逆的であり、しかも着色状態が熱的に安定であ
る新規化合物および利用に関する。
を有する新規化合物、およびその利用に関する。更に詳
しくは、太陽光もしくは水銀灯の光のような紫外線を含
む光の作用により無色から着色した形態に変化し、その
変化が可逆的であり、しかも着色状態が熱的に安定であ
る新規化合物および利用に関する。
【0002】
【従来の技術】フォトクロミズムとは、ここ数年来注目
をひいてきた現象であって、ある化合物に太陽光あるい
は水銀灯の光のような紫外線を含む光を照射すると速や
かに色が変わり、光の照射をやめて暗所におくと元の色
にもどる可逆作用のことである。この性質を有する化合
物は、フォトクロミック化合物と呼ばれ従来から色々の
構造の化合物が合成され提案されてきたが、その構造に
は特別な共通の骨格は認められない。
をひいてきた現象であって、ある化合物に太陽光あるい
は水銀灯の光のような紫外線を含む光を照射すると速や
かに色が変わり、光の照射をやめて暗所におくと元の色
にもどる可逆作用のことである。この性質を有する化合
物は、フォトクロミック化合物と呼ばれ従来から色々の
構造の化合物が合成され提案されてきたが、その構造に
は特別な共通の骨格は認められない。
【0003】近年、これらの種々のフォトクロミック化
合物の中でも、下記の一般式
合物の中でも、下記の一般式
【0004】
【化5】
【0005】{式中の
【0006】
【化6】
【0007】としては置換もしくは非置換のアダマンチ
リデン基が示され、R’としては水素、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基もしくは複素環基が示され、
X’としては酸素もしくは、>NR'1(ここでR'1は水
素、アルキル基、アリール基もしくはアルアルキル基で
ある)であり、
リデン基が示され、R’としては水素、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基もしくは複素環基が示され、
X’としては酸素もしくは、>NR'1(ここでR'1は水
素、アルキル基、アリール基もしくはアルアルキル基で
ある)であり、
【0008】
【化7】
【0009】としては芳香族基もしくは複素環基が示さ
れている。}で表されるフルギド化合物またはフルギミ
ド化合物は、紫外線を吸収して着色し、また、白色光で
急速に元の無色の状態に戻る高い感光性を有する一連の
フォトクロミック化合物として知られている(米国特許
第4220708号明細書)。
れている。}で表されるフルギド化合物またはフルギミ
ド化合物は、紫外線を吸収して着色し、また、白色光で
急速に元の無色の状態に戻る高い感光性を有する一連の
フォトクロミック化合物として知られている(米国特許
第4220708号明細書)。
【0010】このような化合物の着色型は、熱的に安定
であり、上記の如く白色光に晒さないならば室温付近で
は全く無色型に戻らない特性を示し、このため該化合物
は、かかる特性を利用した光記録材料としての用途開発
が近年盛んに行われている。しかし、この化合物は、フ
ォトクロミック性の繰り返し寿命が短い問題があり、未
だ実用化には至っていない。
であり、上記の如く白色光に晒さないならば室温付近で
は全く無色型に戻らない特性を示し、このため該化合物
は、かかる特性を利用した光記録材料としての用途開発
が近年盛んに行われている。しかし、この化合物は、フ
ォトクロミック性の繰り返し寿命が短い問題があり、未
だ実用化には至っていない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】以上の背景から、着色
型の熱的安定性に優れ、紫外線の照射を止めても室温付
近であれば、上記着色型が良好に維持されるフォトクロ
ミック化合物であり、且つ着色と消色との可逆的な繰り
返し耐久性に優れるフォトクロミック化合物の開発が要
望されていた。
型の熱的安定性に優れ、紫外線の照射を止めても室温付
近であれば、上記着色型が良好に維持されるフォトクロ
ミック化合物であり、且つ着色と消色との可逆的な繰り
返し耐久性に優れるフォトクロミック化合物の開発が要
望されていた。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
フォトクロミック化合物を得ることを目的として研究を
重ねた結果、新規な化合物の創製に成功し、且つ該化合
物が上記の目的を達成することを見出し、本発明を完成
するに至った。
フォトクロミック化合物を得ることを目的として研究を
重ねた結果、新規な化合物の創製に成功し、且つ該化合
物が上記の目的を達成することを見出し、本発明を完成
するに至った。
【0013】即ち、本発明は、下記一般式(I)
【0014】
【化8】
【0015】{式中、下記式(a)
【0016】
【化9】
【0017】は、それぞれ置換基を有してもよい芳香族
炭化水素または不飽和複素環基であり、Cprは置換基
を有してもよいシクロプロピル基であり、下記式(b)
炭化水素または不飽和複素環基であり、Cprは置換基
を有してもよいシクロプロピル基であり、下記式(b)
【0018】
【化10】
【0019】は、それぞれ置換基を有してもよいノルボ
ルニリデン基、ビシクロ〔3,3,1〕ノニリデン基ま
たはアダマンチリデン基であり、Xは、酸素原子 基>N−R1 基>N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2 基>N−A3−A4 または 基>N−A3−R3 を示す 〔ここで、R1は、水素原子、アルキル基またはアリー
ル基であり、A1,A2およびA3は、同一もしくは異な
り、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン
基またはアルキルシクロアルカン−ジイル基であり、B
1およびB2は、同一もしくは異なり、
ルニリデン基、ビシクロ〔3,3,1〕ノニリデン基ま
たはアダマンチリデン基であり、Xは、酸素原子 基>N−R1 基>N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2 基>N−A3−A4 または 基>N−A3−R3 を示す 〔ここで、R1は、水素原子、アルキル基またはアリー
ル基であり、A1,A2およびA3は、同一もしくは異な
り、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン
基またはアルキルシクロアルカン−ジイル基であり、B
1およびB2は、同一もしくは異なり、
【0020】
【化11】
【0021】mおよびnは、それぞれ独立して0または
1を示す(但しmが0の時はnは0である)、R2は、
それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、ナフチル基
またはナフチルアルキル基であり、A4は、置換基を有
してもよいナフチル基であり、R3は、ハロゲン原子、
シアノ基またはニトロ基を示す〕}で表される化合物で
ある。
1を示す(但しmが0の時はnは0である)、R2は、
それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、ナフチル基
またはナフチルアルキル基であり、A4は、置換基を有
してもよいナフチル基であり、R3は、ハロゲン原子、
シアノ基またはニトロ基を示す〕}で表される化合物で
ある。
【0022】本発明における前記一般式(I)におい
て、上記式(a)の基は、それぞれ置換基を有してもよ
い芳香族炭化水素基または不飽和複素環基である。これ
らの基は多くとも5個、好ましくは3個までの置換基を
有してもよい。芳香族炭化水素基としては、炭素数6〜
20個、好ましくは炭素数6〜14個を有するものであ
り、かかる芳香族炭化水素環を形成する環の例として
は、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナンスレン環が挙
げられる。
て、上記式(a)の基は、それぞれ置換基を有してもよ
い芳香族炭化水素基または不飽和複素環基である。これ
らの基は多くとも5個、好ましくは3個までの置換基を
有してもよい。芳香族炭化水素基としては、炭素数6〜
20個、好ましくは炭素数6〜14個を有するものであ
り、かかる芳香族炭化水素環を形成する環の例として
は、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナンスレン環が挙
げられる。
【0023】また、不飽和複素環基としては、窒素原
子、酸素原子および硫黄原子の如きヘテロ原子の少なく
とも1種を1個含む5員環または6員環の単複素環基或
いはこれらにベンゼン環またはシクロヘキセン環が縮合
した形の縮合複素環基が示される。かかる複素環基を形
成している環としては、例えばピロール環、ピリジン
環、キノリン環、イソキノリン環、インドール環などの
含窒素複素環;フラン環、ベンゾフラン環、ピラン環、
テトラヒドロベンゾフラン環などの含酸素複素環;チオ
フェン環、ベンゾチオフェン環、テトラヒドロベンゾチ
オフェン環などの含硫黄複素環が挙げられる。
子、酸素原子および硫黄原子の如きヘテロ原子の少なく
とも1種を1個含む5員環または6員環の単複素環基或
いはこれらにベンゼン環またはシクロヘキセン環が縮合
した形の縮合複素環基が示される。かかる複素環基を形
成している環としては、例えばピロール環、ピリジン
環、キノリン環、イソキノリン環、インドール環などの
含窒素複素環;フラン環、ベンゾフラン環、ピラン環、
テトラヒドロベンゾフラン環などの含酸素複素環;チオ
フェン環、ベンゾチオフェン環、テトラヒドロベンゾチ
オフェン環などの含硫黄複素環が挙げられる。
【0024】上記式(a)で示される芳香族炭化水素基
または不飽和複素環基が有していてもよい置換基の例と
しては、フッ素、塩素、臭素、沃素の如きハロゲン原
子;ヒドロキシル基;シアノ基;ニトロ基;アミノ基;
カルボキシル基;メチルアミノ基、ジエチルアミノ基の
如き炭素数1〜4のアルキルアミノ基;メチル基、エチ
ル基、プロピル基、t−ブチル基の如き炭素数1〜4の
低級アルキル基;トリフルオロメチル基;2−クロロエ
チル基などのハロゲン原子を1〜3個有するハロゲン低
級アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、t−ブトキシ
基の如き炭素数1〜4の低級アルコキシ基;フェニル
基、ナフチル基、トルイル基の如き炭素数6〜10のア
リール基;フェノキシ基、1−ナフトキシ基の如き炭素
数6〜14のアリールオキシ基;ベンジル基、フェニル
エチル基、フェニルプロピル基の如き炭素数7〜15の
アラルキル基;ベンジルオキシ基、フェニルプロポキシ
基の如き炭素数7〜15のアラルコキシ基および炭素数
1〜4のアルキルチオ基などが挙げられる。これらの置
換基は、同種であっても異種であってもよく、また位置
は特に制限されない。
または不飽和複素環基が有していてもよい置換基の例と
しては、フッ素、塩素、臭素、沃素の如きハロゲン原
子;ヒドロキシル基;シアノ基;ニトロ基;アミノ基;
カルボキシル基;メチルアミノ基、ジエチルアミノ基の
如き炭素数1〜4のアルキルアミノ基;メチル基、エチ
ル基、プロピル基、t−ブチル基の如き炭素数1〜4の
低級アルキル基;トリフルオロメチル基;2−クロロエ
チル基などのハロゲン原子を1〜3個有するハロゲン低
級アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、t−ブトキシ
基の如き炭素数1〜4の低級アルコキシ基;フェニル
基、ナフチル基、トルイル基の如き炭素数6〜10のア
リール基;フェノキシ基、1−ナフトキシ基の如き炭素
数6〜14のアリールオキシ基;ベンジル基、フェニル
エチル基、フェニルプロピル基の如き炭素数7〜15の
アラルキル基;ベンジルオキシ基、フェニルプロポキシ
基の如き炭素数7〜15のアラルコキシ基および炭素数
1〜4のアルキルチオ基などが挙げられる。これらの置
換基は、同種であっても異種であってもよく、また位置
は特に制限されない。
【0025】上記式(a)で表される基としては、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜
4のアルキルチオ基、炭素数1〜4のアルキル基および
炭素数1〜4のアルコキシ基よりなる群から選ばれた原
子または基の少なくとも1個によって、それぞれの場合
に置換されてもよい芳香族炭化水素基または不飽和複素
環基であるのが好ましい。
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、炭素数1〜
4のアルキルチオ基、炭素数1〜4のアルキル基および
炭素数1〜4のアルコキシ基よりなる群から選ばれた原
子または基の少なくとも1個によって、それぞれの場合
に置換されてもよい芳香族炭化水素基または不飽和複素
環基であるのが好ましい。
【0026】また、上記式(a)で表される基として
は、上記した各置換基の1〜3個によってそれぞれの場
合に置換されていてもよい炭素数6〜14個のアリール
基または窒素原子、酸素原子および硫黄原子を有する5
員環または6員環の単環複素環基或いは該複素環基にベ
ンゼン環またはシクロヘキセン環が縮合した縮合複素環
基であるのは一層好ましい。
は、上記した各置換基の1〜3個によってそれぞれの場
合に置換されていてもよい炭素数6〜14個のアリール
基または窒素原子、酸素原子および硫黄原子を有する5
員環または6員環の単環複素環基或いは該複素環基にベ
ンゼン環またはシクロヘキセン環が縮合した縮合複素環
基であるのは一層好ましい。
【0027】さらに上記式(a)で表される基として
は、ベンゼン環、複素原子を1個含有する5員環または
6員環に単環複素環またはこの複素環にベンゼン環或い
はシクロヘキセン環が縮合した形の縮合複素環であるも
のが好ましい。これらベンゼン環、単環複素環または縮
合複素環には、前記した置換基が1〜2個含まれている
ものも同様に好ましい態様である。
は、ベンゼン環、複素原子を1個含有する5員環または
6員環に単環複素環またはこの複素環にベンゼン環或い
はシクロヘキセン環が縮合した形の縮合複素環であるも
のが好ましい。これらベンゼン環、単環複素環または縮
合複素環には、前記した置換基が1〜2個含まれている
ものも同様に好ましい態様である。
【0028】前記一般式(1)におけるCprは、置換
基を有してもよいシクロプロピル基である。
基を有してもよいシクロプロピル基である。
【0029】かかる置換基の具体例としては、前記式
(a)において説明したものと同じ置換基を例示するこ
とができる。
(a)において説明したものと同じ置換基を例示するこ
とができる。
【0030】本発明における前記一般式(I)におい
て、上記式(b)の基は、それぞれ置換基を有してもよ
いノルボルニリデン基、ビシクロ[3,3,1]ノニリ
デン基またはアダマンチリデン基を意味する。ノルボル
ニリデン基としては、下記式(c)
て、上記式(b)の基は、それぞれ置換基を有してもよ
いノルボルニリデン基、ビシクロ[3,3,1]ノニリ
デン基またはアダマンチリデン基を意味する。ノルボル
ニリデン基としては、下記式(c)
【0031】
【化12】
【0032】で表される7−ノルボルニリデン基が好ま
しく、ビシクロ[3,3,1]ノニリデン基としては下
記式(d)
しく、ビシクロ[3,3,1]ノニリデン基としては下
記式(d)
【0033】
【化13】
【0034】で表されるビシクロ[3,3,1]9−ノ
ニリデン基が好ましく、また、アダマンチリデン基とし
ては下記式(e)
ニリデン基が好ましく、また、アダマンチリデン基とし
ては下記式(e)
【0035】
【化14】
【0036】で表される2−アダマンチリデン基が好ま
しい。
しい。
【0037】上記式は、いずれも置換基を有さない7−
ノルボルニリデン基、ビシクロ[3,3,1]9−ノニ
リデン基または2−アダマンチリデン基の骨格構造を示
したものである。
ノルボルニリデン基、ビシクロ[3,3,1]9−ノニ
リデン基または2−アダマンチリデン基の骨格構造を示
したものである。
【0038】これら7−ノルボルニリデン基、ビシクロ
[3,3,1]9−ノニリデン基または2−アダマンチ
リデン基は、上記式の水素原子が置換基により置換され
ていてもよく、その数は1個またはそれ以上であっても
良い。置換基を有する場合、その種類、数および位置
は、目的および用途によって任意に選択される。また複
数の置換基を有する場合、同一の置換基であってもよ
く、また異種の置換基出会ってもよい。
[3,3,1]9−ノニリデン基または2−アダマンチ
リデン基は、上記式の水素原子が置換基により置換され
ていてもよく、その数は1個またはそれ以上であっても
良い。置換基を有する場合、その種類、数および位置
は、目的および用途によって任意に選択される。また複
数の置換基を有する場合、同一の置換基であってもよ
く、また異種の置換基出会ってもよい。
【0039】上記7−ノルボルニリデン基、ビシクロ
〔3.3.1〕9−ノニリデン基または2−アダマンチ
リデン基の置換基としては、例えば、ヒドロキシ基;メ
チルアミノ基,ジエチルアミノ基等の炭素数1〜4のア
ルキルアミノ基;メトキシ基,エトキシ基,tert−ブト
キシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基;ベンジルオキ
シ基等の炭素数7〜15のアラルコキシ基;フエノキシ
基,1−ナフトキシ基等の炭素数6〜14のアリールオ
キシ基;メチル基,エチル基,t−ブチル基等の炭素数
1〜4の低級アルキル基;フッ素,塩素,臭素等のハロ
ゲン原子;シアノ基;カルボキシル基;エトキシカルボ
ニル等の炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基;ト
リフルオロメチル基等の炭素数1または2のハロゲン置
換アルキル基;ニトロ基;フエニル基,トルイル基等の
炭素数6〜10のアリール基,フエニルエチル基,フエ
ニルプロピル基等の炭素数7〜9のアラルキル基等が挙
げられる。
〔3.3.1〕9−ノニリデン基または2−アダマンチ
リデン基の置換基としては、例えば、ヒドロキシ基;メ
チルアミノ基,ジエチルアミノ基等の炭素数1〜4のア
ルキルアミノ基;メトキシ基,エトキシ基,tert−ブト
キシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基;ベンジルオキ
シ基等の炭素数7〜15のアラルコキシ基;フエノキシ
基,1−ナフトキシ基等の炭素数6〜14のアリールオ
キシ基;メチル基,エチル基,t−ブチル基等の炭素数
1〜4の低級アルキル基;フッ素,塩素,臭素等のハロ
ゲン原子;シアノ基;カルボキシル基;エトキシカルボ
ニル等の炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基;ト
リフルオロメチル基等の炭素数1または2のハロゲン置
換アルキル基;ニトロ基;フエニル基,トルイル基等の
炭素数6〜10のアリール基,フエニルエチル基,フエ
ニルプロピル基等の炭素数7〜9のアラルキル基等が挙
げられる。
【0040】これら置換基の好ましい例としては、ハロ
ゲン原子,ヒドロキシ基,炭素数1〜4のアルキル基,
炭素数1〜4のアルコキシ基,炭素数2〜10のアルコ
キシカルボニル基,炭素数7〜9のアラルキル基または
炭素数6〜10のアリール基である。
ゲン原子,ヒドロキシ基,炭素数1〜4のアルキル基,
炭素数1〜4のアルコキシ基,炭素数2〜10のアルコ
キシカルボニル基,炭素数7〜9のアラルキル基または
炭素数6〜10のアリール基である。
【0041】本発明における前記一般式(I)において
Xは、酸素原子(−0−), 基>N−R1、 基>N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2、 基>N−A3−A4または 基>N−A3−R3を示す。
Xは、酸素原子(−0−), 基>N−R1、 基>N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2、 基>N−A3−A4または 基>N−A3−R3を示す。
【0042】一般式(I)において、上記式(b)で表
される基が、置換基を有していてもよい7−ノルボルニ
リデン基、ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基ま
たは2−アダマンチリデン基であり、且つXが酸素原
子,基>N−R1,基>N−A1−B1−(A2)m−
(B2)n−R2または基>N−A3−R3,特に酸素原
子,基>N−R1であるのが、得られる化合物のフォト
クロミック性の耐久性の点からより好ましい。
される基が、置換基を有していてもよい7−ノルボルニ
リデン基、ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基ま
たは2−アダマンチリデン基であり、且つXが酸素原
子,基>N−R1,基>N−A1−B1−(A2)m−
(B2)n−R2または基>N−A3−R3,特に酸素原
子,基>N−R1であるのが、得られる化合物のフォト
クロミック性の耐久性の点からより好ましい。
【0043】次に、上記XにおけるR1,R2,R3,
A1,A2,A3,B1,B2,m およびnの定義について
詳細に説明する。
A1,A2,A3,B1,B2,m およびnの定義について
詳細に説明する。
【0044】R1,R2またはR3 は、水素原子,置換基
を有していてもよいアルキル基,アリール基またはアラ
ルキル基であることができる。これらの具体例として
は、メチル基,エチル基,プロピル基,n−,iso− ま
たはter−ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,オクチ
ル基,デシル基などの炭素数1〜20のアルキル基:フ
ェニル基,トリル基またはナフチル基等の炭素数6〜1
0のアリール基:ベンジル基,フェネチル基,ナフチル
メチル基,ナフチルエチル基等の炭素数7〜20のアラ
ルキル基があげられる。上記した各基の置換基は特に制
限されないが、上記アルキル基は、ハロゲン原子,シア
ノ基およびニトロ基よりなる群から選ばれた1〜3個の
原子または基で置換されていてもよく、また上記アリー
ル基またはアラルキル基はハロゲン原子,シアノ原子,
ニトロ基,炭素数1〜3のアルキルアミノ基,炭素数1
〜3のアルキル基及び炭素数1〜3のアルコキシ基より
なる群から選ばれた1〜3個の原子または基で置換され
ていてもよい。
を有していてもよいアルキル基,アリール基またはアラ
ルキル基であることができる。これらの具体例として
は、メチル基,エチル基,プロピル基,n−,iso− ま
たはter−ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,オクチ
ル基,デシル基などの炭素数1〜20のアルキル基:フ
ェニル基,トリル基またはナフチル基等の炭素数6〜1
0のアリール基:ベンジル基,フェネチル基,ナフチル
メチル基,ナフチルエチル基等の炭素数7〜20のアラ
ルキル基があげられる。上記した各基の置換基は特に制
限されないが、上記アルキル基は、ハロゲン原子,シア
ノ基およびニトロ基よりなる群から選ばれた1〜3個の
原子または基で置換されていてもよく、また上記アリー
ル基またはアラルキル基はハロゲン原子,シアノ原子,
ニトロ基,炭素数1〜3のアルキルアミノ基,炭素数1
〜3のアルキル基及び炭素数1〜3のアルコキシ基より
なる群から選ばれた1〜3個の原子または基で置換され
ていてもよい。
【0045】A1,A2 およびA3は、互いに同一であっ
てもよく異なっていてもよく、アルキレン基,アルキリ
デン基,シクロアルキレン基またはアルキルシクロアル
カン−ジイル基であることができる。これらの具体例と
しては、例えば、メチレン基,エチレン基,プロピレン
基,ブチレン基,トリメチレン基,テトラメチレン基ま
たは2,2−ジメチルトリメチレン基などの炭素数1〜
10のアルキレン基;エチリデン基,プロピリデン基ま
たはイソプロピリデン基などの炭素数2〜10のアルキ
リデン基;シクロヘキシレン基の如き炭素数3〜10の
シクロアルキレン基;2−メチルシクロヘキサン−α,
1−ジイル基
てもよく異なっていてもよく、アルキレン基,アルキリ
デン基,シクロアルキレン基またはアルキルシクロアル
カン−ジイル基であることができる。これらの具体例と
しては、例えば、メチレン基,エチレン基,プロピレン
基,ブチレン基,トリメチレン基,テトラメチレン基ま
たは2,2−ジメチルトリメチレン基などの炭素数1〜
10のアルキレン基;エチリデン基,プロピリデン基ま
たはイソプロピリデン基などの炭素数2〜10のアルキ
リデン基;シクロヘキシレン基の如き炭素数3〜10の
シクロアルキレン基;2−メチルシクロヘキサン−α,
1−ジイル基
【0046】
【化15】
【0047】4−メチルシクロヘキサン−α,1−ジイ
ル基
ル基
【0048】
【化16】
【0049】の如き炭素数6〜10のアルキルシクロア
ルカン−ジイル基が挙げられる。A1およびA2 として
は、特に炭素数1〜6のアルキレン基,炭素数2〜6の
アルキリデン基,炭素数3〜6のシクロアルキレン基,
炭素数6〜7のアルキルシクロアルカン−ジイル基が好
ましい。
ルカン−ジイル基が挙げられる。A1およびA2 として
は、特に炭素数1〜6のアルキレン基,炭素数2〜6の
アルキリデン基,炭素数3〜6のシクロアルキレン基,
炭素数6〜7のアルキルシクロアルカン−ジイル基が好
ましい。
【0050】B1およびB2は、互いに同一であってもよ
く、また異なっていてもよく、下記群の7つの結合基か
ら選ばれる。
く、また異なっていてもよく、下記群の7つの結合基か
ら選ばれる。
【0051】
【化17】
【0052】mおよびnは、それぞれ独立して0または
1を示すが、0を示すときは(A2)mまたは(B2)
nは、結合手を意味する。また、mが0の時はnも0を
表す。
1を示すが、0を示すときは(A2)mまたは(B2)
nは、結合手を意味する。また、mが0の時はnも0を
表す。
【0053】R2は、それぞれ置換基を有してもよいア
ルキル基、ナフチル基またはナフチルアルキル基を示
す。上記のアルキル基の炭素数は特に制限されないが、
1〜10であることが好ましく、また、ナフチルアルキ
ル基のアルキル基の炭素数は1〜4が好ましい。上記R
2で示されるアルキル基としては、前記R1において例示
したアルキル基と同様のものを使用することができる。
またナフチルアルキル基としては、ナフチルメチル基、
ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、またはナフチ
ルブチル基などを挙げることができる。
ルキル基、ナフチル基またはナフチルアルキル基を示
す。上記のアルキル基の炭素数は特に制限されないが、
1〜10であることが好ましく、また、ナフチルアルキ
ル基のアルキル基の炭素数は1〜4が好ましい。上記R
2で示されるアルキル基としては、前記R1において例示
したアルキル基と同様のものを使用することができる。
またナフチルアルキル基としては、ナフチルメチル基、
ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、またはナフチ
ルブチル基などを挙げることができる。
【0054】上記した各基の置換基は特に制限されない
が、上記アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、炭素数1〜3のアルキルアミノ基、炭素数1〜3
のアルキル基および炭素数1〜3のアルコキシ基よりな
る群から選ばれた1〜3個の原子または基で置換されて
いてもよい。
が、上記アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、炭素数1〜3のアルキルアミノ基、炭素数1〜3
のアルキル基および炭素数1〜3のアルコキシ基よりな
る群から選ばれた1〜3個の原子または基で置換されて
いてもよい。
【0055】A4は置換基を有してもよいナフチル基を
示す。置換基の種類は特に制限されないが、該ナフチル
基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜3
のアルキルアミノ基、炭素数1〜3のアルキル基および
炭素数1から3のアルコキシ基よりなる群から選ばれた
1〜3個の原子または基で置換されていてもよい。また
R3はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基を表わ
す。
示す。置換基の種類は特に制限されないが、該ナフチル
基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜3
のアルキルアミノ基、炭素数1〜3のアルキル基および
炭素数1から3のアルコキシ基よりなる群から選ばれた
1〜3個の原子または基で置換されていてもよい。また
R3はハロゲン原子、シアノ基またはニトロ基を表わ
す。
【0056】前記したR2、R3およびA4の定義におい
て、ハロゲン原子としてはフッ素、塩素または臭素を挙
げることができる。
て、ハロゲン原子としてはフッ素、塩素または臭素を挙
げることができる。
【0057】本発明において、好適に使用できる前記一
般式〔I〕で示される化合物を示すと、次のような化合
物を例示することができる。
般式〔I〕で示される化合物を示すと、次のような化合
物を例示することができる。
【0058】(1)2’−アダマンチリデン〔(シクロ
プロピル)(3−チエニル)メチリデン〕スクシニック
アンハイドライド (2)2’−アダマンチリデン〔(2−ブロモ−4−チ
エニル)(シクロプロピル)メチリデン〕スクシニック
アンハイドライド (3)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(シクロプロピル)(3−チエニル)メチリデン〕−
N−メトキシカルボニルメチルスクシンイミド (4)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン−N
−シアノメチル〔(シクロプロピル)(3−チエニル)
メチリデン〕スクシンイミド (5)9’−ビシクロ[3.3.1]ノニリデン〔(2
−ブロモ−4−チエニル)(シクロプロピル)メチリデ
ン)〕−N−〔β−(2”−ナフチルエチル)〕スクシ
ンイミド (6)9’−ビシクロノニリデン〔(2−ブロモ−4−
チエニル)(シクロプロピル)メチリデン)〕−N−
〔(2”−ナフトキシ)アセトキシエチル〕スクシンイ
ミド (7)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(シクロプロピル)(2−メチル−4−チエニル)メ
チリデン〕−N−ニトロメチルスクシンイミド (8)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(2”−クロロシクロプロピル)(6−メトキシ−3
−ベンゾチエニル)メチリデン〕−N−クロロメチルス
クシンイミド (9)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(2”−メチルシクロプロピル)(2−フェニル−4
−チエニル)メチリデン〕−N−メチルカルボニルメチ
ルスクシンイミド (10)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン−
N−メチルアミノカルボニルメチル〔(2−ニトロ−4
−チエニル)(2”−トリフルオロメチルシクロプロピ
ル)メチリデン〕スクシンイミド 本発明の前記した一般式(I)で示される化合物は、一
般に常温で淡黄色の固体として存在し、また一般に次の
(a)〜(c)のような手段で一般式(I)の化合物で
あることを確認できる。
プロピル)(3−チエニル)メチリデン〕スクシニック
アンハイドライド (2)2’−アダマンチリデン〔(2−ブロモ−4−チ
エニル)(シクロプロピル)メチリデン〕スクシニック
アンハイドライド (3)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(シクロプロピル)(3−チエニル)メチリデン〕−
N−メトキシカルボニルメチルスクシンイミド (4)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン−N
−シアノメチル〔(シクロプロピル)(3−チエニル)
メチリデン〕スクシンイミド (5)9’−ビシクロ[3.3.1]ノニリデン〔(2
−ブロモ−4−チエニル)(シクロプロピル)メチリデ
ン)〕−N−〔β−(2”−ナフチルエチル)〕スクシ
ンイミド (6)9’−ビシクロノニリデン〔(2−ブロモ−4−
チエニル)(シクロプロピル)メチリデン)〕−N−
〔(2”−ナフトキシ)アセトキシエチル〕スクシンイ
ミド (7)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(シクロプロピル)(2−メチル−4−チエニル)メ
チリデン〕−N−ニトロメチルスクシンイミド (8)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(2”−クロロシクロプロピル)(6−メトキシ−3
−ベンゾチエニル)メチリデン〕−N−クロロメチルス
クシンイミド (9)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン
〔(2”−メチルシクロプロピル)(2−フェニル−4
−チエニル)メチリデン〕−N−メチルカルボニルメチ
ルスクシンイミド (10)7’−ビシクロ[2.2.1]ヘプチリデン−
N−メチルアミノカルボニルメチル〔(2−ニトロ−4
−チエニル)(2”−トリフルオロメチルシクロプロピ
ル)メチリデン〕スクシンイミド 本発明の前記した一般式(I)で示される化合物は、一
般に常温で淡黄色の固体として存在し、また一般に次の
(a)〜(c)のような手段で一般式(I)の化合物で
あることを確認できる。
【0059】(a)プロトン核磁気共鳴スペクトル(1
H −NMR)を測定することにより、分子中に存在す
るプロトンの種類と個数を知ることができる。すなわ
ち、δ7〜8ppm付近にアロマティックなプロトンに基
づくピーク,δ1.2〜2.5ppm付近にシクロプロピル
基およびノルボルニリデン基、ビシクロ〔3.3.1〕
ノニリデン基またはアダマンチリデン基に由来するプロ
トンに基づく幅広いピークが現れる。また、それぞれの
δピーク強度を相対的に比較することにより、それぞれ
の結合基のプロトンの数を知ることができる。
H −NMR)を測定することにより、分子中に存在す
るプロトンの種類と個数を知ることができる。すなわ
ち、δ7〜8ppm付近にアロマティックなプロトンに基
づくピーク,δ1.2〜2.5ppm付近にシクロプロピル
基およびノルボルニリデン基、ビシクロ〔3.3.1〕
ノニリデン基またはアダマンチリデン基に由来するプロ
トンに基づく幅広いピークが現れる。また、それぞれの
δピーク強度を相対的に比較することにより、それぞれ
の結合基のプロトンの数を知ることができる。
【0060】(b)元素分析によって炭素,水素,窒
素,イオウ,ハロゲンの各重量%を求めることができ
る。さらに、認知された各元素の重量%の和を100か
ら減ずることにより、酸素の重量%を算出することがで
きる。従って、相当する生成物の組成を決定することが
できる。
素,イオウ,ハロゲンの各重量%を求めることができ
る。さらに、認知された各元素の重量%の和を100か
ら減ずることにより、酸素の重量%を算出することがで
きる。従って、相当する生成物の組成を決定することが
できる。
【0061】(c)13C−核磁気共鳴スペクトル(13C
−NMR)を測定することにより、分子中に存在する炭
素の種類を知るができる。δ27〜52ppm 付近にシク
ロプロピル基およびノルボルニリデン基、ビシクロ
〔3.3.1〕ノニリデン基またはアダマンチリデン基
の炭素に由来するピーク,δ110〜150ppm 付近に
芳香族炭化水素基又は不飽和複素環基の炭素に基づくピ
ーク,δ160〜170ppm付近に>C=0の炭素に基
づくピークが現れる。
−NMR)を測定することにより、分子中に存在する炭
素の種類を知るができる。δ27〜52ppm 付近にシク
ロプロピル基およびノルボルニリデン基、ビシクロ
〔3.3.1〕ノニリデン基またはアダマンチリデン基
の炭素に由来するピーク,δ110〜150ppm 付近に
芳香族炭化水素基又は不飽和複素環基の炭素に基づくピ
ーク,δ160〜170ppm付近に>C=0の炭素に基
づくピークが現れる。
【0062】本発明の前記一般式(I)の化合物は、如
何なる方法により製造されたものでもよく、その製造方
法の種類を問わない。しかし以下に好ましく且つ代表的
な方法を説明するが、本発明はそれらの方法に限定を受
けるものではない。
何なる方法により製造されたものでもよく、その製造方
法の種類を問わない。しかし以下に好ましく且つ代表的
な方法を説明するが、本発明はそれらの方法に限定を受
けるものではない。
【0063】本発明の前記一般式(I)のXが酸素原子
である化合物は、例えば下記プロセスAの方法によって
製造することができる。
である化合物は、例えば下記プロセスAの方法によって
製造することができる。
【0064】プロセスA;すなわち、下記一般式(II
a)
a)
【0065】
【化18】
【0066】(式中、下記式
【0067】
【化19】
【0068】およびCprは、前記一般式(I)におけ
る定義と同じ)で表わされるカルボニル化合物と、下記
一般式(IIb)
る定義と同じ)で表わされるカルボニル化合物と、下記
一般式(IIb)
【0069】
【化20】
【0070】(式中、下記式
【0071】
【化21】
【0072】は前記一般式(I)における定義と同じで
あり、R4およびR5は同一もしくは異なる炭素数1〜6
のアルキル基を示す。)で表わされるコハク酸ジエステ
ル誘導体とを縮合反応させ、後述する処理を行うことに
よって、一般式(II)
あり、R4およびR5は同一もしくは異なる炭素数1〜6
のアルキル基を示す。)で表わされるコハク酸ジエステ
ル誘導体とを縮合反応させ、後述する処理を行うことに
よって、一般式(II)
【0073】
【化22】
【0074】の化合物を得ることができる。
【0075】前記縮合反応において、一般式(IIa)
のカルボニル化合物と前記一般式(IIb)のコハク酸
ジエステル誘導体との反応割合は、広い範囲でよいが、
一般にはモル比で、1:10〜10:1、好ましくは
1:5〜5:1の範囲である。反応は通常0℃〜110
℃、好ましくは10℃〜100℃の範囲で実施される。
また、反応は溶媒を用いて行うのが適当であり、その溶
媒としては、非プロトン系溶媒が望ましく、その例とし
ては、例えばベンゼン,ジエチルエーテル,トルエン,
テトラヒドロフランなどが挙げられる。
のカルボニル化合物と前記一般式(IIb)のコハク酸
ジエステル誘導体との反応割合は、広い範囲でよいが、
一般にはモル比で、1:10〜10:1、好ましくは
1:5〜5:1の範囲である。反応は通常0℃〜110
℃、好ましくは10℃〜100℃の範囲で実施される。
また、反応は溶媒を用いて行うのが適当であり、その溶
媒としては、非プロトン系溶媒が望ましく、その例とし
ては、例えばベンゼン,ジエチルエーテル,トルエン,
テトラヒドロフランなどが挙げられる。
【0076】この縮合反応は、一般に水素化ナトリウ
ム,t−ブトキシド,ナトリウムエチラートなどの縮合
剤の存在下に行なわれる。かかる縮合剤は前記一般式
(IIa)のカルボニル化合物1モル当り、通常0.1
〜10モルの範囲で使用される。
ム,t−ブトキシド,ナトリウムエチラートなどの縮合
剤の存在下に行なわれる。かかる縮合剤は前記一般式
(IIa)のカルボニル化合物1モル当り、通常0.1
〜10モルの範囲で使用される。
【0077】反応終了後、得られたジカルボン酸ジエス
テルを遊離のジカルボン酸に変換する。この反応は、そ
れ自体通常知られた塩基の存在下における加水分解反応
の条件が用いられる。例えば、10%エタノール性水酸
化ナトリウム溶液を用いて、0〜80℃の温度で実施さ
れる。
テルを遊離のジカルボン酸に変換する。この反応は、そ
れ自体通常知られた塩基の存在下における加水分解反応
の条件が用いられる。例えば、10%エタノール性水酸
化ナトリウム溶液を用いて、0〜80℃の温度で実施さ
れる。
【0078】かくして得られたジカルボン酸は、その自
体公知の方法に従って酸無水物とし、前記一般式(I
I)の化合物とすることができる。酸無水物とする反応
は、例えば無水酢酸、塩化アセチルなどの通常よく知ら
れた試薬を使用することによって行なわれる。
体公知の方法に従って酸無水物とし、前記一般式(I
I)の化合物とすることができる。酸無水物とする反応
は、例えば無水酢酸、塩化アセチルなどの通常よく知ら
れた試薬を使用することによって行なわれる。
【0079】前記一般式(I)のXが基>N−R1,基
>N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2,基>N−
A3−A4または基>N−A3−R3の場合、下記のプロセ
スB或いはプロセスCによって製造できる。
>N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2,基>N−
A3−A4または基>N−A3−R3の場合、下記のプロセ
スB或いはプロセスCによって製造できる。
【0080】プロセスB;このプロセスBは、前記一般
式(II)の化合物と下記一般式(IIIa),(II
Ib),(IIIc)または(IIId)、 H2N−R1 (IIIa) H2N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2 (IIIb) H2N−A3−A4 (IIIc) H2N−A3−R3 (IIId) (式中 R1,R2,R3,A1,A2,A3,B1,B2,m
およびnは、前記一般式(I)における定義と同じ)
で表わされるアミン化合物とを反応せしめることを特徴
とする上記一般式(I)で表わされる化合物の製造方法
である。
式(II)の化合物と下記一般式(IIIa),(II
Ib),(IIIc)または(IIId)、 H2N−R1 (IIIa) H2N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2 (IIIb) H2N−A3−A4 (IIIc) H2N−A3−R3 (IIId) (式中 R1,R2,R3,A1,A2,A3,B1,B2,m
およびnは、前記一般式(I)における定義と同じ)
で表わされるアミン化合物とを反応せしめることを特徴
とする上記一般式(I)で表わされる化合物の製造方法
である。
【0081】このプロセスBにおいて、上記一般式(I
I)の化合物と上記(IIIa)〜(IIId)のアミ
ン化合物を反応させることによって、上記一般式のXが
酸素原子以外のイミド環を有する本発明の目的とする一
般式(I)の化合物を得ることができる。
I)の化合物と上記(IIIa)〜(IIId)のアミ
ン化合物を反応させることによって、上記一般式のXが
酸素原子以外のイミド環を有する本発明の目的とする一
般式(I)の化合物を得ることができる。
【0082】このプロセスBにおける反応は、溶媒中で
行うのが好ましく、その溶媒としては、非プロトン系極
性溶媒例えばN−メチルピロリドン,ジメチルホルムア
ミド,テトラヒドロフラン,1,4−ジオキサンなどが
挙げられる。
行うのが好ましく、その溶媒としては、非プロトン系極
性溶媒例えばN−メチルピロリドン,ジメチルホルムア
ミド,テトラヒドロフラン,1,4−ジオキサンなどが
挙げられる。
【0083】また、プロセスBにおいて、上記一般式
(II)の化合物と一般式(IIIa)〜(IIId)
のアミン化合物とを反応させる場合、その反応割合は広
い範囲から採用されるが、一般にはモル比で1:10〜
10:1、好ましくは1:5〜5:1の範囲が好適であ
る。
(II)の化合物と一般式(IIIa)〜(IIId)
のアミン化合物とを反応させる場合、その反応割合は広
い範囲から採用されるが、一般にはモル比で1:10〜
10:1、好ましくは1:5〜5:1の範囲が好適であ
る。
【0084】上記の反応は、通常は温度が25〜160
℃,時間が1〜24時間の条件で行われる。反応終了
後、溶媒を除去し、塩化アセチルや無水酢酸等の脱水剤
で脱水を行なうことによって、本発明の化合物(I)を
得ることができる。
℃,時間が1〜24時間の条件で行われる。反応終了
後、溶媒を除去し、塩化アセチルや無水酢酸等の脱水剤
で脱水を行なうことによって、本発明の化合物(I)を
得ることができる。
【0085】プロセスC;このプロセスCは、下記一般
式(IV)
式(IV)
【0086】
【化23】
【0087】(式中
【0088】
【化24】
【0089】
【化25】
【0090】およびCprは、前記一般式(I)におけ
る定義と同じ)で表わされるイミド化合物をアルカリ金
属と反応させ、次いで下記一般式(Va)、(Vb)、
(Vc)または(Vd) Br−R1 (Va) Br−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2 (Vb) Br−A3−A4 (Vc) Br−A3−R3 (Vd) (式中 R1,R2,R3,A1,A2,A3,B1,B2,m
およびnは、前記一般式(I)における定義と同じ)
で表わされる臭素化合物とを反応せしめることを特徴と
する下記一般式(I)で表される化合物の製造方法であ
る。
る定義と同じ)で表わされるイミド化合物をアルカリ金
属と反応させ、次いで下記一般式(Va)、(Vb)、
(Vc)または(Vd) Br−R1 (Va) Br−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2 (Vb) Br−A3−A4 (Vc) Br−A3−R3 (Vd) (式中 R1,R2,R3,A1,A2,A3,B1,B2,m
およびnは、前記一般式(I)における定義と同じ)
で表わされる臭素化合物とを反応せしめることを特徴と
する下記一般式(I)で表される化合物の製造方法であ
る。
【0091】このプロセスCで使用されるアルカリ金属
は、金属ナトリウム,金属カリウム及び金属リチウム等
が用いられる。アルカリ金属の反応比率は、一般に上記
一般式(IV)で示される化合物1モルに対して1.0
〜10モルの範囲から選択される。また上記一般式(V
a)〜(Vd)で示される臭素化合物の反応比率は、一
般にアルカリ金属を反応させて得られた(IV)に対応
する化合物1モルに対して0.5〜10モルの範囲から
選択することが好ましい。
は、金属ナトリウム,金属カリウム及び金属リチウム等
が用いられる。アルカリ金属の反応比率は、一般に上記
一般式(IV)で示される化合物1モルに対して1.0
〜10モルの範囲から選択される。また上記一般式(V
a)〜(Vd)で示される臭素化合物の反応比率は、一
般にアルカリ金属を反応させて得られた(IV)に対応
する化合物1モルに対して0.5〜10モルの範囲から
選択することが好ましい。
【0092】この反応で使用される溶媒は、前述のプロ
セスBで説明したものと同様のものが使用される。反応
温度は、通常0〜100℃の範囲を採用することが好ま
しい。
セスBで説明したものと同様のものが使用される。反応
温度は、通常0〜100℃の範囲を採用することが好ま
しい。
【0093】前述したプロセスBおよびプロセスCのい
ずれの方法によっても、また、これらの改変によっても
本発明の前記一般式(I)の化合物を得ることができ
る。
ずれの方法によっても、また、これらの改変によっても
本発明の前記一般式(I)の化合物を得ることができ
る。
【0094】本発明における前記一般式(I)の化合物
は、それ自体フォトクロミック作用を有しており、その
耐久性は優れているが、紫外線安定剤と組合せることに
よって、そのフォトクロミック作用の耐久性は更に一段
と向上する。従って本発明の化合物(I)は実用に供す
る場合、公知の紫外線安定剤と混合して併用しても良
い。
は、それ自体フォトクロミック作用を有しており、その
耐久性は優れているが、紫外線安定剤と組合せることに
よって、そのフォトクロミック作用の耐久性は更に一段
と向上する。従って本発明の化合物(I)は実用に供す
る場合、公知の紫外線安定剤と混合して併用しても良
い。
【0095】本発明の上記一般式(I)で示される化合
物は、トルエン,クロロホルム,テトラヒドロフラン等
の一般の有機溶媒に良く溶ける。このような溶媒に一般
式(I)で示される化合物を溶かしたとき、一般に溶媒
はほぼ無色透明であり、紫外線を照射すると発色し、光
を遮断しても常温付近ではその発色はほとんど変化せ
ず、80℃付近に加熱しても発色の状態は安定で元の無
色系には戻らないが、紫外線を含まない白色光を照射す
ると速やかに元の無色にもどる良好な可逆的なフォトク
ロミック作用を呈する。このような一般式(I)の化合
物におけるフォトクロミック作用は、高分子固体マトリ
ックス中でも起こり、可逆スピードは秒のオーダーであ
る。かかる対象となる高分子マトリックスを形成する高
分子重合体としては、本発明の一般式(I)で示される
化合物が均一に分散するものであればよく、光学的に好
ましくは、例えばポリアクリル酸メチル,ポリアクリル
酸エチル,ポリメタクリル酸メチル,ポリメタクリル酸
エチル,ポリスチレン,ポリアクリロニトリル,ポリビ
ニルアルコール,ポリアクリルアミド,ポリ(2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート),ポリジメチルシロキサ
ン,ポリカーボネート,ポリ(アリルジグリコールカー
ボネート)などのポリマー、あるいはこれらのポリマー
の原料となるモノマー相互または該モノマーと他のモノ
マーとを共重合してなるポリマーなどが好適に用いられ
る。高分子重合体の分子量は特に制限されるものではな
いが、通常500〜500,000の範囲から選択され
る。
物は、トルエン,クロロホルム,テトラヒドロフラン等
の一般の有機溶媒に良く溶ける。このような溶媒に一般
式(I)で示される化合物を溶かしたとき、一般に溶媒
はほぼ無色透明であり、紫外線を照射すると発色し、光
を遮断しても常温付近ではその発色はほとんど変化せ
ず、80℃付近に加熱しても発色の状態は安定で元の無
色系には戻らないが、紫外線を含まない白色光を照射す
ると速やかに元の無色にもどる良好な可逆的なフォトク
ロミック作用を呈する。このような一般式(I)の化合
物におけるフォトクロミック作用は、高分子固体マトリ
ックス中でも起こり、可逆スピードは秒のオーダーであ
る。かかる対象となる高分子マトリックスを形成する高
分子重合体としては、本発明の一般式(I)で示される
化合物が均一に分散するものであればよく、光学的に好
ましくは、例えばポリアクリル酸メチル,ポリアクリル
酸エチル,ポリメタクリル酸メチル,ポリメタクリル酸
エチル,ポリスチレン,ポリアクリロニトリル,ポリビ
ニルアルコール,ポリアクリルアミド,ポリ(2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート),ポリジメチルシロキサ
ン,ポリカーボネート,ポリ(アリルジグリコールカー
ボネート)などのポリマー、あるいはこれらのポリマー
の原料となるモノマー相互または該モノマーと他のモノ
マーとを共重合してなるポリマーなどが好適に用いられ
る。高分子重合体の分子量は特に制限されるものではな
いが、通常500〜500,000の範囲から選択され
る。
【0096】前記した高分子重合体中に分散させる本発
明の一般式(I)の化合物の添加量は、一般には高分子
重合体100重量部に対して0.001〜70重量部、
好ましくは0.005〜30重量部、特に好ましくは0.
1〜15重量部の範囲である。また前記した紫外線安定
剤を高分子重合体中へ混合して使用する場合、その量
は、前記した一般式(I)の化合物と紫外線安定剤との
配合割合の範囲を維持するのが望ましい。
明の一般式(I)の化合物の添加量は、一般には高分子
重合体100重量部に対して0.001〜70重量部、
好ましくは0.005〜30重量部、特に好ましくは0.
1〜15重量部の範囲である。また前記した紫外線安定
剤を高分子重合体中へ混合して使用する場合、その量
は、前記した一般式(I)の化合物と紫外線安定剤との
配合割合の範囲を維持するのが望ましい。
【0097】本発明の一般式(I)の化合物におけるフ
ォトクロミック作用は、従来公知のフルギド化合物に比
較して、耐久性が著しく向上している。
ォトクロミック作用は、従来公知のフルギド化合物に比
較して、耐久性が著しく向上している。
【0098】従って、本発明の化合物はフォトクロミク
材として広範囲に利用でき、例えば、銀塩感光材に代る
各種の記憶材料,複写材料,印刷用感光体,陰極線管用
記録材料,レーザー用感光材料,ホログラフィー用感光
材料などの種々の記録材料として利用できる。その他、
本発明の化合物を用いたフォトクロミック材は、フォト
クロミックレンズ材料,光学フイルター材料,ディスプ
レー材料,光量計,装飾などの材料としても利用でき
る。
材として広範囲に利用でき、例えば、銀塩感光材に代る
各種の記憶材料,複写材料,印刷用感光体,陰極線管用
記録材料,レーザー用感光材料,ホログラフィー用感光
材料などの種々の記録材料として利用できる。その他、
本発明の化合物を用いたフォトクロミック材は、フォト
クロミックレンズ材料,光学フイルター材料,ディスプ
レー材料,光量計,装飾などの材料としても利用でき
る。
【0099】
【発明の効果】本発明の一般式(I)に示した化合物
は、紫外線を照射すると発色し、光を遮断しても常温付
近ではその発色はほとんど変化せず、80℃付近に加熱
しても発色の状態は安定で元の無色系には戻らないが、
紫外線を含まない白色光を照射すると速やかに元の無色
にもどる可逆的なフォトクロミック作用を呈する。そし
て、かかる化合物は、シクロプロピル基の効果により従
来の化合物より耐久性が著しく向上し、さらに、発色型
の最大吸収波長も長波長化もしている。
は、紫外線を照射すると発色し、光を遮断しても常温付
近ではその発色はほとんど変化せず、80℃付近に加熱
しても発色の状態は安定で元の無色系には戻らないが、
紫外線を含まない白色光を照射すると速やかに元の無色
にもどる可逆的なフォトクロミック作用を呈する。そし
て、かかる化合物は、シクロプロピル基の効果により従
来の化合物より耐久性が著しく向上し、さらに、発色型
の最大吸収波長も長波長化もしている。
【0100】
【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【0101】実施例1 3−シクロプロピルチエニルケトン 10.0g(0.
066mol)と下記式の2−アダマンチリデンコハク
酸ジエチル 20.0g(0.065mol)
066mol)と下記式の2−アダマンチリデンコハク
酸ジエチル 20.0g(0.065mol)
【0102】
【化26】
【0103】とをトルエン200ccに溶解した溶液を
調整した。次いで、水素化ナトリウム5.6gをトルエ
ン200cc中に分散した溶液中に、上記のトルエン溶
液を液温が0℃以下に保って、10時間激しく攪拌し
た。過剰の10%エタノール性水酸化カリウム溶液で加
水分解した後、塩酸による酸性化によって得られたジカ
ルボン酸を塩化アセチル100ccで処理し、シリカゲ
ル上でのクロマトグラフィーにより精製することによ
り、下記式のフルギド化合物11.5gを得た。
調整した。次いで、水素化ナトリウム5.6gをトルエ
ン200cc中に分散した溶液中に、上記のトルエン溶
液を液温が0℃以下に保って、10時間激しく攪拌し
た。過剰の10%エタノール性水酸化カリウム溶液で加
水分解した後、塩酸による酸性化によって得られたジカ
ルボン酸を塩化アセチル100ccで処理し、シリカゲ
ル上でのクロマトグラフィーにより精製することによ
り、下記式のフルギド化合物11.5gを得た。
【0104】
【化27】
【0105】この化合物は、トルエンおよびイソプロピ
ルアルコールによる再結晶により黄色針状結晶として4
8%の収率で得られた。
ルアルコールによる再結晶により黄色針状結晶として4
8%の収率で得られた。
【0106】この化合物の元素分析値は、C72.55
%、H6.35%、O13.4%およびS8.90%で
あって、CHOSに対する計算値であるC72.1%、
H6.05%,O13.1%およびS8.75%に極め
てよく一致した。またプロントン核磁気共鳴スペクトル
(図1)を測定したところ、δ7.0〜8.0ppm 付近に
アロマティックなプロトンに基づく3Hのピーク,δ
1.2〜2.5ppm にシクロプロピル基および2アダマン
チリデン基のプロトンに基づく19Hのピークを示し
た。
%、H6.35%、O13.4%およびS8.90%で
あって、CHOSに対する計算値であるC72.1%、
H6.05%,O13.1%およびS8.75%に極め
てよく一致した。またプロントン核磁気共鳴スペクトル
(図1)を測定したところ、δ7.0〜8.0ppm 付近に
アロマティックなプロトンに基づく3Hのピーク,δ
1.2〜2.5ppm にシクロプロピル基および2アダマン
チリデン基のプロトンに基づく19Hのピークを示し
た。
【0107】さらに13C−核磁気共鳴スペクトル(13C
−NMR)を測定したところ、δ27〜70ppm 付近に
2−アダマンチリデン基の炭素に基づくピーク,δ9.
7ppm 付近にシクロプロピル基の炭素に基づくピーク,
δ110〜160ppm 付近にチオフエン環の炭素に基づ
くピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結合の
炭素に基づくピークが現れた。
−NMR)を測定したところ、δ27〜70ppm 付近に
2−アダマンチリデン基の炭素に基づくピーク,δ9.
7ppm 付近にシクロプロピル基の炭素に基づくピーク,
δ110〜160ppm 付近にチオフエン環の炭素に基づ
くピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結合の
炭素に基づくピークが現れた。
【0108】上記の結果から、単離生成物は、前記の構
造式で示される化合物であることを確認した。
造式で示される化合物であることを確認した。
【0109】実施例2 シクロプロピル−2−ブロモ−4−チエニルケトン1
1.3g(0.049mol) と下記式の2−アダマン
チリデンコハク酸ジエチル19.6g(0.064mo
l)
1.3g(0.049mol) と下記式の2−アダマン
チリデンコハク酸ジエチル19.6g(0.064mo
l)
【0110】
【化28】
【0111】とをトルエン200ccに溶解した溶液を
調製した。次いで、水素化ナトリウム5gをトルエン2
00cc中に分散した溶液中に、上記のトルエン溶液を
液温が0℃以下になるようにして窒素気流下に3時間か
けて滴下した。滴下終了後、そのまま液温を0℃以下に
保って、10時間激しく攪拌した。過剰の10%エタノ
ール性水酸化カリウム溶液で加水分解した後、塩酸によ
る酸性化によって得られたジカルボン酸を塩化アセチル
100ccで処理し、シリカゲル上でのクロマトグラフ
イーにより精製することにより、下記式のフルギド化合
物12.8gを得た。
調製した。次いで、水素化ナトリウム5gをトルエン2
00cc中に分散した溶液中に、上記のトルエン溶液を
液温が0℃以下になるようにして窒素気流下に3時間か
けて滴下した。滴下終了後、そのまま液温を0℃以下に
保って、10時間激しく攪拌した。過剰の10%エタノ
ール性水酸化カリウム溶液で加水分解した後、塩酸によ
る酸性化によって得られたジカルボン酸を塩化アセチル
100ccで処理し、シリカゲル上でのクロマトグラフ
イーにより精製することにより、下記式のフルギド化合
物12.8gを得た。
【0112】
【化29】
【0113】クロロホルム及びヘキサンからの黄色針状
結晶として35%の収率で得られた。
結晶として35%の収率で得られた。
【0114】この化合物の元素分析値は、C59.35
%,H4.79%,O10.81%,S7.25%および
Br18.01%であって、C19H19O3SBrに対する
計算値である C59.33%,H4.75%,O10.7
8%S7.20%およびBr17.94% を極めてよく
一致した。また、プロトン核磁気共鳴スペクトルを測定
したところ、δ7.2ppm付近にチオフエン環のプロトン
に基づく2Hのピーク,δ1.2〜2.5ppm付近にシク
ロプロピル基および2アダマンチリデン基のプロトンに
基づく19Hの幅広いピークを示した。さらに13C−核
磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)を測定したとこ
ろ、δ27〜70ppm 付近に2−アダマンチリデン基の
炭素に基づくピーク,δ9.7ppm付近にシクロプロピル
基の炭素に基づくピーク,δ110〜160ppm付近に
チオフエン環の炭素に基づくピーク,δ160〜170
ppm付近にC=O結合の炭素に基づくピークが現われ
た。
%,H4.79%,O10.81%,S7.25%および
Br18.01%であって、C19H19O3SBrに対する
計算値である C59.33%,H4.75%,O10.7
8%S7.20%およびBr17.94% を極めてよく
一致した。また、プロトン核磁気共鳴スペクトルを測定
したところ、δ7.2ppm付近にチオフエン環のプロトン
に基づく2Hのピーク,δ1.2〜2.5ppm付近にシク
ロプロピル基および2アダマンチリデン基のプロトンに
基づく19Hの幅広いピークを示した。さらに13C−核
磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)を測定したとこ
ろ、δ27〜70ppm 付近に2−アダマンチリデン基の
炭素に基づくピーク,δ9.7ppm付近にシクロプロピル
基の炭素に基づくピーク,δ110〜160ppm付近に
チオフエン環の炭素に基づくピーク,δ160〜170
ppm付近にC=O結合の炭素に基づくピークが現われ
た。
【0115】上記の結果から、単離生成物は上記の構造
式で示される化合物であることを確認した。
式で示される化合物であることを確認した。
【0116】実施例3 下記式のシクロプロピル−3−チエニルメチリデン−7
−ノルボルニリデンこはく酸無水物 3.3g(0.01
mol)
−ノルボルニリデンこはく酸無水物 3.3g(0.01
mol)
【0117】
【化30】
【0118】と下記式のグリシン−メチルエステル1
7.8g(0.02mol)
7.8g(0.02mol)
【0119】
【化31】
【0120】をトルエンに溶解し、窒素雰囲気下で50
℃で2時間加熱した。反応後、溶媒を除去して塩化アセ
チルに溶解し、1時間還流し環化した。得られたフルギ
ミド化合物は、溶離液としてベンゼンとエーテルを用い
てシリカゲル上でのクロマトグラフイーにより精製さ
れ、クロロホルム及びヘキサンからの淡黄色針状結晶と
して23%の収率で得られた。
℃で2時間加熱した。反応後、溶媒を除去して塩化アセ
チルに溶解し、1時間還流し環化した。得られたフルギ
ミド化合物は、溶離液としてベンゼンとエーテルを用い
てシリカゲル上でのクロマトグラフイーにより精製さ
れ、クロロホルム及びヘキサンからの淡黄色針状結晶と
して23%の収率で得られた。
【0121】この化合物の元素分析値はC66.52
%,H5.86%,N3.49%,O16.3%,S8.1
1% であって、C22H23O4NSに対する計算値である
C66.48%,H5.83%,N3.52%,O16.1
%,S8.07%に極めてよく一致した。またプロント
ン核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ7.0〜
8.0ppm 付近にアロマティックなプロトンに基づく3
Hのピーク,δ3.7ppm付近に
%,H5.86%,N3.49%,O16.3%,S8.1
1% であって、C22H23O4NSに対する計算値である
C66.48%,H5.83%,N3.52%,O16.1
%,S8.07%に極めてよく一致した。またプロント
ン核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ7.0〜
8.0ppm 付近にアロマティックなプロトンに基づく3
Hのピーク,δ3.7ppm付近に
【0122】
【化32】
【0123】結合のメチル基のプロトンに基づく3Hの
ピーク,δ1.2〜2.5ppm にシクロプロピル基およ
び7−ノルボルニリデン基のプロトンに基づく15Hの
ピーク,δ4.5ppm に>N−CH2−結合に基づく2
Hのピークを示した。
ピーク,δ1.2〜2.5ppm にシクロプロピル基およ
び7−ノルボルニリデン基のプロトンに基づく15Hの
ピーク,δ4.5ppm に>N−CH2−結合に基づく2
Hのピークを示した。
【0124】さらに13C−核磁気共鳴スペクトル(13C
−NMR)を測定したところ、δ27〜70ppm 付近に
7−ノルボルニリデン基の炭素とメチレン鎖の炭素に基
づくピーク,δ9.7ppm 付近にシクロプロピル基の炭
素に基づくピーク,δ110〜160ppm 付近にチオフ
エン環の炭素に基づくピーク,δ160〜170ppm付
近に>C=O結合の炭素に基づくピークが現れた。
−NMR)を測定したところ、δ27〜70ppm 付近に
7−ノルボルニリデン基の炭素とメチレン鎖の炭素に基
づくピーク,δ9.7ppm 付近にシクロプロピル基の炭
素に基づくピーク,δ110〜160ppm 付近にチオフ
エン環の炭素に基づくピーク,δ160〜170ppm付
近に>C=O結合の炭素に基づくピークが現れた。
【0125】上記の結果から、単離生成物は、下記の構
造式で示されるフルギミド化合物であることを確認し
た。
造式で示されるフルギミド化合物であることを確認し
た。
【0126】
【化33】
【0127】実施例4 下記式のフルギミド化合物3.0g(0.01mol)
【0128】
【化34】
【0129】をテトラヒドロフランに溶解し、これに金
属カリウム1gを室温で反応させ、下記式のイミドカリ
3.0gを得た。
属カリウム1gを室温で反応させ、下記式のイミドカリ
3.0gを得た。
【0130】
【化35】
【0131】これと下記式のブロモアセトニトリル1.
2g(0.01mol) BrCH2CN をジメチルホルムアミド中で反応させることにより、下
記のフルギミド化合物を得た。この化合物は、溶離液と
してクロロホルムとヘキサンを用いてシリカゲル上での
クロマトグラフイーにより精製され、ヘキサンからの淡
黄色結晶として52%の収率で得られた。
2g(0.01mol) BrCH2CN をジメチルホルムアミド中で反応させることにより、下
記のフルギミド化合物を得た。この化合物は、溶離液と
してクロロホルムとヘキサンを用いてシリカゲル上での
クロマトグラフイーにより精製され、ヘキサンからの淡
黄色結晶として52%の収率で得られた。
【0132】この化合物の元素分析値は C69.25
%,H5.55%,N7.71%,O8.75%,S8.9
0%であって、C21H20N2O2S に対する計算値であ
る C69.21%,H5.53%,N7.69%,O8.
78%,S8.8%,に極めてよく一致した。また、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ7.
0〜8.0ppm 付近にチオフエン環のプロトンに基づく
3Hのピーク,δ4.5ppm付近に>N−CH2CN結合
のプロトンに基づく2Hのピーク,δ1.3〜2.5ppm
付近にシクロプロピル基および 7−ノルボルニリデン
基に基づくプロトンの15Hのピークを示した。
%,H5.55%,N7.71%,O8.75%,S8.9
0%であって、C21H20N2O2S に対する計算値であ
る C69.21%,H5.53%,N7.69%,O8.
78%,S8.8%,に極めてよく一致した。また、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ7.
0〜8.0ppm 付近にチオフエン環のプロトンに基づく
3Hのピーク,δ4.5ppm付近に>N−CH2CN結合
のプロトンに基づく2Hのピーク,δ1.3〜2.5ppm
付近にシクロプロピル基および 7−ノルボルニリデン
基に基づくプロトンの15Hのピークを示した。
【0133】さらに13C−核磁気共鳴スペクトル(13C
−NMR)を測定したところ、δ27〜70ppm 付近に
7−ノルボルニリデン基の炭素に基づくピーク,δ1
0.2ppm 付近にシクロプロピル基の炭素に基づくピー
ク,δ110〜160ppm付近にチオフエン環の炭素に
基づくピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結
合の炭素に基づくピークが現われた。
−NMR)を測定したところ、δ27〜70ppm 付近に
7−ノルボルニリデン基の炭素に基づくピーク,δ1
0.2ppm 付近にシクロプロピル基の炭素に基づくピー
ク,δ110〜160ppm付近にチオフエン環の炭素に
基づくピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結
合の炭素に基づくピークが現われた。
【0134】上記の結果から、単離生成物は下記の構造
式で示されるフルギミド化合物であることを確認した。
式で示されるフルギミド化合物であることを確認した。
【0135】
【化36】
【0136】実施例5
【0137】
【化37】
【0138】上記のフルギド化合物4.3g(0.01m
ol)と下記式の2−ナフチルエチルアミン3.5g
(0.02mol)
ol)と下記式の2−ナフチルエチルアミン3.5g
(0.02mol)
【0139】
【化38】
【0140】をトルエンに溶解し、窒素雰囲気下で50
℃で2時間加熱した。反応後、溶媒を除去して塩化アセ
チルに溶解し、1時間還流し環化した。得られたフルギ
ミド化合物は、溶離液としてベンゼンとエーテルを用い
てシリカゲル上でのクロマトグラフイーにより精製さ
れ、クロロホルム及びヘキサンからの黄色針状結晶とし
て25%の収率で得られた。
℃で2時間加熱した。反応後、溶媒を除去して塩化アセ
チルに溶解し、1時間還流し環化した。得られたフルギ
ミド化合物は、溶離液としてベンゼンとエーテルを用い
てシリカゲル上でのクロマトグラフイーにより精製さ
れ、クロロホルム及びヘキサンからの黄色針状結晶とし
て25%の収率で得られた。
【0141】この化合物の元素分析値は、C67.61
%,H5.52%,Br13.65%,N2.39%,O
5.50%,S5.41%であって、C33H32BrNO2S
に対する計算値である C67.57%,H5.5%,B
r13.62%,N2.39%,O5.46%,S5.47
%に極めてよく一致した。また、プロトン核磁気共鳴ス
ペクトルを測定したところ、 δ7.0〜8.0ppm 付近
にアロマティックなプロトンに基づく9Hのピーク,δ
4.5ppm付近に>N−CH2−のプロトンに基づく2H
のピーク,δ1.3〜2.5ppm 付近に−CH2−結合の
プロトン、シクロプロピル基およびビシクロ〔3.3.
1〕9−ノニリデンに基づく22Hのピークが現われ
た。
%,H5.52%,Br13.65%,N2.39%,O
5.50%,S5.41%であって、C33H32BrNO2S
に対する計算値である C67.57%,H5.5%,B
r13.62%,N2.39%,O5.46%,S5.47
%に極めてよく一致した。また、プロトン核磁気共鳴ス
ペクトルを測定したところ、 δ7.0〜8.0ppm 付近
にアロマティックなプロトンに基づく9Hのピーク,δ
4.5ppm付近に>N−CH2−のプロトンに基づく2H
のピーク,δ1.3〜2.5ppm 付近に−CH2−結合の
プロトン、シクロプロピル基およびビシクロ〔3.3.
1〕9−ノニリデンに基づく22Hのピークが現われ
た。
【0142】さらに13C−核磁気共鳴スペクトル(13C
−NMR)を測定したところ、δ27〜52ppm 付近に
ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基の炭素とメチ
レン鎖の炭素に基づくピーク,δ9.70ppm付近にシク
ロプロピル基の炭素に基づくピーク,δ110〜160
ppm 付近にチオフエン環の炭素とナフタレン環の炭素に
基づくピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結
合の炭素に基づくピークが現われた。
−NMR)を測定したところ、δ27〜52ppm 付近に
ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基の炭素とメチ
レン鎖の炭素に基づくピーク,δ9.70ppm付近にシク
ロプロピル基の炭素に基づくピーク,δ110〜160
ppm 付近にチオフエン環の炭素とナフタレン環の炭素に
基づくピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結
合の炭素に基づくピークが現われた。
【0143】上記の結果から、単離生成物は、下記の構
造式で示されるフルギミド化合物である事を確認した。
造式で示されるフルギミド化合物である事を確認した。
【0144】
【化39】
【0145】実施例6 実施例5の2−ナフチルエチルアミンにかえて、NH3
を用いた以外は実施例5と同様にして下記の構造式のフ
ルギミド化合物を得た。
を用いた以外は実施例5と同様にして下記の構造式のフ
ルギミド化合物を得た。
【0146】
【化40】
【0147】この化合物6.5g(0.015mol)
をテトラヒドロフランに溶解し金属ナトリウムを室温で
反応させ、下記式のイミドナトリウム5.4gを得た。
をテトラヒドロフランに溶解し金属ナトリウムを室温で
反応させ、下記式のイミドナトリウム5.4gを得た。
【0148】
【化41】
【0149】これと下記の2−ナフトキシ酢酸−2−ブ
ロモエチルエステル
ロモエチルエステル
【0150】
【化42】
【0151】2g(0.01mol) をジメチルホルム
アミド中で反応させる事により、下記のフルギミド化合
物を得た。この化合物は、溶離液としてクロロホルムと
ヘキサンを用いてシリカゲル上でのクロマトグラフイー
により精製され、ヘキサンからの黄色針状結晶として収
率47%で得られた。
アミド中で反応させる事により、下記のフルギミド化合
物を得た。この化合物は、溶離液としてクロロホルムと
ヘキサンを用いてシリカゲル上でのクロマトグラフイー
により精製され、ヘキサンからの黄色針状結晶として収
率47%で得られた。
【0152】この化合物の元素分析値はC63.67
%,H5.21%,Br12.15%,N2.15%,O1
2.15%であって、C35H34BrNO5S の計算値で
あり、C63.63%,H5.19%,Br12.1%,N
2.12%,O12.11%に極めてよく一致した。また
プロトン核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ
7.0〜8.0ppm 付近にアロマテイックなプロトンに基
づく9Hのピーク,δ3.0〜5.0ppm 付近に−CH2
−結合に基づくプロトンに基づく6Hのピーク,δ1.
0〜2.2ppmにシクロプロピル基およびビシクロ〔3.
3.1〕9−ノニリデン基に基づく19Hのピークを示
した。
%,H5.21%,Br12.15%,N2.15%,O1
2.15%であって、C35H34BrNO5S の計算値で
あり、C63.63%,H5.19%,Br12.1%,N
2.12%,O12.11%に極めてよく一致した。また
プロトン核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ
7.0〜8.0ppm 付近にアロマテイックなプロトンに基
づく9Hのピーク,δ3.0〜5.0ppm 付近に−CH2
−結合に基づくプロトンに基づく6Hのピーク,δ1.
0〜2.2ppmにシクロプロピル基およびビシクロ〔3.
3.1〕9−ノニリデン基に基づく19Hのピークを示
した。
【0153】さらに13C−核磁気共鳴スペクトル(13C
−NMR)を測定したところ、δ27〜52ppm付近に
ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基の炭素とメチレン
鎖の炭素に基づくピーク,δ9.7ppm付近にシクロプロ
ピル基の炭素に基づくピーク,δ110〜160ppm 付
近にチオフエン環の炭素とナフタレン環の炭素に基づく
ピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結合の炭
素に基づくピークが現われる。
−NMR)を測定したところ、δ27〜52ppm付近に
ビシクロ〔3.3.1〕9−ノニリデン基の炭素とメチレン
鎖の炭素に基づくピーク,δ9.7ppm付近にシクロプロ
ピル基の炭素に基づくピーク,δ110〜160ppm 付
近にチオフエン環の炭素とナフタレン環の炭素に基づく
ピーク,δ160〜170ppm 付近に>C=O結合の炭
素に基づくピークが現われる。
【0154】上記の結果から、単離生成物は下記の構造
式で示されるフルギミド化合物であることを確認した。
式で示されるフルギミド化合物であることを確認した。
【0155】
【化43】
【0156】実施例7 実施例1〜6と同様にして表1に示した原料から各種の
フルギド化合物又はフルギミド化合物を合成した。
フルギド化合物又はフルギミド化合物を合成した。
【0157】得られた化合物について、それぞれ実施例
1〜6と同様に元素分析,プロトン核磁気共鳴スペクト
ル及び13C−核磁気共鳴スペクトルを測定した結果か
ら、表1に示す構造式(7)〜(58)で示される化合
物を確認した。また、表2にこの化合物の元素分析値、
各化合物の構造式から求めた計算値、及びプロトン核磁
気共鳴スペクトルの特性吸収を示した。
1〜6と同様に元素分析,プロトン核磁気共鳴スペクト
ル及び13C−核磁気共鳴スペクトルを測定した結果か
ら、表1に示す構造式(7)〜(58)で示される化合
物を確認した。また、表2にこの化合物の元素分析値、
各化合物の構造式から求めた計算値、及びプロトン核磁
気共鳴スペクトルの特性吸収を示した。
【0158】
【表1】
【0159】
【表2】
【0160】
【表3】
【0161】
【表4】
【0162】
【表5】
【0163】
【表6】
【0164】
【表7】
【0165】
【表8】
【0166】
【表9】
【0167】
【表10】
【0168】
【表11】
【0169】
【表12】
【0170】
【表13】
【0171】
【表14】
【0172】
【表15】
【0173】
【表16】
【0174】
【表17】
【0175】
【表18】
【0176】
【表19】
【0177】
【表20】
【0178】
【表21】
【0179】実施例8 実施例1〜7で製造した製造式(1)〜(58)で示さ
れる化合物 0.5重量部、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート 65重量部、トリエチレングリコール
ジメタクリレート 15重量部、グリシジルメタクリレ
ート 9重量部、2ーヒドロキシエチルメタクリレート
2重量部、αーメチルスチレン 8重量部、αーメチル
スチレンダイマー 1重量部、ラジカル重合開始剤とし
てt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート
0.5重量部添加してよく混合した。この混合液をガラ
ス板とエチレン−酢酸ビニル共重合体からなるガスケッ
トで構成された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。
重合は空気炉を用い、30℃から90℃で18時間か
け、徐々に温度を上げていき、90℃に2時間保持し
た。重合終了後、鋳型を空気炉から取り外し、放冷後、
重量体を鋳型のガラス型から取り外した。
れる化合物 0.5重量部、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート 65重量部、トリエチレングリコール
ジメタクリレート 15重量部、グリシジルメタクリレ
ート 9重量部、2ーヒドロキシエチルメタクリレート
2重量部、αーメチルスチレン 8重量部、αーメチル
スチレンダイマー 1重量部、ラジカル重合開始剤とし
てt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート
0.5重量部添加してよく混合した。この混合液をガラ
ス板とエチレン−酢酸ビニル共重合体からなるガスケッ
トで構成された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。
重合は空気炉を用い、30℃から90℃で18時間か
け、徐々に温度を上げていき、90℃に2時間保持し
た。重合終了後、鋳型を空気炉から取り外し、放冷後、
重量体を鋳型のガラス型から取り外した。
【0180】得られたフォトクロミック樹脂(厚み2m
m)の着色・退色の繰り返し耐久性を以下に示す条件で
測定した。
m)の着色・退色の繰り返し耐久性を以下に示す条件で
測定した。
【0181】励起光源:キセノンランプ(250W) 照射時間 3秒 消色光源:キセノンランプ(250W、フィルター装着
により400nm以下をカットした。) 照射時間 30秒 繰り返し耐久性は、上記の樹脂の初期発色濃度の半分に
減衰するのに要する回数として定義した。
により400nm以下をカットした。) 照射時間 30秒 繰り返し耐久性は、上記の樹脂の初期発色濃度の半分に
減衰するのに要する回数として定義した。
【0182】また、上記の樹脂に上記した励起光源を5
秒照射し、この時の発色濃度を初期値として、80℃の
オーブン中でこの樹脂の発色状態の熱安定性を評価し
た。熱安定性は、上記の初期値が半分に減衰するのに要
する時間として定義した。
秒照射し、この時の発色濃度を初期値として、80℃の
オーブン中でこの樹脂の発色状態の熱安定性を評価し
た。熱安定性は、上記の初期値が半分に減衰するのに要
する時間として定義した。
【0183】測定結果を表3に示した。なお、比較のた
めに下記化合物(X)
めに下記化合物(X)
【0184】
【化44】
【0185】で示される化合物についても同様に樹脂を
作成し、繰り返し耐久性および熱安定性を測定した。
作成し、繰り返し耐久性および熱安定性を測定した。
【0186】
【表22】
【0187】
【表23】
【図1】図1は、実施例1で得られた化合物の 1H−核
磁気共鳴スペクトルのチャートである。
磁気共鳴スペクトルのチャートである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 409/06 207 307 C09K 9/02 B
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式(I) 【化1】 {式中、下記式(a) 【化2】 は、それぞれ置換基を有してもよい芳香族炭化水素また
は不飽和複素環基であり、Cprは置換基を有してもよ
いシクロプロピル基であり、下記式(b) 【化3】 は、それぞれ置換基を有してもよいノルボルニリデン
基、ビシクロ〔3,3,1〕ノニリデン基またはアダマ
ンチリデン基であり、Xは、酸素原子 基>N−R1 基>N−A1−B1−(A2)m−(B2)n−R2 基>N−A3−A4 または 基>N−A3−R3 を示す 〔ここで、R1は、水素原子、アルキル基またはアリー
ル基であり、A1,A2およびA3は、同一もしくは異な
り、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン
基またはアルキルシクロアルカン−ジイル基であり、B
1およびB2は、同一もしくは異なり、 【化4】 mおよびnは、それぞれ独立して0または1を示す(但
しmが0の時はnは0である)、R2は、それぞれ置換
基を有してもよいアルキル基、ナフチル基またはナフチ
ルアルキル基であり、A4は、置換基を有してもよいナ
フチル基であり、R3は、ハロゲン原子、シアノ基また
はニトロ基を示す〕}で表される化合物。 - 【請求項2】請求項1記載の化合物よりなるフォトクロ
ミック材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8068594A JPH07285931A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | 新規化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8068594A JPH07285931A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | 新規化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07285931A true JPH07285931A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=13725202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8068594A Pending JPH07285931A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | 新規化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07285931A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6395897B1 (en) | 1999-03-02 | 2002-05-28 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Nitrile compounds useful as reversible inhibitors of #9 cathepsin 5 |
| US6756372B2 (en) | 1999-09-13 | 2004-06-29 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cysteine proteases |
| WO2011031554A2 (en) | 2009-08-27 | 2011-03-17 | Biocryst Pharmaceuticals, Inc. | Heterocyclic compounds as janus kinase inhibitors |
| WO2011150356A1 (en) | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Biocryst Pharmaceuticals, Inc. | Heterocyclic compounds as janus kinase inhibitors |
| EP4067353A1 (en) * | 2021-03-31 | 2022-10-05 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Photochromic compound, photochromic article and eyeglasses |
-
1994
- 1994-04-19 JP JP8068594A patent/JPH07285931A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6395897B1 (en) | 1999-03-02 | 2002-05-28 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Nitrile compounds useful as reversible inhibitors of #9 cathepsin 5 |
| US6608057B2 (en) | 1999-03-02 | 2003-08-19 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cathepsin S |
| US6730671B2 (en) | 1999-03-02 | 2004-05-04 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cathespin S |
| US6756372B2 (en) | 1999-09-13 | 2004-06-29 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cysteine proteases |
| US6982272B2 (en) | 1999-09-13 | 2006-01-03 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cysteine proteases |
| US7056915B2 (en) | 1999-09-13 | 2006-06-06 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cysteine proteases |
| US7265132B2 (en) | 1999-09-13 | 2007-09-04 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cysteine proteases |
| US7279472B2 (en) | 1999-09-13 | 2007-10-09 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cysteine proteases |
| US6858623B2 (en) | 2000-09-08 | 2005-02-22 | Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals, Inc. | Compounds useful as reversible inhibitors of cysteine proteases |
| WO2011031554A2 (en) | 2009-08-27 | 2011-03-17 | Biocryst Pharmaceuticals, Inc. | Heterocyclic compounds as janus kinase inhibitors |
| WO2011150356A1 (en) | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Biocryst Pharmaceuticals, Inc. | Heterocyclic compounds as janus kinase inhibitors |
| EP4067353A1 (en) * | 2021-03-31 | 2022-10-05 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Photochromic compound, photochromic article and eyeglasses |
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