JPH0735392B2 - アントラサイクリングリコシド類およびその製法 - Google Patents
アントラサイクリングリコシド類およびその製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D407/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00
- C07D407/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing two hetero rings
- C07D407/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
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-
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- C07H15/24—Condensed ring systems having three or more rings
- C07H15/252—Naphthacene radicals, e.g. daunomycins, adriamycins
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アントラサイクリング
リコシド類およびその製法に関する。
リコシド類およびその製法に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明はすぐれた抗腫
瘍作用をする新規なアントラサイクリングリコシド類を
提供することを目的とする。
瘍作用をする新規なアントラサイクリングリコシド類を
提供することを目的とする。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式XV
【化5】 (式中、R1は水素原子または水酸基を表わし、R2およ
びR3のうちの一方は水素原子を表わし、他方は水素原
子または水酸基を表わしそしてXは水素原子またはトリ
フルオロアセチル基を表わすが、但しXがトリフルオロ
アセチル基を表わす場合にはR1は水素原子を表わす)
を有するアントラサイクリングリコシド類を提供する。
これらの化合物は以下のように命名されうる。
びR3のうちの一方は水素原子を表わし、他方は水素原
子または水酸基を表わしそしてXは水素原子またはトリ
フルオロアセチル基を表わすが、但しXがトリフルオロ
アセチル基を表わす場合にはR1は水素原子を表わす)
を有するアントラサイクリングリコシド類を提供する。
これらの化合物は以下のように命名されうる。
【0004】 XVa:R1=R3=H、R2=OH、X=COCF3 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリフルオロアセチ
ル−ダウノルビシン、 XVb:R1=R3=H、R2=OH、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ダウノルビシン、 XVc:R1=R2=OH、R3=H、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ドキソルビシン、 XVd:R1=R2=H、R3=OH、X=COCF3 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリフルオロアセチ
ル−4′−エピ−ダウノルビシン、 XVe:R1=R2=H、R3=OH、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ダウノルビ
シン、 XVf:R1=R3=OH、R2=H、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ドキソルビ
シン、 XVg:R1=R2=R3=H、X=COCF3 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−N−トリフルオ
ロアセチル−ダウノルビシン、 XVh:R1=R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ダウノルビシ
ン、 XVi:R1=OH、R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ドキソルビシ
ン。
ル−ダウノルビシン、 XVb:R1=R3=H、R2=OH、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ダウノルビシン、 XVc:R1=R2=OH、R3=H、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−ドキソルビシン、 XVd:R1=R2=H、R3=OH、X=COCF3 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリフルオロアセチ
ル−4′−エピ−ダウノルビシン、 XVe:R1=R2=H、R3=OH、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ダウノルビ
シン、 XVf:R1=R3=OH、R2=H、X=H 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エピ−ドキソルビ
シン、 XVg:R1=R2=R3=H、X=COCF3 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−N−トリフルオ
ロアセチル−ダウノルビシン、 XVh:R1=R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ダウノルビシ
ン、 XVi:R1=OH、R2=R3=X=H 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−ドキソルビシ
ン。
【0005】これらのアントラサイクリングリコシド類
は、一般式I
は、一般式I
【化6】 を有するラセミ6−デオキシアントラサイクリノン類を
一般式XVI
一般式XVI
【0006】
【化7】 (式中、R2およびR3のうちの一方は水素原子を表わし
そして他方は水素原子またはトリフルオロアセトキシ基
を表わしそしてHalはハロゲン原子、好ましくは塩素原
子を表わす)を有する保護されたハロ糖と縮合させるこ
とにより製造されうる。この縮合は米国特許第4,10
7,423号明細書に記載の方法にしたがってトリフル
オロメタンスルホン酸銀の存在下で進行して7S:9S
および7R:9Rの、α−グリコシドのO−トリフルオ
ロアセチル保護誘導体の容易に分離しうる混合物を与え
る。この反応のためにはハロ糖XVIによるXVa、XVdおよ
びXVgが選択される。
そして他方は水素原子またはトリフルオロアセトキシ基
を表わしそしてHalはハロゲン原子、好ましくは塩素原
子を表わす)を有する保護されたハロ糖と縮合させるこ
とにより製造されうる。この縮合は米国特許第4,10
7,423号明細書に記載の方法にしたがってトリフル
オロメタンスルホン酸銀の存在下で進行して7S:9S
および7R:9Rの、α−グリコシドのO−トリフルオ
ロアセチル保護誘導体の容易に分離しうる混合物を与え
る。この反応のためにはハロ糖XVIによるXVa、XVdおよ
びXVgが選択される。
【0007】前記のO−トリフルオロアセチル基はメタ
ノリシスにより除去されて式XVa、XVdおよびXVgの化合
物になり、これらは穏和なアルカリ加水分解によってそ
れぞれ、式XVb、XVeおよびXVhのグリコシドに変換され
うる。これらは米国特許第3,803,124号明細書に
記載の方法にしたがって14−臭素化しそしてぎ酸ナト
リウム水溶液で処理することにより対応する式XVc、XVf
およびXViのドキソルビシン誘導体になる。これらの方
法は本発明の範囲内にある。
ノリシスにより除去されて式XVa、XVdおよびXVgの化合
物になり、これらは穏和なアルカリ加水分解によってそ
れぞれ、式XVb、XVeおよびXVhのグリコシドに変換され
うる。これらは米国特許第3,803,124号明細書に
記載の方法にしたがって14−臭素化しそしてぎ酸ナト
リウム水溶液で処理することにより対応する式XVc、XVf
およびXViのドキソルビシン誘導体になる。これらの方
法は本発明の範囲内にある。
【0008】式XVのアントラサイクリングリコシド類は
抗腫瘍性質を有し、したがって本発明はさらに式中Xが
水素原子を表わす一般式XVのアントラサイクリングリコ
シドまたはかかるグリコシドの薬学的に許容しうる塩を
薬学的に許容しうる稀釈剤または担体と一緒に含有する
薬学的組成物をも提供する。
抗腫瘍性質を有し、したがって本発明はさらに式中Xが
水素原子を表わす一般式XVのアントラサイクリングリコ
シドまたはかかるグリコシドの薬学的に許容しうる塩を
薬学的に許容しうる稀釈剤または担体と一緒に含有する
薬学的組成物をも提供する。
【0009】前記式Iを有する6−デオキシアントラサ
イクリノン類は、後記反応スキームで説明されるよう
に、(i) ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−フ
タレート(II)を四塩化錫の存在下における酢酸無水物
での処理によりアセチル化し、ついで穏和な塩基または
穏和な酸で処理すること、(ii) 生成するジメチル
1,2,3,6−テトラヒドロ−4−アセチル−フタレー
ト(III)をトシルヒドラジンと反応させること、(ii
i) 生成するジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−4
−(1−トシルヒドラゾノ−エチル)フタレート(IV)
をカテコールボランで還元しついで酢酸ナトリウムの存
在下において二重結合を環内から環外の位置に転位させ
ること、(iv) 生成する1,2−ジ−(メトキシカル
ボニル)−4−エチリデン−シクロヘキサン(V)を過
マンガン酸カリウムで酸化しそして生成するα−ヒドロ
キシケトンを触媒量のp−トルエンスルホン酸の存在下
においてエチレングリコールで処理すること、
イクリノン類は、後記反応スキームで説明されるよう
に、(i) ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−フ
タレート(II)を四塩化錫の存在下における酢酸無水物
での処理によりアセチル化し、ついで穏和な塩基または
穏和な酸で処理すること、(ii) 生成するジメチル
1,2,3,6−テトラヒドロ−4−アセチル−フタレー
ト(III)をトシルヒドラジンと反応させること、(ii
i) 生成するジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−4
−(1−トシルヒドラゾノ−エチル)フタレート(IV)
をカテコールボランで還元しついで酢酸ナトリウムの存
在下において二重結合を環内から環外の位置に転位させ
ること、(iv) 生成する1,2−ジ−(メトキシカル
ボニル)−4−エチリデン−シクロヘキサン(V)を過
マンガン酸カリウムで酸化しそして生成するα−ヒドロ
キシケトンを触媒量のp−トルエンスルホン酸の存在下
においてエチレングリコールで処理すること、
【0010】(v) 生成する2−メトキシカルボニル
−5−〔2−メチル−ジオキソラン−2−イル〕−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン(V
I)を式中Rが前述の定義を有する一般式VIIIの化合物
(式中、Rが前述の定義を有する一般式VIIの化合物に
アルキルリチウムを作用させることにより得られる)と
縮合させること、(vi) ラクトン環を開環しそして式
中Rが前述の定義を有する一般式IXの生成化合物におけ
るジオキソラン保護されたケト基をメタノリシスにより
脱保護(保護基除去)すること、(vii) Rが前述の
定義を有する一般式Xの生成化合物のケト基をトリフル
オロ酢酸の存在下におけるピリジン−ボラン錯体での処
理により還元しそしてメトキシカルボニル基をフェニル
ジアゾメタンでの処理によりベンジルオキシカルボニル
基に変換すること、(viii) 4−ジメチルアミノピリ
ジンの存在下にピリジン中において酢酸無水物で処理
し、続いてPd/C触媒の存在下にシクロヘキセンと共に
還流することにより式中Rが前述の定義を有する一般式
XIの生成化合物における水酸基をエステル化しそしてベ
ンジルオキシカルボニル基を脱エステル化すること、
−5−〔2−メチル−ジオキソラン−2−イル〕−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン(V
I)を式中Rが前述の定義を有する一般式VIIIの化合物
(式中、Rが前述の定義を有する一般式VIIの化合物に
アルキルリチウムを作用させることにより得られる)と
縮合させること、(vi) ラクトン環を開環しそして式
中Rが前述の定義を有する一般式IXの生成化合物におけ
るジオキソラン保護されたケト基をメタノリシスにより
脱保護(保護基除去)すること、(vii) Rが前述の
定義を有する一般式Xの生成化合物のケト基をトリフル
オロ酢酸の存在下におけるピリジン−ボラン錯体での処
理により還元しそしてメトキシカルボニル基をフェニル
ジアゾメタンでの処理によりベンジルオキシカルボニル
基に変換すること、(viii) 4−ジメチルアミノピリ
ジンの存在下にピリジン中において酢酸無水物で処理
し、続いてPd/C触媒の存在下にシクロヘキセンと共に
還流することにより式中Rが前述の定義を有する一般式
XIの生成化合物における水酸基をエステル化しそしてベ
ンジルオキシカルボニル基を脱エステル化すること、
【0011】(ix) 式中R′が水素原子、アセトキシ
基または低級アルコキシ基を表わす一般式XIIの生成化
合物をトリフルオロ酢酸無水物およびトリフルオロ酢酸
の混合物で処理することにより環化しそしてアセトキシ
基をナトリウムメチラートで加水分解すること、(x)
式中Rが前述の定義を有する一般式XIIIの生成する化
合物の1−ヒドロキシエチル基を炭酸銀で酸化しそして
生成する化合物をニトロベンゼン中において三塩化アル
ミニウムで酸化的に脱メチル化すること、そして(xi)
一般式XIVの生成化合物の13−ケト基をエチレング
リコールでの処理により保護し、C−7において生成す
る化合物を2,2′−アゾ−ビス(イソブチロニトリ
ル)の存在下において臭素またはN−ブロモスクシンイ
ミドで処理することにより臭素化しそして7−ブロモ基
および13−ケタール基を加水分解することによって製
造される。
基または低級アルコキシ基を表わす一般式XIIの生成化
合物をトリフルオロ酢酸無水物およびトリフルオロ酢酸
の混合物で処理することにより環化しそしてアセトキシ
基をナトリウムメチラートで加水分解すること、(x)
式中Rが前述の定義を有する一般式XIIIの生成する化
合物の1−ヒドロキシエチル基を炭酸銀で酸化しそして
生成する化合物をニトロベンゼン中において三塩化アル
ミニウムで酸化的に脱メチル化すること、そして(xi)
一般式XIVの生成化合物の13−ケト基をエチレング
リコールでの処理により保護し、C−7において生成す
る化合物を2,2′−アゾ−ビス(イソブチロニトリ
ル)の存在下において臭素またはN−ブロモスクシンイ
ミドで処理することにより臭素化しそして7−ブロモ基
および13−ケタール基を加水分解することによって製
造される。
【0012】
【化8】
【0013】
【化9】
【0014】上記方法のための出発化合物は既知であ
る。2−ブロモ−1,4,5−トリメトキシナフタレン
(VII、R=OCH3)はR.L. Haman氏等による「J. Or
g. Chem.」第44巻第2153頁(1979)に記載さ
れていた。式VIIIの化合物と式VIの化合物との間のカッ
プリング反応は高収率で局部選択的に進行して主要中間
体IXを与える。有機金属種はメチルエステルのカルボニ
ル基のみに影響し、ラクトンのそれには影響しない。
る。2−ブロモ−1,4,5−トリメトキシナフタレン
(VII、R=OCH3)はR.L. Haman氏等による「J. Or
g. Chem.」第44巻第2153頁(1979)に記載さ
れていた。式VIIIの化合物と式VIの化合物との間のカッ
プリング反応は高収率で局部選択的に進行して主要中間
体IXを与える。有機金属種はメチルエステルのカルボニ
ル基のみに影響し、ラクトンのそれには影響しない。
【0015】(xi)工程はC.M. Wong氏等による「Can.
J. Chem.」第51巻第446頁(1973)に記載の方
法にしたがって実施されうる。すなわち2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)の存在下での臭素による
臭素化、引き続いての7−ブロモ誘導体の加水分解およ
びケタール基の酸処理による除去によるか、あるいはま
た2,2′−アゾ−ビス(イソブチロニトリル)の存在
下でのN−ブロモ−スクシンイミドによる臭素化、照
射、酢酸銀での処理、ケタール基の酸性処理による加水
分解および最後においての酢酸塩のナトリウムメトキシ
ドによる加水分解によって実施されうる。
J. Chem.」第51巻第446頁(1973)に記載の方
法にしたがって実施されうる。すなわち2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)の存在下での臭素による
臭素化、引き続いての7−ブロモ誘導体の加水分解およ
びケタール基の酸処理による除去によるか、あるいはま
た2,2′−アゾ−ビス(イソブチロニトリル)の存在
下でのN−ブロモ−スクシンイミドによる臭素化、照
射、酢酸銀での処理、ケタール基の酸性処理による加水
分解および最後においての酢酸塩のナトリウムメトキシ
ドによる加水分解によって実施されうる。
【0016】式IXの化合物の光学分割はキラル分割剤を
使用してのジアステレオマ異性誘導体への慣用の変換方
法によって実施されうる。この点での分割では(+)−
4−デメトキシ−6−デオキシ−4−(R−置換)−ダ
ウノマイシノンIを得ることが可能である。この6−デ
オキシアントラサイクリノンIは、Rが水素原子を表わ
すものを除いては新規でありそして本発明の範囲内に包
含される。異なる方法で製造された4−デメトキシ−6
−デオキシダウノマイシノンは本発明者等による英国特
許第2,100,257号明細書に記載されている。この
方法は前記方法よりも効率がよくしかも大規模生産に適
している。
使用してのジアステレオマ異性誘導体への慣用の変換方
法によって実施されうる。この点での分割では(+)−
4−デメトキシ−6−デオキシ−4−(R−置換)−ダ
ウノマイシノンIを得ることが可能である。この6−デ
オキシアントラサイクリノンIは、Rが水素原子を表わ
すものを除いては新規でありそして本発明の範囲内に包
含される。異なる方法で製造された4−デメトキシ−6
−デオキシダウノマイシノンは本発明者等による英国特
許第2,100,257号明細書に記載されている。この
方法は前記方法よりも効率がよくしかも大規模生産に適
している。
【0017】以下に本発明を参考例および実施例により
説明する。 参考例1 ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−アセチル−
フタレート(III) −5℃において10gのジメチル1,2,3,6−テトラ
ヒドロ−フタレート(II)を9mlの四塩化錫の存在下に
25mlの酢酸無水物で処理した。この反応混合物を氷冷
水中に注ぎそしてジエチルエーテルで抽出した。有機相
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついで水で洗浄しそし
て真空下で蒸発乾固させた。得られた油状物をベンゼン
に溶解し、塩化水素のメタノール溶液で処理した。この
溶液を蒸発乾固させそして残留物をシリカゲルのカラム
上でのクロマトグラフィーにより精製して9gの前記表
題化合物を75%全収率で得た。 質量スペクトル:m/z 240(M+)、 IR(KBr):1720cm-1(エステルのC=O)、
1660cm-1(α,β−不飽和ケトンのC=O)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.33(s,COC
H3)、3.70(s,−COOCH 3)および6.91
(m,HC=C)。
説明する。 参考例1 ジメチル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−アセチル−
フタレート(III) −5℃において10gのジメチル1,2,3,6−テトラ
ヒドロ−フタレート(II)を9mlの四塩化錫の存在下に
25mlの酢酸無水物で処理した。この反応混合物を氷冷
水中に注ぎそしてジエチルエーテルで抽出した。有機相
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついで水で洗浄しそし
て真空下で蒸発乾固させた。得られた油状物をベンゼン
に溶解し、塩化水素のメタノール溶液で処理した。この
溶液を蒸発乾固させそして残留物をシリカゲルのカラム
上でのクロマトグラフィーにより精製して9gの前記表
題化合物を75%全収率で得た。 質量スペクトル:m/z 240(M+)、 IR(KBr):1720cm-1(エステルのC=O)、
1660cm-1(α,β−不飽和ケトンのC=O)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.33(s,COC
H3)、3.70(s,−COOCH 3)および6.91
(m,HC=C)。
【0018】参考例2 1,2−ジ−(メトキシカルボニル)−4−エチリデン−
シクロヘキサン(V) 参考例1に記載のようにして製造された17gのジメチ
ル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−アセチル−フタレ
ートを無水エタノール中において14.6gのトシルヒ
ドラジンと共に還流した。溶媒の除去後に24gのジメ
チル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−(1−トシルヒ
ドラゾノ−エチル)−フタレート(IV)が水から晶出し
た。融点162°〜163℃、m/z 408(M+)。
シクロヘキサン(V) 参考例1に記載のようにして製造された17gのジメチ
ル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−アセチル−フタレ
ートを無水エタノール中において14.6gのトシルヒ
ドラジンと共に還流した。溶媒の除去後に24gのジメ
チル1,2,3,6−テトラヒドロ−4−(1−トシルヒ
ドラゾノ−エチル)−フタレート(IV)が水から晶出し
た。融点162°〜163℃、m/z 408(M+)。
【0019】この化合物をクロロホルムに溶解しそして
0℃において14mlのカテコールボランで処理した。反
応混合物に酢酸ナトリウムを加え、ついでこれを還流し
た。水洗後、溶媒を蒸発させそして残留物をシリカゲル
のカラム上でのクロマトグラフィーにより精製して10
gの前記表題化合物(収率80%)を得た。m/z22
6(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.6(d,J=8H
z,CH 3−CH=)、5.3(q,J=8Hz,CH3−
CH=)。
0℃において14mlのカテコールボランで処理した。反
応混合物に酢酸ナトリウムを加え、ついでこれを還流し
た。水洗後、溶媒を蒸発させそして残留物をシリカゲル
のカラム上でのクロマトグラフィーにより精製して10
gの前記表題化合物(収率80%)を得た。m/z22
6(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.6(d,J=8H
z,CH 3−CH=)、5.3(q,J=8Hz,CH3−
CH=)。
【0020】参考例3 2−メトキシカルボニル−5−(2−メチルジオキソラ
ン−2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オ
クタン−7−オン(VI) 参考例2に記載のようにして製造された8gの1,2−
ジ−(メトキシカルボニル)−4−エチリデン−シクロ
ヘキサンを4.8mlの酢酸を含有するアセトン水溶液中
に溶解した。過マンガン酸カリウムの水溶液を加えそし
てその混合物を室温で60分間放置した。ついで過剰の
酸化剤を破壊しそして反応混合物を水で希釈し、酢酸エ
チルで抽出した。有機相を水洗し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥させついで真空下で蒸発乾固させた。残留物
(9g)をベンゼンに溶解しそして触媒量のp−トルエ
ンスルホン酸の存在下で60分間還流した。4mlのエチ
レングリコールを加えそしてその反応混合物をさらに2
時間還流した。通常の後処理をした後に、溶媒を蒸発さ
せて得られた残留物を溶離剤としてトルエン/アセトン
混合物(15:1容量比)を使用してシリカゲルのカラ
ム上でクロマトグラフィーにかけることにより精製し
た。3.0g(収率33%)の前記表題化合物が単離さ
せた。融点69°〜71℃、m/z 271(M+)。 IR(KBr):1790cm-1(C=O 5員環ラクト
ン)、1735cm-1(C=O エステル)、1720cm
-1(C=O ケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(s,C
H 3)、3.65(s,COOCH 3)、および3.9
(s,−O−CH 2−CH 2−O−)。
ン−2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オ
クタン−7−オン(VI) 参考例2に記載のようにして製造された8gの1,2−
ジ−(メトキシカルボニル)−4−エチリデン−シクロ
ヘキサンを4.8mlの酢酸を含有するアセトン水溶液中
に溶解した。過マンガン酸カリウムの水溶液を加えそし
てその混合物を室温で60分間放置した。ついで過剰の
酸化剤を破壊しそして反応混合物を水で希釈し、酢酸エ
チルで抽出した。有機相を水洗し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥させついで真空下で蒸発乾固させた。残留物
(9g)をベンゼンに溶解しそして触媒量のp−トルエ
ンスルホン酸の存在下で60分間還流した。4mlのエチ
レングリコールを加えそしてその反応混合物をさらに2
時間還流した。通常の後処理をした後に、溶媒を蒸発さ
せて得られた残留物を溶離剤としてトルエン/アセトン
混合物(15:1容量比)を使用してシリカゲルのカラ
ム上でクロマトグラフィーにかけることにより精製し
た。3.0g(収率33%)の前記表題化合物が単離さ
せた。融点69°〜71℃、m/z 271(M+)。 IR(KBr):1790cm-1(C=O 5員環ラクト
ン)、1735cm-1(C=O エステル)、1720cm
-1(C=O ケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(s,C
H 3)、3.65(s,COOCH 3)、および3.9
(s,−O−CH 2−CH 2−O−)。
【0021】参考例4 2−(1,4,5−トリメトキシ−3−ナフチルカルボニ
ル)−5−(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−
6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン
(IX、R=OCH3) 7mlの1.65M n−ブチルリチウムヘキサン溶液を3
0mlの無水テトラヒドロフランに溶解した。−78℃に
おいてこの溶液に30mlの無水テトラヒドロフラン中に
おける3.3gの1,4,5−トリメトキシ−3−ブロモ
−ナフタレン(VI、R=OCH3)の溶液を加えた。実
施例3に記載のようにして製造された2.5gの2−メ
トキシカルボニル−5−(2−メチル−ジオキソラン−
2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタ
ン−7−オンを50mlの無水テトラヒドロフランに溶解
し、これを前記反応混合物に加えた。この反応混合物を
−78℃で1時間放置しついで酢酸で急冷した。溶媒は
真空中で除去した。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製して3g(73%収率)の前記表
題化合物を得た。m/z 456(M+)。 IR(KBr):1775cm-1(C=O 5員環ラクト
ン)、1680cm-1(C=O ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ81.3(s,C
H 3)、3.75(s,OCH3)、3.95〜4.05
(m,2個のOCH 3および−O−CH 2−CH 2−O
−)、6.8(s,芳香族CH)および6.8〜8.1
(m,3個のH)。
ル)−5−(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−
6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン
(IX、R=OCH3) 7mlの1.65M n−ブチルリチウムヘキサン溶液を3
0mlの無水テトラヒドロフランに溶解した。−78℃に
おいてこの溶液に30mlの無水テトラヒドロフラン中に
おける3.3gの1,4,5−トリメトキシ−3−ブロモ
−ナフタレン(VI、R=OCH3)の溶液を加えた。実
施例3に記載のようにして製造された2.5gの2−メ
トキシカルボニル−5−(2−メチル−ジオキソラン−
2−イル)−6−オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタ
ン−7−オンを50mlの無水テトラヒドロフランに溶解
し、これを前記反応混合物に加えた。この反応混合物を
−78℃で1時間放置しついで酢酸で急冷した。溶媒は
真空中で除去した。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製して3g(73%収率)の前記表
題化合物を得た。m/z 456(M+)。 IR(KBr):1775cm-1(C=O 5員環ラクト
ン)、1680cm-1(C=O ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ81.3(s,C
H 3)、3.75(s,OCH3)、3.95〜4.05
(m,2個のOCH 3および−O−CH 2−CH 2−O
−)、6.8(s,芳香族CH)および6.8〜8.1
(m,3個のH)。
【0022】参考例5 1−(1,4,5−トリメトキシ−3−ナフチルメチル−
2−ベンジルオキシカルボニル)−4−(1−ヒドロキ
シエチル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(XI、R
=OCH3) 参考例4に記載のようにして製造された1.6gの2−
(1,4,5−トリメトキシ−2−ナフチルカルボニル)
−5−(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オンをメ
タノールに溶解しそして室温において1時間、無水メタ
ノール中における塩化水素の1N溶液で処理した。溶媒
を蒸発させた後にほぼ定量収率で1.5gの1−(1,
4,5−トリメトキシ−3−ナフチルカルボニル)−2
−メトキシカルボニル−4−アセチル−4−ヒドロキシ
−シクロヘキサン(X、R=OCH3)を得た。m/z
444(M+)。 IR(フィルム):3460cm-1(OH)、1730cm
-1(C=O エステル)、1710cm-1(C=O ケト
ン)および1665cm-1(C=O ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.3(s,CH 3C
O)、3.75〜4.05(s,4個のOCH 3)、6.8
(s,芳香族H)および6.85〜8.0(m,3個の芳
香族H)。
2−ベンジルオキシカルボニル)−4−(1−ヒドロキ
シエチル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(XI、R
=OCH3) 参考例4に記載のようにして製造された1.6gの2−
(1,4,5−トリメトキシ−2−ナフチルカルボニル)
−5−(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オンをメ
タノールに溶解しそして室温において1時間、無水メタ
ノール中における塩化水素の1N溶液で処理した。溶媒
を蒸発させた後にほぼ定量収率で1.5gの1−(1,
4,5−トリメトキシ−3−ナフチルカルボニル)−2
−メトキシカルボニル−4−アセチル−4−ヒドロキシ
−シクロヘキサン(X、R=OCH3)を得た。m/z
444(M+)。 IR(フィルム):3460cm-1(OH)、1730cm
-1(C=O エステル)、1710cm-1(C=O ケト
ン)および1665cm-1(C=O ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.3(s,CH 3C
O)、3.75〜4.05(s,4個のOCH 3)、6.8
(s,芳香族H)および6.85〜8.0(m,3個の芳
香族H)。
【0023】1.5gのこの化合物を15mlのトリフル
オロ酢酸に溶解しそして1.4mlのピリジン−ボラン錯
体と共に還流した。溶媒の除去後に残留物を10%水酸
化ナトリウム水溶液で処理した。穏和な酸性化の後にそ
の遊離酸を酢酸エチルで抽出した。溶媒を蒸発させそし
て残留物をフェニルジアゾメタンのエーテル溶液で直接
処理して前記表題生成物を得た。これをクロマトグラフ
ィーにより精製した。m/z 508(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(d,CH3
−CH)、3.70〜3.95(s,3個のOCH 3)、
5.15(d,CH 2Ph)および6.4〜8.1(m,9
個の芳香族H)。
オロ酢酸に溶解しそして1.4mlのピリジン−ボラン錯
体と共に還流した。溶媒の除去後に残留物を10%水酸
化ナトリウム水溶液で処理した。穏和な酸性化の後にそ
の遊離酸を酢酸エチルで抽出した。溶媒を蒸発させそし
て残留物をフェニルジアゾメタンのエーテル溶液で直接
処理して前記表題生成物を得た。これをクロマトグラフ
ィーにより精製した。m/z 508(M+)。 PMR(CDCl3):とりわけδ1.25(d,CH3
−CH)、3.70〜3.95(s,3個のOCH 3)、
5.15(d,CH 2Ph)および6.4〜8.1(m,9
個の芳香族H)。
【0024】参考例6 1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2
−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,7,
11−トリメトキシ−12−オキソナフタセン(XIII、
R=OCH3) 参考例5に記載のようにして製造された0.48gの1
−(1,4,5−トリメトキシ−3−ナフチルメチル)−
2−ベンジルオキシカルボニル−4−(1−ヒドロキシ
エチル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサンを4−ジメ
チルアミノピリジンの存在下において酢酸無水物および
ピリジンで処理した。室温で一夜経過後にその反応混合
物を氷冷水中に注ぎついで酢酸エチルで抽出した。有機
層を水洗しそして濃縮した。粗生成物をメタノールに溶
解しそして10重量%Pd/Cの存在下でシクロヘキセン
と共に還流した。ついで触媒を濾去しそして溶液を小容
量に濃縮し、0℃で60分間、トリフルオロ酢酸無水物
およびトリフルオロ酢酸で処理した。ついでこの溶液を
酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび水で洗浄し、乾燥させついで真空下で濃縮乾固させ
た。残留物を触媒量のナトリウムメチラートの存在下で
メタノール中に溶解した。慣用手段で後処理しそしてク
ロマトグラフィーにより精製した後に0.18g(収率
49%)の前記表題化合物を得た。m/z 400
(M+)。 IR(KBr):3450cm-1(OH)、1675cm-1
(C=O、ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.2(d,CH 3−
CH)、3.7〜3.9(s,3個のOCH 3)および6.
4〜8.0(m,3個の芳香族水素)。
−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,7,
11−トリメトキシ−12−オキソナフタセン(XIII、
R=OCH3) 参考例5に記載のようにして製造された0.48gの1
−(1,4,5−トリメトキシ−3−ナフチルメチル)−
2−ベンジルオキシカルボニル−4−(1−ヒドロキシ
エチル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサンを4−ジメ
チルアミノピリジンの存在下において酢酸無水物および
ピリジンで処理した。室温で一夜経過後にその反応混合
物を氷冷水中に注ぎついで酢酸エチルで抽出した。有機
層を水洗しそして濃縮した。粗生成物をメタノールに溶
解しそして10重量%Pd/Cの存在下でシクロヘキセン
と共に還流した。ついで触媒を濾去しそして溶液を小容
量に濃縮し、0℃で60分間、トリフルオロ酢酸無水物
およびトリフルオロ酢酸で処理した。ついでこの溶液を
酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび水で洗浄し、乾燥させついで真空下で濃縮乾固させ
た。残留物を触媒量のナトリウムメチラートの存在下で
メタノール中に溶解した。慣用手段で後処理しそしてク
ロマトグラフィーにより精製した後に0.18g(収率
49%)の前記表題化合物を得た。m/z 400
(M+)。 IR(KBr):3450cm-1(OH)、1675cm-1
(C=O、ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.2(d,CH 3−
CH)、3.7〜3.9(s,3個のOCH 3)および6.
4〜8.0(m,3個の芳香族水素)。
【0025】参考例7 1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2
−アセチル−2−ヒドロキシ−6,7,11−トリメトキ
シ−12−オキソ−ナフタセン 参考例6に記載のようにして製造された0.09gの1,
2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2−
(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,7,1
1−トリメトキシ−12−オキソ−ナフタセンのベンゼ
ン中における溶液に0.8gの炭酸銀を加えそしてその
混合物を還流した。固体を濾去しそして溶媒を真空中で
蒸発させた後に0.08g(90%収率)の前記表題化
合物が得られた。 IR(KBr):3360cm-1(OH)、1705cm-1
(C=O ケトン)、1680cm-1(C=O ベンジルケ
トン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.2(s,CH3C
O)、3.65〜3.90(s,3個のOCH3)。
−アセチル−2−ヒドロキシ−6,7,11−トリメトキ
シ−12−オキソ−ナフタセン 参考例6に記載のようにして製造された0.09gの1,
2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2−
(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,7,1
1−トリメトキシ−12−オキソ−ナフタセンのベンゼ
ン中における溶液に0.8gの炭酸銀を加えそしてその
混合物を還流した。固体を濾去しそして溶媒を真空中で
蒸発させた後に0.08g(90%収率)の前記表題化
合物が得られた。 IR(KBr):3360cm-1(OH)、1705cm-1
(C=O ケトン)、1680cm-1(C=O ベンジルケ
トン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.2(s,CH3C
O)、3.65〜3.90(s,3個のOCH3)。
【0026】参考例8 6,7−ジデオキシカルミノマイシノン(XIV、R=O
H) 参考例7に記載のようにして製造された0.06gの1,
2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2−ア
セチル−2−ヒドロキシ−6,7,11−トリメトキシ−
12−オキソナフタセンをニトロベンゼン中に溶解しそ
して0.12gの三塩化アルミニウムで処理した。この
混合物をもはや出発物質が検出され得なくなるまで70
℃に保持した。この反応混合物をしゅう酸の飽和水溶液
中に注ぎそして酢酸エチルで抽出した。有機相を分離
し、水洗し、乾燥させついで蒸発乾固させた。シリカゲ
ルのカラム上で精製した残留物より、純粋な6,7−ジ
デオキシカルミノマイシノンを40%収率で得た。m/
z 352(M+)。 IR(KBr):3420cm-1(OH)、1705cm-1
(C=O ケトン)および1625cm-1(C=O、キレ
ート化されたキノン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.7〜2.2(m,
CH2)、2.3(s,CH3CO)、2.8〜3.2
(m、2個のベンジルCH2)、7.0〜7.9(m,4
個の芳香族H)、12.6(s,フェノールOH)およ
び12.9(s,フェノールOH)。
H) 参考例7に記載のようにして製造された0.06gの1,
2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2−ア
セチル−2−ヒドロキシ−6,7,11−トリメトキシ−
12−オキソナフタセンをニトロベンゼン中に溶解しそ
して0.12gの三塩化アルミニウムで処理した。この
混合物をもはや出発物質が検出され得なくなるまで70
℃に保持した。この反応混合物をしゅう酸の飽和水溶液
中に注ぎそして酢酸エチルで抽出した。有機相を分離
し、水洗し、乾燥させついで蒸発乾固させた。シリカゲ
ルのカラム上で精製した残留物より、純粋な6,7−ジ
デオキシカルミノマイシノンを40%収率で得た。m/
z 352(M+)。 IR(KBr):3420cm-1(OH)、1705cm-1
(C=O ケトン)および1625cm-1(C=O、キレ
ート化されたキノン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.7〜2.2(m,
CH2)、2.3(s,CH3CO)、2.8〜3.2
(m、2個のベンジルCH2)、7.0〜7.9(m,4
個の芳香族H)、12.6(s,フェノールOH)およ
び12.9(s,フェノールOH)。
【0027】参考例9 6−デオキシカルミノマイシノン(I:R=OH) 参考例8に記載のようにして製造された6,7−ジデオ
キシカルミノマイシノンのベンゼン中における溶液を還
流温度で4時間触媒量のp−トルエンスルホン酸の存在
下において1.2mlのエチレングリコールで処理して対
応する13−ケタール誘導体を得た。この化合物を四塩
化炭素に溶解しそして2,2′−アゾ−ビス(イソブチ
ロニトリル)の存在下において45℃で6時間32mlの
四塩化炭素中における3.2gの臭素の溶液2mlで処理
した。反応混合物を冷却し、これを1N水酸化ナトリウ
ム水溶液で抽出しそしてその着色した水性相をpH8.5
に調整しついでクロロホルムで抽出した。有機抽出物を
蒸発乾固させて6−デオキシ−13−ケタール−カルミ
ノマイシノンを得た。これを塩化水素含有のアセトン
(300mlの0.25N溶液)に溶解しそしてケタール
基を加水分解させるために室温で3時間保持した。所望
の6−デオキシカルミノマイシノンが得られた。
キシカルミノマイシノンのベンゼン中における溶液を還
流温度で4時間触媒量のp−トルエンスルホン酸の存在
下において1.2mlのエチレングリコールで処理して対
応する13−ケタール誘導体を得た。この化合物を四塩
化炭素に溶解しそして2,2′−アゾ−ビス(イソブチ
ロニトリル)の存在下において45℃で6時間32mlの
四塩化炭素中における3.2gの臭素の溶液2mlで処理
した。反応混合物を冷却し、これを1N水酸化ナトリウ
ム水溶液で抽出しそしてその着色した水性相をpH8.5
に調整しついでクロロホルムで抽出した。有機抽出物を
蒸発乾固させて6−デオキシ−13−ケタール−カルミ
ノマイシノンを得た。これを塩化水素含有のアセトン
(300mlの0.25N溶液)に溶解しそしてケタール
基を加水分解させるために室温で3時間保持した。所望
の6−デオキシカルミノマイシノンが得られた。
【0028】(別 法)0.14ミリモルのN−ブロモ
スクシンイミドおよび0.06ミリモルの2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)を含有する20mlの四塩
化炭素中における50mg(0.125ミリモル)の6,7
−ジデオキシカルミノマイシノンの13−ケタール誘導
体の溶液を25分間還流した。真空下で溶媒を蒸発させ
て得られた残留物を氷酢酸に溶解し、ついで80mgの酢
酸銀で処理した。この混合物を5時間室温で撹拌した。
溶媒を蒸発させ、残留物を酢酸エチルに溶解しついで濾
過した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水
で洗浄し、乾燥させついで濃縮した。残留物を0℃で酢
酸水溶液(90容量%)中に溶解しそして90分間撹拌
した。溶媒の除去後、残留物をメタノールに溶解し、ナ
トリウムメトキシドを加えそしてその混合物を90分間
撹拌した。これを中和し、抽出しそして水洗した後に残
留物をメチレンジクロライド/アセトン(16:1容量
比)でフラッシュクロマトグラフィーにより精製した。
所望の6−デオキシカルミノマイシノンが34%の全収
率で得られた。m/z 368(M+)、融点211〜2
13℃。溶離溶媒としてトルエン/アセトン(4:1容
量比)を使用しての珪藻土プレート(メルクF254)上
でのTLCにおけるRf=0.3。
スクシンイミドおよび0.06ミリモルの2,2′−アゾ
−ビス(イソブチロニトリル)を含有する20mlの四塩
化炭素中における50mg(0.125ミリモル)の6,7
−ジデオキシカルミノマイシノンの13−ケタール誘導
体の溶液を25分間還流した。真空下で溶媒を蒸発させ
て得られた残留物を氷酢酸に溶解し、ついで80mgの酢
酸銀で処理した。この混合物を5時間室温で撹拌した。
溶媒を蒸発させ、残留物を酢酸エチルに溶解しついで濾
過した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水
で洗浄し、乾燥させついで濃縮した。残留物を0℃で酢
酸水溶液(90容量%)中に溶解しそして90分間撹拌
した。溶媒の除去後、残留物をメタノールに溶解し、ナ
トリウムメトキシドを加えそしてその混合物を90分間
撹拌した。これを中和し、抽出しそして水洗した後に残
留物をメチレンジクロライド/アセトン(16:1容量
比)でフラッシュクロマトグラフィーにより精製した。
所望の6−デオキシカルミノマイシノンが34%の全収
率で得られた。m/z 368(M+)、融点211〜2
13℃。溶離溶媒としてトルエン/アセトン(4:1容
量比)を使用しての珪藻土プレート(メルクF254)上
でのTLCにおけるRf=0.3。
【0029】PMR(200 MHz, CDCl3):δ2.1〜2.3
(m,2H,H-8)、2.3(s,3H,-COCH3)、2.7〜3.1(q,2H,H-1
0)、4.1(d,1H,OH-7)、4.4(s,1H,OH-9)、4.8(d,1H,H-
7)、7.3(d,1H,H-3)、7.7(t,1H,H-2)、7.8(d,1H,H-1)、
8.1(s,1H,H-6)、12.8(s,1H,OH-4)、13.2(s,1H,OH-11)。
(m,2H,H-8)、2.3(s,3H,-COCH3)、2.7〜3.1(q,2H,H-1
0)、4.1(d,1H,OH-7)、4.4(s,1H,OH-9)、4.8(d,1H,H-
7)、7.3(d,1H,H-3)、7.7(t,1H,H-2)、7.8(d,1H,H-1)、
8.1(s,1H,H-6)、12.8(s,1H,OH-4)、13.2(s,1H,OH-11)。
【0030】参考例10 2−(1,4−ジメトキシ−3−ナフチルカルボニル)
−5−(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン(I
X、R=H) 参考例4に記載の方法にしたがって無水テトラヒドロフ
ラン中における3.2gの1,4−ジメトキシ−3−ブロ
モ−ナフタレンの溶液を−78℃においてn−ブチルリ
チウムで処理しついでこれを2.7gの実施例3で製造
された化合物の無水テトラヒドロフラン中における溶液
に加えた。シリカゲルカラムでの精製後に2.8gの前
記表題化合物が得られた(65%収率)。m/z 426
(M+)。 IR(フィルム):1780cm-1(C=O、5員環ラク
トン)、1670cm-1(C=O、ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.4(s,C
H 3)、3.85(s,2個のOCH3 )、3.9(s,−
O−CH2 −CH2 −O−)、6.9(s,芳香族H)お
よび7.4〜8.4(m,4個の芳香族H)。
−5−(2−メチル−ジオキソラン−2−イル)−6−
オキサ−ビシクロ〔3,2,1〕オクタン−7−オン(I
X、R=H) 参考例4に記載の方法にしたがって無水テトラヒドロフ
ラン中における3.2gの1,4−ジメトキシ−3−ブロ
モ−ナフタレンの溶液を−78℃においてn−ブチルリ
チウムで処理しついでこれを2.7gの実施例3で製造
された化合物の無水テトラヒドロフラン中における溶液
に加えた。シリカゲルカラムでの精製後に2.8gの前
記表題化合物が得られた(65%収率)。m/z 426
(M+)。 IR(フィルム):1780cm-1(C=O、5員環ラク
トン)、1670cm-1(C=O、ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.4(s,C
H 3)、3.85(s,2個のOCH3 )、3.9(s,−
O−CH2 −CH2 −O−)、6.9(s,芳香族H)お
よび7.4〜8.4(m,4個の芳香族H)。
【0031】参考例11 1−(1,4−ジメトキシ−3−ナフチルメチル)−2
−ベンジルオキシカルボニル−4−(1−ヒドロキシエ
チル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(XI、R=
H) 参考例5に記載のように操作して2−(1,4−ジメト
キシ−3−ナフチルカルボニル)−5−(2−メチル−
ジオキソラン−2−イル)−6−オキサ−ビシクロ
〔3,2,1〕オクタン−7−オン(参考例10の記載に
より製造)をメタノール中における塩化水素の溶液で処
理してほぼ定量的収率で1−(1,4−ジメトキシ−3
−ナフチルカルボニル)−2−メトキシカルボニル−4
−アセチル−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(X、R
=H)を得た。m/z 414(M+)。 IR(フィルム):3460cm-1(OH)、1730cm
-1(C=O エステル)、1710cm-1(C=O ケト
ン)および1670cm-1(C=O ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.3(s,CH 3C
O)、2.9〜3.6(m,2個のH)、3.7〜3.9
(s,3個のOCH3 )、6.9(s,芳香族H)および
7.4〜8.4(m,4個の芳香族H)。
−ベンジルオキシカルボニル−4−(1−ヒドロキシエ
チル)−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(XI、R=
H) 参考例5に記載のように操作して2−(1,4−ジメト
キシ−3−ナフチルカルボニル)−5−(2−メチル−
ジオキソラン−2−イル)−6−オキサ−ビシクロ
〔3,2,1〕オクタン−7−オン(参考例10の記載に
より製造)をメタノール中における塩化水素の溶液で処
理してほぼ定量的収率で1−(1,4−ジメトキシ−3
−ナフチルカルボニル)−2−メトキシカルボニル−4
−アセチル−4−ヒドロキシ−シクロヘキサン(X、R
=H)を得た。m/z 414(M+)。 IR(フィルム):3460cm-1(OH)、1730cm
-1(C=O エステル)、1710cm-1(C=O ケト
ン)および1670cm-1(C=O ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.3(s,CH 3C
O)、2.9〜3.6(m,2個のH)、3.7〜3.9
(s,3個のOCH3 )、6.9(s,芳香族H)および
7.4〜8.4(m,4個の芳香族H)。
【0032】この化合物1gはピリジン−ボラン錯体で
還元し、塩基処理しそして最後にフェニルジアゾメタン
でエステル化することにより前記表題化合物に変換され
た(0.7g、全収率63%)。m/z 478
(M+)。 IR(フィルム):3450cm-1(OH)、1725cm
-1(C=O、エステル)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4H
z,CH3 −CH)、3.85〜3.9(s,2個のOC
H3 )、5.1(s,CH2 −ベンジル)、6.6(s,芳
香族H)および7.2〜8.4(m,9個の芳香族水
素)。
還元し、塩基処理しそして最後にフェニルジアゾメタン
でエステル化することにより前記表題化合物に変換され
た(0.7g、全収率63%)。m/z 478
(M+)。 IR(フィルム):3450cm-1(OH)、1725cm
-1(C=O、エステル)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4H
z,CH3 −CH)、3.85〜3.9(s,2個のOC
H3 )、5.1(s,CH2 −ベンジル)、6.6(s,芳
香族H)および7.2〜8.4(m,9個の芳香族水
素)。
【0033】参考例12 1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2
−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,1
1−ジメトキシ−12−オキソ−ナフタセン(XIII、R
=H) 参考例6に記載のように操作して0.44gの1−(1,
4−ジメトキシ−3−ナフチルメチル)−2−ベンジル
オキシカルボニル−4−(1−ヒドロキシエチル)−4
−ヒドロキシ−シクロヘキサン(参考例11の記載によ
り製造)を4−ジメチルアミノ−ピリジンおよびピリジ
ンの存在下において酢酸無水物で処理した。相当する酢
酸塩をそのベンジル基の除去のために10重量%Pd/C
の存在下においてシクロヘキセンで処理した。この酸を
0℃においてトリフルオロ酢酸無水物およびトリフルオ
ロ酢酸の混合物で処理することにより環化した。最後に
ナトリウムメチラートでの処理によりアセチルO−保護
基を除去し、シリカゲルカラム上でのクロマトグラフィ
ーにより精製した後に0.225gの前記表題化合物を
得た(全収率66%)。 IR(フィルム):3450cm-1(OH)、1675cm
-1(C=O、ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4H
z,CH3 −CH)、1.6〜3.5(m,3H)、3.8
5(s,OCH3)、3.90(s,OCH3)、7.2〜
8.4(m,4個の芳香族H)。
−(1−ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシ−6,1
1−ジメトキシ−12−オキソ−ナフタセン(XIII、R
=H) 参考例6に記載のように操作して0.44gの1−(1,
4−ジメトキシ−3−ナフチルメチル)−2−ベンジル
オキシカルボニル−4−(1−ヒドロキシエチル)−4
−ヒドロキシ−シクロヘキサン(参考例11の記載によ
り製造)を4−ジメチルアミノ−ピリジンおよびピリジ
ンの存在下において酢酸無水物で処理した。相当する酢
酸塩をそのベンジル基の除去のために10重量%Pd/C
の存在下においてシクロヘキセンで処理した。この酸を
0℃においてトリフルオロ酢酸無水物およびトリフルオ
ロ酢酸の混合物で処理することにより環化した。最後に
ナトリウムメチラートでの処理によりアセチルO−保護
基を除去し、シリカゲルカラム上でのクロマトグラフィ
ーにより精製した後に0.225gの前記表題化合物を
得た(全収率66%)。 IR(フィルム):3450cm-1(OH)、1675cm
-1(C=O、ベンジルケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ1.3(d,J=4H
z,CH3 −CH)、1.6〜3.5(m,3H)、3.8
5(s,OCH3)、3.90(s,OCH3)、7.2〜
8.4(m,4個の芳香族H)。
【0034】参考例13 1,2,3,4,4a,5,12,12a−オクタヒドロ−2
−アセチル−2−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−
12−オキソ−ナフタセン ベンゼン中における0.1gの1,2,3,4,4a,5,1
2,12a−オクタヒドロ−2−(1−ヒドロキシエチ
ル)−2−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−12−
オキソ−ナフタセン(参考例12の記載により製造)を
還流温度において1gの炭酸銀で処理した。無機固体分
を濾去しそして溶媒を除去した後に0.1gの前記表題
生成物が得られた。 IR(フィルム):3460cm-1(OH)、1710cm
-1(C=O ケトン)、1680cm-1(C=O ベンジル
ケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.4(s,CH3C
O)、3.85(s,OCH3)、3.90(s,OC
H3)、7.2〜8.4(m,4個の芳香族H)。
−アセチル−2−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−
12−オキソ−ナフタセン ベンゼン中における0.1gの1,2,3,4,4a,5,1
2,12a−オクタヒドロ−2−(1−ヒドロキシエチ
ル)−2−ヒドロキシ−6,11−ジメトキシ−12−
オキソ−ナフタセン(参考例12の記載により製造)を
還流温度において1gの炭酸銀で処理した。無機固体分
を濾去しそして溶媒を除去した後に0.1gの前記表題
生成物が得られた。 IR(フィルム):3460cm-1(OH)、1710cm
-1(C=O ケトン)、1680cm-1(C=O ベンジル
ケトン)、 PMR(CDCl3):とりわけδ2.4(s,CH3C
O)、3.85(s,OCH3)、3.90(s,OC
H3)、7.2〜8.4(m,4個の芳香族H)。
【0035】参考例14 4−デメトキシ−6,7−ジデオキシダウノマイシノン
(XIV、R=H) 参考例8に記載のように操作して3mlのニトロベンゼン
中における0.1gの1,2,3,4,4a,5,12,12a
−オクタヒドロ−2−アセチル−2−ヒドロキシ−6,
11−ジメトキシ−12−オキソ−ナフタセン(参考例
13の記載により製造)の溶液を室温で一夜0.25g
の三塩化アルミニウムで処理した。これをシリカゲルカ
ラムでのクロマトグラフィーにかけた後に0.055g
(63%収率)の前記表題化合物を得た。融点203〜
204℃。
(XIV、R=H) 参考例8に記載のように操作して3mlのニトロベンゼン
中における0.1gの1,2,3,4,4a,5,12,12a
−オクタヒドロ−2−アセチル−2−ヒドロキシ−6,
11−ジメトキシ−12−オキソ−ナフタセン(参考例
13の記載により製造)の溶液を室温で一夜0.25g
の三塩化アルミニウムで処理した。これをシリカゲルカ
ラムでのクロマトグラフィーにかけた後に0.055g
(63%収率)の前記表題化合物を得た。融点203〜
204℃。
【0036】実施例1 6−デオキシ−4−デメチルダウノルビシン(XVb) 参考例9に記載のようにして製造された90mg(0.2
4ミリモル)のラセミ6−デオキシ−カルミノマイシノ
ンを無水ジクロロメタンに溶解しそしてその溶液を5〜
10℃に冷却した。「Cancer Chemotherapy Reports」
第3部第6巻第2号第123頁に記載の操作にしたがっ
て製造された2.4mg(0.6ミリモル)の1−クロロ−
N,O−ジトリフルオロアセチル−ダウノサミンのジエ
チルエーテル中における溶液およびジクロロメタン中に
おける154mg(0.6ミリモル)のトリフルオロメタ
ンスルホン酸銀の溶液を激しい撹拌下に同時かつ迅速に
加えた。
4ミリモル)のラセミ6−デオキシ−カルミノマイシノ
ンを無水ジクロロメタンに溶解しそしてその溶液を5〜
10℃に冷却した。「Cancer Chemotherapy Reports」
第3部第6巻第2号第123頁に記載の操作にしたがっ
て製造された2.4mg(0.6ミリモル)の1−クロロ−
N,O−ジトリフルオロアセチル−ダウノサミンのジエ
チルエーテル中における溶液およびジクロロメタン中に
おける154mg(0.6ミリモル)のトリフルオロメタ
ンスルホン酸銀の溶液を激しい撹拌下に同時かつ迅速に
加えた。
【0037】5分後、さらに別の0.3ミリモルのハロ
糖および0.3ミリモルのトリフルオロメタンスルホン
酸銀を加えた。5分後、この反応をコリジンで急冷させ
た。この混合物を濾過し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液および水で洗浄し、乾燥させそして真空下で濃縮し
た。得られた帯赤色油状物を100mlのメタノールで希
釈しそして室温で一夜放置してO−トリフルオロアセチ
ル基を除去した。生成する粗生成物をジクロロメタン/
メタノール/アセトン(20:1:1容量比)を用いて
のシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーによ
り精製して式XVaのアントラサイクリンα−グリコシド
(7S:9S)を得た。20mg、融点210〜212
℃。溶離剤としてメチレンジクロライド/アセトン
(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート(メルク
F254)上のTLCにおけるRf=0.27。m/z 5
93(M+)。 PMR(2000 MHz, CDCl3):とりわけδ1.44(d,J=6.6H
z,3H,CH3-5′)、2.42(s,3H,COCH3)、3.25〜3.05(two d,
J=19Hz,2H,H-10)、4.22(s,1H,OH-9)、5.01(t,J=3.6Hz,1
H,H-7)、5.20(t,J=2.7Hz,1H,H-1′)、6.66(bd,J=9Hz,1
H,NH)、7.80(s,1H,H-6)、12.62(s,1H,OH-4)、13.06(s,1
H,OH-11);m/z 593(M+) 7R:9R 25mg、m.p.174〜178℃。
糖および0.3ミリモルのトリフルオロメタンスルホン
酸銀を加えた。5分後、この反応をコリジンで急冷させ
た。この混合物を濾過し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液および水で洗浄し、乾燥させそして真空下で濃縮し
た。得られた帯赤色油状物を100mlのメタノールで希
釈しそして室温で一夜放置してO−トリフルオロアセチ
ル基を除去した。生成する粗生成物をジクロロメタン/
メタノール/アセトン(20:1:1容量比)を用いて
のシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーによ
り精製して式XVaのアントラサイクリンα−グリコシド
(7S:9S)を得た。20mg、融点210〜212
℃。溶離剤としてメチレンジクロライド/アセトン
(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート(メルク
F254)上のTLCにおけるRf=0.27。m/z 5
93(M+)。 PMR(2000 MHz, CDCl3):とりわけδ1.44(d,J=6.6H
z,3H,CH3-5′)、2.42(s,3H,COCH3)、3.25〜3.05(two d,
J=19Hz,2H,H-10)、4.22(s,1H,OH-9)、5.01(t,J=3.6Hz,1
H,H-7)、5.20(t,J=2.7Hz,1H,H-1′)、6.66(bd,J=9Hz,1
H,NH)、7.80(s,1H,H-6)、12.62(s,1H,OH-4)、13.06(s,1
H,OH-11);m/z 593(M+) 7R:9R 25mg、m.p.174〜178℃。
【0038】溶離剤としてメチレンジクロライド/アセ
トン(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート(メ
ルクF254)上のTLCにおけるRf=0.23。m/z
593(M+)。 PMR(200 MHz, CDCl3):とりわけδ1.44(d,J=6.5Hz,
3H,CH3-5′)、2.41(s,3H,COCH3)、2.96(d,J=19Hz,1H,H-
10 ax)、3.30(dd,J=1,19Hz,1H,H-10 eq)、4.25(s,1H,OH
-9)、5.07(t,J=3.3Hz,1H,H-7)、5.27(t,J=1.8Hz,1H,H-
1′)、6.64(bd,J=9Hz,1H,NH)、7.74(s,1H,H-6)、12.66
(s,1H,OH-4)、13.10(s,1H,OH-11)。
トン(4:1容量比)を使用しての珪藻土プレート(メ
ルクF254)上のTLCにおけるRf=0.23。m/z
593(M+)。 PMR(200 MHz, CDCl3):とりわけδ1.44(d,J=6.5Hz,
3H,CH3-5′)、2.41(s,3H,COCH3)、2.96(d,J=19Hz,1H,H-
10 ax)、3.30(dd,J=1,19Hz,1H,H-10 eq)、4.25(s,1H,OH
-9)、5.07(t,J=3.3Hz,1H,H-7)、5.27(t,J=1.8Hz,1H,H-
1′)、6.64(bd,J=9Hz,1H,NH)、7.74(s,1H,H-6)、12.66
(s,1H,OH-4)、13.10(s,1H,OH-11)。
【0039】式XVaの化合物を穏和なアルカリ加水分解
に付してN−トリフルオロアセチル基を除去することに
より前記表題化合物が定量的収率で得られた。溶離剤と
してメチレンジクロライド/メタノール/酢酸/水(8
0:20:7:3容量比)を使用しての珪藻土プレート
(メルクF254)上のTLCのRf=0.47。
に付してN−トリフルオロアセチル基を除去することに
より前記表題化合物が定量的収率で得られた。溶離剤と
してメチレンジクロライド/メタノール/酢酸/水(8
0:20:7:3容量比)を使用しての珪藻土プレート
(メルクF254)上のTLCのRf=0.47。
【0040】実施例2 6−デオキシ−4−デメチル−ドキソルビシン(XVc) メタノールおよびジオキサンの混合物中における6−デ
オキシ−4−デメチル−ダウノルビシン(実施例1の記
載により製造)の溶液を臭素で処理して14−ブロモ誘
導体を生成させた。この14−ブロモ誘導体を室温にお
いて100時間ぎ酸ナトリウム水溶液で処理して6−デ
オキシ−4−デメチル−ドキソルビシンを得た。融点1
67〜170℃。溶媒系CH2Cl2/MeOH/AcO
H/H2O(8:2:0.7:0.3 v/v)を使用して
のTLC(メルクF254)上のクロマトグラフィーによ
るRf=0.47。
オキシ−4−デメチル−ダウノルビシン(実施例1の記
載により製造)の溶液を臭素で処理して14−ブロモ誘
導体を生成させた。この14−ブロモ誘導体を室温にお
いて100時間ぎ酸ナトリウム水溶液で処理して6−デ
オキシ−4−デメチル−ドキソルビシンを得た。融点1
67〜170℃。溶媒系CH2Cl2/MeOH/AcO
H/H2O(8:2:0.7:0.3 v/v)を使用して
のTLC(メルクF254)上のクロマトグラフィーによ
るRf=0.47。
フロントページの続き (72)発明者 フエデリコ・アルカモーネ イタリア国20014ネルヴイアーノ.ヴイア クアトロノヴエンブレ26
Claims (11)
- 【請求項1】 一般式XV 【化1】 (式中、R1は水素原子または水酸基を表わし、R2およ
びR3のうちの一方は水素原子を表わし、他方は水素原
子または水酸基を表わし、Xは水素原子またはトリフル
オロアセチル基を表わすが、但しXがトリフルオロアセ
チル基を表わす場合にはR1は水素を表わす)を有する
アントラサイクリングリコシド類。 - 【請求項2】 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリ
フルオロアセチル−ダウノルビシンである、請求項1に
記載の式XVによる化合物。 - 【請求項3】 4−デメチル−6−デオキシ−ダウノル
ビシンである、請求項1に記載の式XVによる化合物。 - 【請求項4】 4−デメチル−6−デオキシ−ドキソル
ビシンである、請求項1に記載の式XVによる化合物。 - 【請求項5】 4−デメチル−6−デオキシ−N−トリ
フルオロアセチル−4′−エピ−ダウノルビシンであ
る、請求項1に記載の式XVによる化合物。 - 【請求項6】 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エ
ピ−ダウノルビシンである、請求項1に記載の式XVによ
る化合物。 - 【請求項7】 4−デメチル−6−デオキシ−4′−エ
ピ−ドキソルビシンである、請求項1に記載の式XVによ
る化合物。 - 【請求項8】 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−
N−トリフルオロアセチル−ダウノルビシンである、請
求項1に記載の式XVによる化合物。 - 【請求項9】 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ−
ダウノルビシンである、請求項1に記載の式XVによる化
合物。 - 【請求項10】 4−デメチル−6,4′−ジデオキシ
−ドキソルビシンである、請求項1に記載の式XVによる
化合物。 - 【請求項11】 一般式XV 【化2】 (式中、R1は水素原子または水酸基を表わし、R2およ
びR3のうちの一方は水素原子を表わし、他方は水素原
子または水酸基を表わし、Xは水素原子またはトリフル
オロアセチル基を表わすが、但しXがトリフルオロアセ
チル基を表わす場合にはR1は水素を表わす)を有する
アントラサイクリングリコシド類を製造するにあたり、
一般式I 【化3】 のラセミ6−デオキシアントラサイクリノンを無水ジク
ロロメタンに溶解して、トリフルオロメタンスルホン酸
銀の存在下で5〜10℃の温度において、一般式XVI 【化4】 (式中、R2およびR3のうちの一方は水素原子を表わし
そして他方は水素原子またはトリフルオロアセトキシ基
を表わし、Halはハロゲン原子、好ましくは塩素原子を
表わす)の保護されたハロ糖と縮合させて一般式XVのα
−グリコシドの7S:9Sおよび7R:9RのN,O−
トリフルオロアセチル保護誘導体の混合物を得、そのO
−トリフルオロアセチル保護基を室温で一夜メタノール
処理して除去し、得られたN−トリフルオロアセチル保
護グリコシドのジアステレオマー混合物を溶離系として
ジクロロメタン/メタノール/アセトン(20:1:1
v/v)混合物を使用してのシリカゲルカラム上での
クロマトグラフィーに付して相当する純粋な7S:9S
N−トリフルオロアセチル保護グリコシドを得、これ
より穏和なアルカリ加水分解の後に式中R1が水素であ
る一般式XVの所望7S:9S α−グリコシドを得、つ
いで所望によりこの得られたα−グリコシドをクロロホ
ルム中において臭素で処理してそれらの対応する14−
ブロモ誘導体を得、これより引き続いてぎ酸ナトリウム
水溶液で加水分解してそれらの対応するドキソルビシン
同族体(R1=OH)を最終的に得ることを特徴とする
製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB838317037A GB8317037D0 (en) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | 6-deoxyanthracyclines |
| GB8317037 | 1983-06-23 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59126567A Division JPS6013735A (ja) | 1983-06-23 | 1984-06-21 | 6―デオキシアントラサイクリノン類の製法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0641179A JPH0641179A (ja) | 1994-02-15 |
| JPH0735392B2 true JPH0735392B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
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Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59126567A Granted JPS6013735A (ja) | 1983-06-23 | 1984-06-21 | 6―デオキシアントラサイクリノン類の製法 |
| JP4220019A Expired - Lifetime JPH0735392B2 (ja) | 1983-06-23 | 1992-08-19 | アントラサイクリングリコシド類およびその製法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59126567A Granted JPS6013735A (ja) | 1983-06-23 | 1984-06-21 | 6―デオキシアントラサイクリノン類の製法 |
Country Status (20)
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| JP (2) | JPS6013735A (ja) |
| AT (1) | AT390252B (ja) |
| AU (2) | AU561456B2 (ja) |
| BE (1) | BE899963A (ja) |
| CA (1) | CA1234104A (ja) |
| CH (2) | CH665422A5 (ja) |
| CS (2) | CS243500B2 (ja) |
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| FR (1) | FR2549046B1 (ja) |
| GB (1) | GB8317037D0 (ja) |
| GR (1) | GR82130B (ja) |
| HU (2) | HU196821B (ja) |
| IL (1) | IL72168A (ja) |
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| NL (1) | NL8401957A (ja) |
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| ZA (1) | ZA844719B (ja) |
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| GB2182926B (en) * | 1985-11-19 | 1989-10-04 | Erba Farmitalia | Nitro anthracyclines, process for their preparation and use thereof |
| GB8803301D0 (en) * | 1988-02-12 | 1988-03-09 | Erba Carlo Spa | Process for preparation of 4-demethoxy-daunomycinone aglycone of 4-demethoxy-daunorubicin |
| IT1275953B1 (it) * | 1995-03-22 | 1997-10-24 | Sicor Spa | Procedimento per la preparazione di antibiotici della classe delle antracicline |
| US5948896A (en) * | 1997-08-13 | 1999-09-07 | Gem Pharmaceuticals | Processes for preparing 13-deoxy anthracycline derivatives |
| US5942605A (en) * | 1998-03-03 | 1999-08-24 | Gem Pharmaceuticals, Inc. | 5-imino-13-deoxy anthracycline derivatives, their uses, and processes for preparing them |
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| US4348388A (en) * | 1980-04-02 | 1982-09-07 | G.D. Searle & Co. | 11-Amino-11-deoxydaunorubicin and analogs |
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