JPH0737588B2 - フタロシアニンの製造法 - Google Patents

フタロシアニンの製造法

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JPH0737588B2
JPH0737588B2 JP3094217A JP9421791A JPH0737588B2 JP H0737588 B2 JPH0737588 B2 JP H0737588B2 JP 3094217 A JP3094217 A JP 3094217A JP 9421791 A JP9421791 A JP 9421791A JP H0737588 B2 JPH0737588 B2 JP H0737588B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般にフタロシアニンの
製造法に関し、特にx−無金属フタロシアニンの製造法
に関する。1つの態様に於て、本発明は、例えばアトラ
イター粉砕(attrition)及びその後の洗浄を含む顔料グ
ラインディング(grinding) によるx−無金属フタロシ
アニン光発生性成分の簡単な経済的製造法に関する。本
発明の1つの実施態様によれば、本発明の製造法は顔料
グラインディング(grinding) 方法によってアルファ−
無金属フタロシアニン(α−H2Pc) のx−無金属フタロ
シアニン(x−H2Pc) への多形転化(polymorphic conv
ersion) を含み、それによって例えば97%に等しいか
又はそれ以上の高純度で得られる生成したフタロシアニ
ンを光発生性顔料として、特に例えばその記載が全体的
に参照文として本明細書に含まれるものとする米国特許
第 4,265,990号及び同時係属米国特許出願第 215,099号
中に示されているようなアリールアミンを含む電荷又は
正孔輸送層を含む層状感光性画像形成部材中の赤外光発
生性顔料として用いることができる。上記の感光性又は
光導電性画像形成部材は種々の電子写真画像形成及びプ
リンティングプロセス、特に例えばその上に潜像を形成
させ、次いで現像及び適当な基体への転写を行うプログ
ラフィープロセス用に用いられる。
【0002】特許性調査報告中には、その記載が参照文
として本明細書に含まれるものとする米国特許第 3,35
7,989号に加えて、米国特許第 3,492,309号、第 3,816,
118号、第 4,426,434号及び第 4,443,528号の記載が参
照文として含まれる。さらに、その記載が全体的に参照
文として本明細書に含まれるものとする米国特許第4,81
4,441 号中には、アルファフタロシアニンを乾式ミル粉
砕(dry milling)によってx−フタロシアニンの含量が
混合物の重量基準で約40〜約75重量%であるx変形
のアルファフタロシアニンからなる混合物にし、次いで
該混合物を溶剤と共に熱処理することによって得られる
特殊な特性を有する新規x−フタロシアニンが記載され
ている(第1欄25行から第2欄まで参照)。上記 '4
41特許の第1欄45行以下に示されているように、ミ
ル、例えばボールミル、ロータリーミルなどで乾式ミル
粉砕プロセスが有利に行われ、かつアルコール、特にメ
タノール、プロパノールのようなアルカノールが溶剤処
理のために適当である(第1欄50行以下参照)。第1
欄65行以下には、ベータフタロシアニンの生成を抑制
するため、ある場合には、水の量が液体系基準で20〜
60重量%である水も存在下に於て不活性有機溶剤によ
る処理を行うことが有利であったことも示されている。
得られたx−フタロシアニンはコーティングセクター
(coating sector) に利益があり(第4欄、45行以下
参照)、さらにこの顔料は印刷インクに用いることがで
きる(第4欄、50行以下参照)。
【0003】本発明の製造法で得られるx−無金属フタ
ロシアニンは上に挙げた層状感光性画像形成部材及び他
の同様な画像形成部材中の光発生性顔料として用いられ
る。従って、本発明の1つの目的は本明細書中に示され
た利益の多くを有するフタロシアニンの製造法を提供す
ることである。本発明のもう1つの目的はある種の所望
な結晶形を有するフタロシアニンの製造法を提供するこ
とである。
【0004】本発明のもう1つの目的は、ある場合には
約97%に等しいか又はそれを越える高純度のx−無金
属フタロシアニンの製造法を提供することである。本発
明のさらにもう1つの特別な目的に於ては、約500〜
約850nmの波長の光に感受性であるx−無金属フタロ
シアニンの簡単な、経済的製造法が提供される。
【0005】本発明のこれらの目的及び他の目的はフタ
ロシアニンの製造法の提供によって達成される。1つの
実施態様に於て、本発明は顔料粉砕(grinding) 洗浄プ
ロセスによるx−無金属フタロシアニンの製造法に関す
る。特に、本発明の製造法は1つの実施態様に於て、ア
ルファ−無金属フタロシアニンを粉砕(grinding) して
アルファ−無金属フタロシアニンとx−無金属フタロシ
アニンとの混合物を生成する工程、得られた粉砕 (grou
nd) 混合物へ有機溶剤のような溶剤を添加する工程、得
られた所望のx−無金属フタロシアニン生成物を分離す
る工程及びその後で生成物を塩基性溶液で洗浄する工程
を含む。
【0006】本発明の1つの実施態様は、(i)初めに
粉砕(grinding) 又は混合装置でアルファ−フタロシア
ニンからアルファ−無金属フタロシアニンとx−無金属
フタロシアニンとの混合物を製造する工程、(ii)上記
混合物を有機溶剤の添加によってx−無金属フタロシア
ニンへ転化させる工程、(iii) 溶剤からx−無金属フタ
ロシアニンを分離しかつその後で塩基性溶液でx−無金
属フタロシアニンを洗浄した後乾燥する工程を含むx−
無金属フタロシアニンの製造法に関する。一般に、混合
物が約15〜約90%、好ましくは約15〜約60%の
x−無金属フタロシアニンと約85〜約10%のアルフ
ァ−フタロシアニンとを含むとき、例としてはメチルエ
チルケトン、シクロヘキサノンなどが含まれる有機溶剤
を該混合物へ添加する。顔料懸濁液混合物を任意の有効
な期間撹拌することができるが、通常、撹拌(agitatio
n)はアトライター又はボールミル装置中で、あるいは撹
拌(stirring) によって約1〜約24時間行われ、かつ
アトライター又はボールミル中に含まれる粉砕(grindi
ng) 媒体は既知の鋼球、石、セラミン(ceramine) 球、
ガラスビーズなどを含むこの目的のための任意の適当な
物質であることができる。次に顔料懸濁液を既知の技術
で濾過し、次いで顔料をメタノール溶剤を含む水酸化ア
ンモニウム又は水酸化ナトリウムからなる塩基性溶液で
洗浄する。乾燥後、幾つかの実施態様では95%を越え
る高純度のx−無金属フタロシアニンが得られ、かかる
生成物を本明細書中で記載しているように光発生性顔料
及び層状感光性画像形成部材として特に有用にすること
ができる。理論によって限定されたくはないが、塩基性
溶液洗浄工程は、もし存在すれば例えば帯電の低下、望
ましくない電位の生起などによってx−無金属フタロシ
アニンのゼログラフィー電気的性質を劣化させる可能性
のある有害な酸性及び他の未知の不純物を除去すると思
われる。本発明の製造法によるx−無金属フタロシアニ
ンの収率は優秀であり、90%を越え、多くの場合、収
率は95〜約97%であったが、アルファ−無金属フタ
ロシアニンのx−無金属フタロシアニンへの%転化率
は、本発明の実施例では90%を越え、典型的には約9
5〜約100%であった。
【0007】本発明の製造法によるx−形への転化に適
したアルファ−無金属フタロシアニンは多くの通常の既
知の方法で製造される。例えば、その記載が全体的に参
照文として本明細書に含まれるものとする“ The Phtha
locyanines, Vol.I及びII”、 CRC Press Inc., Flori
da, 1983中で F. H. Moser及び A. L. Thomas が記
載している方法を無金属フタロシアニンの製造のために
選ぶことができる。アルファ無金属フタロシアニンの製
造には2つの一般的方法:(1) 直接合成及び(2) 間接2
工程合成がある。直接合成法の1つに於ては、ジメチル
アミノエタノール、メチルナフタレン又はジオキサンの
ような高沸点溶剤中でフタロニトリル又は1,3−ジイ
ミノイソインドリンを加熱することによって無金属フタ
ロシアニンが得られる。間接2工程合成はアルカリ金属
フタロシアニンを中間体として生成し、次に酸又はメタ
ノールで洗浄することによって脱金属して無金属フタロ
シアニンを生成することを含む。これらの方法の例はそ
の記載が全体的に参照文として本明細書に含まれるもの
とする米国特許第 2,116,602号及び第 2,214,454号に記
載されている。これら2つの方法のいずれかで合成され
た無金属フタロシアニン顔料を濃硫酸に溶解し、得られ
た溶液を水と混合して微細なアルファ−無金属フタロシ
アニンの沈殿を起こさせることができる。このアルファ
−無金属フタロシアニンを濾別し、洗浄しかつ乾燥し
た。市販の無金属フタロシアニン物質、例えば Monolit
e Fast Blue GS, C. I. Pigment Blue16を、その記載
が全体的に参照文として本明細書に含まれるものとする
米国特許第 3,357,989号に記載されているように適当な
精製工程後にアルファ−無金属フタロシアニンの製造に
用いることができる。
【0008】本発明の1つの面は初めにアルファ−無金
属フタロシアニンを、混合物基準で約15〜約60重量
%のx−形と約85〜約40重量%のアルファ−形とを
含むアルファ−無金属フタロシアニンとx−無金属フタ
ロシアニンの混合物が得られるまで粉砕(grinding) す
ることからなる。次に該混合物へ適当な溶剤を添加し、
顔料懸濁液の撹拌を有効な期間、例えば1〜約24時間
続行してx−無金属フタロシアニンへの転化を起こさせ
る。得られたx−無金属フタロシアニンを濾過によって
溶剤から分離し、塩基性溶液及び溶剤で洗浄し、かつ乾
燥する。X線回折分析は、本発明の1つの実施態様に於
て最終物質が少なくとも97%のx−無金属フタロシア
ニンを含むことを示した。
【0009】アルファ−無金属フタロシアニンのアルフ
ァ−形とx−形との混合物への初期転化のためには種々
の市販の顔料粉砕(grinding) 及び混合装置を用いるこ
とができる。例はボールミル、アトライター、プラネタ
リーミル、サンドミル、タービュラシェーカー・ミキサ
ーなどである。粉砕媒体は、好ましくは、硬い長期耐摩
耗性表面を有する物質からなり、かつ丸い型、球形又は
円筒形であることができる。上記物質の例は鋼球、丸形
メノウ及び石、酸化ジルコニウム円筒及び球、アルミナ
球及びこれらの混合物である。
【0010】各粉砕(grinding) 方法のための特別な操
作パラメーターは、例えば転化に用いられる装置の型に
依存する。実施例2中で示されるように、10gの乾燥
アルファ−無金属フタロシアニンのボールミル粉砕(ba
ll milling) を初めに30%のアルファ−形がx−形に
転化されるまで48時間行った。別法では、実施例4中
で示されるように本発明の1つの実施態様ではアトライ
ターがより効果的な粉砕(grinding) 効果を与えること
ができ、この場合には同量の10gの乾燥アルファ−無
金属フタロシアニンのアトライターによる粉砕によっ
て、より短時間の約2時間で約60%のx−形が生成さ
れた。
【0011】X線分析で測定されるときx−形が約15
〜90重量%の量であるアルファ−無金属フタロシアニ
ンとx−無金属フタロシアニンとの混合物を上記粉砕
(grinding) 又は混合プロセスで得た後、この混合物へ
有機溶剤を添加し、かくして得られた顔料懸濁液を粉砕
(grinding)プロセスを続行することによって撹拌す
る。別法では、顔料懸濁液を粉砕(grinding) 又は混合
装置から取り出して容器に移し、該容器中で顔料懸濁液
をモーター駆動プロペラ、マグネチックスタラー、ある
いは他の撹拌手段で撹拌することができる。アルコー
ル、ケトン、エステル、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ハロゲン化炭化水素、アセトニトリル、あるいはこ
れらの混合物のような有機溶剤をアルファ−無金属フタ
ロシアニンとx−無金属フタロシアニンとの混合物へ添
加して顔料懸濁液をつくることができる。溶剤又は溶剤
混合物の量は、一般に転化に用いられる無金属フタロシ
アニンの重量の約10〜30倍であり、かくして例えば
顔料懸濁液を完全かつ容易に撹拌することを可能にす
る。
【0012】約1〜約20時間の撹拌後、顔料懸濁液
を、濾過、デカンテーション又は吸引などによって粉砕
(grinding) 装置から取り出すことができる。この顔料
懸濁液を次に濾過装置を通し、濾過器上にx−無金属フ
タロシアニン単離しかつ集める。このx−無金属フタロ
シアニン生成物顔料を随意にアルコール又はケトンのよ
うな有機溶剤で洗浄する。次にこの無金属フタロシアニ
ンを塩基性溶液で少なくとも1回スラリー状にしかつ洗
浄する。用いられる塩基性水溶液の量は無金属フタロシ
アニンの重量の約5〜20倍である。塩基性溶液は、水
酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
などを水又はメタノールのような有機溶剤で溶解するこ
とによって調製される。
【0013】前記塩基性洗浄工程後、主として水又は他
の不純物を除去するため、本明細書中に示すように、ア
ルコール、ケトンなどのような有機溶剤でさらにx−無
金属フタロシアニンを洗浄することができる。この場
合、有効量、例えばx−無金属フタロシアニン顔料の重
量の約10〜30倍の量の有機溶剤が用いられる。その
後で、x−無金属フタロシアニン顔料を真空乾燥器中で
の乾燥を含む既知の方法で、約50〜約90℃に於て、
約5〜約30時間の有効時間乾燥することができるが、
これらのパラメーターは、例えば乾燥される生成物の量
などに依存する。
【0014】明確には、塩基性洗浄後、水及び不純物を
除去するためにアルコール又はケトンのような有機溶剤
で少なくとも1回さらに洗浄する。各洗浄に於ける有機
溶剤の量は顔料重量の約10〜30倍である。最後に、
顔料を真空乾燥器中で、被乾燥顔料の量によるが、50
〜90℃で5〜30時間乾燥する。本発明の1つの実施
態様に於てアルファ−無金属フタロシアニンから転化さ
れて得られたx−無金属フタロシアニン顔料は少なくと
も約97%であることがX線回折分析で立証される。
【0015】本発明の顔料多形転化(polymorphic Conv
ersion) を達成するためには本明細書中に示された種々
の既知の顔料粉砕(grinding) 又は混合方法を用いるこ
とができ、2つの好ましい方法はボールミル粉砕(ball
milling) 及びアトライター粉砕(sttrition)である。
アルファ−H2Pcのx−H2Pcへのボールミル粉砕転化に
は、フリント石又は鋼球で半分満たされたプラスチック
ジャー(plastic jar)を用いることができる。この場
合、ジャーに1部のアルファ−H2Pcを入れ、 Norton Co
mpany から購入したジャーミル上で回転させる。48時
間後、X線分析で測定されるとき約20〜約60重量%
のx−形(x−無金属フタロシアニン)を含むアルファ
−無金属フタロシアニンとx−無金属フタロシアニンと
の混合物が得られる。次に、ジャー中の顔料混合物へ、
メチルエチルケトン又はシクロヘキサノンのような溶剤
約10〜20部を添加することができる。得られた顔料
混合物を同じジャーミル上で約20時間ボールミル粉砕
することができる。得られた顔料懸濁液を吸引又はデカ
ンテーションでジャーから取り出し、既知の濾過装置へ
移すことができる。濾過後、濾過器上に集められた顔料
を10部のメタノール又はアセトンで洗浄する。次に、
このx−無金属フタロシアニン生成物顔料を、メタノー
ルのような溶剤中に1〜約20重量%の水酸化アンモニ
ウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを溶解する
ことによって調製された塩基性溶液の有効量、例えば約
10部、でさらに洗浄することができる。上記塩基性溶
液洗浄を好ましくはさらに2回繰返して有害な不純物を
確実に除去する。塩基性洗浄後、顔料生成物を、有効
量、例えば約10部、のメタノール又はアセトンで洗浄
することができ、この洗浄を好ましくはさらに2回繰返
す。洗浄されかつ精製された顔料x−無金属フタロシア
ニン生成物を次に約60〜約90℃の温度で作動する真
空乾燥器へ移し、被乾燥顔料の量によるが有効な時間、
例えば約5〜約30時間乾燥することができる。収率が
90%であるこの実施態様では、X線分析はこの顔料が
少なくとも97重量%のx−H2Pc(x−無金属フタロシ
アニン)を含むことを示す。
【0016】アルファ−H2Pcのx−H2Pcへの転化にはア
トライターも使用することができる。特に、本発明の方
法の実施には、Union Process Inc.から市販されている
種々の容量のアトライターが特に適している。少量、例
えば約10〜約200g、のx−H2Pcを約0.25リット
ル〜3.785リットル(1ガロン)のスラリー容量があ
る Model01又は1Sのアトライターを用いてアルファ
−H2Pcから都合よく製造することができる。数kg又は数
百kgのx−H2Pcの製造には、 Model15S又はそれより
高い Model番号の37.85リットル(10ガロン)以上
のスラリー容量がある大型アトライターが用いられる。
これらのアトライターの作動条件範囲は知られており、
かつ Union Process Inc. から容易に入手することがで
きる。より特別には、 Model15Sアトライターは撹拌
機の腕が鋼球で完全にカバーされるまで鋼球で満たされ
る。このアトライターに次に1部のアルファ−H2Pcを仕
込み、撹拌機を60〜200RPMで駆動することによ
って顔料の粉砕(grinding) を行う。1時間間隔でアト
ライターから数gの顔料を取り出し、X線回折法で分析
する。分析された顔料試料が約25〜70重量%の量の
x−形を含むアルファ−H2Pcとx−H2Pcとの混合物から
なることがわかったとき、粉砕を止める。アトライター
内の顔料混合物へ10〜20部のメチルエチルケトン、
シクロヘキサノンなどを添加する。かくして生成した顔
料懸濁液の撹拌を、アトライター中で撹拌機の回転を再
び開始することによって続行することができる。より好
ましくは、得られた顔料懸濁液をアトライターから取り
出し、他の容器へ移し、その中でモーター駆動撹拌機で
懸濁液を撹拌する。本明細書中で示したボールミル転化
法について記載したと同じ洗浄、分離及び乾燥方法に従
うことによってx−H2Pc生成物顔料を顔料懸濁液から単
離する。X線測定によって、生成物顔料の含量が97重
量%以上のx−H2Pcであることが確認される。
【0017】本発明の方法で得られたx−無金属フタロ
シアニンは、例えば支持基体、x−無金属フタロシアニ
ン光発生層及び輸送層、特にアリールアミン輸送層を含
むことができる光導電性層状画像形成部材の光発生性顔
料として用いられる。さらに本発明の光導電性画像形成
部材に関しては、支持基体と正孔輸送層との間に精製光
発生性x−無金属フタロシアニンを置くことができ、あ
るいは別法では、支持基体とx−無金属フタロシアニン
光発生層からなる層との間に正孔輸送層を置くことがで
きる。これらの画像形成部材はその上に、約0.2〜約1
0μm の厚さ又は他の有効な厚さを有するポリウレタ
ン、ポリカーボネートなどのような重合体を含む保護オ
ーバコーティングをも含むことができる。
【0018】もう1つの特別な説明のための実施態様で
は、光導電性画像形成部材は(1) 支持基体、(2) 正孔ブ
ロッキング層、(3) 随意の粘着剤界面層、(4) 本発明の
方法で得られたx−無金属フタロシアニンを含む光発生
層及び(5) アリールアミンのような正孔輸送層を含む。
より特別には、この光導電性画像形成部材は導電性支持
基体、支持基体と接触する正孔ブロッキング有機シラン
又はシロキサン、あるいは金属酸化物層、ポリエステル
又はポリビニルブチラールのような粘着剤層、本発明の
方法で得られたx−無金属フタロシアニンを含む光発生
層、及びその上の樹脂バインダー中に分散されたある種
のアリールアミンを含む。
【0019】光導電性画像形成部材の製造には種々の既
知の方法を用いることができ、プロセスパラメーター及
び層のコーティング順序は所望される部材に依存する。
1つの方法では、正孔ブロッキング層及び随意の粘着剤
層を含む導電性基体を用意し、かつこれに、溶剤コーテ
ィング法、積層法又は他の方法で、x−無金属フタロシ
アニン光発生層及び好ましくはアリールアミンを含む電
荷輸送層を適用することによって、層状光導電性デバイ
スを製造することができる。
【0020】光導電性画像形成部材は、ゼログラフィー
画像形成及びプリンティングプロセスのような技術上公
知のものを含む数多くの画像形成プロセス及び装置中へ
組み込むことができる。特に、x−無金属フタロシアニ
ンが約500〜約850nmの波長の光を吸収する本発明
の画像形成部材はゼログラフィー画像形成プロセスに有
用である。これらのプロセスでは、初めに画像形成部材
上に静電潜像を形成し、次いで現像し、その後で画像を
適当な基体へ転写し、かつこの基体へ、例えば熱、熱と
圧力との併用によって現像像を定着させる。
【0021】図1に示すように、本発明の感光性画像形
成部材は基体1、粘着剤層2、随意に樹脂バインダー組
成物4中に分散された本発明の方法で得られたx−無金
属フタロシアニンを含む光発生層3、ポリカーボネート
樹脂バインダー8中に分散されたN,N′−ジフェニル
−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′
−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンのようなアリール
アミン7を含む電荷担体正孔輸送層5を含む。
【0022】図2には正孔輸送層が支持基体と光発生層
との間に置かれた感光性画像形成部材を示す。より明確
には、この図に関しては、支持基体9、不活性樹脂バイ
ンダー組成物12中に分散されたアリールアミン正孔輸
送組成物を含む正孔輸送層11及び随意に樹脂バインダ
ー組成物15中に分散された本明細書中で示される本発
明の方法で得られたx−無金属フタロシアニンを含む光
発生層14を含む光導電性画像形成部材が示してある。
【0023】さらに画像形成部材に関しては、基体は M
ylar市販重合体を含む無機又は有機重合体物質のような
絶縁性物質の層;酸化インジウム錫又はその上に配置さ
れたアルミニウムのような半導電性表面層、あるいは例
えばアルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、真鍮な
どのような導電性物質を有する有機又は無機物質の層を
含むことができる。基体は可撓性、シームレス又は剛性
であることができ、例えばプレート、円筒形ドラム、ス
クロール、エンドレス可撓性ベルトなどのような数多く
の異なる形状をもつことができる。好ましくは、基体は
エンドレス可撓性ベルトの形である。ある場合には、特
に基体が有機重合体物質であるときには、基体の裏面上
を例えば Makrolon として市販されているポリカーボネ
ート物質のようなカーリング防止層でコーティングする
のが望ましいことがあり得る。基体層の厚さは経済的考
慮も含む数多くの因子に依存し、かくして基体層は系へ
悪影響が無いならば実質的な厚さ、例えば2.54mm(1
00ミル)以上、あるいは最小の厚さであることができ
る。1つの好ましい実施態様では、基体層の厚さは約0.
0762〜約0.254mm(約3〜約10ミル)である。
【0024】随意の粘着剤層は典型的にはポリエステ
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポ
リウレタン、ポリアミドなどを含む重合体物質を含む。
典型的には、粘着剤層は厚さが約5μm 未満である。画
像形成部材は、その中に酸化アルミニウム及びシクロキ
サンのような金属酸化物層を含む他の層を含むことがで
きる(その記載が全体的に参照文として本明細書に含ま
れるものとする米国特許第 4,464,450号参照)。一般
に、これらの層の厚さは約0.01〜約1μm であるが、
他の厚さを選ぶことができる。
【0025】本発明の方法で得られたx−無金属フタロ
シアニン光発生性顔料を含む層は一般に厚さが約0.05
〜約10μm 又はそれ以上であり、好ましくは約0.1〜
約3μm であるが、この層の厚さは、約5〜100%に
わたることができる光発生剤(photogenerator) 重量含
量に主として依存する。x−無金属フタロシアニン光発
生層のためには種々の適当な重合体バインダーを用いる
ことができる。樹脂バインダーの例には、ポリカーボネ
ート、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリアクリレート、
ポリスチレン、これらの共重合体などが含まれる。一般
に、この層を像様又はプリンティング露光工程に於てこ
の層に当たる入射光の約90%以上を吸収するのに充分
な厚さにすることが望ましい。この層の最大の厚さは、
機械的考慮、例えば可撓性光導電性画像形成部材が所望
であるかどうか、及び他の層の厚さのような因子に主と
して依存する。
【0026】光導電性画像形成部材のためには、層の厚
さが例えば約5〜約75μm 、好ましくは約10〜約4
0μm のアリールアミン電荷輸送層のような種々の適当
な正孔輸送成分を用いることができる。1つの好ましい
実施態様に於て、この輸送層は、高度絶縁性、透明有機
樹脂バインダー中に分散された次式
【0027】
【化1】
【0028】〔上記式中、Xはアルキル及びハロゲン、
好ましくは(オルト)CH3 ,(メタ)CH3,(パラ) C
H3,(オルト)Cl,(メタ)Cl又は(パラ)Clからなる
群から選ばれる〕のアリールアミン分子を含む。上記式
に包含されるアリールアミンには、例えば、アルキルが
2−メチル、3−メチル及び4−メチルのようなメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる
群から選ばれるN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
(アルキルフェニル)−〔1,1−ビフェニル〕−4,
4′−ジアミンが含まれる。
【0029】光発生層又は輸送層のための高度絶縁性、
透明樹脂物質又は不活性バインダー樹脂物質の例には、
その記載が全体的に参照文として本明細書に含まれるも
のとする米国特許第 3,121,006号中に記載されている物
質のような物質が含まれる。特に輸送層のための有機樹
脂物質の特別な例には、ポリカーボネート、アクリレー
ト重合体、ビニル重合体、セルロース重合体、ポリエス
テル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン、ポ
リスチレン及びエポキシ樹脂並びにこれらのブロック、
ランダム又は交互共重合体が含まれる。電荷輸送用の好
ましい電気的不活性バインダー物質は分子量(Mw)が
約20,000〜約100,000 であり、約50,000〜約100,000 の
範囲の分子量が特に好ましいポリカーボネート樹脂であ
る。一般に、電荷輸送層は前記式に相当する電荷輸送物
質約10〜約75重量%、好ましくは約35〜約50重
量%を含む。
【0030】又、本明細書中に記載した光導電性画像形
成部材で画像形成方法を行うことができる。これらの方
法は一般に画像形成部材上での静電潜像の形成、それに
続く既知の現像剤組成物(例えば米国特許第 3,590,000
号、第 4,469,770号、第 4,560,635号及び第4,298,672
号参照、これらの特許の記載は全体的に参照文として本
明細書に含まれるものとする)による現像、その後の適
当な基体への画像の転写、及び基体への画像の永久的定
着を含む。
【0031】
【実施例1】その記載が全体的に参照文として本明細書
に含まれるものとする米国特許第 3,357,989号の教示に
従って、初めに18gのアルファ−無金属フタロシアニ
ンを364gの濃硫酸に溶解した。この酸溶液を次に水
と混合して、X線分析によってアルファ形の無金属フタ
ロシアニンであると測定された微粉砕顔料の沈殿を起こ
させた。アルファ−H2Pcのx−H2Pcへの転化を、ボール
ミル(Norton Companyから発売)中でフリント石を粉砕
媒体として用いて行った。1000mlのポリエチレンび
ん中に1,040gのフリント石〔直径約12.7〜19.0
5mm(1/2 〜3/4 in) 〕及び15gのアルファ−H2Pc顔
料を入れた。このビンを1対の回転ゴムローラー上に置
いた。アルファ−H2Pcのx−H2Pcへの転化の進行を、所
定の時間(24時間)間隔でびんから取った粉砕試料の
少量(0.5g)のX線回折図を試験することによって監
視した。5日間のボールミル粉砕後、X線分析は粉砕さ
れた顔料が50重量%のx−H2Pcと50重量%のアルフ
ァ−H2Pcとを含むことを示した。次に、上記粉砕顔料に
250mlのメチルエチルケトン(MEK)を添加し、ボ
ールミル粉砕を20時間続行した。生成した顔料懸濁液
を焼結ガラス漏斗中に注ぎ、濾過して溶剤メチルエチル
ケトンを除去した。次に、x−無金属フタロシアニン生
成物をそれぞれ4%の水酸化アンモニウム及びメタノー
ルを含むメタノール混合物で洗浄した後、顔料生成物を
真空乾燥器中で80℃で6時間乾燥した。X線分析はア
ルファ−H2Pcの98%がx−H2Pcへ転化したことを示し
た。このx−H2Pc試料のゼログラフィー評価は後述の実
施例3中で記載される。
【0032】
【実施例2】実施例1記載のようにして得たアルファ−
H2Pc10gと1.8kgの6.35mm(1/4 in) ステンレス鋼
球とを500mlポリエチレンびんに入れた。このびんを
ゴムローラーミル上で回転させた。2日間のボールミル
粉砕後、粉砕顔料(0.5g)をびんからとり、X線回折
法で分析した。生成物は30重量%のx−H2Pcと70重
量%のアルファ−H2Pcとの混合物を含むことが、わかっ
た。次に、このビン中の粉砕混合物へ180mlのMEK
(メチルエチルケトン)を添加し、20時間ボールミル
粉砕を続行した。次に、顔料懸濁液を洗浄を含む実施例
1記載と同じ方法で処理した。最終的乾燥顔料は100
%のx−H2Pc(x−無金属フタロシアニン)を含んでい
た。
【0033】このx−H2Pc顔料のゼログラフィー電気的
性質は後述の実施例3中で記載するように測定された。
【0034】
【実施例3】x−H2Pc光発生層とアリールアミン輸送層
とを含む2層状感光性画像形成部材を製造した。光発生
層のコーティングに用いる顔料分散液を各場合に次のよ
うに製造した。初めに30mlのガラスびん中で0.25g
のポリビニルブチラール重合体を14.2gのシクロヘキ
サノン中に溶解した。この重合体溶液へ、それぞれ実施
例1及び2のx−H2Pc顔料0.25gと3.175mm(1/8
in) ステンレス鋼球70gとを加えた。びんをローラー
ミル上に置き、分散液を20時間ミル粉砕した。アリー
ルアミン輸送層のコーティングに用いた溶液は、120
mlのびん中の51.65gのトルエン中に、4.45gの
N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフ
ェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジア
ミン、8.3gのポリカーボネートを、マグネチックスタ
ラーの助けで溶解することによって調製された。
【0035】各場合に、0.0762mm(3ミル)のアル
ミニウム金属化 Mylar基体上へ0.0254mm(1ミル)
ギャップのフィルムアプリケーターを用いてx−H2Pc分
散液をコーティングした。生成したx−無金属フタロシ
アニン光発生層を強制空気乾燥器中で120℃で10分
間乾燥し、その最終的な厚さは約25μm であった。電
荷輸送層は厚さが約25μm であった。
【0036】次に、上記画像形成部材の表面をコロナ放
電源によって、電位計に付いている容量結合プローブで
測定するとき表面電位が約−300ボルトの初期値Vo
に達するまで静電的に帯電させることによって上記画像
形成部材のゼログラフィー電気的性質を測定した。0.5
秒間暗所に静置した後、これらの帯電部材はVddp (暗
現像電位)の表面電位に達し、次に各部材を XBO 150ワ
ット球をもつフィルターされたキセノンランプからの先
に露出した。光放電効果のため、表面電位のV bg(地肌
電位)値への減少が観察された。暗減衰(ボルト/秒)
を(Vo −Vdd p )/0.5として計算した。光放電百分
率を100(Vddp −Vbg)/Vddp %として計算し
た。ランプ前面に置いたフィルターの型によって露出光
の所望波長及びエネルギーを決めた。800nmの狭帯域
通過フィルターを用いてこれらの画像形成部材の光放電
特性を測定した。光放電百分率の値を対応する露出光エ
ネルギーに対してプロットすることによって光放電曲線
をつくった。この曲線から種々の光感度値を求めた。半
放電エネルギー(通常E1/2 値として示される)は暗現
像電位から50%の光放電に達するのに要する露出光エ
ネルギー量である。感光度が高い程、E1/2 値は小さ
い。さらに、10及び20erg/cm2 の露出光エネルギー
で観察される光放電百分率も感光度の記述のために用い
られる。
【0037】実施例1及び2の方法で得られたx−H2Pc
光発生性顔料を含む上で製造された画像形成部材のゼロ
グラフィー電気的性質を表1に示す。 表 1 ボールミル粉砕x−H2Pcのゼログラフィー電気的性質 x−H2Pc 放電百分率 (得られた 粉砕 暗減衰 E1/2 ────────────── 実施例) 媒体 V/s erg/cm2 10erg/cm2 20 erg/cm2 ─────────────────────────────────── 実施例1 石 11 3.7 75 83 実施例2 鋼球 12 3.5 74 81 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 製造されたx−H2Pc顔料試料を有する両画像形成部材は
ともに低い暗減衰(<30 V/s)及び高い感光度(10
erg/cm2 に於て放電率が60%より大きい)を示す。
【0038】
【実施例4】この実施例では、750mlのステンレス鋼
製グラインディングタンクと3対の腕を有する回転シャ
フトをもつ撹拌機とからなるUnionProcess Inc.製 Mode
l01アトライターを用いた。この Model 01アトラ
イターへ6.35mm(1/4 in) ステンレス鋼球1,700g
とα−H2Pc顔料10gとを入れた。水ジャケット中へ冷
却水を通すことによってアトライターの温度を25℃に
保った。撹拌機の回転速度を300rpm にセットし、α
−H2Pc顔料を2時間粉砕した後、0.5gの粉砕顔料粉末
をアトライターから取り出した。X線回折分析は、この
取り出した粉砕顔料が50重量%のα−H2Pcと50重量
%のx−H2Pcとの混合物からなることを示した。上記混
合物へ180mlのメチルエチルケトン(MEK)を加
え、得られた顔料懸濁液を同じ300rpm の撹拌速度で
1時間さらに混合した。この懸濁液を焼結ガラス漏斗上
へデカンテーションし、真空吸引によって濾過してメチ
ルエチルケトンを除いた。漏斗上に残った顔料粉末を4
%の水酸化アンモニウム溶液を含むメタノール及びメタ
ノールでそれぞれ洗浄した。このx−H2Pc生成物顔料を
真空乾燥器中で70℃で8時間乾燥した。X線回折分析
は、顔料混合物がx−無金属フタロシアニンへ100%
転化されたことを示した。
【0039】上記の方法をさらに2回繰返した。但し、
メチルエチルケトン添加後の混合時間は第1の方法では
2時間、第2の方法では20時間であった。両方の場合
はも、X線回折結果は、最終乾燥顔料試料が100%x
−H2Pcであることを確証した。上で製造したアトライタ
ー粉砕x−H2Pc顔料試料のゼログラフィー電気的性質
を、画像形成部材の製造後、実施例3記載の方法に従っ
て実験した。結果を表2に示す。
【0040】 表 2 アトライター粉砕x−H2Pcのゼログラフィー電気的性質 転化方法 ────────── 乾式アト 湿式アト ライター ライター 放電百分率 粉砕時間 粉砕時間 暗減衰 E1/2 ───────────── (時間) (時間) V/s erg/cm2 10erg/cm2 20 erg/cm2 ─────────────────────────────────── 2 1 15 3.2 69 77 2 2 14 4.7 67 74 2 20 26 15 38 59 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 高い光感度及び低い暗減衰を有する顔料を製造するには
短時間の湿式アトライター粉砕が有利である。アトライ
ター粉砕技術は、実施例1及び3で記載したボールミル
粉砕法で所要な長時間に比べて完全な多形転化プロセス
を3時間に実質的に短縮した。
【0041】
【実施例5】実施例4記載の方法に従って転化プロセス
を3回繰返した。但し、条件を次のように変更した。毎
日、初め2時間の乾式アトライター粉砕後の粉砕顔料
へ、MEKの代わりにシクロヘキサノンを添加した。得
られた3つの顔料懸濁液をそれぞれさらに2,5及び2
0時間混合した。実施例4と同じ濾過、洗浄及び乾燥工
程を行った後、各懸濁液は、X線分析によって100%
x−H2Pcであると確認された最終顔料生成物を与えた。
【0042】種々のアトライター粉砕時間で製造された
3種のx−H2Pc試料のゼログラフィー電気的性質を、画
像形成部材の製造後、実施例3の方法によって測定し
た。結果を表3に示す。 表 3 アトライター粉砕x−H2Pcのゼログラフィー電気的性質 転化方法 ────────── 乾式アト 湿式アト ライター ライター 放電百分率 粉砕時間 粉砕時間 暗減衰 E1/2 ───────────── (時間) (時間) V/s erg/cm2 10erg/cm2 20 erg/cm2 ─────────────────────────────────── 2 2 16 4.2 71 79 2 5 14 4.6 69 78 2 20 15 3.4 73 81 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ シクロヘキサノン中でのアトライター粉砕によって得ら
れたx−H2Pc試料は高い感光度(10erg/cm2 に於て6
0%を越える放電及び低い暗減衰(<30 V/s) のよう
な受容できるゼログラフィー電気的性質を示した。顔料
転化時間はボールミル粉砕法に比べて実質的に短縮され
た。又、実施例4に於けるメチルエチルケトンと異な
り、シクロヘキサノンは20時間まで湿式アトライター
粉砕時間の増加と共にx−H2Pcのゼログラフィー電気的
性質の劣化がなく、顔料転化の第2工程のためのより良
好な、すなわちより広い処理時間範囲を示した。このこ
とは、x−H2Pcの電気的性質が合理的な処理時間内で劣
化しない大規模製造目的のために特に有利である。
【0043】
【実施例6】実施例4記載の顔料転化実験を繰返した。
但し、水ジャケットを75℃に保った。α−H2Pc顔料の
2時間の乾式粉砕後、X線結果は90%のx−H2Pcが得
られたことを示した。次に、この粉砕顔料へメチルエチ
ルケトンを添加し、1時間混合を続行して、下記のよう
な画像形成部材のためのゼログラフィー電気的性質を有
するx−無金属フタロシアニンを得た:暗減衰=19 V
/s, E1/2=3.8erg/cm 2 ,10及び20erg/cm2 に於け
る放電百分率値それぞれ72及び79。
【図面の簡単な説明】
【図1】x−無金属フタロシアニン層が基体と電荷輸送
層との間に置かれる感光性画像形成部材の部分的概略断
面図である。
【図2】電荷輸送層がx−無金属光発生層と基体との間
に置かれる感光性画像形成部材の部分的概略断面図であ
る。
【符号の説明】
1 基体 2 粘着剤層 3 光発生層 4 樹脂バインダー組成物 5 正孔輸送層 7 アリールアミン 8 ポリカーボネート樹脂バインダー 9 支持基体 11 正孔輸送層 12 不活性樹脂バインダー組成物 14 光発生層 15 樹脂バインダー組成物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジュゼッペ バラニー カナダ エル5エル 2ケイ3 オンタリ オ ミシソーガ フォークウェイ ドライ ヴ 2623 (72)発明者 テリー エル ブルーム カナダ エル6ケイ 1ワイ2 オンタリ オ オークヴィル スティーヴンス クレ ッセント 583 (72)発明者 ジェイムズ エム ダフ カナダ エル5エヌ 2イー8 オンタリ オ ミシソーガ モンテヴィデオ ロード 6185 (72)発明者 ジョージ リーバーマン カナダ エル5エイチ 2エヌ3 オンタ リオ ミシーガ ヴァネッサ クレッセン ト 606 (72)発明者 エリック ビー ワスマンド カナダ エル8エス 4エヌ3 オンタリ オ ハミルトン 906 グレン ロード 50 (56)参考文献 特開 昭63−142065(JP,A)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (i)初めにアルファ−無金属フタロシ
    アニンを粉砕又は混合装置を用いて25〜75℃で粉砕
    又は混合してアルファ−及びx−無金属フタロシアニン
    の混合物を製造する工程、(ii)上記混合物をケトン
    含有有機溶剤の添加によってx−無金属フタロシアニン
    へ転化させる工程、(iii)ケトン含有有機溶剤から
    x−無金属フタロシアニンを分離し、かつその後でx−
    無金属フタロシアニンを、水酸化アンモニウム、水酸化
    ナトリウム及び水酸化カリウムの少なくとも1種を含む
    塩基性メタノール溶液で洗浄する工程を含むx−無金属
    フタロシアニンの製造法。
  2. 【請求項2】 (i)初めにアルファ−無金属フタロシ
    アニンを粉砕又は混合装置を用いて25℃で粉砕又は混
    合してアルファ−及びx−無金属フタロシアニンの混合
    物を製造する工程、(ii)15〜90%のアルファ−
    無金属フタロシアニンと85〜10%のx−無金属フタ
    ロシアニンとからなる混合物をケトン含有有機溶剤の添
    加によってx−無金属フタロシアニンへ転化させる工
    程、(iii)ケトン含有有機溶剤からx−無金属フタ
    ロシアニンを分離し、かつその後でx−無金属フタロシ
    アニンを、水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム及び
    水酸化カリウムの少なくとも1種を含む塩基性メタノー
    ル溶液で洗浄する工程を含むx−無金属フタロシアニン
    の製造法。
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