JPH07296367A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁性層を薄くしても高記録密度を実現しつつ
耐久性も向上させることができる磁気記録媒体を提供す
る。 【構成】 非磁性支持体２に強磁性金属粒子４及びバイ
ンダ５を主体とする磁性層３を設けてなる磁気記録媒体
１において、前記磁性層の厚みは０．３μｍ以下で、そ
の保磁力は１７００Ｏｅ以上に設定され、前記磁性層中
に含まれる無機顔料の最大粒径は０．２μｍ以下で、そ
のモース硬度は６以上であり、前記無機顔料のｐＨは７
以下に設定する。これにより、磁性層を薄くしても記録
密度を向上させて耐久性も高く維持する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気テープ、磁気ディ
スク等の磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、磁気テープや磁気ディスク等の
磁気記録媒体の内、塗布型の磁気記録媒体は、ポリエス
テル等よりなる非磁性支持体表面に、記録を担う強磁性
粒子及びバインダを主体とする磁性層を形成して構成さ
れている。また、この磁性層中には、更に、テープの耐
摩耗性を向上させる研磨剤や遮光性、導電性及び潤滑性
等を付与させるカーボンブラック等の無機添加物が含ま
れている。

【０００３】ところで、近年、磁気テープ、磁気ディス
ク等の磁気記録媒体は、特に高記録密度化がますます進
み、例えば同じテープ幅の記録媒体に、より多くの情報
を記録する必要が生じている。そのためには、必然的に
磁気記録媒体の高磁束密度化、高保磁力化が要求される
が、高保磁力化を推進するとオーバライト消去特性が悪
化するために磁性層の厚みを薄くする必要がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁性層
の厚みを単純に薄くするだけでは逆に磁気記録特性が劣
化する場合が発生し、これらを両立させることが困難で
ある。

【０００５】また、磁性層中の無機添加物の粒径は、磁
気記録媒体に要求される性能に応じて決定されるが、一
般的には記録密度が高くなればなる程、小さい粒径が要
求される。これは粒径が大きくなればなる程、磁性層中
に含まれる無機顔料の粒径と磁性層の厚みの差が少なく
なるために無機顔料の粒度分布の影響を受け、磁性層表
面が粗れてスペーシングロスの影響が大きくなるからで
ある。従って、上述のように高記録密度化が進んで薄膜
化が進む程、磁性層表面の平滑化は重要な要素になって
くるが、実際の表面粗度は無機添加物の粒径の影響をか
なり受けることになる。従って、無機添加物の粒径に関
しては例えば特開平２−１２３５２１号公報等に開示さ
れているように、ある程度示されているが、磁性層表面
の平滑性は磁性層の厚みによっても左右されるため、こ
れらを総合的に検討しなければならない。

【０００６】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものであり、その目
的は高記録密度を可能とすると共に表面粗さの抑制及び
耐久性の向上も図ることができる磁気記録媒体を提供す
ることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】第１の発明は、磁性層の
厚みを薄くした時の磁気記録特性の劣化の１つの原因
は、磁性層中に含まれる無機顔料の粒径と磁性層の厚み
の差が少なくなるために無機顔料の粒度分布状態が磁性
層の表面状態に直接に影響を与えていることに起因す
る、という知見を得ることによりなされたものである。

【０００８】すなわち、第１の発明は、非磁性支持体に
強磁性金属粒子及びバインダを主体とする磁性層を設け
てなる磁気記録媒体において、前記磁性層の厚みは０．
３μｍ以下で、その保磁力は１７００Ｏｅ以上に設定さ
れ、前記磁性層中に含まれる無機顔料の最大粒径は０．
２μｍ以下で、そのモース硬度は６以上であり、前記無
機顔料のｐＨは７以下に設定するように構成したもので
ある。

【０００９】第２の発明は、磁性層の厚みを薄くした時
の磁気記録特性の劣化の他の１つの原因は、非磁性支持
体中のフィラーがカレンダ工程中に非磁性支持体及び磁
性塗膜が圧力を受けて変形する際に、磁性層の表面性に
大きく影響を与えていることに起因する、という知見を
得ることによりなされたものである。

【００１０】すなわち、第２の発明は、非磁性支持体に
強磁性金属粒子及びバインダを主体とする磁性層を設け
てなる磁気記録媒体において、前記磁性層の厚みは０．
３μｍ以下で、その保磁力は１７００Ｏｅ以上に設定さ
れ、前記非磁性支持体中に含まれるフィラーの最大粒径
が０．２μｍ以下に設定するように構成したものであ
る。

【００１１】第３の発明は、磁性層の厚みを薄くした場
合、磁性層の表面性に大きな影響を与えないためには、
磁性層中の無機添加物の粒径と磁性層の厚みとの間に相
関関係が存在する、という知見を得ることによりなされ
たものである。

【００１２】すなわち、第３の発明は、非磁性支持体に
強磁性金属粒子及びバインダを主体とする磁性層を設け
てなる磁気記録媒体において、前記磁性層の厚みをｄ、
前記磁性層中に含まれる無機添加物の中心粒径をｅとそ
れぞれした場合、下記の式 １．０μｍ＞ｄ≧ｅ・３／２ を満足するように構成したものである。

【００１３】

【作用】第１の発明によれば、磁性層の厚み、保磁力、
磁性層中の無機顔料の最大粒径、モース硬度、ｐＨを上
述のように規定することにより、高記録密度を達成する
と同時に、走行耐久性も向上させることが可能となる。

【００１４】第２の発明によれば、磁性層の厚み、保磁
力、非磁性支持体中のフィラーの最大粒径を上述のよう
に規定することにより高記録密度を達成すると同時に、
磁性層の表面粗れの増加を抑制することができる。

【００１５】第３の発明によれば、磁性層の厚みとこの
中に含まれる無機添加物の粒径との関係を上述のように
一定の関係に規定することにより、高記録密度を達成す
ると同時に磁性層の表面の平滑性を高くすることができ
る。

【００１６】

【実施例】以下に、本発明に係る磁気記録媒体の一実施
例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係る
磁気記録媒体を示す断面図である。

【００１７】図示するようにこの磁気記録媒体１は、例
えばポリエステルフィルム等よりなる非磁性支持体２を
有し、この一面に強磁性金属粒子４をバインダ５中に分
散してなる磁性層３を形成して構成されている。

【００１８】上記磁性層３中には更に、無機添加物とし
て例えばＡｌ₂ Ｏ₃ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 等よりなる無機顔料７
が混入されている。また、非磁性支持体２中には、所定
の粒径を有する、例えばＡｌ₂ ＣＯ₃ 、ＣａＣＯ₃ 、Ｓ
ｉＯ₂ 等よりなるフィラー８が適当量だけ混入されてい
る。

【００１９】第１の発明においては、上記磁性層３の厚
みを０．３μｍ以下、この磁性層３の保磁力Ｈｃを１７
００Ｏｅ以上にそれぞれ設定する。更に、磁性層３中に
含まれる無機顔料７の最大粒径を０．２μｍ以下に、こ
のモース硬度を６以上に、またこのｐＨを７以下となる
ようにそれぞれ設定する。このように各混入物のパラメ
ータを規定することにより、表面粗さ、記録密度特性を
示す半値反転密度Ｄ₅₀、耐久性等を同時に向上させるこ
とができる。

【００２０】ここで磁性層３の厚みを０．３μｍ以下に
する理由は、オーバライト特性及び記録密度特性を向上
させるためであり、保磁力Ｈｃを１７００Ｏｅ以上にす
る理由は、この値が１７００Ｏｅ未満では記録密度特性
が劣化してしまうからである。

【００２１】ところで、上述のように磁性層３の厚みを
かなり薄くすると、カレンダ工程時にフィルム状の非磁
性支持体２及び磁性塗膜が圧力を受けて変形するが、こ
の時に、磁性塗膜中に含まれる無機顔料７の粒径や硬度
がカレンダ処理終了後の磁性層３の表面平滑性に大きく
影響を与えてしまうことが判明した。そこで、この第１
の発明においては、平滑性を高く維持して耐久性を確保
するために、上記無機顔料７の最大粒径を０．２μｍ以
下に設定し、且つこのモース硬度を６以上に設定した。

【００２２】また、上述のように無機顔料７の粒径を小
さくする程、この分散が困難になり、表面が粗くなって
表面平滑性が逆に劣化してしまう。そこで、無機顔料を
良好に分散する手段を模索したところ、このｐＨ値が７
以下であれば極めて分散性が向上することを見出し、こ
の第１の発明において無機顔料のｐＨ値が７以下になる
ように規定した。尚、粉体等の粒径の規定として平均粒
径がよく用いられるが、実際には粒径はかなり広い範囲
に亘った分布を持つので適正ではなく、従って平均粒径
で規定するのは適当でなく、上述のように最大粒径によ
って無機顔料を規定した。

【００２３】また、磁性層３中の無機顔料の含有量は、
特に規定されるものではないが、好ましくは０．５〜２
０重量％の範囲がよい。このように磁気記録媒体の各パ
ラメータを規定することにより、高い記録密度を達成し
つつ磁性層の表面粗れを抑制し、且つ耐久性も向上させ
ることができる。また、これによりデジタル記録特性も
向上させることが可能となる。

【００２４】以下に、更に詳しい実施例を挙げて第１の
発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越え
ない限りこの実施例に限定されるものではない。

【００２５】第１の発明 （実施例１） ＜組成＞ α−Ｆｅ（強磁性金属粒子） １００重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １０重量部 ポリウレタン １０重量部 酸化アルミニウム［無機顔料として］ （最大粒径０．２μｍ、ｐＨ４） ８重量部 ステアリン酸 １重量部 ステアリン酸ブチル １重量部 トルエン ６０重量部 メチルエチルケトン ６０重量部 シクロヘキサノン ６０重量部

【００２６】上記組成物を混合・分散した後、イソシア
ネート系硬化剤を５重量部加え、更に所定時間攪拌して
分散し、混合磁性物を作る。その後、ポリエステルフィ
ルム等よりなる非磁性支持体上にこの混合磁性物を塗布
し、配向処理、カレンダ処理、硬化処理を施し、その
後、所定の工程、例えば裁断等を経て磁気記録媒体を得
た。この場合、磁性層の厚みが乾燥硬化後に０．３μｍ
になるように磁性塗層の厚みを調整した。

【００２７】（実施例２）無機顔料をＣｒ₂ Ｏ₃ に変え
た点及び磁性層の保磁力Ｈｃを１８１３Ｏｅに僅かに減
らした点を除き、実施例１と同様に形成した。

【００２８】（実施例３）磁性層の厚みを０．２μｍに
変え、その保磁力を１８２２Ｏｅに僅かに増加し、無機
顔料の最大粒径を０．１μｍに変更した点を除き、実施
例１と同様に形成した。

【００２９】（実施例４）磁性層の厚みを０．１５μｍ
に変え、その保磁力を１８３１Ｏｅに僅かに増加し、無
機顔料の最大粒径を０．１μｍに変更した点を除き、実
施例１と同様に形成した。

【００３０】（実施例５）磁性層の保磁力を１８１５Ｏ
ｅに僅かに下げ、無機顔料のｐＨを７に上げた点を除
き、実施例１と同様に形成した。

【００３１】（実施例６）磁性層の保磁力を１８２１Ｏ
ｅに僅かに下げ、無機顔料のｐＨを２に下げた点を除
き、実施例１と同様に形成した。

【００３２】（実施例７）磁性層の保磁力を１９０４Ｏ
ｅに僅かに上げた点を除き、実施例１と同様に形成し
た。

【００３３】（実施例８）磁性層の保磁力を２０４４Ｏ
ｅに僅かに上げた点を除き、実施例１と同様に形成し
た。

【００３４】（実施例９）磁性層の保磁力を１７１５Ｏ
ｅに僅かに下げた点を除き、実施例１と同様に形成し
た。

【００３５】（比較例１）磁性層の厚みを０．４μｍに
変え、その保磁力を１８１２Ｏｅに僅かに減少させた点
を除き、実施例１と同様に形成した。この場合は、磁性
層の厚みが、本発明の範囲から逸脱して大きくなってい
る。

【００３６】（比較例２）磁性層の厚みを１μｍに変
え、その保磁力を１８０８Ｏｅに僅かに減少させ、無機
顔料の最大粒径を０．４μｍに変えた点を除き、実施例
１と同様に形成した。この場合は、磁性層の厚み及び無
機顔料の最大粒径が本発明の範囲から逸脱している。

【００３７】（比較例３）磁性層の保磁力を１８２４Ｏ
ｅに変え、無機顔料の最大粒径を０．３μｍに変えた点
を除き、実施例１と同様に形成した。この場合は、無機
顔料の最大粒径が本発明の範囲から逸脱している。

【００３９】（比較例４）磁性層の保磁力を１８０６Ｏ
ｅに僅かに減らし、無機顔料の最大粒径を０．４μｍに
変えた点を除き、実施例１と同様に形成した。この場合
は、無機顔料の最大粒径が本発明の範囲から逸脱してい
る。

【００４０】（比較例５）磁性層の保磁力を１６５０Ｏ
ｅに変えた点を除き、実施例１と同様に形成した。この
場合は、保磁力が本発明の範囲から逸脱している。

【００４１】（比較例６）磁性層の保磁力を１５６８Ｏ
ｅに変えた点を除き、実施例１と同様に形成した。この
場合は、保磁力が本発明の範囲から逸脱している。

【００４２】（比較例７）磁性層の保磁力を１８３３Ｏ
ｅに変え、無機顔料のｐＨを９に変えた点を除き、実施
例１と同様に形成した。この場合は、ｐＨが本発明の範
囲から逸脱している。

【００４３】（比較例８）磁性層の保磁力を１８５２Ｏ
ｅに変え、無機顔料のｐＨを１２に変えた点を除き、実
施例１と同様に形成した。この場合は、ｐＨが本発明の
範囲から逸脱している。

【００４４】（比較例９）磁性層の保磁力を１８２１Ｏ
ｅに変え、無機顔料の種類をＣａＣｏ₃ （モース硬度
３）に変え、実施例１と同様に形成した。この場合は、
モース硬度が本発明の範囲を逸脱している。

【００４５】以上のように形成した第１の発明の実施例
１〜９と比較例１〜９の表面粗さ、記録密度を表す半値
反転密度Ｄ₅₀、オーバライト消去率、耐久性をそれぞれ
調べたが、その評価結果を表１に示す。

【００４６】

【表１】

【００４７】ここで、デジタル記録特性はドラムテスタ
を用い、テープ・ヘッド相対速度は３．５ｍ／ｓｅｃ、
ヘッドギャップ長は０．２μｍにそれぞれ設定し、トラ
ック幅は１８μｍのセンダストヘッドを用いた。また、
耐久性の評価方法は、市販のＶＨＳデッキで繰り返し走
行させた時の塗膜の傷付き状態で判断した。○印は傷付
き無し、△印は傷付き有り、×印は塗膜はがれをそれぞ
れ示す。

【００４８】図２中において、１は磁気記録媒体として
の磁気テープ、９はテープに沿って回転する回転ドラ
ム、１０はテープに記録再生を行なう磁気ヘッド、１１
はモータの回転を制御するモータ・サーボコントロー
ラ、１２は録画と再生の切替えを行なう録画・再生切替
えスイッチ、１３は録画信号を発生する信号発生器、１
４は録画信号を増幅する記録用増幅器、１５は再生信号
を増幅する再生用増幅器、１６は再生信号を視覚的に見
るためのオシロスコープである。

【００４９】尚、記録密度特性は半値反転密度Ｄ₅₀を用
いて示した。Ｄ₅₀は再生出力が孤立再生パルス波形出力
（低記録密度）の半分になる記録密度で定義した。オー
バライト特性はあらかじめ記録しておいた長波長信号
（３μｍ）の上に短波長信号（０．５μｍ）を重ね書き
した時の長波長信号（３μｍ）の減衰量で表した。

【００５０】表１から明らかなように、実施例１〜９に
おいては、表面粗さは３．０〜４．４ｎｍ、Ｄ₅₀は７８
〜１０５、オーバライト消去率は−１７．５〜−２０．
３ｄＢで、良好な特性を示している。また、耐久性につ
いても全て○印であり、良好な結果となっている。

【００５１】これに対して、表面粗さについては、比較
例３、４、７、８はかなり大きくなって好ましくなく、
特に、比較例３、４に示すように無機顔料の最大粒径が
０．２μｍより大きくなると磁性層の表面粗さがカレン
ダ処理後に著しく粗くなり、結果的にＤ₅₀も劣化する。

【００５２】また、記録密度を間接的に示すＤ₅₀は、比
較例９を除いて非常に劣っており、特に、無機顔料の最
大粒径が０．２μｍ以下でもｐＨが７より大きいと、分
散不良により磁性層表面が粗れ、Ｄ₅₀が著しく低下す
る。

【００５３】また、オーバライト消去率は、各比較例を
通じてそれ程低下はしていないが、比較例１、２に示す
ように磁性層の厚みが大きくなると、低レベルで一定に
なる傾向にある。

【００５４】また、耐久性に関しては、比較例３、４、
７、８、９においてはかなり劣っており、特に比較例９
のようにモース硬度が６より小さくなると、著しく耐久
性が劣化する。

【００５５】次に、第２の発明について説明する。この
第２の発明の磁気記録媒体の基本構成は、先に図１にお
いて説明したと同様に構成されている。

【００５６】特に、この第２の発明においては、上記磁
性層３（図１参照）の厚みを０．３μｍ以下、この磁性
層の保磁力を１７００Ｏｅ以上にそれぞれ設定する。更
に、非磁性支持体２中に含まれるフィラー８の最大粒径
を０．２μｍ以下に設定する。このように各混入物のパ
ラメータを規定することにより、記録密度特性、オーバ
ライト特性、耐久性をそれぞれ向上させることができ
る。上記フィラー８としては、ＭｇＯ、ＭｇＣＯ₃ 、Ｃ
ａＣＯ₃ 、ＣａＳＯ₄ 、ＢａＳＯ₄ 、Ａｌ₂ Ｏ₃、Ｓｉ
Ｏ₂ 、ＴｉＯ₂ 等を用いることができる。

【００５７】ここで磁性層３の厚みを０．３μｍ以下に
する理由は、第１の発明と同様にオーバライト特性及び
記録密度特性を向上させるためであり、保磁力を１７０
０Ｏｅ以上にする理由は、前述と同様、この値が１７０
０Ｏｅ未満では記録密度特性が劣化してしまうからであ
る。

【００５８】ところで、上述のように磁性層３の厚みを
かなり薄くすると、カレンダ工程時にフィルム状の非磁
性支持体２及び磁性塗膜が圧力を受けて変形するが、非
磁性支持体２中に含まれるフィラー８がカレンダ処理終
了後の磁性層３の表面平滑性に大きく影響を与えてしま
うことが判明した。そこで、この第２の発明において
は、平滑性を高く維持するためにフィラー８の最大粒径
を０．２μｍ以下に設定してカレンダ処理時にフィラー
８の影響が磁性層表面に出難いようにした。

【００５９】尚、この場合にも粉体等の粒径の規定とし
て平均粒径がよく用いられるが、実際には粒径はかなり
広い範囲に亘った分布を持つので、適正ではなく上述の
ように最大粒径によってフィラーを規定した。

【００６０】このように磁気記録媒体の各パラメータを
規定することにより、高い記録密度を達成しつつ磁性層
の表面粗れを抑制することができる。また、これにより
デジタル記録特性も向上させることが可能となる。

【００６１】以下に、更に詳しい実施例を挙げて第２の
発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越え
ない限りこの実施例に限定されるものではない。

【００６２】第２の発明 （実施例１） ＜組成＞ α−Ｆｅ（強磁性金属粒子） １００重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １０重量部 ポリウレタン １０重量部 酸化アルミニウム ８重量部 ステアリン酸 １重量部 ステアリン酸ブチル １重量部 トルエン ６０重量部 メチルエチルケトン ６０重量部 シクロヘキサノン ６０重量部

【００６３】上記組成物を混合・分散した後、イソシア
ネート系硬化剤を５重量部加え、更に所定時間攪拌して
分散し、混合磁性物を作る。また、フィラーとして最大
粒径０．２μｍのＡｌ₂ Ｏ₃ を混入してポリエステル等
よりなる非磁性支持体を予め形成しておき、この非磁性
支持体上に先の混合磁性物を塗布し、以後は先の第１の
発明にて説明したと同様な処理を施して磁気記録媒体を
得た。この場合も、磁性層の厚みが乾燥硬化後に０．３
μｍになるように磁性塗層の厚みを調整した。

【００６４】（実施例２）磁性層の保磁力を１８１１Ｏ
ｅに僅かに減らした点、フィラーをＣａＣＯ₃ に変更し
た点を除き、実施例１と同様に形成した。

【００６５】（実施例３）磁性層の保磁力を１８１６Ｏ
ｅに僅かに減らした点、フィラーをＳｉＯ₂ に変更した
点を除き、実施例１と同様に形成した。

【００６６】（実施例４）磁性層の厚みを０．２μｍに
変え、その保磁力を１８２５Ｏｅに僅かに増加し、フィ
ラーの最大粒径を０．１μｍに変えた点を除き、実施例
１と同様に形成した。

【００６７】（実施例５）磁性層の厚みを０．１５μｍ
に変え、その保磁力を１８２９Ｏｅに僅かに増加し、フ
ィラーの最大粒径を０．１μｍに変えた点を除き、実施
例１と同様に形成した。

【００６８】（実施例６）磁性層の保磁力を１９１０Ｏ
ｅに僅かに増加した点を除き、実施例１と同様に形成し
た。

【００６９】（実施例７）磁性層の保磁力を２０５１Ｏ
ｅに僅かに増加した点を除き、実施例１と同様に形成し
た。

【００７０】（実施例８）磁性層の保磁力を１７２０Ｏ
ｅに僅かに減らした点を除き、実施例１と同様に形成し
た。

【００７１】（比較例１）磁性層の厚みを０．４μｍに
変え、その保磁力を１８１１Ｏｅに僅かに減らした点を
除き、実施例１と同様に形成した。この場合には、磁性
層の厚みが、本発明の範囲から逸脱している。

【００７２】（比較例２）磁性層の厚みを１．０μｍに
変え、その保磁力を１７８３Ｏｅに僅かに減らし、更に
フィラーの最大粒径を０．４μｍに変えた点を除き、実
施例１と同様に形成した。

【００７３】（比較例３）磁性層の保磁力を１８２９Ｏ
ｅに僅かに増加し、フィラーの最大粒径を０．３μｍに
変えた点を除き、実施例１と同様に形成した。この場合
は、フィラーの最大粒径が本発明の範囲を逸脱してい
る。

【００７４】（比較例４）磁性層の保磁力を１８１０Ｏ
ｅに僅かに減らし、フィラーの最大粒径を０．４μｍに
変えた点を除き、実施例１と同様に形成した。この場合
は、フィラーの最大粒径が本発明の範囲を逸脱してい
る。

【００７５】（比較例５）磁性層の保磁力を１６５２Ｏ
ｅに僅かに減らした点を除き、実施例１と同様に形成し
た。この場合は、保磁力が本発明の範囲を逸脱してい
る。

【００７６】（比較例６）磁性層の保磁力を１５６９Ｏ
ｅに僅かに減らした点を除き、実施例１と同様に形成し
た。この場合は、保磁力が本発明の範囲を逸脱してい
る。

【００７７】以上のように形成した第２の発明の実施例
１〜８と比較例１〜６の表面粗さ、記録密度を表す半値
反転密度Ｄ₅₀、オーバライト消去率をそれぞれ調べた
が、その評価結果を表２に示す。

【００７８】

【表２】

【００７９】ここで、測定方法は図２に示す測定系を用
いて第１の発明の場合と全く同様な方法を採用した。表
２から明らかなように実施例１〜８においては、表面粗
さは４．０〜４．９ｎｍ、Ｄ₅₀は７９〜１０８、オーバ
ライト消去率は−１７．５〜−２０．３で、比較的良好
な特性を示している。

【００８０】これに対して、表面粗さについては比較例
３、４に示すようにフィラーの最大粒径を大きく設定す
ると粗さが過度に大きくなって好ましくない。また、比
較例２のようにフィラーの最大粒径を大きくしても磁性
層の厚みを大きく設定すれば、表面粗さの劣化を防止で
きるが、この場合にはＤ₅₀が７５ＫＦＲＰＩまで低下
し、好ましくない。従って、フィラーの最大粒径は０．
２μｍ以下でなければならない。

【００８１】また、記録密度を間接的に示すＤ₅₀につい
ては、全ての比較例が６５〜７５ＫＦＲＰＩと好ましく
ない値となっており、高い記録密度を得ることができな
い。特に、比較例１、２に示すように磁性層の厚みが
０．３μｍを超えて大きくなるとＤ₅₀の値は低いレベル
で一定となる。従って、磁性層の厚みは０．３μｍ以下
に設定しなければならない。また、オーバライト消去率
に関しては、比較例１、２に示すように磁性層の厚みを
大きくするとある程度の低いレベルで一定となる傾向に
ある。

【００８２】このように、磁性層の厚みを０．３μｍ以
下にし、保磁力Ｈｃを１７００Ｏｅ以上に設定すること
により、記録密度を大幅に高め、磁性層が薄くなった時
に生ずる磁性層表面の粗れの問題については非磁性支持
体中のフィラーの最大粒径を０．２μｍ以下に設定する
ことにより解決することができる。

【００８３】次に、第３の発明について説明する。この
第３の発明の磁気記録媒体の基本構成は、先に図１にお
いて説明したと同様に構成されている。特に、この第３
の発明においては、磁性層３の厚みをｄとし、この磁性
層３中に含まれる無機添加物、例えば無機顔料７の最大
粒径をｅ（図１参照）とした場合には、下記の式を満足
するように設定されている。 １．０（μｍ）＞ｄ≧ｅ・３／２ ここで粒径ｅは、中心粒径を意味する。

【００８４】すなわち磁性層の厚みを１．０μｍより小
さく設定して上記式を満たせば、磁性層表面を平滑な状
態に保つことができる。ここで平滑な状態とは表面粗さ
Ｒａが６．０ｎｍ以下、好ましくは５．０ｎｍ以下のこ
とを意味する。

【００８５】磁性層の厚みｄを１．０より小さく設定し
た理由は、この磁性層の厚みｄが１．０μｍ以上になる
と、無機添加物の粒径ｅが比較的大きくなった場合に、
磁性層の表面粗れやＣ／Ｎ比（キャリア信号対雑音比）
が過度に劣化してしまう。すなわち、関係式ｄ≧ｅ・３
／２のみを満足しただけでは、表面粗れやＣ／Ｎ比が過
度に劣化する場合が生ずる（後述する比較例１、２参
照）。

【００８６】このように、前記した式を満足するように
磁性層の厚み、磁性層中に含まれる無機添加物の中心粒
径を規定することにより、メタル塗布媒体やデジタル記
録媒体等の記録媒体において高記録密度媒体を得るため
の高Ｃ／Ｎ比を確保しつつ磁性層の平滑性も高く維持す
ることができる。

【００８７】以下に、更に詳しい実施例を挙げて第３の
発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越え
ない限りこの実施例に限定されるものではない。

【００８８】第３の発明 （実施例１） ＜組成＞ α−Ｆｅ（強磁性金属粒子） １００重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １０重量部 ポリウレタン １０重量部 酸化アルミニウム［無機添加物］ （中心粒径０．２μｍ） ８重量部 ステアリン酸 １重量部 ステアリン酸ブチル １重量部 トルエン ６０重量部 メチルエチルケトン ６０重量部 シクロヘキサノン ６０重量部

【００８９】上記組成物を混合・分散した後、イソシア
ネート系硬化剤を５重量部加え、更に所定時間攪拌して
分散し、混合磁性物を作る。その後、ポリエステルフィ
ルム等よりなる非磁性支持体上にこの混合磁性物を塗布
し、配向処理、カレンダ処理、硬化処理を施し、その
後、所定の工程、例えば裁断等を経て磁気記録媒体を得
た。この場合、磁性層の厚みが乾燥硬化後に０．３μｍ
になるように磁性塗膜層の厚みを調整した。この時、磁
性層の厚みｄは０．３μｍに、また、無機添加物である
酸化アルミニウムの中心粒径ｅは０．２μｍにそれぞれ
設定した。

【００９０】（実施例２）磁性層の厚みを０．５μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を０．３μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。

【００９１】（実施例３）磁性層の厚みを０．７μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を０．４μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。

【００９２】（実施例４）磁性層の厚みを０．９μｍに
変えた点以外、実施例１と同様に形成した。

【００９３】（実施例５）磁性層の厚みを０．９μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を０．４μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。

【００９４】（実施例６）磁性層の厚みを０．９μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を０．６μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。

【００９５】（比較例１）磁性層の厚みを１．０μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を０．６μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。この場
合、ｄ≧ｅ・３／２は満たすが１．０μｍ＞ｄは満たし
ていない。

【００９６】（比較例２）磁性層の厚みを１．５μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を１．０μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。この場
合、ｄ≧ｅ・３／２は満たすが１．０μｍ＞ｄは満たし
ていない。

【００９７】（比較例３）磁性層の厚みを０．９μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を０．７μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。この場
合、１．０μｍ＞ｄは満たすが、ｄ≧ｅ・３／２は満た
していない。

【００９８】（比較例４）磁性層の厚みを０．９μｍ
に、酸化アルミニウムの中心粒径を０．９μｍにそれぞ
れ変えた点以外は、実施例１と同様に形成した。この場
合、１．０μｍ＞ｄは満たすが、ｄ≧ｅ・３／２は満た
していない。

【００９９】（比較例５）酸化アルミニウムの中心粒径
を０．３μｍに変えた点以外は、実施例１と同様に形成
した。この場合、１．０μｍ＞ｄは満たすが、ｄ≧ｅ・
３／２は満たしていない。

【０１００】（比較例６）酸化アルミニウムの中心粒径
を０．５μｍに変えた点以外は、実施例１と同様に形成
した。この場合、１．０μｍ＞ｄは満たすが、ｄ≧ｅ・
３／２は満たしていない。

【０１０１】以上のように形成した第３の発明の実施例
１〜６と比較例１〜６の磁性層の表面粗さ、Ｃ／Ｎ比を
調べたが、その評価結果を表３に示す。

【０１０２】

【表３】

【０１０３】ここでＣ／Ｎ比は、１０ＭＨｚの正弦波を
記録し、再生した時の１０ＭＨｚの出力と、９ＭＨｚの
レベルをノイズレベルとした時の比である。

【０１０４】表３から明らかなように実施例１〜６にお
いては、磁性層の表面粗さは３．０〜５．９ｎｍ、Ｃ／
Ｎ比は０．２〜１．１でそれぞれ良好な特性を示してい
る。

【０１０５】これに対して、比較例１、２のようにｄ≧
ｅ・３／２の関係を満たしても１μｍ＞ｄの関係を満た
していない場合、或いは比較例３〜６のように１μｍ＞
ｄの関係を満たしてもｄ≧ｅ・３／２の関係を満足しな
い場合には、磁性層の表面粗さ及びＣ／Ｎ比ともにかな
り劣っており、良好な特性を示していないことが判明す
る。従って、上述した関係式を全て満たさないと磁性層
表面が粗くなって１０ＭＨｚのＣ／Ｎ比が劣化し、この
ため高記録密度を達成することができないことが判明す
る。

【０１０６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体によれば次のように優れた作用効果を発揮すること
ができる。第１の発明によれば、磁性層の厚み、保磁
力、磁性層中の無機顔料の最大粒径、モース硬度及びｐ
Ｈをそれぞれ所定の範囲内に規定したので、高記録密度
を達成しつつ磁性層の表面粗れを抑制し、且つ耐久性も
向上させることができる。また、これによりデジタル記
録特性も向上させることができる。第２の発明によれ
ば、磁性層の厚み、保磁力、非磁性支持体中に含まれる
フィラーの最大粒径をそれぞれ所定の範囲内に規定した
ので、高記録密度を達成しつつ磁性層の表面粗れを抑制
することができる。また、これによりデジタル記録特性
も向上させることができる。第３の発明によれば、磁性
層の厚みとこの中の無機添加物の粒径との間に所定の関
係を持たせるようにしたので、磁性層の平滑性及びＣ／
Ｎ比を向上させて高記録密度を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気記録媒体を示す断面図であ
る。

【図２】磁気記録媒体の諸特性を測定するための測定系
を示すブロック図である。

【符号の説明】

１…磁気記録媒体、２…非磁性支持体、３…磁性層、４
…強磁性金属粒子、５…バインダ、６…カーボンブラッ
ク、７…無機添加物（無機顔料）、８…フィラー。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体に強磁性金属粒子及びバイ
   ンダを主体とする磁性層を設けてなる磁気記録媒体にお
   いて、前記磁性層の厚みは０．３μｍ以下で、その保磁
   力は１７００Ｏｅ以上に設定され、前記磁性層中に含ま
   れる無機顔料の最大粒径は０．２μｍ以下で、そのモー
   ス硬度は６以上であり、前記無機顔料のｐＨは７以下に
   設定されることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 非磁性支持体に強磁性金属粒子及びバイ
   ンダを主体とする磁性層を設けてなる磁気記録媒体にお
   いて、前記磁性層の厚みは０．３μｍ以下で、その保磁
   力は１７００Ｏｅ以上に設定され、前記非磁性支持体中
   に含まれるフィラーの最大粒径が０．２μｍ以下に設定
   されることを特徴とする磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 非磁性支持体に強磁性金属粒子及びバイ
   ンダを主体とする磁性層を設けてなる磁気記録媒体にお
   いて、前記磁性層の厚みをｄ、前記磁性層中に含まれる
   無機添加物の中心粒径をｅとそれぞれした場合、下記の
   式 １．０μｍ＞ｄ≧ｅ・３／２ を満足することを特徴とする磁気記録媒体。