JPH07318955A - 液晶表示素子の製法 - Google Patents
液晶表示素子の製法Info
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- JPH07318955A JPH07318955A JP11651794A JP11651794A JPH07318955A JP H07318955 A JPH07318955 A JP H07318955A JP 11651794 A JP11651794 A JP 11651794A JP 11651794 A JP11651794 A JP 11651794A JP H07318955 A JPH07318955 A JP H07318955A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1341—Filling or closing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 セルを構成する２枚の絶縁性透明基板の間隙
に液晶材料を注入するときに、液晶材料の無駄や汚染が
なく、かつ、製造コストを低減することができる液晶表
示素子の製造法を提供する。 【構成】 （ａ）大型の絶縁性透明基板の一方に複数個
の液晶セル用のパターンを形成し、（ｂ）該パターンの
周囲に液晶材料注入口を除いてシール剤を設けるととも
に、前記液晶セル１０（ａ）の少なくとも２個の液晶材
料注入口３を近接させ、該注入口に連通した液晶溜め部
７を形成し、（ｃ）前記一方の基板１より小さい１また
は２以上の他方の基板２ａ、２ｂを前記液晶溜め部が露
出するように重ね合せ、（ｄ）前記両基板１と２ａ、２
ｂを前記シール剤４により貼着し、（ｅ）ついで前記液
晶溜め部から前記両基板の間隙に液晶材料を注入し、そ
ののち各液晶セルごとに切断分離する。
に液晶材料を注入するときに、液晶材料の無駄や汚染が
なく、かつ、製造コストを低減することができる液晶表
示素子の製造法を提供する。 【構成】 （ａ）大型の絶縁性透明基板の一方に複数個
の液晶セル用のパターンを形成し、（ｂ）該パターンの
周囲に液晶材料注入口を除いてシール剤を設けるととも
に、前記液晶セル１０（ａ）の少なくとも２個の液晶材
料注入口３を近接させ、該注入口に連通した液晶溜め部
７を形成し、（ｃ）前記一方の基板１より小さい１また
は２以上の他方の基板２ａ、２ｂを前記液晶溜め部が露
出するように重ね合せ、（ｄ）前記両基板１と２ａ、２
ｂを前記シール剤４により貼着し、（ｅ）ついで前記液
晶溜め部から前記両基板の間隙に液晶材料を注入し、そ
ののち各液晶セルごとに切断分離する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子の製法に関
する。さらに詳しくは、一定間隙を保持して貼着された
２枚の絶縁性透明基板の間隙への液晶材料の注入法を改
善した液晶表示素子の製法に関する。
する。さらに詳しくは、一定間隙を保持して貼着された
２枚の絶縁性透明基板の間隙への液晶材料の注入法を改
善した液晶表示素子の製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は、一般に電極パターンや
配向膜などがそれぞれ設けられた２枚の絶縁性透明基板
を一定間隙に保持して前記電極パターンの周囲でシール
剤により貼着するとともに、その間隙に液晶材料を封入
することにより形成された液晶セルと、その両外側に設
けられた偏光板、バックライト、回路基板などにより構
成されている。
配向膜などがそれぞれ設けられた２枚の絶縁性透明基板
を一定間隙に保持して前記電極パターンの周囲でシール
剤により貼着するとともに、その間隙に液晶材料を封入
することにより形成された液晶セルと、その両外側に設
けられた偏光板、バックライト、回路基板などにより構
成されている。
【０００３】この液晶セルを製造するには、一般につぎ
のように行われる。まず、大型のガラス板などの一方の
絶縁性透明基板に複数個の液晶セルの電極パターンや配
向膜などをそれぞれ形成し、各液晶セルごとの電極パタ
ーンの周囲に液晶材料注入口を除いてシール剤を塗布す
る。ついで各液晶セルの対向電極などが設けられた他方
の絶縁性透明基板を電極パターンが対向するように重ね
合わせ、加圧しながら、加熱することにより、前述のシ
ール剤により大型の両絶縁性透明基板を貼着する。その
のち、シール剤のさらに外側で大型の絶縁性透明基板を
切断することにより、各液晶セル用に分離し、個々のセ
ルごとに液晶材料注入口から液晶材料を注入し、注入口
を封止（液晶材料が注入されていない２枚の透明基板が
貼着された状態を単にセルといい、液晶材料が注入され
たものを液晶セルという。以下同じ）することにより液
晶セルが製造されている。
のように行われる。まず、大型のガラス板などの一方の
絶縁性透明基板に複数個の液晶セルの電極パターンや配
向膜などをそれぞれ形成し、各液晶セルごとの電極パタ
ーンの周囲に液晶材料注入口を除いてシール剤を塗布す
る。ついで各液晶セルの対向電極などが設けられた他方
の絶縁性透明基板を電極パターンが対向するように重ね
合わせ、加圧しながら、加熱することにより、前述のシ
ール剤により大型の両絶縁性透明基板を貼着する。その
のち、シール剤のさらに外側で大型の絶縁性透明基板を
切断することにより、各液晶セル用に分離し、個々のセ
ルごとに液晶材料注入口から液晶材料を注入し、注入口
を封止（液晶材料が注入されていない２枚の透明基板が
貼着された状態を単にセルといい、液晶材料が注入され
たものを液晶セルという。以下同じ）することにより液
晶セルが製造されている。
【０００４】この液晶材料を注入する工程においてその
作業効率を向上するため、大型の透明基板に形成された
複数個のセルを完全に個々のセルに切断分離しないで、
図５に示されるように、液晶材料の注入口３が一方向の
端部に揃うように数個のセルがつながった状態に切断
し、各セルの液晶材料注入口３を液晶溜めに浸すかまた
は液晶材料注入口３にディスペンサなどにより液晶材料
を滴下して数個のセルにまとめて液晶材料を注入する方
法が用いられている。図５は、２枚の大型のガラス基板
１、２がシール剤４により貼着された状態の平面図で、
シール材４により囲まれた内側に各セルの図示しない電
極パターンなどが形成されている。この例では３個のセ
ル１０が設けられており、液晶材料の注入後に一点鎖線
Ｐでスクライブとブレークなどの方法により個々のセル
１０に分離される。なお、液晶材料の注入法は真空状態
で、液晶材料注入口３を液晶溜めに浸すかまたは液晶材
料注入口３にディスペンサなどにより液晶材料を滴下し
たのち、真空状態を解除することにより基板間隙と外部
との圧力差を利用して液晶材料を注入する。
作業効率を向上するため、大型の透明基板に形成された
複数個のセルを完全に個々のセルに切断分離しないで、
図５に示されるように、液晶材料の注入口３が一方向の
端部に揃うように数個のセルがつながった状態に切断
し、各セルの液晶材料注入口３を液晶溜めに浸すかまた
は液晶材料注入口３にディスペンサなどにより液晶材料
を滴下して数個のセルにまとめて液晶材料を注入する方
法が用いられている。図５は、２枚の大型のガラス基板
１、２がシール剤４により貼着された状態の平面図で、
シール材４により囲まれた内側に各セルの図示しない電
極パターンなどが形成されている。この例では３個のセ
ル１０が設けられており、液晶材料の注入後に一点鎖線
Ｐでスクライブとブレークなどの方法により個々のセル
１０に分離される。なお、液晶材料の注入法は真空状態
で、液晶材料注入口３を液晶溜めに浸すかまたは液晶材
料注入口３にディスペンサなどにより液晶材料を滴下し
たのち、真空状態を解除することにより基板間隙と外部
との圧力差を利用して液晶材料を注入する。
【０００５】個々のセルに切断分離する前に液晶材料を
注入する従来の方法の他の例の説明図を図６に示す。こ
の例は特開昭６１−２１７０１８号公報に示されるもの
で、図６（ａ）に示されるように、大型のガラス基板
１、２に４個のセル１０が形成されており、シール材４
は個々のセルの周囲に電極パターン（図示せず）などを
囲むように設けられるとともに、各セル１０のシール剤
４が連続しており、液晶材料注入口３が大型のガラス基
板１、２の中心部に集まるように形成されている。その
結果、大型のガラス基板１、２は一連のシール剤４によ
り密封空間が形成され、その中心部の一方のガラス基板
２に開口部７を設けて開口部７から各セル１０に液晶材
料を注入している。液晶材料の注入後、液晶材料注入口
３を封止剤８により封止して、一点鎖線Ａでスクライブ
とブレークなどの方法により個々の液晶セル１０ａに切
断分離する。図６（ｂ）は図６（ａ）のＤ−Ｄ線断面図
を示し、図６（ｃ）は切断分離された１個の液晶セル１
０ａの平面図を示す。
注入する従来の方法の他の例の説明図を図６に示す。こ
の例は特開昭６１−２１７０１８号公報に示されるもの
で、図６（ａ）に示されるように、大型のガラス基板
１、２に４個のセル１０が形成されており、シール材４
は個々のセルの周囲に電極パターン（図示せず）などを
囲むように設けられるとともに、各セル１０のシール剤
４が連続しており、液晶材料注入口３が大型のガラス基
板１、２の中心部に集まるように形成されている。その
結果、大型のガラス基板１、２は一連のシール剤４によ
り密封空間が形成され、その中心部の一方のガラス基板
２に開口部７を設けて開口部７から各セル１０に液晶材
料を注入している。液晶材料の注入後、液晶材料注入口
３を封止剤８により封止して、一点鎖線Ａでスクライブ
とブレークなどの方法により個々の液晶セル１０ａに切
断分離する。図６（ｂ）は図６（ａ）のＤ−Ｄ線断面図
を示し、図６（ｃ）は切断分離された１個の液晶セル１
０ａの平面図を示す。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述の個々のセルに切
断分離したのち、または液晶材料注入口を一端部に揃っ
て露出させたのちに液晶材料を注入する方法では、各セ
ルのシール剤より外側の基板間隙にも液晶材料が入り込
んだり、液晶溜めから液晶材料がこぼれるため、高価な
液晶材料の損失量が多くなって液晶表示素子のコストア
ップになるという問題がある。さらに液晶材料の注入前
に大型の絶縁性透明基板であるガラス原板を切断するた
め、切断時に発生する粉塵が透明基板に付着し、これが
液晶材料の中に混入して液晶材料を汚染しやすいという
問題がある。
断分離したのち、または液晶材料注入口を一端部に揃っ
て露出させたのちに液晶材料を注入する方法では、各セ
ルのシール剤より外側の基板間隙にも液晶材料が入り込
んだり、液晶溜めから液晶材料がこぼれるため、高価な
液晶材料の損失量が多くなって液晶表示素子のコストア
ップになるという問題がある。さらに液晶材料の注入前
に大型の絶縁性透明基板であるガラス原板を切断するた
め、切断時に発生する粉塵が透明基板に付着し、これが
液晶材料の中に混入して液晶材料を汚染しやすいという
問題がある。
【０００７】またあらかじめ各セルまたは数個組のセル
に切断分離しないで、大型の絶縁性透明基板のままの状
態で液晶材料を注入する前述の方法では、液晶材料を注
入するための開口部７を大型の絶縁性透明基板の中心部
に設けなければならない。大きな基板の中心部に開口部
を設けるには、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネ
イトなどからなるフィルム状の基板では比較的容易であ
るが、通常基板として用いられるガラス板を使用する
と、スクライブとブレークによる切断方法を用いること
ができず、レーザなどのビーム加工をしなければならな
い。したがって、生産工程が複雑になるとともに、設備
も高価であり、コストアップの原因になるという問題が
ある。
に切断分離しないで、大型の絶縁性透明基板のままの状
態で液晶材料を注入する前述の方法では、液晶材料を注
入するための開口部７を大型の絶縁性透明基板の中心部
に設けなければならない。大きな基板の中心部に開口部
を設けるには、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネ
イトなどからなるフィルム状の基板では比較的容易であ
るが、通常基板として用いられるガラス板を使用する
と、スクライブとブレークによる切断方法を用いること
ができず、レーザなどのビーム加工をしなければならな
い。したがって、生産工程が複雑になるとともに、設備
も高価であり、コストアップの原因になるという問題が
ある。
【０００８】本発明はこのような問題を解決するために
なされたもので、粉塵などにより液晶材料を汚染するこ
となく、簡単な製造工程で大量のセルに同時に液晶材料
を注入することができる液晶表示素子の製法を提供する
ことを目的とする。
なされたもので、粉塵などにより液晶材料を汚染するこ
となく、簡単な製造工程で大量のセルに同時に液晶材料
を注入することができる液晶表示素子の製法を提供する
ことを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
製法は、（ａ）絶縁性透明基板の一方に複数個の液晶セ
ル用のパターンを形成し、（ｂ）前記複数個の液晶セル
の少なくとも２個の液晶材料注入口が近接するようにシ
ール剤を各液晶セルの前記パターンの周囲に設けるとと
もに、前記少なくとも２個の液晶セルの液晶材料注入口
に連通した液晶溜め部を形成し、（ｃ）前記液晶セル用
パターンに対向する電極が少なくとも形成され、前記一
方の絶縁性透明基板より小さい１または２以上の他方の
絶縁性透明基板を前記液晶溜め部が露出するように重ね
合せ、（ｄ）前記一方の絶縁性透明基板と前記他方の絶
縁性透明基板とを前記シール剤により貼着し、（ｅ）つ
いで前記液晶溜め部から前記絶縁性透明基板の間隙に液
晶材料を注入し、そののち各液晶セルごとに切断分離す
ることを特徴とする。
製法は、（ａ）絶縁性透明基板の一方に複数個の液晶セ
ル用のパターンを形成し、（ｂ）前記複数個の液晶セル
の少なくとも２個の液晶材料注入口が近接するようにシ
ール剤を各液晶セルの前記パターンの周囲に設けるとと
もに、前記少なくとも２個の液晶セルの液晶材料注入口
に連通した液晶溜め部を形成し、（ｃ）前記液晶セル用
パターンに対向する電極が少なくとも形成され、前記一
方の絶縁性透明基板より小さい１または２以上の他方の
絶縁性透明基板を前記液晶溜め部が露出するように重ね
合せ、（ｄ）前記一方の絶縁性透明基板と前記他方の絶
縁性透明基板とを前記シール剤により貼着し、（ｅ）つ
いで前記液晶溜め部から前記絶縁性透明基板の間隙に液
晶材料を注入し、そののち各液晶セルごとに切断分離す
ることを特徴とする。
【００１０】前記液晶溜め部を、前記パターンの周囲に
設けるシール剤と同じ材料で、該シール剤の形成と同時
に枠状に形成すれば、特別に液晶溜め部を設ける工程を
必要とせず、製造工程が増加しないため好ましい。
設けるシール剤と同じ材料で、該シール剤の形成と同時
に枠状に形成すれば、特別に液晶溜め部を設ける工程を
必要とせず、製造工程が増加しないため好ましい。
【００１１】前記液晶溜め部を、液晶材料を吸着する液
晶保持体により形成すれば、とくに液晶溜め部を形成し
ないで、液晶保持体を各セルの液晶材料注入口部に載置
するだけで済み、簡単に液晶材料を注入することができ
るとともに、大型の絶縁性透明基板としてガラス板を使
用すれば、余計な部分にシール剤が付着されていないた
め、各液晶セルへの切断分離をスクライブとブレークの
方法により行えるため好ましい。
晶保持体により形成すれば、とくに液晶溜め部を形成し
ないで、液晶保持体を各セルの液晶材料注入口部に載置
するだけで済み、簡単に液晶材料を注入することができ
るとともに、大型の絶縁性透明基板としてガラス板を使
用すれば、余計な部分にシール剤が付着されていないた
め、各液晶セルへの切断分離をスクライブとブレークの
方法により行えるため好ましい。
【００１２】
【作用】本発明によれば、大型の絶縁性透明基板上に形
成された複数個のセルの少なくとも２個の液晶材料注入
口が液晶溜めに連なるように形成するとともに、大型の
絶縁性透明基板を重ね合わせて貼着する際に液晶溜め部
を覆わないように、一方の大型の絶縁性透明基板より小
さくまたはあらかじめ分割して他方の絶縁性透明基板を
形成しているため、液晶材料を注入するための開口部を
大型の絶縁性透明基板に設ける必要がない。
成された複数個のセルの少なくとも２個の液晶材料注入
口が液晶溜めに連なるように形成するとともに、大型の
絶縁性透明基板を重ね合わせて貼着する際に液晶溜め部
を覆わないように、一方の大型の絶縁性透明基板より小
さくまたはあらかじめ分割して他方の絶縁性透明基板を
形成しているため、液晶材料を注入するための開口部を
大型の絶縁性透明基板に設ける必要がない。
【００１３】そのため、液晶材料の汚染やムダがなく、
しかも簡単な工程で複数個のセルに同時に液晶材料を注
入することができる。
しかも簡単な工程で複数個のセルに同時に液晶材料を注
入することができる。
【００１４】
【実施例】つぎに図面を参照しながら本発明の液晶表示
素子の製法について説明する。
素子の製法について説明する。
【００１５】［実施例１］図１〜２は本発明の液晶表示
素子の製法を説明するための製造工程の説明図である。
素子の製法を説明するための製造工程の説明図である。
【００１６】図１はガラス板、ソーダガラス、ホウケイ
酸ガラスなどからなる一方の大型の絶縁性透明基板１
に、各セル用に形成された電極パターンなど（図示せ
ず）の周囲にシール剤４が設けられた状態の平面説明図
である。大型の絶縁性透明基板１の大きさは目的とする
液晶セルの種類によっても異なるが、通常は２００〜５
００ｍｍ×２００〜５００ｍｍ程度のものが使用され
る。その透明基板１に各液晶セルのための電極パター
ン、薄膜トランジスタや配向膜、保護膜など（いずれも
図示せず）を設け、そのパターンの周囲にエポキシ樹脂
などからなるシール剤４を幅１００〜５００μｍ、厚さ
２０〜５０μｍ程度にスクリーン印刷やディスペンサに
よる塗布などにより設ける。
酸ガラスなどからなる一方の大型の絶縁性透明基板１
に、各セル用に形成された電極パターンなど（図示せ
ず）の周囲にシール剤４が設けられた状態の平面説明図
である。大型の絶縁性透明基板１の大きさは目的とする
液晶セルの種類によっても異なるが、通常は２００〜５
００ｍｍ×２００〜５００ｍｍ程度のものが使用され
る。その透明基板１に各液晶セルのための電極パター
ン、薄膜トランジスタや配向膜、保護膜など（いずれも
図示せず）を設け、そのパターンの周囲にエポキシ樹脂
などからなるシール剤４を幅１００〜５００μｍ、厚さ
２０〜５０μｍ程度にスクリーン印刷やディスペンサに
よる塗布などにより設ける。
【００１７】本実施例では３００ｍｍ×４００ｍｍ程度
のガラス板に４個の液晶セル用のパターンを形成してい
る。各セルのシール剤４は各セルのパターンを囲むよう
に形成されているが、一部に液晶材料注入口３が設けら
れている。本実施例では２個のセル１０の液晶材料注入
口３がそれぞれ近接するように設けられ、その２個のセ
ル１０の液晶材料注入口３とそれぞれ連通するように液
晶溜め７が前述のシール剤４により枠状に同時に形成さ
れている。したがって本実施例では、２個のセルのパタ
ーンが一連のシール剤４により包囲されるとともに、そ
の中心部に液晶溜め７が形成されたものが２組、１枚の
大型の絶縁性透明基板１に形成されている。
のガラス板に４個の液晶セル用のパターンを形成してい
る。各セルのシール剤４は各セルのパターンを囲むよう
に形成されているが、一部に液晶材料注入口３が設けら
れている。本実施例では２個のセル１０の液晶材料注入
口３がそれぞれ近接するように設けられ、その２個のセ
ル１０の液晶材料注入口３とそれぞれ連通するように液
晶溜め７が前述のシール剤４により枠状に同時に形成さ
れている。したがって本実施例では、２個のセルのパタ
ーンが一連のシール剤４により包囲されるとともに、そ
の中心部に液晶溜め７が形成されたものが２組、１枚の
大型の絶縁性透明基板１に形成されている。
【００１８】つぎに図２に示されるように、たとえば２
個のセル用の電極パターンなどが形成された他方の絶縁
性透明基板２ａ、２ｂを図示しないスペーサを介在させ
て絶縁性透明基板１に重ね合わせ、熱圧着することによ
り貼着する。その結果前述のシール剤４は圧縮されて、
スペーサの径と同程度の４〜６μｍ程度の厚さになる。
本実施例ではこの他方の絶縁性透明基板を２分して２枚
の基板２ａ、２ｂにするとともに、液晶溜め７部が覆わ
れないように透明基板１よりも小さな寸法で形成されて
いる。すなわち、上下の絶縁性透明基板が重ね合わされ
て貼着されても、液晶溜め７部は露出するように構成さ
れているところに本発明の特徴がある。そのため、透明
基板にレーザー加工などにより開口部を設ける必要がな
く、容易に液晶材料を注入することができる。その結果
ディスペンサにより液晶材料の注入を行うことができる
ため、液晶材料注入用のセルを多数個集めてバッチ処理
により液晶材料を注入する必要がなく、各透明基板ごと
に液晶材料を注入することができ、液晶材料注入前後の
工程との連続処理も可能となる。
個のセル用の電極パターンなどが形成された他方の絶縁
性透明基板２ａ、２ｂを図示しないスペーサを介在させ
て絶縁性透明基板１に重ね合わせ、熱圧着することによ
り貼着する。その結果前述のシール剤４は圧縮されて、
スペーサの径と同程度の４〜６μｍ程度の厚さになる。
本実施例ではこの他方の絶縁性透明基板を２分して２枚
の基板２ａ、２ｂにするとともに、液晶溜め７部が覆わ
れないように透明基板１よりも小さな寸法で形成されて
いる。すなわち、上下の絶縁性透明基板が重ね合わされ
て貼着されても、液晶溜め７部は露出するように構成さ
れているところに本発明の特徴がある。そのため、透明
基板にレーザー加工などにより開口部を設ける必要がな
く、容易に液晶材料を注入することができる。その結果
ディスペンサにより液晶材料の注入を行うことができる
ため、液晶材料注入用のセルを多数個集めてバッチ処理
により液晶材料を注入する必要がなく、各透明基板ごと
に液晶材料を注入することができ、液晶材料注入前後の
工程との連続処理も可能となる。
【００１９】前述のように、他方の透明基板２ａ、２ｂ
を重ね合わせて熱圧着することによりシール剤４は圧縮
されて４〜６μｍ程度の厚さになるが、液晶溜め７部の
シール剤は透明基板で加圧されないため、その厚さは殆
ど変わらず、２０〜５０μｍの厚さをそのまま維持す
る。また、必要に応じて加圧されない部分にあらかじめ
シール剤をディスペンサなどにより厚めに塗れば１００
〜５００μｍの厚さのシール壁を形成できる。そのため
液晶溜め７部は厚い壁で枠状に囲まれた凹部となり（図
２（ａ）のＡ−Ａ線断面図である図２（ｂ）参照）、液
晶材料を滴下することにより、液晶材料が保持される。
を重ね合わせて熱圧着することによりシール剤４は圧縮
されて４〜６μｍ程度の厚さになるが、液晶溜め７部の
シール剤は透明基板で加圧されないため、その厚さは殆
ど変わらず、２０〜５０μｍの厚さをそのまま維持す
る。また、必要に応じて加圧されない部分にあらかじめ
シール剤をディスペンサなどにより厚めに塗れば１００
〜５００μｍの厚さのシール壁を形成できる。そのため
液晶溜め７部は厚い壁で枠状に囲まれた凹部となり（図
２（ａ）のＡ−Ａ線断面図である図２（ｂ）参照）、液
晶材料を滴下することにより、液晶材料が保持される。
【００２０】実際に液晶材料を各セルの基板間隙に注入
する方法は、従来行われているのと同様に行えるが、た
とえば一定間隙で貼着された透明基板１、２の全体を真
空室に入れて１０-2〜１０-3Ｔｏｒｒ程度の減圧下にお
き、両基板間を真空状態にしたのち、液晶溜め７部に液
晶材料をディスペンサなどにより適量滴下して充填す
る。そののち真空室の真空状態を解除して周囲を大気圧
にすることにより、両透明基板間の真空状態と周囲の大
気圧状態とが液晶材料を介して対峙することになり、
０．５〜１時間放置することによりその圧力差によって
液晶材料が狭い間隙に注入される。
する方法は、従来行われているのと同様に行えるが、た
とえば一定間隙で貼着された透明基板１、２の全体を真
空室に入れて１０-2〜１０-3Ｔｏｒｒ程度の減圧下にお
き、両基板間を真空状態にしたのち、液晶溜め７部に液
晶材料をディスペンサなどにより適量滴下して充填す
る。そののち真空室の真空状態を解除して周囲を大気圧
にすることにより、両透明基板間の真空状態と周囲の大
気圧状態とが液晶材料を介して対峙することになり、
０．５〜１時間放置することによりその圧力差によって
液晶材料が狭い間隙に注入される。
【００２１】そののち液晶材料注入口３を封止剤（図示
せず）により封止し、図２の一点鎖線Ｐで切断分離する
ことにより、各液晶セル１０ａが完成する。そののち、
従来と同様に偏光板やバックライト、回路基板などを設
けることにより液晶表示素子が完成する。
せず）により封止し、図２の一点鎖線Ｐで切断分離する
ことにより、各液晶セル１０ａが完成する。そののち、
従来と同様に偏光板やバックライト、回路基板などを設
けることにより液晶表示素子が完成する。
【００２２】［実施例２］図３は本発明の液晶表示素子
の製法の他の実施例を説明するための図で、実施例１の
図２に相当する工程の平面説明図（ａ）およびそのＣ−
Ｃ断面図（ｂ）である。
の製法の他の実施例を説明するための図で、実施例１の
図２に相当する工程の平面説明図（ａ）およびそのＣ−
Ｃ断面図（ｂ）である。
【００２３】本実施例は大型の絶縁性透明基板に４個の
セル１０が形成され、それぞれ２個のセル１０の液晶材
料注入口３が近接して設けられ、共通の液晶溜め７に連
通している点では実施例１と同じであるが、本実施例で
は液晶溜め７がシール剤壁により凹部状に形成されるの
ではなく、液晶材料を吸着保持する液晶保持体からなっ
ている点で異なるのみで、他の構成は実施例１と同様で
ある。
セル１０が形成され、それぞれ２個のセル１０の液晶材
料注入口３が近接して設けられ、共通の液晶溜め７に連
通している点では実施例１と同じであるが、本実施例で
は液晶溜め７がシール剤壁により凹部状に形成されるの
ではなく、液晶材料を吸着保持する液晶保持体からなっ
ている点で異なるのみで、他の構成は実施例１と同様で
ある。
【００２４】液晶保持体としては、通常液晶材料を吸着
させるのに用いられるガラスウールからなるシート状の
ものが用いられ、１〜２枚重ねて液晶材料注入口３を覆
うように設けられている。液晶材料の注入法としては、
実施例１と同様に、一定間隙で貼着された透明基板の全
体を真空室にいれ、１０-2〜１０-3Ｔｏｒｒ程度の減圧
下におき、両基板間の間隙を真空状態にしたのち、液晶
溜め７である液晶保持体に液晶材料をディスペンサなど
により適量滴下して吸着させる。そののち、実施例１と
同様に真空室の真空状態を解除して０．５〜１時間放置
することによりセル内に液晶材料が注入される。
させるのに用いられるガラスウールからなるシート状の
ものが用いられ、１〜２枚重ねて液晶材料注入口３を覆
うように設けられている。液晶材料の注入法としては、
実施例１と同様に、一定間隙で貼着された透明基板の全
体を真空室にいれ、１０-2〜１０-3Ｔｏｒｒ程度の減圧
下におき、両基板間の間隙を真空状態にしたのち、液晶
溜め７である液晶保持体に液晶材料をディスペンサなど
により適量滴下して吸着させる。そののち、実施例１と
同様に真空室の真空状態を解除して０．５〜１時間放置
することによりセル内に液晶材料が注入される。
【００２５】本実施例によれば、ガラスウールなどから
なる液晶保持体を介して両透明基板間隙を真空にした
り、液晶材料を注入するが、放置するのみで直接作業工
数は必要とせず、個々のセルに切断分離する際に余分な
シール剤がないため、基板としてガラス板を用いれば、
スクライブとブレークにより簡単に切断分離することが
でき、作業工数を減らすことができる。
なる液晶保持体を介して両透明基板間隙を真空にした
り、液晶材料を注入するが、放置するのみで直接作業工
数は必要とせず、個々のセルに切断分離する際に余分な
シール剤がないため、基板としてガラス板を用いれば、
スクライブとブレークにより簡単に切断分離することが
でき、作業工数を減らすことができる。
【００２６】［実施例３］図４は本発明の液晶表示素子
の製法のさらに他の実施例を説明するための図で、実施
例１の図２に相当する工程の平面図である。
の製法のさらに他の実施例を説明するための図で、実施
例１の図２に相当する工程の平面図である。
【００２７】本実施例は大型の絶縁性透明基板に４個の
セル１０が形成され、それぞれ２個のセル１０の液晶材
料注入口３が近接して設けられ、共通の液晶溜め７に連
通している点では実施例１〜２と同じであるが、本実施
例では液晶材料注入口３が透明基板１の中央部に設けら
れるのではなく、端縁側に設けられている点で異なるの
みで、他の構造は実施例１と同じである。液晶溜め７は
実施例１または実施例２のいずれの構造をも適用でき
る。
セル１０が形成され、それぞれ２個のセル１０の液晶材
料注入口３が近接して設けられ、共通の液晶溜め７に連
通している点では実施例１〜２と同じであるが、本実施
例では液晶材料注入口３が透明基板１の中央部に設けら
れるのではなく、端縁側に設けられている点で異なるの
みで、他の構造は実施例１と同じである。液晶溜め７は
実施例１または実施例２のいずれの構造をも適用でき
る。
【００２８】本実施例によれば上側である他方の透明基
板２を２分しなくても、一方の透明基板１より小さくし
て端縁部の液晶溜め７部を露出させるように貼着するだ
けで前述の実施例１〜２と同様に液晶セル１０ａを形成
することができ、２枚の透明基板の貼着工程の作業が容
易になるという利点がある。大型の絶縁性透明基板の中
央部は、成膜、エッチングなどの処理が均一に行えるた
め、電極パターンを形成する上で有利であり、本実施例
では液晶セルを大型絶縁性透明基板の中央部に液晶セル
を寄せる形態で配置しているため、製品歩留りも向上す
る利点がある。
板２を２分しなくても、一方の透明基板１より小さくし
て端縁部の液晶溜め７部を露出させるように貼着するだ
けで前述の実施例１〜２と同様に液晶セル１０ａを形成
することができ、２枚の透明基板の貼着工程の作業が容
易になるという利点がある。大型の絶縁性透明基板の中
央部は、成膜、エッチングなどの処理が均一に行えるた
め、電極パターンを形成する上で有利であり、本実施例
では液晶セルを大型絶縁性透明基板の中央部に液晶セル
を寄せる形態で配置しているため、製品歩留りも向上す
る利点がある。
【００２９】以上の各実施例では一対の透明基板１、２
で４個の液晶セルを形成する例で説明したが、一対の透
明基板からとる液晶セルの個数は４個に限らず２個以上
であれば、何個でもよい。このばあい他方の透明基板は
２分に限らず多数に分割することもでき、液晶溜め部が
露出するようにすればよい。また液晶材料の注入口を近
接して設けるセルの個数も２個とは限らず、たとえば４
個のセルの中心部に近接して各セルの液晶材料の注入口
を設け、その中心部に液晶溜めを形成してもよい。要は
２個以上のセルが設けられ、少なくともその一部の２個
以上のセルの液晶材料注入口を近接して設けるととも
に、それらに連通した液晶溜めを設け、他方の透明基板
は一方の透明基板より小さく形成されて重ね合わせる際
に液晶溜め部が露出するようにすればよい。
で４個の液晶セルを形成する例で説明したが、一対の透
明基板からとる液晶セルの個数は４個に限らず２個以上
であれば、何個でもよい。このばあい他方の透明基板は
２分に限らず多数に分割することもでき、液晶溜め部が
露出するようにすればよい。また液晶材料の注入口を近
接して設けるセルの個数も２個とは限らず、たとえば４
個のセルの中心部に近接して各セルの液晶材料の注入口
を設け、その中心部に液晶溜めを形成してもよい。要は
２個以上のセルが設けられ、少なくともその一部の２個
以上のセルの液晶材料注入口を近接して設けるととも
に、それらに連通した液晶溜めを設け、他方の透明基板
は一方の透明基板より小さく形成されて重ね合わせる際
に液晶溜め部が露出するようにすればよい。
【００３０】なお本発明によれば上下の絶縁性透明基板
を重ね合わせ貼着する際に両基板の大きさが異なるが、
少なくとも上下基板の側縁には揃っている部分があるた
め、その側縁部を基準にして、または上下基板に形成さ
れたアライメントを基準にして位置合わせをすることが
できる。その結果、位置合わせも従来と同様に行うこと
ができ、容易に貼着できる。
を重ね合わせ貼着する際に両基板の大きさが異なるが、
少なくとも上下基板の側縁には揃っている部分があるた
め、その側縁部を基準にして、または上下基板に形成さ
れたアライメントを基準にして位置合わせをすることが
できる。その結果、位置合わせも従来と同様に行うこと
ができ、容易に貼着できる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、液晶材料は、液晶材料
注入口にディスペンサにより定量供給されるため、従来
方法で問題となる各セルのシール剤の外周部への液晶材
料の滲み出しがなく、液晶材料の無駄がない。また液晶
材料の注入前に透明基板の切断工程がないため、ガラス
粉などの微粉による液晶汚染の心配もない。
注入口にディスペンサにより定量供給されるため、従来
方法で問題となる各セルのシール剤の外周部への液晶材
料の滲み出しがなく、液晶材料の無駄がない。また液晶
材料の注入前に透明基板の切断工程がないため、ガラス
粉などの微粉による液晶汚染の心配もない。
【００３２】また、液晶材料注入のための開口部を透明
基板に設けるなどの特別の工程を必要とすることなく液
晶セルの製造を、短時間で効率的に行うことができる。
基板に設けるなどの特別の工程を必要とすることなく液
晶セルの製造を、短時間で効率的に行うことができる。
【００３３】その結果液晶表示素子のコストダウンを図
ることができ、安価な液晶表示素子を得ることができ
る。
ることができ、安価な液晶表示素子を得ることができ
る。
【図１】 本発明の液晶表示素子の製法の一実施例の工
程説明図である。
程説明図である。
【図２】 本発明の液晶表示素子の製法の一実施例の工
程説明図である。
程説明図である。
【図３】 本発明の液晶表示素子の製法の他の実施例の
工程説明図である。
工程説明図である。
【図４】 本発明の液晶表示素子の製法のさらに他の実
施例の工程説明図である。
施例の工程説明図である。
【図５】 従来の液晶表示素子の製法の一例の工程説明
図である。
図である。
【図６】 従来の液晶表示素子の製法の他の例の工程説
明図である。
明図である。
１ 絶縁性透明基板、２ａ 基板、２ｂ 基板、３ 液
晶注入口、４ シール剤、７ 液晶溜め、１０ セル、
１０ａ 液晶セル。
晶注入口、４ シール剤、７ 液晶溜め、１０ セル、
１０ａ 液晶セル。
フロントページの続き (72)発明者 佐藤 雄一郎 熊本県菊池郡西合志町御代志997番地 株 式会社アドバンスト・ディスプレイ内 (72)発明者 白倉 広文 熊本県菊池郡西合志町御代志997番地 株 式会社アドバンスト・ディスプレイ内
Claims (3)
- 【請求項１】 （ａ）絶縁性透明基板の一方に複数個の
液晶セル用のパターンを形成し、（ｂ）前記複数個の液
晶セルの少なくとも２個の液晶材料注入口が近接するよ
うにシール剤を各液晶セルの前記パターンの周囲に設け
るとともに、前記少なくとも２個の液晶セルの液晶材料
注入口に連通した液晶溜め部を形成し、（ｃ）前記液晶
セル用パターンに対向する電極が少なくとも形成され、
前記一方の絶縁性透明基板より小さい１または２以上の
他方の絶縁性透明基板を前記液晶溜め部が露出するよう
に重ね合せ、（ｄ）前記一方の絶縁性透明基板と前記他
方の絶縁性透明基板とを前記シール剤により貼着し、
（ｅ）ついで前記液晶溜め部から前記絶縁性透明基板の
間隙に液晶材料を注入し、そののち各液晶セルごとに切
断分離することを特徴とする液晶表示素子の製法。 - 【請求項２】 前記液晶溜め部を、前記パターンの周囲
に設けるシール剤と同じ材料で、該シール剤の形成と同
時に枠状に形成することを特徴とする請求項１記載の液
晶表示素子の製法。 - 【請求項３】 前記液晶溜め部を、液晶材料を吸着する
液晶保持体により形成することを特徴とする請求項１記
載の液晶表示素子の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11651794A JPH07318955A (ja) | 1994-05-30 | 1994-05-30 | 液晶表示素子の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11651794A JPH07318955A (ja) | 1994-05-30 | 1994-05-30 | 液晶表示素子の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07318955A true JPH07318955A (ja) | 1995-12-08 |
Family
ID=14689108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11651794A Pending JPH07318955A (ja) | 1994-05-30 | 1994-05-30 | 液晶表示素子の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07318955A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0890868A1 (fr) * | 1997-07-08 | 1999-01-13 | Asulab S.A. | Procédé de fabrication d'un lot de cellules lamellaires et cellules ainsi obtenues |
| US6004423A (en) * | 1997-07-07 | 1999-12-21 | Asulab S.A. | Manufacturing method for a batch of laminated cells and laminated cells thereby obtained |
| US9341877B2 (en) | 2013-08-19 | 2016-05-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
| US9348164B2 (en) | 2013-10-24 | 2016-05-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
| US9429796B2 (en) | 2013-09-27 | 2016-08-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
-
1994
- 1994-05-30 JP JP11651794A patent/JPH07318955A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6004423A (en) * | 1997-07-07 | 1999-12-21 | Asulab S.A. | Manufacturing method for a batch of laminated cells and laminated cells thereby obtained |
| EP0890868A1 (fr) * | 1997-07-08 | 1999-01-13 | Asulab S.A. | Procédé de fabrication d'un lot de cellules lamellaires et cellules ainsi obtenues |
| US9341877B2 (en) | 2013-08-19 | 2016-05-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
| US9429796B2 (en) | 2013-09-27 | 2016-08-30 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
| US9348164B2 (en) | 2013-10-24 | 2016-05-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
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