JPH07311908A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH07311908A JPH07311908A JP12697294A JP12697294A JPH07311908A JP H07311908 A JPH07311908 A JP H07311908A JP 12697294 A JP12697294 A JP 12697294A JP 12697294 A JP12697294 A JP 12697294A JP H07311908 A JPH07311908 A JP H07311908A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ギャップ溶着時の工程歩留り、及び材料歩留
りを改善できる磁気ヘッドの製造方法を提供する。 【構成】 積層ブロック３０を同一形状の積層プレート
４０に切断する。積層プレート４０の一方の面にアペッ
クス溝入れ及び巻線溝入れなどの処理の後、積層プレー
ト４０の両面にギャップ材を成膜し、そして各積層プレ
ート４０を重ね合わせて互いに溶着し、ギャップドブロ
ック５０を作製する。ギャップドブロック５０を、Ｉコ
アプレート６０Ａ及びＣコアプレート６０Ｂからなるギ
ャップドプレート６０に切断し、更に公知の工程を経て
磁気ヘッドチップ１を得る。
りを改善できる磁気ヘッドの製造方法を提供する。 【構成】 積層ブロック３０を同一形状の積層プレート
４０に切断する。積層プレート４０の一方の面にアペッ
クス溝入れ及び巻線溝入れなどの処理の後、積層プレー
ト４０の両面にギャップ材を成膜し、そして各積層プレ
ート４０を重ね合わせて互いに溶着し、ギャップドブロ
ック５０を作製する。ギャップドブロック５０を、Ｉコ
アプレート６０Ａ及びＣコアプレート６０Ｂからなるギ
ャップドプレート６０に切断し、更に公知の工程を経て
磁気ヘッドチップ１を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一般に二つのコア半体
を所定ギャップ長にて突合せて接合することにより構成
される磁気ヘッドの製造方法に関するものであり、特
に、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜などのような磁性薄膜
を非磁性基板にて挟持した構造の二つのコア半体を所定
ギャップ長にて突合せて接合することにより構成される
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。このような
磁気ヘッドは、特に、高周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が要
求される高密度記録用ヘッド、コンピュ−タ用ヘッドな
どに好適に使用される。
を所定ギャップ長にて突合せて接合することにより構成
される磁気ヘッドの製造方法に関するものであり、特
に、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜などのような磁性薄膜
を非磁性基板にて挟持した構造の二つのコア半体を所定
ギャップ長にて突合せて接合することにより構成される
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。このような
磁気ヘッドは、特に、高周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が要
求される高密度記録用ヘッド、コンピュ−タ用ヘッドな
どに好適に使用される。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録技術の分野における最近の記録
密度の向上は著しく、これに伴なって例えば電磁変換素
子としての磁気ヘッドに対する狭トラック化及びコア材
料の飽和磁化の増大並びに高周波領域における透磁率の
改善といった要求が高まっている。
密度の向上は著しく、これに伴なって例えば電磁変換素
子としての磁気ヘッドに対する狭トラック化及びコア材
料の飽和磁化の増大並びに高周波領域における透磁率の
改善といった要求が高まっている。
【０００３】近年、磁気記録分野における上記要求を満
足せしめる磁気ヘッドとして、例えばＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ
合金膜を用いた薄膜積層磁気ヘッドが注目を浴びてい
る。このような磁気ヘッドの製造方法の一例を図１２を
参照して簡単に説明する。
足せしめる磁気ヘッドとして、例えばＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ
合金膜を用いた薄膜積層磁気ヘッドが注目を浴びてい
る。このような磁気ヘッドの製造方法の一例を図１２を
参照して簡単に説明する。
【０００４】図１２において、先ず公知の方法により磁
性薄膜積層体、即ち積層ブロック９０を作製し（Ａ）、
この積層ブロック９０を切断してＩコアプレート９１及
びＣコアプレート９２を形成する（Ｂ）。このとき、図
にて明らかなようにＩコアプレート９１の厚さはＣコア
プレート９２の厚さに比して非常に薄いものとされてい
る。
性薄膜積層体、即ち積層ブロック９０を作製し（Ａ）、
この積層ブロック９０を切断してＩコアプレート９１及
びＣコアプレート９２を形成する（Ｂ）。このとき、図
にて明らかなようにＩコアプレート９１の厚さはＣコア
プレート９２の厚さに比して非常に薄いものとされてい
る。
【０００５】次にＣコアプレート９２の表面にアペック
スガラスモールドのための溝入れ、巻線溝のための溝入
れ等の処理を行なった後、Ｃコアプレート９２及びＩコ
アプレート９１とをスペーサ及び接合ガラス層を介し
て、トラックの位置合わせをした後、加熱加圧接合、所
謂ギャップ溶着を行ないギャップドプレート９３を得る
（Ｃ）。更に、ギャップドプレート９３に研削等の加工
を加えて所定の厚みのギャップドプレート９３’を作製
する（Ｄ）。
スガラスモールドのための溝入れ、巻線溝のための溝入
れ等の処理を行なった後、Ｃコアプレート９２及びＩコ
アプレート９１とをスペーサ及び接合ガラス層を介し
て、トラックの位置合わせをした後、加熱加圧接合、所
謂ギャップ溶着を行ないギャップドプレート９３を得る
（Ｃ）。更に、ギャップドプレート９３に研削等の加工
を加えて所定の厚みのギャップドプレート９３’を作製
する（Ｄ）。
【０００６】このようにして作製されたギャップドプレ
ート９３’に公知の工程を経て、図１１に示すようなＩ
コア１００とＣコア２００から成る磁気ヘッド１を得て
いた。
ート９３’に公知の工程を経て、図１１に示すようなＩ
コア１００とＣコア２００から成る磁気ヘッド１を得て
いた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の製
造方法においては、Ｃコアプレート及びＩコアプレート
を作製した後に、ギャップ溶着を行ないギャップドプレ
ートを作製していた。このギャップ溶着を行なう工程に
おいてトラックの位置合わせを行なうためＣコアプレー
ト及びＩコアプレートを正確にアライメントすることが
要求される。
造方法においては、Ｃコアプレート及びＩコアプレート
を作製した後に、ギャップ溶着を行ないギャップドプレ
ートを作製していた。このギャップ溶着を行なう工程に
おいてトラックの位置合わせを行なうためＣコアプレー
ト及びＩコアプレートを正確にアライメントすることが
要求される。
【０００８】しかしながら、Ｃコアプレート及びＩコア
プレートは、それぞれの厚みが異なること、また形状が
非対称であること等により、ＩコアプレートがＣコアプ
レートに対して凸状に反り、ギャップ長不良（ギャップ
長大、ギャップ未溶着等）及び／又はミスアライメント
（膜ピッチずれ、平行移動等）が発生する。その結果ギ
ャップ溶着時の不良製品が多く、工程歩留りが悪いとい
う問題があった。
プレートは、それぞれの厚みが異なること、また形状が
非対称であること等により、ＩコアプレートがＣコアプ
レートに対して凸状に反り、ギャップ長不良（ギャップ
長大、ギャップ未溶着等）及び／又はミスアライメント
（膜ピッチずれ、平行移動等）が発生する。その結果ギ
ャップ溶着時の不良製品が多く、工程歩留りが悪いとい
う問題があった。
【０００９】また上記の従来の製造方法においては、Ｉ
コアプレート及びＣコアプレートを正確にアライメント
するため、取り敢えず図１２（Ｃ）に示すように、反り
の影響がでないように、図１２（Ｄ）の所望の厚み（ｔ
1 、ｔ2 ）より大きな厚み（Ｔ1 、Ｔ2 ）で切断してギ
ャップドプレートを作製した後、研削加工を施し所望厚
み（ｔ1 、ｔ2 ）のＩコアプレート及びＣコアプレート
を得ていたため、材料のうち研削加工時に捨てられる部
分が多く材料歩留りが悪いという問題もあった。
コアプレート及びＣコアプレートを正確にアライメント
するため、取り敢えず図１２（Ｃ）に示すように、反り
の影響がでないように、図１２（Ｄ）の所望の厚み（ｔ
1 、ｔ2 ）より大きな厚み（Ｔ1 、Ｔ2 ）で切断してギ
ャップドプレートを作製した後、研削加工を施し所望厚
み（ｔ1 、ｔ2 ）のＩコアプレート及びＣコアプレート
を得ていたため、材料のうち研削加工時に捨てられる部
分が多く材料歩留りが悪いという問題もあった。
【００１０】従って、本発明の目的は、ギャップ溶着時
の工程歩留り、及び材料歩留りの良好な磁気ヘッドの製
造方法を提供することである。
の工程歩留り、及び材料歩留りの良好な磁気ヘッドの製
造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的は本発明に係る
磁気ヘッドの製造方法にて達成される。要約すれば、本
発明は、二つのコア半体を所定ギャップ長にて突合せて
接合することにより構成される磁気ヘッドの製造方法に
おいて、基板と該基板上に設けられた合金膜とを含む磁
性薄膜層を積層してなる磁性薄膜積層体を同一厚さに切
断して複数の積層プレートを作製する工程と、該各積層
プレートの少なくとも一方の面にアペックス溝入れ及び
巻線溝入れの処理を施し、そして前記各積層プレートの
両面にギャップ材を成膜した後前記各積層プレートを重
ね合わせて互いに溶着してギャップドブロックを得る工
程と、該ギャップドブロックを等間隔に切断して前記二
つのコア半体を含むギャップドプレートを得る工程とを
含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法である。
磁気ヘッドの製造方法にて達成される。要約すれば、本
発明は、二つのコア半体を所定ギャップ長にて突合せて
接合することにより構成される磁気ヘッドの製造方法に
おいて、基板と該基板上に設けられた合金膜とを含む磁
性薄膜層を積層してなる磁性薄膜積層体を同一厚さに切
断して複数の積層プレートを作製する工程と、該各積層
プレートの少なくとも一方の面にアペックス溝入れ及び
巻線溝入れの処理を施し、そして前記各積層プレートの
両面にギャップ材を成膜した後前記各積層プレートを重
ね合わせて互いに溶着してギャップドブロックを得る工
程と、該ギャップドブロックを等間隔に切断して前記二
つのコア半体を含むギャップドプレートを得る工程とを
含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法である。
【００１２】前記二つのコア半体はＩコアプレート及び
Ｃコアプレート、又はともにＣコアプレートとされる。
Ｃコアプレート、又はともにＣコアプレートとされる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の
一実施例を図面に則して更に詳しく説明する。尚、本実
施例では、製造される磁気ヘッドは、磁性膜としてＦｅ
−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜を用いた薄膜積層磁気ヘッドと
する。但し、この形式の磁気ヘッドに限定されるもので
はない。
一実施例を図面に則して更に詳しく説明する。尚、本実
施例では、製造される磁気ヘッドは、磁性膜としてＦｅ
−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜を用いた薄膜積層磁気ヘッドと
する。但し、この形式の磁気ヘッドに限定されるもので
はない。
【００１４】先ず本実施例の磁気ヘッドの製造方法を、
図１２に示した従来の製造方法に比して、図１により概
略的に説明する。同図において、従来と同様にして作製
された磁性薄膜積層体、即ち積層ブロック３０を形成す
る（Ａ）。次にこの積層ブロック３０を、従来の製造方
法と異なり同一の厚さにて切断し、実質的に同一形状の
複数の積層プレート４０を作製する（Ｂ）。次に各積層
プレート４０の少なくとも一方の面にアペックス溝入れ
及び巻線溝入れなどの処理を施す。更に従来の製造方法
と異なり積層プレート４０の両面にスパッタリングによ
りギャップ材を成膜し、トラックアライメントを行ない
ながら、各積層プレート４０を重ね合わせて互いに溶着
し、即ちギャップ溶着を施し、ギャップドブロック５０
を作製する（Ｃ）。更にギャップドブロック５０を等間
隔に厚さ（Ｔ）にて切断して厚さｔ1 のＩコアプレート
６０Ａ、厚さｔ2 のＣコアプレート６０Ｂからなるギャ
ップドプレート６０を製造する（Ｄ）。
図１２に示した従来の製造方法に比して、図１により概
略的に説明する。同図において、従来と同様にして作製
された磁性薄膜積層体、即ち積層ブロック３０を形成す
る（Ａ）。次にこの積層ブロック３０を、従来の製造方
法と異なり同一の厚さにて切断し、実質的に同一形状の
複数の積層プレート４０を作製する（Ｂ）。次に各積層
プレート４０の少なくとも一方の面にアペックス溝入れ
及び巻線溝入れなどの処理を施す。更に従来の製造方法
と異なり積層プレート４０の両面にスパッタリングによ
りギャップ材を成膜し、トラックアライメントを行ない
ながら、各積層プレート４０を重ね合わせて互いに溶着
し、即ちギャップ溶着を施し、ギャップドブロック５０
を作製する（Ｃ）。更にギャップドブロック５０を等間
隔に厚さ（Ｔ）にて切断して厚さｔ1 のＩコアプレート
６０Ａ、厚さｔ2 のＣコアプレート６０Ｂからなるギャ
ップドプレート６０を製造する（Ｄ）。
【００１５】このようにして作製されたギャップドプレ
ート６０に従来と同様な所定の処理を加えて、図１１に
示すような磁気ヘッド１を得る。
ート６０に従来と同様な所定の処理を加えて、図１１に
示すような磁気ヘッド１を得る。
【００１６】次に上記の製造方法について、図２乃至図
１１により更に詳しく説明する。
１１により更に詳しく説明する。
【００１７】先ず、図２に示すように、ＣｏＯ−ＮｉＯ
を主成分とするセラミックスの如き非磁性基板１１を準
備する（Ａ）。該基板１１上に、スパッタリング法によ
りＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２を成膜し、合金磁性薄膜
層１４を得る（Ｂ）。
を主成分とするセラミックスの如き非磁性基板１１を準
備する（Ａ）。該基板１１上に、スパッタリング法によ
りＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２を成膜し、合金磁性薄膜
層１４を得る（Ｂ）。
【００１８】次いで、この合金磁性薄膜層１４上に、例
えば、軟化点６００℃以上の、好ましくは６５０℃〜８
００℃の積層ガラス１５をスパッタリング法等で形成す
る（Ｃ）。積層ガラス１５としてはＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ
3 −Ｎａ2 Ｏ系のガラス或はＳｉＯ2 −Ｂ2 Ｏ3 −Ｎａ
2 Ｏ系のガラスが好適である。
えば、軟化点６００℃以上の、好ましくは６５０℃〜８
００℃の積層ガラス１５をスパッタリング法等で形成す
る（Ｃ）。積層ガラス１５としてはＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ
3 −Ｎａ2 Ｏ系のガラス或はＳｉＯ2 −Ｂ2 Ｏ3 −Ｎａ
2 Ｏ系のガラスが好適である。
【００１９】次に、このようにして作製された磁性薄膜
層１４を有する基板１１を、図３に示すように、複数枚
積層し、最上部にダミープレート１６を配置して加圧機
にて加熱加圧する。これによって、積層ガラス１５が溶
融して互いに一体に接合され、磁性薄膜積層体（積層ブ
ロック）３０が形成される。尚、ダミープレート１６
は、基板１１と同じ材料のものである。
層１４を有する基板１１を、図３に示すように、複数枚
積層し、最上部にダミープレート１６を配置して加圧機
にて加熱加圧する。これによって、積層ガラス１５が溶
融して互いに一体に接合され、磁性薄膜積層体（積層ブ
ロック）３０が形成される。尚、ダミープレート１６
は、基板１１と同じ材料のものである。
【００２０】次に、図３に一点鎖線にて示すように、積
層した厚さ方向に等間隔で切断し、図４に示すようにＣ
コア及びＩコアを作製するための積層プレート４０を切
り出す。
層した厚さ方向に等間隔で切断し、図４に示すようにＣ
コア及びＩコアを作製するための積層プレート４０を切
り出す。
【００２１】更に、図５に示すように各積層プレート４
０の表面にアペックスガラスモールド２０（図１１参
照）のための溝入れ、及び図６に示すように巻線溝２２
（図１１参照）のための溝入れを行う。
０の表面にアペックスガラスモールド２０（図１１参
照）のための溝入れ、及び図６に示すように巻線溝２２
（図１１参照）のための溝入れを行う。
【００２２】更に、各積層プレート４０の両面にスペー
サー２１及び接合ガラス層（ｍ）をスパッタリング法に
て形成する。その後、図７に示すように各積層プレート
４０をスペーサー２１及び接合ガラス層（ｍ）を介して
トラック位置合わせを行なった後、加熱加圧することに
より、ギャップドブロック５０を得る。尚、図７には１
セットのみ図示されているが、積層ブロック３０から切
り出した積層プレート４０を複数のセットに分割して溶
着することも可能である。
サー２１及び接合ガラス層（ｍ）をスパッタリング法に
て形成する。その後、図７に示すように各積層プレート
４０をスペーサー２１及び接合ガラス層（ｍ）を介して
トラック位置合わせを行なった後、加熱加圧することに
より、ギャップドブロック５０を得る。尚、図７には１
セットのみ図示されているが、積層ブロック３０から切
り出した積層プレート４０を複数のセットに分割して溶
着することも可能である。
【００２３】次いで、図８に示すように、ギャップドブ
ロック５０をその層面に対して平行に切断し、Ｉコアプ
レート６０Ａ及びＣコアプレート６０Ｂからなるギャッ
プドプレート６０を得る。
ロック５０をその層面に対して平行に切断し、Ｉコアプ
レート６０Ａ及びＣコアプレート６０Ｂからなるギャッ
プドプレート６０を得る。
【００２４】次に、図９に示すように各ギャップドプレ
ート６０のＩコアサイド６０Ａ及びＣコアサイド６０Ｂ
にそれぞれ研削処理を施す。
ート６０のＩコアサイド６０Ａ及びＣコアサイド６０Ｂ
にそれぞれ研削処理を施す。
【００２５】更に、図１０に示すように、各ギャップド
プレート６０を矢印にて示す溝入れ方向に対して平行に
切断しバーを得る。
プレート６０を矢印にて示す溝入れ方向に対して平行に
切断しバーを得る。
【００２６】更に、チップ切断を行なうことによって、
図１１に示す磁気ヘッドチップ１を得る。
図１１に示す磁気ヘッドチップ１を得る。
【００２７】上記のような工程を経ることにより、１ブ
ロック当たり、従来の方法に比べ、２倍以上のヘッドチ
ップを得ることができる。また、ギャップ溶着時にも、
反りの差がなくなり、工程歩留りを向上することができ
る。
ロック当たり、従来の方法に比べ、２倍以上のヘッドチ
ップを得ることができる。また、ギャップ溶着時にも、
反りの差がなくなり、工程歩留りを向上することができ
る。
【００２８】以上のように本発明による磁気ヘッドの製
造方法が、積層ブロック３０を同じ形状の積層プレート
４０に切断する工程と、次に積層プレート４０の少なく
とも一方の面にアペックス溝入れ及び巻線溝入れなどの
処理を施した後、積層プレート４０の両面にスパッタリ
ングによりギャップ材を成膜し、そして各積層プレート
４０を重ね合わせて溶着し、即ちギャップ溶着を施し、
ギャップドブロック５０を作製する工程とを含むことに
より、ギャップ溶着時の工程歩留り、及び材料歩留りを
改善することができる。
造方法が、積層ブロック３０を同じ形状の積層プレート
４０に切断する工程と、次に積層プレート４０の少なく
とも一方の面にアペックス溝入れ及び巻線溝入れなどの
処理を施した後、積層プレート４０の両面にスパッタリ
ングによりギャップ材を成膜し、そして各積層プレート
４０を重ね合わせて溶着し、即ちギャップ溶着を施し、
ギャップドブロック５０を作製する工程とを含むことに
より、ギャップ溶着時の工程歩留り、及び材料歩留りを
改善することができる。
【００２９】尚、上記実施例では２つのコア半体がＩコ
アプレート及びＣコアプレートである場合について説明
したが、ともにＣコアプレートであっても本発明の方法
を適用できることは当然である。
アプレート及びＣコアプレートである場合について説明
したが、ともにＣコアプレートであっても本発明の方法
を適用できることは当然である。
【００３０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
による磁気ヘッドの製造方法は、基板と該基板上に設け
られた合金膜とを含む磁性薄膜層を積層してなる磁性薄
膜積層体を同一形状の積層プレートに切断する工程と、
該積層プレートの一方の面に少なくともアペックス溝入
れ及び巻線溝入れの処理を施し、前記積層プレートの両
面にギャップ材を成膜し、そして各積層プレートを重ね
合わせて溶着してギャップドブロックを得る工程と、該
ギャップドブロックを等間隔に切断し記二つのコア半体
を含むギャップドプレードを得る工程とを含むことによ
り、ギャップ溶着時の工程歩留り、及び材料歩留りを改
善することができ、生産性の向上を達成することができ
る。
による磁気ヘッドの製造方法は、基板と該基板上に設け
られた合金膜とを含む磁性薄膜層を積層してなる磁性薄
膜積層体を同一形状の積層プレートに切断する工程と、
該積層プレートの一方の面に少なくともアペックス溝入
れ及び巻線溝入れの処理を施し、前記積層プレートの両
面にギャップ材を成膜し、そして各積層プレートを重ね
合わせて溶着してギャップドブロックを得る工程と、該
ギャップドブロックを等間隔に切断し記二つのコア半体
を含むギャップドプレードを得る工程とを含むことによ
り、ギャップ溶着時の工程歩留り、及び材料歩留りを改
善することができ、生産性の向上を達成することができ
る。
【図１】本発明による磁気ヘッドの製造方法における重
要な工程の一実施例を示す説明図である。
要な工程の一実施例を示す説明図である。
【図２】磁性薄膜層を得る工程を示す説明図である。
【図３】図２の磁性薄膜層を積層して得た積層ブロック
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図４】図３の積層ブロックを切断して得た積層プレー
トを示す斜視図である。
トを示す斜視図である。
【図５】図４の積層プレートにアペックス溝入れをした
状態を示す斜視図ある。
状態を示す斜視図ある。
【図６】図５の積層プレートに更に巻線溝入れをした状
態を示す斜視図である。
態を示す斜視図である。
【図７】図５の積層プレートをギャップ溶着して得たギ
ャプドブロックを示す斜視図である。
ャプドブロックを示す斜視図である。
【図８】図７のギャップドブロックを切断する状態を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図９】図８のギャップドブロックを切断して得たギャ
ップドプレートのＩ／Ｃサイドの研削状態を示す斜視図
である。
ップドプレートのＩ／Ｃサイドの研削状態を示す斜視図
である。
【図１０】図９のギャップドプレートを切断してバーを
得る状態を示す斜視図である。
得る状態を示す斜視図である。
【図１１】バーを切断して得られた磁気ヘッドチップを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図１２】従来の磁気ヘッドの製造方法における重要な
工程を示す説明図である。
工程を示す説明図である。
１ 磁気ヘッド １１ 基板 １２ 合金膜 １４ 磁性薄膜層 ３０ 積層ブロック（磁性薄膜積層体） ４０ 積層プレート ５０ ギャップドブロック ６０ ギャップドプレート ６０Ａ Ｉコアプレート ６０Ｂ Ｃコアプレート
【手続補正書】
【提出日】平成６年８月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１２】
Claims (3)
- 【請求項１】 二つのコア半体を所定ギャップ長にて突
合せて接合することにより構成される磁気ヘッドの製造
方法において、 基板と該基板上に設けられた合金膜とを含む磁性薄膜層
を積層してなる磁性薄膜積層体を同一厚さに切断して複
数の積層プレートを作製する工程と、該各積層プレート
の少なくとも一方の面にアペックス溝入れ及び巻線溝入
れの処理を施し、そして前記各積層プレートの両面にギ
ャップ材を成膜した後前記各積層プレートを重ね合わせ
て互いに溶着してギャップドブロックを得る工程と、該
ギャップドブロックを等間隔に切断して前記二つのコア
半体を含むギャップドプレートを得る工程とを含むこと
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記二つのコア半体がＩコアプレート及
びＣコアプレートであることを特徴とする請求項１の磁
気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 前記二つのコア半体がともにＣコアプレ
ートであることを特徴とする請求項１の磁気ヘッドの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12697294A JPH07311908A (ja) | 1994-05-17 | 1994-05-17 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12697294A JPH07311908A (ja) | 1994-05-17 | 1994-05-17 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07311908A true JPH07311908A (ja) | 1995-11-28 |
Family
ID=14948461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12697294A Pending JPH07311908A (ja) | 1994-05-17 | 1994-05-17 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07311908A (ja) |
-
1994
- 1994-05-17 JP JP12697294A patent/JPH07311908A/ja active Pending
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