JPH073647Y2 - 半導体圧力センサ - Google Patents
半導体圧力センサInfo
- Publication number
- JPH073647Y2 JPH073647Y2 JP16553788U JP16553788U JPH073647Y2 JP H073647 Y2 JPH073647 Y2 JP H073647Y2 JP 16553788 U JP16553788 U JP 16553788U JP 16553788 U JP16553788 U JP 16553788U JP H073647 Y2 JPH073647 Y2 JP H073647Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- semiconductor substrate
- pressure sensor
- pressure
- dimension
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
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- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 [考案の目的] (産業上の利用分野) 本考案は、半導体基板に長尺状のダイヤフラムを形成
し、このダイヤフラムに加わる圧力に応じたピエゾ抵抗
効果を利用する半導体圧力センサに関する。
し、このダイヤフラムに加わる圧力に応じたピエゾ抵抗
効果を利用する半導体圧力センサに関する。
(従来の技術) 従来、この種の半導体圧力センサとしては第4図に示す
ようなものがある。この第4図において、1は面方位を
(110)面とするシリコン単結晶よりなる正方形状の半
導体基板で、2はこの半導体基板1に形成された長尺状
で薄肉のダイヤフラムである。このダイヤフラム2は、
その長さ方向が半導体基板1の縁辺と平行になるように
してその中央部に配置されており、その幅方向が半導体
基板1の結晶軸<111>方向に沿うようになっている。
また、このダイヤフラム2は、半導体基板1の下面側か
ら異方性エッチングにより長尺状の溝部3を形成して所
定の厚さに設けられているものである。4はダイヤフラ
ム2の中央部に幅方向に沿った不純物の拡散により形成
された抵抗部である。このように形成された半導体基板
1は図示しない基台に固着され、上記溝部3を閉塞して
基準圧力室とするように設置されるものである。
ようなものがある。この第4図において、1は面方位を
(110)面とするシリコン単結晶よりなる正方形状の半
導体基板で、2はこの半導体基板1に形成された長尺状
で薄肉のダイヤフラムである。このダイヤフラム2は、
その長さ方向が半導体基板1の縁辺と平行になるように
してその中央部に配置されており、その幅方向が半導体
基板1の結晶軸<111>方向に沿うようになっている。
また、このダイヤフラム2は、半導体基板1の下面側か
ら異方性エッチングにより長尺状の溝部3を形成して所
定の厚さに設けられているものである。4はダイヤフラ
ム2の中央部に幅方向に沿った不純物の拡散により形成
された抵抗部である。このように形成された半導体基板
1は図示しない基台に固着され、上記溝部3を閉塞して
基準圧力室とするように設置されるものである。
而して、外部の圧力変化により上記基準圧力室内の圧力
の差が生じると、ダイヤフラム2が変形し、この結果、
抵抗部4の抵抗値がピエゾ抵抗効果により変化し、この
抵抗値の変化分を電気的に検出することによって圧力の
測定が行なわれるものである。
の差が生じると、ダイヤフラム2が変形し、この結果、
抵抗部4の抵抗値がピエゾ抵抗効果により変化し、この
抵抗値の変化分を電気的に検出することによって圧力の
測定が行なわれるものである。
(考案が解決しようとする課題) ところで、このような半導体圧力センサは、ダイヤフラ
ム2の肉厚を一定とした場合、その長さ寸法l及び幅寸
法wによって圧力に対して得られる出力の直線性領域が
決まってくるものであり、例えば長さ寸法lと幅寸法w
をその比l/wを一定にして大きくすれば、圧力に対する
出力の直線性を変えずにその出力を大きくすることがで
きるものである。
ム2の肉厚を一定とした場合、その長さ寸法l及び幅寸
法wによって圧力に対して得られる出力の直線性領域が
決まってくるものであり、例えば長さ寸法lと幅寸法w
をその比l/wを一定にして大きくすれば、圧力に対する
出力の直線性を変えずにその出力を大きくすることがで
きるものである。
しかしながら、従来のような構成ではダイヤフラム2の
長さ寸法lと溝部3の上,下端部に異方性エッチングに
よりできる斜面部3a,3bの長さとを加えた溝部3の長寸
法Lが、半導体基板1の一辺の長さAから強度保持のた
めに残す上,下部の寸法aを除いたA−2aとして決まっ
てしまうため、上述したように圧力センサとしての性能
を向上させるためには、半導体基板1を大きくしなけれ
ばならないという問題があった。
長さ寸法lと溝部3の上,下端部に異方性エッチングに
よりできる斜面部3a,3bの長さとを加えた溝部3の長寸
法Lが、半導体基板1の一辺の長さAから強度保持のた
めに残す上,下部の寸法aを除いたA−2aとして決まっ
てしまうため、上述したように圧力センサとしての性能
を向上させるためには、半導体基板1を大きくしなけれ
ばならないという問題があった。
本考案は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その
目的は、半導体基板の大形化を伴うことなく、圧力に対
する出力を大きくしてその性能を向上し得る半導体圧力
センサを提供するにある。
目的は、半導体基板の大形化を伴うことなく、圧力に対
する出力を大きくしてその性能を向上し得る半導体圧力
センサを提供するにある。
[考案の構成] (課題を解決するための手段) 本考案の半導体圧力センサは、面方位を(110)面とす
る矩形状の半導体基板に対して、長尺状をなし薄肉のダ
イヤフラムをその幅方向を<111>方向に沿わせ且つ長
さ方向を対角線上に沿わせて配置するように形成したこ
とを特徴とする。
る矩形状の半導体基板に対して、長尺状をなし薄肉のダ
イヤフラムをその幅方向を<111>方向に沿わせ且つ長
さ方向を対角線上に沿わせて配置するように形成したこ
とを特徴とする。
(作用) 本考案の半導体圧力センサによれば、ダイヤフラムを、
その長さ方向が半導体基板に対して対角線方向に配置さ
れるように形成しているので、長さ寸法及び幅寸法の両
者を共に従来よりも大きくすることができ、この結果、
ダイヤフラムの面積が大きくなって、圧力に対する出力
の直線性領域を低下させることなく、感度が大きくな
る。
その長さ方向が半導体基板に対して対角線方向に配置さ
れるように形成しているので、長さ寸法及び幅寸法の両
者を共に従来よりも大きくすることができ、この結果、
ダイヤフラムの面積が大きくなって、圧力に対する出力
の直線性領域を低下させることなく、感度が大きくな
る。
(実施例) 以下、本考案の一実施例について第1図乃至第3図を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
第1図において、11は例えば一辺の長さをAとする矩形
状たる正方形状の半導体基板であり、これは面方位を
(110)面とするシリコン単結晶ウエハから切出された
ものである。また、この半導体基板11はその頂点11a乃
至11dのうち頂点11a及び11cを結ぶ対角線方向が<111>
方向の結晶軸となるように切出されているものである。
12は長さ寸法l′,幅寸法w′の長尺状をなした薄肉の
ダイヤフラムで、長さ方向が頂点11b,11dを結ぶ対角線
に沿って配置され、従って幅方向は頂点11a,11cを結ぶ
対角線方向即ち<111>方向に沿って配置されている。
この場合、ダイヤフラム2は、半導体基板11の下面側に
溝部13を形成して半導体基板11の厚さを、薄くすること
によって形成しているものである。この溝部13は、第2
図及び第3図に示すように、半導体基板11の下面に設け
た所定形状のエッチングマスク14を用い、水酸化カリウ
ム等のアルカリ溶液により異方性エッチングを行なって
形成しているもので、長さ方向に対してその両端部13a,
13bが斜面となり、側面部13c,13dは底面に垂直な面とな
り、これらの面13a乃至13dは全て(111)面となつてい
る。尚、この溝部13は、半導体基板11の強度保持のた
め、従来同様に外周から所定寸法aだけ内側に位置する
ように設けられている。15はダイヤフラム12の中央部に
形成された抵抗部で、これはダイヤフラム12の幅方向即
ち<111>方向に沿って拡散等の方法により作り込まれ
るものである。このような半導体基板11は溝部13を密閉
するように図示しない基台に固着されるもので、これに
より溝部13は基準圧力室として作用するようになってい
る。
状たる正方形状の半導体基板であり、これは面方位を
(110)面とするシリコン単結晶ウエハから切出された
ものである。また、この半導体基板11はその頂点11a乃
至11dのうち頂点11a及び11cを結ぶ対角線方向が<111>
方向の結晶軸となるように切出されているものである。
12は長さ寸法l′,幅寸法w′の長尺状をなした薄肉の
ダイヤフラムで、長さ方向が頂点11b,11dを結ぶ対角線
に沿って配置され、従って幅方向は頂点11a,11cを結ぶ
対角線方向即ち<111>方向に沿って配置されている。
この場合、ダイヤフラム2は、半導体基板11の下面側に
溝部13を形成して半導体基板11の厚さを、薄くすること
によって形成しているものである。この溝部13は、第2
図及び第3図に示すように、半導体基板11の下面に設け
た所定形状のエッチングマスク14を用い、水酸化カリウ
ム等のアルカリ溶液により異方性エッチングを行なって
形成しているもので、長さ方向に対してその両端部13a,
13bが斜面となり、側面部13c,13dは底面に垂直な面とな
り、これらの面13a乃至13dは全て(111)面となつてい
る。尚、この溝部13は、半導体基板11の強度保持のた
め、従来同様に外周から所定寸法aだけ内側に位置する
ように設けられている。15はダイヤフラム12の中央部に
形成された抵抗部で、これはダイヤフラム12の幅方向即
ち<111>方向に沿って拡散等の方法により作り込まれ
るものである。このような半導体基板11は溝部13を密閉
するように図示しない基台に固着されるもので、これに
より溝部13は基準圧力室として作用するようになってい
る。
上記構成によれば、基準圧力室たる溝部13内の圧力と外
部の圧力とに差が生じたときに、ダイヤフラム12はその
圧力差による力を受けて変形し、この変形応力により抵
抗部15がピエゾ抵抗効果による抵抗値の変化をおこすの
で、この抵抗値の変化を電気的に検出することにより外
部の圧力が測定できるものである。この場合、ダイヤフ
ラム12の長さ寸法l′は従来のダイヤフラム2の長さ寸
法lより長く形成されているのでその分だけ圧力に対す
る抵抗部13の変化の直線性領域が大きくなっている。即
ち、ダイヤフラム12の最大の長さ寸法l′は溝部13の長
さ寸法L′から両端部13a,13bの寸法を差し引いた寸法
であるから、この溝部13の長さ寸法L′と従来の溝部3
の長さ寸法Lとを比較してみると、夫々の寸法L及び
L′は、 L=A−2a ……(1) と表わされるので、その差は、 となる。いま、ダイヤフラム12の長さ寸法l′と幅寸法
w′の比l′/w′を従来の比l/wと同じ値(k)に設定
しているとすると、この比kの値が大きい程式(3)に
示される寸法も大きくなるが、一般に、この比kの値は
大きく設定されているので、本実施例においても式
(3)に示す寸法が正の値となり、長さ寸法L′はLよ
りも長くなるものである。
部の圧力とに差が生じたときに、ダイヤフラム12はその
圧力差による力を受けて変形し、この変形応力により抵
抗部15がピエゾ抵抗効果による抵抗値の変化をおこすの
で、この抵抗値の変化を電気的に検出することにより外
部の圧力が測定できるものである。この場合、ダイヤフ
ラム12の長さ寸法l′は従来のダイヤフラム2の長さ寸
法lより長く形成されているのでその分だけ圧力に対す
る抵抗部13の変化の直線性領域が大きくなっている。即
ち、ダイヤフラム12の最大の長さ寸法l′は溝部13の長
さ寸法L′から両端部13a,13bの寸法を差し引いた寸法
であるから、この溝部13の長さ寸法L′と従来の溝部3
の長さ寸法Lとを比較してみると、夫々の寸法L及び
L′は、 L=A−2a ……(1) と表わされるので、その差は、 となる。いま、ダイヤフラム12の長さ寸法l′と幅寸法
w′の比l′/w′を従来の比l/wと同じ値(k)に設定
しているとすると、この比kの値が大きい程式(3)に
示される寸法も大きくなるが、一般に、この比kの値は
大きく設定されているので、本実施例においても式
(3)に示す寸法が正の値となり、長さ寸法L′はLよ
りも長くなるものである。
このような本実施例によれば、ダイヤフラム12を、その
長さ方向を半導体基板11の対角線に沿って配置し且つ幅
方向を<111>方向に配置するようにしたので、従来の
ものに比してダイヤフラム12の長さ寸法l′及び幅寸法
w′を共に長くすることができ、従って、比k(=l′
/w′)を従来と同じにして夫々の長さ寸法を大きくする
ことができるようになり、圧力に対する出力の直線性領
域を低下させることなく、感度が大きくとれ、半導体基
板11を大きくすることなく性能を向上することができる
ものである。
長さ方向を半導体基板11の対角線に沿って配置し且つ幅
方向を<111>方向に配置するようにしたので、従来の
ものに比してダイヤフラム12の長さ寸法l′及び幅寸法
w′を共に長くすることができ、従って、比k(=l′
/w′)を従来と同じにして夫々の長さ寸法を大きくする
ことができるようになり、圧力に対する出力の直線性領
域を低下させることなく、感度が大きくとれ、半導体基
板11を大きくすることなく性能を向上することができる
ものである。
[考案の効果] 以上説明したように、本考案の半導体圧力センサによれ
ば、ダイヤフラムを半導体基板に対してその幅方向が軸
方位<111>方向に沿い且つ長さ方向が対角線上に沿う
ように配置したので、従来に比べてダイヤフラムの長さ
寸法を長くとることができ、従って、半導体基板を大き
くすることなく圧力に対する出力の直線性領域を低下さ
せることなく感度を大きくすることができるという優れ
た効果を奏するものである。
ば、ダイヤフラムを半導体基板に対してその幅方向が軸
方位<111>方向に沿い且つ長さ方向が対角線上に沿う
ように配置したので、従来に比べてダイヤフラムの長さ
寸法を長くとることができ、従って、半導体基板を大き
くすることなく圧力に対する出力の直線性領域を低下さ
せることなく感度を大きくすることができるという優れ
た効果を奏するものである。
第1図は本考案の一実施例を示す平面図、第2図及び第
3図は夫々同ダイヤフラムの長さ方向及び幅方向の縦断
側面図であり、第4図は従来例を示す第1図相当図であ
る。 図面中、11は半導体基板、12はダイヤフラム、13は溝
部、15は抵抗部を示す。
3図は夫々同ダイヤフラムの長さ方向及び幅方向の縦断
側面図であり、第4図は従来例を示す第1図相当図であ
る。 図面中、11は半導体基板、12はダイヤフラム、13は溝
部、15は抵抗部を示す。
Claims (1)
- 【請求項1】面方位を(110)面とする矩形状の半導体
基板に長尺状をなす薄肉のダイヤフラムが形成されてな
る半導体圧力センサにおいて、前記ダイヤフラムは前記
半導体基板に対してその幅方向が軸方位<111>方向に
沿い且つ長さ方向が対角線上に沿って配置されているこ
とを特徴とする半導体圧力センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16553788U JPH073647Y2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 半導体圧力センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16553788U JPH073647Y2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 半導体圧力センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286152U JPH0286152U (ja) | 1990-07-09 |
| JPH073647Y2 true JPH073647Y2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=31452113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16553788U Expired - Lifetime JPH073647Y2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 半導体圧力センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH073647Y2 (ja) |
-
1988
- 1988-12-21 JP JP16553788U patent/JPH073647Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0286152U (ja) | 1990-07-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |