JPH07335783A - 半導体装置及び半導体装置ユニット - Google Patents
半導体装置及び半導体装置ユニットInfo
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- JPH07335783A JPH07335783A JP6130620A JP13062094A JPH07335783A JP H07335783 A JPH07335783 A JP H07335783A JP 6130620 A JP6130620 A JP 6130620A JP 13062094 A JP13062094 A JP 13062094A JP H07335783 A JPH07335783 A JP H07335783A
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明はBGA(Ball Grid Array) タイプのパ
ッケージ構造を有する半導体装置及び半導体装置ユニッ
トに関し、製造後における試験を可能にすると共に、歩
留り及び放熱効率の向上を図ることを目的とする。 【構成】半導体素子12を搭載面11a に搭載すると共に、
この搭載面11a と反対側に位置する実装面11b に外部接
続端子となる複数の半田ボール13が配設されてなるプリ
ント基板11と、半導体素子12を封止する封止樹脂16とを
具備する半導体装置において、下端部がプリント基板11
の搭載面11a において導電パターンを介して半導体素子
12と電気的に接続されると共に、上端部が封止樹脂16の
外部より電気的に接続可能な構成とされた電極部材17を
配設する。また、この電極部材17を導電性金属ピンによ
り形成し、封止樹脂16を貫通するよう配設する。
ッケージ構造を有する半導体装置及び半導体装置ユニッ
トに関し、製造後における試験を可能にすると共に、歩
留り及び放熱効率の向上を図ることを目的とする。 【構成】半導体素子12を搭載面11a に搭載すると共に、
この搭載面11a と反対側に位置する実装面11b に外部接
続端子となる複数の半田ボール13が配設されてなるプリ
ント基板11と、半導体素子12を封止する封止樹脂16とを
具備する半導体装置において、下端部がプリント基板11
の搭載面11a において導電パターンを介して半導体素子
12と電気的に接続されると共に、上端部が封止樹脂16の
外部より電気的に接続可能な構成とされた電極部材17を
配設する。また、この電極部材17を導電性金属ピンによ
り形成し、封止樹脂16を貫通するよう配設する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置及び半導体装
置ユニットに係り、特にBGA(Ball Grid Array) タイ
プのパッケージ構造を有する半導体装置及び半導体装置
ユニットに関する。
置ユニットに係り、特にBGA(Ball Grid Array) タイ
プのパッケージ構造を有する半導体装置及び半導体装置
ユニットに関する。
【0002】近年、高集積化,高速化及びハイパワー化
に対応でき、しかも低コストなパッケージ構造を有した
半導体装置が求められている。
に対応でき、しかも低コストなパッケージ構造を有した
半導体装置が求められている。
【0003】これらの要求に対処すべくBGAタイプの
パッケージ構造が開発され、携帯電話を始めとして各種
の電子機器に使用され、注目されるようになってきてい
る。
パッケージ構造が開発され、携帯電話を始めとして各種
の電子機器に使用され、注目されるようになってきてい
る。
【0004】
【従来の技術】図16は従来におけるプラスチックBG
A(以下、PBGAという)タイプのパッケージ構造を
有する半導体装置1を示している。
A(以下、PBGAという)タイプのパッケージ構造を
有する半導体装置1を示している。
【0005】同図において、2は多層構造とされたプリ
ント基板であり、その上面である搭載面2aには半導体
素子3がダイボンディング等により固定されている。ま
た、プリント基板2の搭載面2aと反対側に位置する実
装面2bには、複数の半田ボール4が配設されている。
この半田ボール4は外部接続端子として機能する。
ント基板であり、その上面である搭載面2aには半導体
素子3がダイボンディング等により固定されている。ま
た、プリント基板2の搭載面2aと反対側に位置する実
装面2bには、複数の半田ボール4が配設されている。
この半田ボール4は外部接続端子として機能する。
【0006】また、プリント基板2の搭載面2a及び多
層化された内層部には所定の電極パターン(図示せず)
がプリント形成されており、搭載面2aに形成された所
定の電極パターンと半導体素子3との間にはワイヤ5が
配設され、このワイヤにより電極パターンと半導体素子
3は電気的に接続される。
層化された内層部には所定の電極パターン(図示せず)
がプリント形成されており、搭載面2aに形成された所
定の電極パターンと半導体素子3との間にはワイヤ5が
配設され、このワイヤにより電極パターンと半導体素子
3は電気的に接続される。
【0007】更に、プリント基板2には複数のスルーホ
ール6が形成されており、このスルーホール6を介して
半導体素子3と電気的に接続された電極パターンはプリ
ント基板2の実装面2bに引き出され、半田ボール4と
電気的に接続さする構成となっている。
ール6が形成されており、このスルーホール6を介して
半導体素子3と電気的に接続された電極パターンはプリ
ント基板2の実装面2bに引き出され、半田ボール4と
電気的に接続さする構成となっている。
【0008】一方、プリント基板2の搭載面2aの上部
には、半導体素子3を封止する封止樹脂7が形成されて
いる。この封止樹脂7は、半導体素子3を保護するため
に形成されるものであり、封止樹脂7が形成されること
により半導体素子3は封止樹脂7内に埋設された構成と
なる。
には、半導体素子3を封止する封止樹脂7が形成されて
いる。この封止樹脂7は、半導体素子3を保護するため
に形成されるものであり、封止樹脂7が形成されること
により半導体素子3は封止樹脂7内に埋設された構成と
なる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】半導体装置1を上記の
ようにPBGA構造とすることにより、半導体素子3を
高密度化しこれに伴いリード数が多くなったとしても、
QFP(Quad Flat Package) のようにリードの強度が低
下することはなく、確実な実装処理を行うことができ
る。
ようにPBGA構造とすることにより、半導体素子3を
高密度化しこれに伴いリード数が多くなったとしても、
QFP(Quad Flat Package) のようにリードの強度が低
下することはなく、確実な実装処理を行うことができ
る。
【0010】しかるに、従来のPBGA構造の半導体装
置1では、半導体素子3が封止樹脂7内に埋設された構
成となるため、半導体装置1を回路基板等に実装した後
に半導体素子3に対する試験を行うことができないとい
う問題点があった。よって、半導体装置1が実装される
電子機器の歩留りが低下するおそれがある。
置1では、半導体素子3が封止樹脂7内に埋設された構
成となるため、半導体装置1を回路基板等に実装した後
に半導体素子3に対する試験を行うことができないとい
う問題点があった。よって、半導体装置1が実装される
電子機器の歩留りが低下するおそれがある。
【0011】また近年、複数の半導体装置を積層するこ
とにより実装密度を向上させることが行われているが、
従来のPBGA構造では半導体装置1を積層することは
できず、よって実装密度を向上させることができないと
いう問題点があった。
とにより実装密度を向上させることが行われているが、
従来のPBGA構造では半導体装置1を積層することは
できず、よって実装密度を向上させることができないと
いう問題点があった。
【0012】更に、従来のPBGA構造の半導体装置1
では、半導体素子3が樹脂封止されただけの構造である
ため、半導体素子3で発生する熱の放熱効率が悪いとい
う問題点があった。
では、半導体素子3が樹脂封止されただけの構造である
ため、半導体素子3で発生する熱の放熱効率が悪いとい
う問題点があった。
【0013】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、製造後における試験を可能にすると共に、歩留り
及び放熱効率の向上を図った半導体装置及び半導体装置
ユニットを提供することを目的とする。
あり、製造後における試験を可能にすると共に、歩留り
及び放熱効率の向上を図った半導体装置及び半導体装置
ユニットを提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、下記の手
段を講じることにより解決することができる。
段を講じることにより解決することができる。
【0015】請求項1記載の発明では、半導体素子と、
この半導体素子を搭載面に搭載すると共に、搭載面と反
対側に位置する実装面に上記半導体素子と電気的に接続
されると共に外部接続端子となる複数のボールが配設さ
れてなる基板と、この基板の搭載面上に形成されてお
り、上記半導体装置を封止する封止樹脂とを具備する半
導体装置において、導電性部材により形成されており、
下端部が上記基板の搭載面において半導体素子と電気的
に接続されると共に、上端部が封止樹脂の外部より電気
的に接続可能な構成とされた電極部材を配設したことを
特徴とするものである。
この半導体素子を搭載面に搭載すると共に、搭載面と反
対側に位置する実装面に上記半導体素子と電気的に接続
されると共に外部接続端子となる複数のボールが配設さ
れてなる基板と、この基板の搭載面上に形成されてお
り、上記半導体装置を封止する封止樹脂とを具備する半
導体装置において、導電性部材により形成されており、
下端部が上記基板の搭載面において半導体素子と電気的
に接続されると共に、上端部が封止樹脂の外部より電気
的に接続可能な構成とされた電極部材を配設したことを
特徴とするものである。
【0016】また、請求項2記載の発明では、上記請求
項1記載の半導体装置において、上記電極部材を導電性
金属ピンにより形成し、この導電性金属ピンが封止樹脂
を貫通するよう配設したことを特徴とするものである。
項1記載の半導体装置において、上記電極部材を導電性
金属ピンにより形成し、この導電性金属ピンが封止樹脂
を貫通するよう配設したことを特徴とするものである。
【0017】また、請求項3記載の発明では、上記請求
項1または2記載の半導体装置において、上記電極部材
の他端部が封止樹脂に形成された孔部の内部に位置する
よう構成したことを特徴とするものである。
項1または2記載の半導体装置において、上記電極部材
の他端部が封止樹脂に形成された孔部の内部に位置する
よう構成したことを特徴とするものである。
【0018】また、請求項4記載の発明では、上記請求
項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置において、上
記封止樹脂の内部に電極パターンが形成されてなる第2
の基板を埋設し、上記電極部材をこの第2の基板に形成
された電極パターンに電気的に接続してなることを特徴
とするものである。
項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置において、上
記封止樹脂の内部に電極パターンが形成されてなる第2
の基板を埋設し、上記電極部材をこの第2の基板に形成
された電極パターンに電気的に接続してなることを特徴
とするものである。
【0019】また、請求項5記載の発明では、上記請求
項4記載の半導体装置において、上記第2の基板には電
極部材を貫通させる貫通孔が形成されており、この貫通
孔には上記電極パターンと電極部材とを電気的に接続す
ると共に、上記第2の基板と電極部材とを相互に支持さ
せる接続部を設けたことを特徴とするものである。
項4記載の半導体装置において、上記第2の基板には電
極部材を貫通させる貫通孔が形成されており、この貫通
孔には上記電極パターンと電極部材とを電気的に接続す
ると共に、上記第2の基板と電極部材とを相互に支持さ
せる接続部を設けたことを特徴とするものである。
【0020】また、請求項6記載の発明では、上記請求
項1乃至5のいずれかに記載の半導体装置において、上
記封止樹脂の上部に半導体素子で発生する熱を放熱する
放熱部材を配設すると共に、この放熱部材と電極部材と
が係合する構成としたことを特徴とするものである。
項1乃至5のいずれかに記載の半導体装置において、上
記封止樹脂の上部に半導体素子で発生する熱を放熱する
放熱部材を配設すると共に、この放熱部材と電極部材と
が係合する構成としたことを特徴とするものである。
【0021】また、請求項7記載の発明では、上記請求
項6記載の半導体装置において、上記放熱部材に電極パ
ターンを形成し、上記電極部材を放熱部材に形成された
電極パターンに電気的に接続してなることを特徴とする
ものである。
項6記載の半導体装置において、上記放熱部材に電極パ
ターンを形成し、上記電極部材を放熱部材に形成された
電極パターンに電気的に接続してなることを特徴とする
ものである。
【0022】また、請求項8記載の発明では、上記請求
項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置を複数個積層
した構成としたことを特徴とするものである。
項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置を複数個積層
した構成としたことを特徴とするものである。
【0023】また、請求項9記載の発明では、上記請求
項8記載の半導体装置ユニットにおいて、下部に配設さ
れる半導体装置と上部に配設される半導体装置との電気
的接続を、上記ボールと電極部材とが接続されることに
より、または上記ボール同士が接続されることにより、
または上記電極部材同士が接続されることにより行う構
成としたことを特徴とするものである。
項8記載の半導体装置ユニットにおいて、下部に配設さ
れる半導体装置と上部に配設される半導体装置との電気
的接続を、上記ボールと電極部材とが接続されることに
より、または上記ボール同士が接続されることにより、
または上記電極部材同士が接続されることにより行う構
成としたことを特徴とするものである。
【0024】また、請求項10記載の発明では、上記請
求項1または2記載の半導体装置と、請求項3記載の半
導体装置とを積層した構成としたことを特徴とするもの
である。
求項1または2記載の半導体装置と、請求項3記載の半
導体装置とを積層した構成としたことを特徴とするもの
である。
【0025】更に、請求項11記載の発明では、上記請
求項10記載の半導体装置ユニットにおいて、請求項1
または2記載の半導体装置に形成された電極部材を請求
項3記載の半導体装置に形成された孔部の内部に挿入す
ることにより、請求項1または2記載の半導体装置に形
成された電極部材と、請求項3記載の半導体装置に形成
された電極部材とを電気的に接続したことを特徴とする
ものである。
求項10記載の半導体装置ユニットにおいて、請求項1
または2記載の半導体装置に形成された電極部材を請求
項3記載の半導体装置に形成された孔部の内部に挿入す
ることにより、請求項1または2記載の半導体装置に形
成された電極部材と、請求項3記載の半導体装置に形成
された電極部材とを電気的に接続したことを特徴とする
ものである。
【0026】
【作用】上記の各手段は下記のように作用する。
【0027】請求項1記載の発明によれば、基板の搭載
面に樹脂封止された半導体素子を搭載すると共に実装面
に複数のボールが配設された、いわゆるPBGA(Plast
ic Ball Grid Array) タイプの半導体装置において、下
端部が上記基板の搭載面において半導体素子と電気的に
接続されると共に、上端部が封止樹脂の外部より電気的
に接続可能な構成とされた導電性部材よりなる電極部材
を配設したことにより、電極部材を介して封止樹脂の外
部より半導体素子と電気的導通を図ることが可能とな
る。従って、半導体装置を回路基板等に実装した後にお
いても電極部材を用いて半導体素子の試験を行うことが
可能となる。
面に樹脂封止された半導体素子を搭載すると共に実装面
に複数のボールが配設された、いわゆるPBGA(Plast
ic Ball Grid Array) タイプの半導体装置において、下
端部が上記基板の搭載面において半導体素子と電気的に
接続されると共に、上端部が封止樹脂の外部より電気的
に接続可能な構成とされた導電性部材よりなる電極部材
を配設したことにより、電極部材を介して封止樹脂の外
部より半導体素子と電気的導通を図ることが可能とな
る。従って、半導体装置を回路基板等に実装した後にお
いても電極部材を用いて半導体素子の試験を行うことが
可能となる。
【0028】また、請求項2記載の発明によれば、電極
部材を導電性金属ピンにより形成し、この導電性金属ピ
ンが封止樹脂を貫通するよう配設したことにより、簡単
な構成で封止樹脂の外部より半導体素子と電気的な接続
を図ることができる。
部材を導電性金属ピンにより形成し、この導電性金属ピ
ンが封止樹脂を貫通するよう配設したことにより、簡単
な構成で封止樹脂の外部より半導体素子と電気的な接続
を図ることができる。
【0029】また、請求項3記載の発明によれば、上記
電極部材の他端部が封止樹脂に形成された孔部の内部に
位置するよう構成したことにより、外力印加時における
他端部の変形を防止することができる。また、半導体装
置を積層して半導体装置ユニットを形成するときに、孔
部を位置決め孔として用いることができる。
電極部材の他端部が封止樹脂に形成された孔部の内部に
位置するよう構成したことにより、外力印加時における
他端部の変形を防止することができる。また、半導体装
置を積層して半導体装置ユニットを形成するときに、孔
部を位置決め孔として用いることができる。
【0030】また、請求項4記載の発明によれば、上記
封止樹脂の内部に電極パターンが形成されてなる第2の
基板を埋設し、上記電極部材をこの第2の基板に形成さ
れた電極パターンに電気的に接続することにより、半導
体素子が配設された基板に加えて第2の基板を用いて電
極パターンの引き回しを行うことが可能となるため、電
極パターンの引き回しの自由度を向上させることができ
る。また、第2の基板は半導体素子が配設された基板に
比べて配線スペースを広くとることが可能であるため、
配設される電極パターンのインダクタンス特性を良好な
ものとすることができる。
封止樹脂の内部に電極パターンが形成されてなる第2の
基板を埋設し、上記電極部材をこの第2の基板に形成さ
れた電極パターンに電気的に接続することにより、半導
体素子が配設された基板に加えて第2の基板を用いて電
極パターンの引き回しを行うことが可能となるため、電
極パターンの引き回しの自由度を向上させることができ
る。また、第2の基板は半導体素子が配設された基板に
比べて配線スペースを広くとることが可能であるため、
配設される電極パターンのインダクタンス特性を良好な
ものとすることができる。
【0031】また、請求項5記載の発明によれば、第2
の基板に形成された貫通孔に電極部材が貫通され、接続
部材により電極部材と第2の基板とを相互に支持させる
と共に電気的に接続する構成とすることにより、電極部
材は第2の基板により位置決めがされるため、封止樹脂
のモールド時に電極部材が封止樹脂により流れてしまう
ことを防止できる。また、第2の基板も封止樹脂のモー
ルド前において電極部材により支持されるため、モール
ド時に第2の基板を支持する治具等は必要なく封止樹脂
のモールドを容易に行うことができる。
の基板に形成された貫通孔に電極部材が貫通され、接続
部材により電極部材と第2の基板とを相互に支持させる
と共に電気的に接続する構成とすることにより、電極部
材は第2の基板により位置決めがされるため、封止樹脂
のモールド時に電極部材が封止樹脂により流れてしまう
ことを防止できる。また、第2の基板も封止樹脂のモー
ルド前において電極部材により支持されるため、モール
ド時に第2の基板を支持する治具等は必要なく封止樹脂
のモールドを容易に行うことができる。
【0032】また、請求項6記載の発明によれば、封止
樹脂の上部に半導体素子で発生する熱を放熱する放熱部
材を配設すると共に、この放熱部材と電極部材とが係合
する構成としたことにより、半導体素子から発生する熱
の放熱特性を向上することができる。また、放熱部材は
電極部材により支持されるため、封止樹脂のモールド時
に放熱部材を支持する治具等は必要なく封止樹脂のモー
ルドを容易に行うことができる。
樹脂の上部に半導体素子で発生する熱を放熱する放熱部
材を配設すると共に、この放熱部材と電極部材とが係合
する構成としたことにより、半導体素子から発生する熱
の放熱特性を向上することができる。また、放熱部材は
電極部材により支持されるため、封止樹脂のモールド時
に放熱部材を支持する治具等は必要なく封止樹脂のモー
ルドを容易に行うことができる。
【0033】また、請求項7記載の発明によれば、上記
放熱部材に電極パターンを形成し、上記電極部材を放熱
部材に形成された電極パターンに電気的に接続した構成
とすることにより、放熱特性及び電気的特性の双方を向
上させることができる。
放熱部材に電極パターンを形成し、上記電極部材を放熱
部材に形成された電極パターンに電気的に接続した構成
とすることにより、放熱特性及び電気的特性の双方を向
上させることができる。
【0034】また、請求項8記載及び請求項10の発明
によれば、上記請求項1または2記載の半導体装置を複
数個積層した構成とすることにより、また上記請求項1
または2記載の半導体装置と請求項3記載の半導体装置
とを積層した構成とすることにより、実装効率の向上及
び高集積化が可能となる。
によれば、上記請求項1または2記載の半導体装置を複
数個積層した構成とすることにより、また上記請求項1
または2記載の半導体装置と請求項3記載の半導体装置
とを積層した構成とすることにより、実装効率の向上及
び高集積化が可能となる。
【0035】また、請求項9記載の発明によれば、下部
に配設される半導体装置と上部に配設される半導体装置
との電気的接続を、上記ボールと電極部材とを接続する
ことにより、または上記ボール同士を接続することによ
り、または上記電極部材同士を接続することにより行う
ことができるため、種々の積層構造を選定することが可
能となり、積層構造選定の自由度を向上させることがで
きる。
に配設される半導体装置と上部に配設される半導体装置
との電気的接続を、上記ボールと電極部材とを接続する
ことにより、または上記ボール同士を接続することによ
り、または上記電極部材同士を接続することにより行う
ことができるため、種々の積層構造を選定することが可
能となり、積層構造選定の自由度を向上させることがで
きる。
【0036】更に、請求項11記載の発明によれば、請
求項1または2記載の半導体装置に形成された電極部材
を請求項3記載の半導体装置に形成された孔部の内部に
挿入し積層された各半導体装置の電気的接続を行う構成
とされているため、請求項1または2記載の半導体装置
に形成された電極部材を請求項3記載の半導体装置に形
成された孔部の内部に挿入することにより、各半導体装
置の位置決めを行うことができ、積層処理を容易に行う
ことができる。
求項1または2記載の半導体装置に形成された電極部材
を請求項3記載の半導体装置に形成された孔部の内部に
挿入し積層された各半導体装置の電気的接続を行う構成
とされているため、請求項1または2記載の半導体装置
に形成された電極部材を請求項3記載の半導体装置に形
成された孔部の内部に挿入することにより、各半導体装
置の位置決めを行うことができ、積層処理を容易に行う
ことができる。
【0037】
【実施例】次に本発明の実施例について図面と共に説明
する。
する。
【0038】図1は本発明の第1実施例である半導体装
置10を示す断面図である。本実施例に係る半導体装置
10は、上記した請求項1及び2に該当するものであ
る。
置10を示す断面図である。本実施例に係る半導体装置
10は、上記した請求項1及び2に該当するものであ
る。
【0039】同図に示されるように、半導体装置10は
電極パターンが両面或いは多層形成されたプリント基板
11を有しており、このプリント基板11の上面である
搭載面11aには半導体素子12がダイボンディング等
により固定されている。また、プリント基板11の搭載
面11aと反対側の下面である実装面11bには、複数
の半田ボール13が配設されている。この半田ボール1
3は外部接続端子として機能する。
電極パターンが両面或いは多層形成されたプリント基板
11を有しており、このプリント基板11の上面である
搭載面11aには半導体素子12がダイボンディング等
により固定されている。また、プリント基板11の搭載
面11aと反対側の下面である実装面11bには、複数
の半田ボール13が配設されている。この半田ボール1
3は外部接続端子として機能する。
【0040】また、プリント基板11の搭載面11aに
形成された所定の電極パターン(図示せず)と半導体素
子12との間にはワイヤ14が配設され、このワイヤ1
4によりプリント基板11と半導体素子12との導通が
図られている。尚、上記電極パターンと半導体素子12
との電気的接続は、ワイヤ14を用いた方法に限定され
るものではなく、フリップチップ法或いはTAB(Tape
Automated Bonding)法等を用いてもよい。
形成された所定の電極パターン(図示せず)と半導体素
子12との間にはワイヤ14が配設され、このワイヤ1
4によりプリント基板11と半導体素子12との導通が
図られている。尚、上記電極パターンと半導体素子12
との電気的接続は、ワイヤ14を用いた方法に限定され
るものではなく、フリップチップ法或いはTAB(Tape
Automated Bonding)法等を用いてもよい。
【0041】更に、プリント基板11には複数のスルー
ホール15が形成されており、このスルーホール15を
介して半導体素子12と電気的に接続された搭載面11
aに形成された電極パターンは、プリント基板11の実
装面11bに引き出される。また、実装面11bにも電
極パターン(図示せず)が形成されており、半田ボール
13はこの電極パターンに配設されている。上記のスル
ーホール15は、実装面11bにおいて半田ボール13
と接続された電極パターンに接続されている。よって、
半導体素子12は搭載面11aに形成された電極パター
ン,スルーホール15,実装面11bに形成された電極
パターンを介して半田ボール13に電気的に接続された
構成となっている。
ホール15が形成されており、このスルーホール15を
介して半導体素子12と電気的に接続された搭載面11
aに形成された電極パターンは、プリント基板11の実
装面11bに引き出される。また、実装面11bにも電
極パターン(図示せず)が形成されており、半田ボール
13はこの電極パターンに配設されている。上記のスル
ーホール15は、実装面11bにおいて半田ボール13
と接続された電極パターンに接続されている。よって、
半導体素子12は搭載面11aに形成された電極パター
ン,スルーホール15,実装面11bに形成された電極
パターンを介して半田ボール13に電気的に接続された
構成となっている。
【0042】一方、プリント基板11の搭載面11aの
上部には、半導体素子12を外界に対して封止する封止
樹脂16が形成されている。この封止樹脂16は、半導
体素子12を保護するために形成されるものであり、封
止樹脂16が形成されることにより半導体素子12は封
止樹脂16内に埋設された構成となる。
上部には、半導体素子12を外界に対して封止する封止
樹脂16が形成されている。この封止樹脂16は、半導
体素子12を保護するために形成されるものであり、封
止樹脂16が形成されることにより半導体素子12は封
止樹脂16内に埋設された構成となる。
【0043】また、プリント基板11の載置面11aに
は、本実施例の要部となる電極部材17が立設されてい
る。この電極部材17は導電性を有する金属ピンにより
構成されており、その下端部はプリント基板11の搭載
面11aに形成されたスルーホール15内に嵌入されて
いる。これにより、電極部材17はスルーホール15と
電気的に接続されると共にプリント基板11に固定され
る。また、電極部材17は図示されるように封止樹脂1
6を上下に貫通するよう配設されており、その上端部は
封止樹脂16の上部に突出した構成とされている。
は、本実施例の要部となる電極部材17が立設されてい
る。この電極部材17は導電性を有する金属ピンにより
構成されており、その下端部はプリント基板11の搭載
面11aに形成されたスルーホール15内に嵌入されて
いる。これにより、電極部材17はスルーホール15と
電気的に接続されると共にプリント基板11に固定され
る。また、電極部材17は図示されるように封止樹脂1
6を上下に貫通するよう配設されており、その上端部は
封止樹脂16の上部に突出した構成とされている。
【0044】前記したように、スルーホール15はプリ
ント基板11の載置面11aに形成された電極パターン
を介して半導体素子12に接続されており、また実装面
11bに形成された電極パターンを介して半田ボール1
3とも接続さている。よって、スルーホール15に電極
部材17を電気的に接続することにより、電極部材17
は半導体素子12及び半田ボール13に共に電気的に接
続された構成となる。
ント基板11の載置面11aに形成された電極パターン
を介して半導体素子12に接続されており、また実装面
11bに形成された電極パターンを介して半田ボール1
3とも接続さている。よって、スルーホール15に電極
部材17を電気的に接続することにより、電極部材17
は半導体素子12及び半田ボール13に共に電気的に接
続された構成となる。
【0045】また、電極部材17の上端部は封止樹脂1
6の上部に突出した構成とされているため、封止樹脂1
6の外部より電極部材17と電気的接続を行うことが可
能となる。即ち、本実施例に係る半導体装置10によれ
ば、プリント基板11の載置面11aが封止樹脂16に
より覆われていても、封止樹脂16より突出した電極部
材17を介して半導体素子12及び半田ボール13と電
気的接続を図ることができる。
6の上部に突出した構成とされているため、封止樹脂1
6の外部より電極部材17と電気的接続を行うことが可
能となる。即ち、本実施例に係る半導体装置10によれ
ば、プリント基板11の載置面11aが封止樹脂16に
より覆われていても、封止樹脂16より突出した電極部
材17を介して半導体素子12及び半田ボール13と電
気的接続を図ることができる。
【0046】よって、半導体装置10を回路基板18
(図1に一点鎖線で示す)等に実装した後において、封
止樹脂16の上部に突出した電極部材17を用いて半導
体素子12が適正に稼働するかどうか、また各半田ボー
ル13が回路基板18に適正に半田接続されているかど
うか(適正に実装されているかどうか)等の試験を実施
することが可能となる。従って、半導体装置10を回路
基板18等に実装する際の歩留りを向上させることがで
き、これに伴い半導体装置10が搭載される電子機器の
信頼性を向上させることができる。
(図1に一点鎖線で示す)等に実装した後において、封
止樹脂16の上部に突出した電極部材17を用いて半導
体素子12が適正に稼働するかどうか、また各半田ボー
ル13が回路基板18に適正に半田接続されているかど
うか(適正に実装されているかどうか)等の試験を実施
することが可能となる。従って、半導体装置10を回路
基板18等に実装する際の歩留りを向上させることがで
き、これに伴い半導体装置10が搭載される電子機器の
信頼性を向上させることができる。
【0047】また、電極部材17は金属製のピン状部材
であり、安価にかつ容易に形成することができ、またプ
リント基板11上における電極部材17の固定は、従来
からプリント基板11に形成されているスルーホル15
を利用している。このため、電極部材17を設けるに際
し、プリント基板11に他の構成物を形成する必要はな
くなり、これによっても半導体装置10を安価にかつ容
易に形成することができる。更に、電極部材17を外部
接続端子として用いることにより、後述するように半導
体装置10を積層することも可能となる。
であり、安価にかつ容易に形成することができ、またプ
リント基板11上における電極部材17の固定は、従来
からプリント基板11に形成されているスルーホル15
を利用している。このため、電極部材17を設けるに際
し、プリント基板11に他の構成物を形成する必要はな
くなり、これによっても半導体装置10を安価にかつ容
易に形成することができる。更に、電極部材17を外部
接続端子として用いることにより、後述するように半導
体装置10を積層することも可能となる。
【0048】図2は本発明の第2実施例である半導体装
置20を示す断面図である。
置20を示す断面図である。
【0049】第2実施例に係る半導体装置20は上記し
た請求項3に該当するものである。尚、図2において、
図1に示した構成と同一の構成については同一符号を付
してその説明を省略する。また、以下説明する各実施例
においても同様とする。
た請求項3に該当するものである。尚、図2において、
図1に示した構成と同一の構成については同一符号を付
してその説明を省略する。また、以下説明する各実施例
においても同様とする。
【0050】同図に示す半導体装置20は、電極部材2
2の上端部が封止樹脂16に形成された孔部23内部に
位置するよう構成したことを特徴とするものである。即
ち、本実施例に係る半導体装置20では、導電性金属ピ
ンにより構成される電極部材22の上端部は封止樹脂1
6から突出しておらず、封止樹脂16に形成された孔部
23の内部に位置した構成となっている。
2の上端部が封止樹脂16に形成された孔部23内部に
位置するよう構成したことを特徴とするものである。即
ち、本実施例に係る半導体装置20では、導電性金属ピ
ンにより構成される電極部材22の上端部は封止樹脂1
6から突出しておらず、封止樹脂16に形成された孔部
23の内部に位置した構成となっている。
【0051】上記のように、電極部材22の上端部が孔
部23内部に位置するよう形成するには、先ず第1実施
例と同様に電極部材22が封止樹脂16から突出するよ
う封止樹脂16をモールドし、その後に電極部材22に
対してエッチング処理を行い、電極部材22を所定量
(孔部23の深さに相当する)だけ除去することにより
形成される。
部23内部に位置するよう形成するには、先ず第1実施
例と同様に電極部材22が封止樹脂16から突出するよ
う封止樹脂16をモールドし、その後に電極部材22に
対してエッチング処理を行い、電極部材22を所定量
(孔部23の深さに相当する)だけ除去することにより
形成される。
【0052】また、予め電極部材22にハーフエッチン
グ処理を行っておき、封止樹脂16をモールドした後
に、このハーフエッチング処理を行った部位において切
断することによっても形成することができる。この切断
処理は、電極部材22の切断位置にはハーフエッチング
処理により傷が形成されているため、若干量折り曲げた
り、また強く引き抜くことにより容易に切断される。そ
して、電極部材22の切断された部分(不要部分)を取
り去ることにより孔部23が形成される。
グ処理を行っておき、封止樹脂16をモールドした後
に、このハーフエッチング処理を行った部位において切
断することによっても形成することができる。この切断
処理は、電極部材22の切断位置にはハーフエッチング
処理により傷が形成されているため、若干量折り曲げた
り、また強く引き抜くことにより容易に切断される。そ
して、電極部材22の切断された部分(不要部分)を取
り去ることにより孔部23が形成される。
【0053】上記構成とされた半導体装置20において
電極部材22と電気的接続を図るには、図に示されるよ
うな孔部23に挿入しうる電極ピン24を用い、この電
極ピン24を孔部23に挿入しすることにより電極部材
22と接続させ電気的接続を行う。
電極部材22と電気的接続を図るには、図に示されるよ
うな孔部23に挿入しうる電極ピン24を用い、この電
極ピン24を孔部23に挿入しすることにより電極部材
22と接続させ電気的接続を行う。
【0054】上記構成とされた半導体装置20によれ
ば、電極部材22の上端部が封止樹脂16に形成された
孔部23の内部に位置し外部に突出していないため、半
導体装置20に外力が印加されたとしても、電極部材2
2に変形が発生することはなく、第1実施例に係る半導
体装置10に比べて信頼性を向上させることができる。
また、後述するように半導体装置20を積層して半導体
装置ユニットを形成するときに、孔部23を位置決め孔
として用いることができる。
ば、電極部材22の上端部が封止樹脂16に形成された
孔部23の内部に位置し外部に突出していないため、半
導体装置20に外力が印加されたとしても、電極部材2
2に変形が発生することはなく、第1実施例に係る半導
体装置10に比べて信頼性を向上させることができる。
また、後述するように半導体装置20を積層して半導体
装置ユニットを形成するときに、孔部23を位置決め孔
として用いることができる。
【0055】図3は本発明の第3実施例である半導体装
置30を示す断面図である。第3実施例に係る半導体装
置30は上記した請求項4及び請求項5に該当するもの
である。
置30を示す断面図である。第3実施例に係る半導体装
置30は上記した請求項4及び請求項5に該当するもの
である。
【0056】本実施例に係る半導体装置30は、封止樹
脂16の内部に第2の基板となる中間基板31を設け、
この中間基板31を電極部材17に支持させると共に電
極部材17に電気的に接続したことを特徴とするもので
ある。電極部材17は封止樹脂16を貫通すると共に中
間基板31を貫通して封止樹脂16の外部に突出した構
成となっている。
脂16の内部に第2の基板となる中間基板31を設け、
この中間基板31を電極部材17に支持させると共に電
極部材17に電気的に接続したことを特徴とするもので
ある。電極部材17は封止樹脂16を貫通すると共に中
間基板31を貫通して封止樹脂16の外部に突出した構
成となっている。
【0057】図4は中間基板31の上面部を拡大して示
す図であり、また図5は中間基板31を拡大して示す断
面図である。図5に示すように、中間基板31は積層基
板であり、上部より第1の電極パターン層31a,第1
のベース板31b,接着剤層31c,第2のベース板3
1d,第2の電極パターン層31eが順次積層された構
成となっている。
す図であり、また図5は中間基板31を拡大して示す断
面図である。図5に示すように、中間基板31は積層基
板であり、上部より第1の電極パターン層31a,第1
のベース板31b,接着剤層31c,第2のベース板3
1d,第2の電極パターン層31eが順次積層された構
成となっている。
【0058】この中間基板31を構成する各層におい
て、第1の電極パターン層31aはグランドプレーンと
して機能し(以下、グランドプレーン31aという)、
第2の電極パターン層31eは電源プレーンとして機能
する(以下、電源プレーン31eという)。また、第1
のベース板31b及び第2のベース板31dは例えばガ
ラスエポキシ基板であり、絶縁性を有すると共に中間基
板31が所定の機械的強度を維持できるよう構成されて
いる。
て、第1の電極パターン層31aはグランドプレーンと
して機能し(以下、グランドプレーン31aという)、
第2の電極パターン層31eは電源プレーンとして機能
する(以下、電源プレーン31eという)。また、第1
のベース板31b及び第2のベース板31dは例えばガ
ラスエポキシ基板であり、絶縁性を有すると共に中間基
板31が所定の機械的強度を維持できるよう構成されて
いる。
【0059】グランドプレーン31aは第1のベース板
31bにプリント形成され、電源プレーン31eは第2
のベース板31dにプリント形成されている。更に、接
着剤層31cは第1のベース板31bと第2のベース板
31dとを接着し、これにより積層基板たる中間基板3
1が形成されている。
31bにプリント形成され、電源プレーン31eは第2
のベース板31dにプリント形成されている。更に、接
着剤層31cは第1のベース板31bと第2のベース板
31dとを接着し、これにより積層基板たる中間基板3
1が形成されている。
【0060】また、上記構成とされた中間基板31に
は、電極部材17の配設位置に対応するよう複数の貫通
孔32が形成されている。電極部材17は、この貫通孔
32を貫通することにより中間基板31の上部に延出
し、上記したように封止樹脂16の表面より外部に突出
する。
は、電極部材17の配設位置に対応するよう複数の貫通
孔32が形成されている。電極部材17は、この貫通孔
32を貫通することにより中間基板31の上部に延出
し、上記したように封止樹脂16の表面より外部に突出
する。
【0061】ところで、半導体素子12に形成されワイ
ヤ14を介して半田ボール13及び電極部材17と電気
的に接続される電極パッドは、大略して半導体素子12
に対して電源供給を行う電源パッドと、接地を行うグラ
ンドパッドと、信号の授受が行われる信号パッドとに分
類される。いま、電源パッドと接続された電極部材17
を電源ピン17aとし、グランドパッドと接続された電
極部材17をグランドピン17bとし、信号パッドに接
続された電極部材17を信号ピン17cとし、各ピン1
7a〜17cが図5に示されるように配設されているも
のとする。
ヤ14を介して半田ボール13及び電極部材17と電気
的に接続される電極パッドは、大略して半導体素子12
に対して電源供給を行う電源パッドと、接地を行うグラ
ンドパッドと、信号の授受が行われる信号パッドとに分
類される。いま、電源パッドと接続された電極部材17
を電源ピン17aとし、グランドパッドと接続された電
極部材17をグランドピン17bとし、信号パッドに接
続された電極部材17を信号ピン17cとし、各ピン1
7a〜17cが図5に示されるように配設されているも
のとする。
【0062】そこで、各ピン17a〜17cと中間基板
31との電気的接続構造に注目すると、電源ピン17a
は貫通孔32に形成されたスルーホール33a(接続部
を構成する)を介して電源プレーン31eと電気的に接
続されている。また、グランドピン17bは貫通孔32
に形成されたスルーホール33bを介してグランドプレ
ーン31aと電気的に接続されている。更に、信号ピン
17cはグランドプレーン31a及び電源プレーン31
eと電気的に接続されることなく、単に中間基板31を
貫通した構造となっている。
31との電気的接続構造に注目すると、電源ピン17a
は貫通孔32に形成されたスルーホール33a(接続部
を構成する)を介して電源プレーン31eと電気的に接
続されている。また、グランドピン17bは貫通孔32
に形成されたスルーホール33bを介してグランドプレ
ーン31aと電気的に接続されている。更に、信号ピン
17cはグランドプレーン31a及び電源プレーン31
eと電気的に接続されることなく、単に中間基板31を
貫通した構造となっている。
【0063】半導体装置30を上記構成とすることによ
り、半導体素子12が配設されたプリント基板11に加
えて中間基板31を用いて電極パターンの引き回しを行
うことが可能となり、電極パターンの引き回しの自由度
を向上させることができる。また、中間基板31は半導
体素子12が配設されたプリント基板11に比べて配線
スペースを広くとることが可能であるため、配設される
電極パターンのインダクタンス特性を良好なものとする
ことができる。よって、本実施例のように中間基板31
に特に低いインダクタンス特性を要求されるグランドプ
レーン31a,電源プレーン31eを配設することによ
り半導体装置30の電気的特性を向上させることができ
る。
り、半導体素子12が配設されたプリント基板11に加
えて中間基板31を用いて電極パターンの引き回しを行
うことが可能となり、電極パターンの引き回しの自由度
を向上させることができる。また、中間基板31は半導
体素子12が配設されたプリント基板11に比べて配線
スペースを広くとることが可能であるため、配設される
電極パターンのインダクタンス特性を良好なものとする
ことができる。よって、本実施例のように中間基板31
に特に低いインダクタンス特性を要求されるグランドプ
レーン31a,電源プレーン31eを配設することによ
り半導体装置30の電気的特性を向上させることができ
る。
【0064】また上記のように、、半導体装置30は中
間基板31に形成された貫通孔32に電極部材17が貫
通され、接続部材となるスルーホール33a,33bに
より電極部材と第2の基板とを相互に支持された構成と
なっている。従って、電極部材17はその上部が中間基
板31により位置決めがされるため、封止樹脂16のモ
ールド時に電極部材17が封止樹脂により流れてしまう
ことを防止できる。
間基板31に形成された貫通孔32に電極部材17が貫
通され、接続部材となるスルーホール33a,33bに
より電極部材と第2の基板とを相互に支持された構成と
なっている。従って、電極部材17はその上部が中間基
板31により位置決めがされるため、封止樹脂16のモ
ールド時に電極部材17が封止樹脂により流れてしまう
ことを防止できる。
【0065】即ち、第1及び第2実施例で述べた中間基
板31を設けない構成の半導体装置10,20では、封
止樹脂16のモールド前の状態において電極部材17は
下端部がプリント基板11に形成されたスルーホール1
5に嵌入して固定されたのみの片持ち梁状の状態となっ
ているため、その上端部近傍は変位し易い状態となって
いる。このため、封止樹脂16をモールドすると、装填
される封止樹脂16に押圧されて電極部材17が曲がっ
たり所定の位置から変位するおそれがある。
板31を設けない構成の半導体装置10,20では、封
止樹脂16のモールド前の状態において電極部材17は
下端部がプリント基板11に形成されたスルーホール1
5に嵌入して固定されたのみの片持ち梁状の状態となっ
ているため、その上端部近傍は変位し易い状態となって
いる。このため、封止樹脂16をモールドすると、装填
される封止樹脂16に押圧されて電極部材17が曲がっ
たり所定の位置から変位するおそれがある。
【0066】これに対して本実施例の半導体装置30
は、電極部材17の上部近傍に中間基板31が配設され
て電極部材17を支持するため、電極部材17は下端部
及び上端部の双方が支持された構成となり、封止樹脂1
6がモールドされても上記の曲がりや変位が発生するこ
とはなく電極部材17の位置決めを確実に行うことがで
きる。また、中間基板31も封止樹脂16のモールド前
において電極部材17により支持されるため、モールド
時に中間基板31を支持する治具等は必要なく封止樹脂
16のモールドを容易に行うことができる。
は、電極部材17の上部近傍に中間基板31が配設され
て電極部材17を支持するため、電極部材17は下端部
及び上端部の双方が支持された構成となり、封止樹脂1
6がモールドされても上記の曲がりや変位が発生するこ
とはなく電極部材17の位置決めを確実に行うことがで
きる。また、中間基板31も封止樹脂16のモールド前
において電極部材17により支持されるため、モールド
時に中間基板31を支持する治具等は必要なく封止樹脂
16のモールドを容易に行うことができる。
【0067】図6は本発明の第4実施例である半導体装
置40を示す断面図である。第4実施例に係る半導体装
置40は上記した請求項6及び請求項7に該当するもの
である。
置40を示す断面図である。第4実施例に係る半導体装
置40は上記した請求項6及び請求項7に該当するもの
である。
【0068】図6に示されるように、本実施例に係る半
導体装置40は、封止樹脂16の上部に半導体素子12
で発生する熱を放熱する放熱部材41を配設し、この放
熱部材41が電極部材17の上端部と係合した構成とさ
れている。
導体装置40は、封止樹脂16の上部に半導体素子12
で発生する熱を放熱する放熱部材41を配設し、この放
熱部材41が電極部材17の上端部と係合した構成とさ
れている。
【0069】放熱部材41は平板形状を有しており、例
えば銅或いはアルミ等の熱伝導性の良好な金属により構
成されている。この放熱部材41は、複数配設された電
極部材17の上部と係合することにより、放熱部材41
及び封止樹脂16に支持された構成とされている。
えば銅或いはアルミ等の熱伝導性の良好な金属により構
成されている。この放熱部材41は、複数配設された電
極部材17の上部と係合することにより、放熱部材41
及び封止樹脂16に支持された構成とされている。
【0070】また、放熱部材41の電極部材17が係合
する部位には、電極部材17が挿入される孔部が形成さ
れており、この孔部に絶縁性接着剤を塗布した上で電極
部材17が挿入され、この絶縁性接着剤が固化すること
により放熱部材41は電極部材17に固定される。
する部位には、電極部材17が挿入される孔部が形成さ
れており、この孔部に絶縁性接着剤を塗布した上で電極
部材17が挿入され、この絶縁性接着剤が固化すること
により放熱部材41は電極部材17に固定される。
【0071】尚、放熱部材41を取り付ける前の状態の
半導体装置40は、第1実施例で示した半導体装置10
と同一構成であり、電極部材17の上端部は封止樹脂1
6の上部より突出している。また、放熱部材41の材質
として非導電性材料を用いることにより、絶縁性接着剤
を不要とすることもできる。
半導体装置40は、第1実施例で示した半導体装置10
と同一構成であり、電極部材17の上端部は封止樹脂1
6の上部より突出している。また、放熱部材41の材質
として非導電性材料を用いることにより、絶縁性接着剤
を不要とすることもできる。
【0072】上記の固定状態において、放熱部材41と
電極部材17との間には絶縁性接着剤が存在するため、
放熱部材41と電極部材17とが電気的に接続されてし
まうようなことはない。尚、放熱部材41の取り付け
は、電極部材17を用いて半導体素子12等に対する試
験が実施された後に行われる。このため、放熱部材41
を設ける構成としたことにより、上記した各試験が実施
できなくなるようなことはない。
電極部材17との間には絶縁性接着剤が存在するため、
放熱部材41と電極部材17とが電気的に接続されてし
まうようなことはない。尚、放熱部材41の取り付け
は、電極部材17を用いて半導体素子12等に対する試
験が実施された後に行われる。このため、放熱部材41
を設ける構成としたことにより、上記した各試験が実施
できなくなるようなことはない。
【0073】半導体装置40を上記構成とすることによ
り、半導体素子12で発生した熱は封止樹脂16ばかり
ではなく電極部材17を介して放熱部材41へ熱伝導し
てゆく。また放熱部材41は、平板状の大気との接触面
積が広い構成とされているため伝導された半導体素子1
2の熱を効率良く放熱することができ、よって半導体素
子12の冷却を確実に行うことができる。また、電極部
材17は金属により形成されているため、単に封止樹脂
16のみによる放熱作用に比べて放熱効率を向上させる
ことができる。
り、半導体素子12で発生した熱は封止樹脂16ばかり
ではなく電極部材17を介して放熱部材41へ熱伝導し
てゆく。また放熱部材41は、平板状の大気との接触面
積が広い構成とされているため伝導された半導体素子1
2の熱を効率良く放熱することができ、よって半導体素
子12の冷却を確実に行うことができる。また、電極部
材17は金属により形成されているため、単に封止樹脂
16のみによる放熱作用に比べて放熱効率を向上させる
ことができる。
【0074】図7は、図6に示した半導体装置40の変
形例である半導体装置50を示している。
形例である半導体装置50を示している。
【0075】半導体装置50は、放熱部材51の半導体
素子12と対向する部分を下方に突出させて突出部51
aを形成し放熱部材51と半導体素子12とを近接させ
ると共に、放熱部材51の上面に電極パターンとしてグ
ランドプレーン52を、また放熱部材51の下面に電極
パターンとして電源プレーン53を形成したことを特徴
とするものである。
素子12と対向する部分を下方に突出させて突出部51
aを形成し放熱部材51と半導体素子12とを近接させ
ると共に、放熱部材51の上面に電極パターンとしてグ
ランドプレーン52を、また放熱部材51の下面に電極
パターンとして電源プレーン53を形成したことを特徴
とするものである。
【0076】上記のように、放熱部材51に突出部51
aを形成し、突出部51aと半導体素子12とを近接さ
せることにより、半導体素子12で発生した熱を効率良
く放熱部材51に熱伝導させることが可能となり、半導
体素子12の冷却をより効率良く行うことが可能とな
る。
aを形成し、突出部51aと半導体素子12とを近接さ
せることにより、半導体素子12で発生した熱を効率良
く放熱部材51に熱伝導させることが可能となり、半導
体素子12の冷却をより効率良く行うことが可能とな
る。
【0077】また、放熱部材51の上面に電極パターン
としてグランドプレーン52を形成すると共に放熱部材
51の下面に電極パターンとして電源プレーン53を形
成し、この各プレーン52,53を電極部材17と電気
的に接続する構成とすることにより、放熱部材51に前
記した第3実施例で説明した中間基板31と同様の機能
を持たせることができる。
としてグランドプレーン52を形成すると共に放熱部材
51の下面に電極パターンとして電源プレーン53を形
成し、この各プレーン52,53を電極部材17と電気
的に接続する構成とすることにより、放熱部材51に前
記した第3実施例で説明した中間基板31と同様の機能
を持たせることができる。
【0078】図8は放熱部材51をその背面側から見た
図である。放熱部材51の突出部51aを除く位置には
電極部材17を貫通させるための複数の貫通孔54が形
成されている。また、グランドプレーン52は放熱部材
51の上面全面にわたり形成されており、電源プレーン
53は放熱部材51の背面において突出部51aの形成
位置を除く部分に形成されている。
図である。放熱部材51の突出部51aを除く位置には
電極部材17を貫通させるための複数の貫通孔54が形
成されている。また、グランドプレーン52は放熱部材
51の上面全面にわたり形成されており、電源プレーン
53は放熱部材51の背面において突出部51aの形成
位置を除く部分に形成されている。
【0079】このように放熱部材51に形成されたグラ
ンドプレーン52と電極部材17との電気的接続、及び
電源プレーン53と電極部材17との電気的接続は、例
えば第3実施例で説明した中間基板31と同様に、貫通
孔54にスルーホール(図示せず)を設け、このスルー
ホールを用いて電気的接続を行う構成とすればよい。
ンドプレーン52と電極部材17との電気的接続、及び
電源プレーン53と電極部材17との電気的接続は、例
えば第3実施例で説明した中間基板31と同様に、貫通
孔54にスルーホール(図示せず)を設け、このスルー
ホールを用いて電気的接続を行う構成とすればよい。
【0080】上記のように、放熱部材51に中間基板3
1としての機能をも付加することにより、放熱特性及び
電気的特性の双方を向上させることができる。また、封
止樹脂16のモールド時における電極部材17の変形及
び位置ずれの防止を図ることもできる。
1としての機能をも付加することにより、放熱特性及び
電気的特性の双方を向上させることができる。また、封
止樹脂16のモールド時における電極部材17の変形及
び位置ずれの防止を図ることもできる。
【0081】図9は本発明の第5実施例である半導体装
置60を示す断面図である。
置60を示す断面図である。
【0082】第5実施例に係る半導体装置60は、前記
した第3実施例に係る半導体装置30I設けられた中間
基板31(図3参照)と、第4実施例に係る半導体装置
40に設けられた放熱部材41を共に一つの半導体装置
60に配設したことを特徴とするものである。
した第3実施例に係る半導体装置30I設けられた中間
基板31(図3参照)と、第4実施例に係る半導体装置
40に設けられた放熱部材41を共に一つの半導体装置
60に配設したことを特徴とするものである。
【0083】上記構成とされた半導体装置60では、図
7及び図8に示した半導体装置50と同様に、放熱特性
及び電気的特性の双方を向上させることができる。ま
た、中間基板31と放熱部材41が夫々独立した構成と
されているため、特に中間基板31における電極プレー
ンの配設位置を、突出部51a(図8参照)の形成位置
に拘わらず選定することが可能となる。また、図7及び
図8に示した半導体装置50に比べて電極プレーンの面
積を広くすることができるため、インダクタンス特性を
向上させることができる。
7及び図8に示した半導体装置50と同様に、放熱特性
及び電気的特性の双方を向上させることができる。ま
た、中間基板31と放熱部材41が夫々独立した構成と
されているため、特に中間基板31における電極プレー
ンの配設位置を、突出部51a(図8参照)の形成位置
に拘わらず選定することが可能となる。また、図7及び
図8に示した半導体装置50に比べて電極プレーンの面
積を広くすることができるため、インダクタンス特性を
向上させることができる。
【0084】続いて、図10乃至図15を用いて、半導
体装置ユニットの実施例について説明する。
体装置ユニットの実施例について説明する。
【0085】図10及び図11は、本発明の第6実施例
となる半導体装置ユニット70,80を示している。第
6実施例に係る半導体装置ユニット70,80は上記し
た請求項8及び請求項9に該当するものである。
となる半導体装置ユニット70,80を示している。第
6実施例に係る半導体装置ユニット70,80は上記し
た請求項8及び請求項9に該当するものである。
【0086】図10及び図11に示される半導体装置ユ
ニット70,80は、共に第1実施例で説明した半導体
装置10を複数個(本実施例では2個)積層したことを
特徴とするものである。
ニット70,80は、共に第1実施例で説明した半導体
装置10を複数個(本実施例では2個)積層したことを
特徴とするものである。
【0087】この内、図10に示される半導体装置ユニ
ット70は、下部に配設された半導体装置10Aに設け
られている電極部材17の封止樹脂16より突出した部
位と、上部に配設されたた半導体装置10Bに設けられ
ている半田ボール13とを接続することにより、下部に
配設される半導体装置10Aと上部に配設される半導体
装置10Bとの電気的接続を行う構成とされている。
ット70は、下部に配設された半導体装置10Aに設け
られている電極部材17の封止樹脂16より突出した部
位と、上部に配設されたた半導体装置10Bに設けられ
ている半田ボール13とを接続することにより、下部に
配設される半導体装置10Aと上部に配設される半導体
装置10Bとの電気的接続を行う構成とされている。
【0088】一方、図11に示される半導体装置ユニッ
ト80は、下部に配設された半導体装置10Aに設けら
れている半田ボール13と、上部に配設されたた半導体
装置10Bに設けられている半田ボール13とを対向さ
せ、各半田ボール13を接続することにより下部に配設
される半導体装置10Aと上部に配設される半導体装置
10Bとの電気的接続を行う構成とされている。
ト80は、下部に配設された半導体装置10Aに設けら
れている半田ボール13と、上部に配設されたた半導体
装置10Bに設けられている半田ボール13とを対向さ
せ、各半田ボール13を接続することにより下部に配設
される半導体装置10Aと上部に配設される半導体装置
10Bとの電気的接続を行う構成とされている。
【0089】第1実施例で説明した半導体装置10は、
電極部材17の上端部が封止樹脂16より突出した構成
となっているため、この電極部材17の突出部位を接続
端子として用いることができる。よって、半導体装置1
0の上面側においてはこの電極部材17の突出部位が接
続端子となり、背面側においては半田ボール13が接続
端子となるため、容易に複数の半導体装置10を積層す
ることが可能となる。
電極部材17の上端部が封止樹脂16より突出した構成
となっているため、この電極部材17の突出部位を接続
端子として用いることができる。よって、半導体装置1
0の上面側においてはこの電極部材17の突出部位が接
続端子となり、背面側においては半田ボール13が接続
端子となるため、容易に複数の半導体装置10を積層す
ることが可能となる。
【0090】このように、半導体装置10(10A,1
0B)を積層して半導体装置ユニット70,80を構成
することにより、実装基板における1個の半導体装置の
配設スペースに複数の半導体装置10を配設することが
可能となり、実装効率を向上させることができる。ま
た、半導体装置10(10A,10B)を積層するに際
し、種々の積層構造を選定することが可能となり、積層
構造選定の自由度を向上させることができる。
0B)を積層して半導体装置ユニット70,80を構成
することにより、実装基板における1個の半導体装置の
配設スペースに複数の半導体装置10を配設することが
可能となり、実装効率を向上させることができる。ま
た、半導体装置10(10A,10B)を積層するに際
し、種々の積層構造を選定することが可能となり、積層
構造選定の自由度を向上させることができる。
【0091】尚、図示しなかったが、上記した半導体装
置10A,10Bを積層する際、各半導体装置10A,
10Bに設けられている電極部材17の封止樹脂16よ
り突出した部位同士を接合することにより、下部に配設
される半導体装置10Aと上部に配設される半導体装置
10Bとの電気的接続を図る構成としてもよい。
置10A,10Bを積層する際、各半導体装置10A,
10Bに設けられている電極部材17の封止樹脂16よ
り突出した部位同士を接合することにより、下部に配設
される半導体装置10Aと上部に配設される半導体装置
10Bとの電気的接続を図る構成としてもよい。
【0092】図12及び図13は、本発明の第7実施例
となる半導体装置ユニット90,100を示している。
第7実施例に係る半導体装置ユニット90,100は上
記した請求項10及び請求項11に該当するものであ
る。
となる半導体装置ユニット90,100を示している。
第7実施例に係る半導体装置ユニット90,100は上
記した請求項10及び請求項11に該当するものであ
る。
【0093】第7実施例に係る半導体装置ユニット9
0,100は、共に第1実施例で説明した半導体装置1
0と、第2実施例で説明した半導体装置20とを積層し
た構成とされている。
0,100は、共に第1実施例で説明した半導体装置1
0と、第2実施例で説明した半導体装置20とを積層し
た構成とされている。
【0094】具体的には、図12に示す半導体装置ユニ
ット90は、半導体装置10に形成された電極部材17
の封止樹脂16より突出した部位を、半導体装置20に
形成された孔部23の内部に挿入した構成とされてい
る。半導体装置10に形成された電極部材17は、半導
体装置20に形成された孔部23内に挿入されることに
より半導体装置20に設けられた電極部22と電気的に
接続される構成とされている。よって、電極部材17と
電極部22とが電気的に接続されることにより、半導体
装置10と半導体装置20とは電気的に接続される。
ット90は、半導体装置10に形成された電極部材17
の封止樹脂16より突出した部位を、半導体装置20に
形成された孔部23の内部に挿入した構成とされてい
る。半導体装置10に形成された電極部材17は、半導
体装置20に形成された孔部23内に挿入されることに
より半導体装置20に設けられた電極部22と電気的に
接続される構成とされている。よって、電極部材17と
電極部22とが電気的に接続されることにより、半導体
装置10と半導体装置20とは電気的に接続される。
【0095】上記のように、半導体装置ユニット90は
半導体装置10に形成された電極部材17を半導体装置
20に形成された孔部23の内部に挿入することによ
り、各半導体装置10,20の位置決めを行うことがで
きるため、積層処理を容易に行うことができる。
半導体装置10に形成された電極部材17を半導体装置
20に形成された孔部23の内部に挿入することによ
り、各半導体装置10,20の位置決めを行うことがで
きるため、積層処理を容易に行うことができる。
【0096】また、図13に示す半導体装置ユニット1
00は、図12に示す半導体装置ユニット90の上部に
更に第1実施例に係る半導体装置10を積層したもので
ある。同図における最上部に位置する半導体装置10B
と中央部に位置する半導体装置10Aとの電気的接続
は、図11を用いて説明した半導体装置ユニット80と
同様に、半田ボール13同士を接続することにより行っ
ている。本実施例に係る半導体装置ユニット100のよ
うに、半導体装置10,20は任意の個数積層する事が
可能である。
00は、図12に示す半導体装置ユニット90の上部に
更に第1実施例に係る半導体装置10を積層したもので
ある。同図における最上部に位置する半導体装置10B
と中央部に位置する半導体装置10Aとの電気的接続
は、図11を用いて説明した半導体装置ユニット80と
同様に、半田ボール13同士を接続することにより行っ
ている。本実施例に係る半導体装置ユニット100のよ
うに、半導体装置10,20は任意の個数積層する事が
可能である。
【0097】図14及び図15は本発明の第8実施例で
ある半導体装置ユニット110,120を示している。
ある半導体装置ユニット110,120を示している。
【0098】前記した半導体装置ユニット70〜100
は、第1実施例に係る半導体装置10,第2実施例に係
る半導体装置20を複数個積層した構造としていた。し
かるに、積層する半導体装置は必ずしも上記の半導体装
置10,20に限定されるものではない。図14に示さ
れる半導体装置ユニット110は、第1実施例に係る半
導体装置10の上部にQFP(Quad Flat Package) タイ
プの半導体装置111を積層したものである。半導体装
置111は、半導体素子112,樹脂パッケージ11
3,ガルウイング状に形成されたリード114等により
構成された、表面実装型の半導体装置である。
は、第1実施例に係る半導体装置10,第2実施例に係
る半導体装置20を複数個積層した構造としていた。し
かるに、積層する半導体装置は必ずしも上記の半導体装
置10,20に限定されるものではない。図14に示さ
れる半導体装置ユニット110は、第1実施例に係る半
導体装置10の上部にQFP(Quad Flat Package) タイ
プの半導体装置111を積層したものである。半導体装
置111は、半導体素子112,樹脂パッケージ11
3,ガルウイング状に形成されたリード114等により
構成された、表面実装型の半導体装置である。
【0099】第1実施例に係る半導体装置10に設けら
れる電極部材17の配設位置を、半導体装置111に設
けられるリード114の形成位置に対応させることによ
り、種類の異なる半導体装置111を容易に半導体装置
10の上部に積層することができる。
れる電極部材17の配設位置を、半導体装置111に設
けられるリード114の形成位置に対応させることによ
り、種類の異なる半導体装置111を容易に半導体装置
10の上部に積層することができる。
【0100】また、図15に示される半導体装置ユニッ
ト120は、第1実施例に係る半導体装置10の上部に
多数の半導体装置121が配設された回路基板122を
積層した構成とされている。このように、半導体装置1
0の上部に積層されるのは、半導体装置に限定されるも
のではなく、回路基板122を積層することも可能であ
り、半導体装置ユニット120の実装効率を更に向上さ
せることができる。
ト120は、第1実施例に係る半導体装置10の上部に
多数の半導体装置121が配設された回路基板122を
積層した構成とされている。このように、半導体装置1
0の上部に積層されるのは、半導体装置に限定されるも
のではなく、回路基板122を積層することも可能であ
り、半導体装置ユニット120の実装効率を更に向上さ
せることができる。
【0101】尚、上記した各構成の半導体装置ユニット
70〜120において、第1実施例に係る半導体装置1
0,或いは第2実施例に係る半導体装置20を用いて積
層構造を実現した実施例を示したが、第3実施例に係る
半導体装置30を用いて積層構造を実現し、半導体装置
ユニットを構成しうることは勿論である。
70〜120において、第1実施例に係る半導体装置1
0,或いは第2実施例に係る半導体装置20を用いて積
層構造を実現した実施例を示したが、第3実施例に係る
半導体装置30を用いて積層構造を実現し、半導体装置
ユニットを構成しうることは勿論である。
【0102】
【発明の効果】上述の如く本発明は、下記の種々の効果
を奏するものである。
を奏するものである。
【0103】請求項1記載の発明によれば、電極部材を
介して封止樹脂の外部より半導体素子と電気的導通を図
ることが可能となるため、半導体装置を回路基板等に実
装した後においても電極部材を用いて半導体素子の試験
を行うことが可能となる。
介して封止樹脂の外部より半導体素子と電気的導通を図
ることが可能となるため、半導体装置を回路基板等に実
装した後においても電極部材を用いて半導体素子の試験
を行うことが可能となる。
【0104】また、請求項2記載の発明によれば、簡単
な構成で封止樹脂の外部より半導体素子と電気的な接続
を図ることができる。
な構成で封止樹脂の外部より半導体素子と電気的な接続
を図ることができる。
【0105】また、請求項3記載の発明によれば、外力
印加時における他端部の変形を防止することができ、ま
た半導体装置を積層して半導体装置ユニットを形成する
ときに、孔部を位置決め孔として用いることができる。
印加時における他端部の変形を防止することができ、ま
た半導体装置を積層して半導体装置ユニットを形成する
ときに、孔部を位置決め孔として用いることができる。
【0106】また、請求項4記載の発明によれば、半導
体素子が配設された基板に加えて第2の基板を用いて電
極パターンの引き回しを行うことが可能となるため、電
極パターンの引き回しの自由度を向上させることができ
る。また、第2の基板は半導体素子が配設された基板に
比べて配線スペースを広くとることが可能であるため、
配設される電極パターンのインダクタンス特性を良好な
ものとすることができる。
体素子が配設された基板に加えて第2の基板を用いて電
極パターンの引き回しを行うことが可能となるため、電
極パターンの引き回しの自由度を向上させることができ
る。また、第2の基板は半導体素子が配設された基板に
比べて配線スペースを広くとることが可能であるため、
配設される電極パターンのインダクタンス特性を良好な
ものとすることができる。
【0107】また、請求項5記載の発明によれば、電極
部材は第2の基板により位置決めがされるため、封止樹
脂のモールド時に電極部材が封止樹脂により流れてしま
うことを防止できる。また、第2の基板も封止樹脂のモ
ールド前において電極部材により支持されるため、モー
ルド時に第2の基板を支持する治具等は必要なく封止樹
脂のモールドを容易に行うことができる。
部材は第2の基板により位置決めがされるため、封止樹
脂のモールド時に電極部材が封止樹脂により流れてしま
うことを防止できる。また、第2の基板も封止樹脂のモ
ールド前において電極部材により支持されるため、モー
ルド時に第2の基板を支持する治具等は必要なく封止樹
脂のモールドを容易に行うことができる。
【0108】また、請求項6記載の発明によれば、半導
体素子から発生する熱の放熱特性を向上することができ
る。また、放熱部材は電極部材により支持されるため、
封止樹脂のモールド時に放熱部材を支持する治具等は必
要なく封止樹脂のモールドを容易に行うことができる。
体素子から発生する熱の放熱特性を向上することができ
る。また、放熱部材は電極部材により支持されるため、
封止樹脂のモールド時に放熱部材を支持する治具等は必
要なく封止樹脂のモールドを容易に行うことができる。
【0109】また、請求項7記載の発明によれば、放熱
特性及び電気的特性の双方を向上させることができる。
特性及び電気的特性の双方を向上させることができる。
【0110】また、請求項8記載及び請求項10の発明
によれば、実装効率を向上させることができる。
によれば、実装効率を向上させることができる。
【0111】また、請求項9記載の発明によれば、種々
の積層構造を選定することが可能となり、積層構造選定
の自由度を向上させることができる。
の積層構造を選定することが可能となり、積層構造選定
の自由度を向上させることができる。
【0112】更に、請求項11記載の発明によれば、請
求項1または2記載の半導体装置に形成された電極部材
を請求項3記載の半導体装置に形成された孔部の内部に
挿入することにより、各半導体装置の位置決めを行うこ
とができ、積層処理を容易に行うことができる。
求項1または2記載の半導体装置に形成された電極部材
を請求項3記載の半導体装置に形成された孔部の内部に
挿入することにより、各半導体装置の位置決めを行うこ
とができ、積層処理を容易に行うことができる。
【図1】本発明の第1実施例である半導体装置の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図2】本発明の第2実施例である半導体装置の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図3】本発明の第3実施例である半導体装置の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図4】中間基板を拡大して示す斜視図である。
【図5】中間基板を拡大して示す断面図である。
【図6】本発明の第4実施例である半導体装置の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図7】本発明の第4実施例の変形例である半導体装置
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図8】放熱部材を拡大して示す斜視図である。
【図9】本発明の第5実施例である半導体装置の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図10】本発明の第6実施例である半導体装置ユニッ
トの構成を示す断面図である。
トの構成を示す断面図である。
【図11】本発明の第6実施例の変形例である半導体装
置ユニットの構成を示す断面図である。
置ユニットの構成を示す断面図である。
【図12】本発明の第7実施例である半導体装置ユニッ
トの構成を示す断面図である。
トの構成を示す断面図である。
【図13】本発明の第7実施例の変形例である半導体装
置ユニットの構成を示す断面図である。
置ユニットの構成を示す断面図である。
【図14】本発明の第8実施例である半導体装置ユニッ
トの構成を示す断面図である。
トの構成を示す断面図である。
【図15】本発明の第8実施例の変形例である半導体装
置ユニットの構成を示す断面図である。
置ユニットの構成を示す断面図である。
【図16】従来の半導体装置の一例を示す断面図であ
る。
る。
10,10A,10B,20,30,40,50,60
半導体装置 11 プリント基板 11a 搭載面 11b 実装面 12 半導体素子 13 半田ボール 14 ワイヤ 15,33a,33b スルーホール 16 封止樹脂 17,22 電極部材 17a 電源ピン 17b グランドピン 17c 信号ピン 18 回路基板 23 孔部 24 電極ピン 31 中間基板 31a,52 グランドプレーン 31e,53 電源プレーン 32,54 貫通孔 41,51 放熱部材 51a 突出部 60,70,80,90,100,110,120 半
導体装置ユニット
半導体装置 11 プリント基板 11a 搭載面 11b 実装面 12 半導体素子 13 半田ボール 14 ワイヤ 15,33a,33b スルーホール 16 封止樹脂 17,22 電極部材 17a 電源ピン 17b グランドピン 17c 信号ピン 18 回路基板 23 孔部 24 電極ピン 31 中間基板 31a,52 グランドプレーン 31e,53 電源プレーン 32,54 貫通孔 41,51 放熱部材 51a 突出部 60,70,80,90,100,110,120 半
導体装置ユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 25/11 25/18 H01L 23/12 J 25/14 Z
Claims (11)
- 【請求項1】 半導体素子(12)と、 該半導体素子(12)を搭載面(11a)に搭載すると
共に、該搭載面(11a)と反対側に位置する実装面
(11b)に該半導体素子(12)と電気的に接続され
ると共に外部接続端子となる複数のボール(13)が配
設されてなる基板(11)と、 該基板(11)の搭載面(11a)上に形成されてお
り、該半導体素子(12)を封止する封止樹脂(16)
とを具備する半導体装置において、 導電性部材により形成されており、下端部が該基板(1
1)の搭載面(11a)において該半導体素子(12)
と電気的に接続されると共に、上端部が該封止樹脂(1
6)の外部より電気的に接続可能な構成とされた電極部
材(17,22)を配設したことを特徴とする半導体装
置。 - 【請求項2】 請求項1記載の半導体装置において、 該電極部材(17,22)を導電性金属ピンにより形成
し、 該導電性金属ピンが該封止樹脂(16)を貫通するよう
配設したことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置にお
いて、 該電極部材(22)の該他端部が該封止樹脂(16)に
形成された孔部(23)の内部に位置するよう構成した
ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載の半導
体装置において、 該封止樹脂(16)の内部に電極パターン(31a,3
1d)が形成されてなる第2の基板(31)を埋設し、
該電極部材(17)を該第2の基板(31)に形成され
た該電極パターン(31a,31d)に電気的に接続し
てなることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項5】 請求項4記載の半導体装置において、 該第2の基板(31)には該電極部材(17)を貫通さ
せる貫通孔(32)が形成されており、該貫通孔(3
2)には該電極パターン(31a,31d)と該電極部
材(17)とを電気的に接続すると共に、該第2の基板
(31)と該電極部材(17)とを相互に支持させる接
続部(33a,33b)が設けられてなることを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項6】 請求項1乃至5のいずれかに記載の半導
体装置において、 該封止樹脂(16)の上部に該半導体素子(12)で発
生する熱を放熱する放熱部材(41,51)を配設する
と共に、該放熱部材(41,51)と該電極部材(1
7)とが係合する構成としたことを特徴とする半導体装
置。 - 【請求項7】 請求項6記載の半導体装置において、 該放熱部材(51)に電極パターン(52,53)を形
成し、該電極部材(17)を該放熱部材(51)に形成
された該電極パターン(52,53)に電気的に接続し
てなることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項8】 請求項1または2に記載の半導体装置
(10)を複数個積層した構成としたことを特徴とする
半導体装置ユニット。 - 【請求項9】 請求項8記載の半導体装置ユニットにお
いて、 下部に配設される該半導体装置(10A)と上部に配設
される該半導体装置(10B)との電気的接続を、 該ボール(13)と該電極部材(17)とが接続される
ことにより、 または該ボール(13)同士が接続されることにより、 または該電極部材(17)同士が接続されることにより
行う構成としたことを特徴とする半導体装置ユニット。 - 【請求項10】 請求項1または2記載の半導体装置
(10)と、請求項3記載の半導体装置(20)とを積
層した構成としたことを特徴とする半導体装置ユニッ
ト。 - 【請求項11】 請求項10記載の半導体装置ユニット
において、 請求項1または2記載の半導体装置(10)に形成され
た該電極部材(17)を請求項3記載の半導体装置(2
0)に形成された該孔部(23)の内部に挿入すること
により、 上記請求項1または2記載の半導体装置(10)に形成
された該電極部材(17)と、上記請求項3記載の半導
体装置(20)に形成された該電極部材(22)とを電
気的に接続したことを特徴とする半導体装置ユニット。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6130620A JPH07335783A (ja) | 1994-06-13 | 1994-06-13 | 半導体装置及び半導体装置ユニット |
| US08/805,317 US5726493A (en) | 1994-06-13 | 1997-02-24 | Semiconductor device and semiconductor device unit having ball-grid-array type package structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6130620A JPH07335783A (ja) | 1994-06-13 | 1994-06-13 | 半導体装置及び半導体装置ユニット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07335783A true JPH07335783A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=15038590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6130620A Withdrawn JPH07335783A (ja) | 1994-06-13 | 1994-06-13 | 半導体装置及び半導体装置ユニット |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5726493A (ja) |
| JP (1) | JPH07335783A (ja) |
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