JPH0747571B2 - 潤滑された磁気媒体 - Google Patents
潤滑された磁気媒体Info
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- JPH0747571B2 JPH0747571B2 JP3153528A JP15352891A JPH0747571B2 JP H0747571 B2 JPH0747571 B2 JP H0747571B2 JP 3153528 A JP3153528 A JP 3153528A JP 15352891 A JP15352891 A JP 15352891A JP H0747571 B2 JPH0747571 B2 JP H0747571B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
- C07F9/6581—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and nitrogen atoms with or without oxygen or sulfur atoms, as ring hetero atoms
- C07F9/65812—Cyclic phosphazenes [P=N-]n, n>=3
- C07F9/65815—Cyclic phosphazenes [P=N-]n, n>=3 n = 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C335/00—Thioureas, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
- C07C335/02—Thiourea
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
- C07D239/50—Three nitrogen atoms
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
- G11B5/70—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
- G11B5/71—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the lubricant
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般に新規の両親媒性化
合物に関する。(両親媒性化合物とは少なくとも1つの
極性部分と少なくとも1つの無極性部分とを有し、Lang
muir-Blodgett 膜を形成することができる化合物と定義
される。)本発明は、特に各無極性部分がフルオロカー
ボンでありかつ各極性部分が極性表面に結合することが
できる両親媒性化合物に関する。これらの化合物はデー
タ、オーディオ、及びビデオ記録に有用な薄膜磁気記録
媒体の金属、金属酸化物、炭素又は他の表面を摩耗や腐
食から保護するための潤滑剤として有用である。本発明
は少なくとも1つの本発明の両親媒性化合物の単分子層
で被覆されかつ該単分子層が結合している磁気媒体の極
性表面を含む新規の薄膜磁気媒体にも関する。
合物に関する。(両親媒性化合物とは少なくとも1つの
極性部分と少なくとも1つの無極性部分とを有し、Lang
muir-Blodgett 膜を形成することができる化合物と定義
される。)本発明は、特に各無極性部分がフルオロカー
ボンでありかつ各極性部分が極性表面に結合することが
できる両親媒性化合物に関する。これらの化合物はデー
タ、オーディオ、及びビデオ記録に有用な薄膜磁気記録
媒体の金属、金属酸化物、炭素又は他の表面を摩耗や腐
食から保護するための潤滑剤として有用である。本発明
は少なくとも1つの本発明の両親媒性化合物の単分子層
で被覆されかつ該単分子層が結合している磁気媒体の極
性表面を含む新規の薄膜磁気媒体にも関する。
【0002】
【技術的背景】磁気媒体は、媒体上で走査される記録又
は書込みヘッドから受け取った磁気インパルスを記憶す
るため及び媒体の同じ部分上で走査されるプレーバック
又は読取りヘッドで同じインパルスを再現するためにテ
ープ、フロッピーディスク、ハードディスクなどの形で
用いられる。コンピューターディスクシステムの書込み
及び読取り機能は通常単一の読取り/書込みヘッドで行
われる。ヘッドは磁気媒体に対して急速に移動し、ヘッ
ドが走査を開始又は停止するとき磁気媒体と瞬間的に直
接接触する。当業では媒体とヘッドとの間の摩擦がヘッ
ド又は媒体を急速に破壊しないように、磁気媒体を潤滑
することが必要であることがわかった。
は書込みヘッドから受け取った磁気インパルスを記憶す
るため及び媒体の同じ部分上で走査されるプレーバック
又は読取りヘッドで同じインパルスを再現するためにテ
ープ、フロッピーディスク、ハードディスクなどの形で
用いられる。コンピューターディスクシステムの書込み
及び読取り機能は通常単一の読取り/書込みヘッドで行
われる。ヘッドは磁気媒体に対して急速に移動し、ヘッ
ドが走査を開始又は停止するとき磁気媒体と瞬間的に直
接接触する。当業では媒体とヘッドとの間の摩擦がヘッ
ド又は媒体を急速に破壊しないように、磁気媒体を潤滑
することが必要であることがわかった。
【0003】ヘッドがディスクと接触している間摩擦を
減少するため、及び腐食性雰囲気汚染物質からディスク
を保護するため、酸化物ディスクのようなコンピュータ
ーデータ記憶媒体が30〜120オングストロームの弗
素化油層で被覆された。このコーティングは読取り/書
込みヘッドが記録媒体上方を比較的高く飛び、空気クッ
ション上を動く約60〜100メガバイト/in2 以下の
密度を得る系では充分に有効である。高く飛ぶ(ハイ・
フライング)読取り/書込みヘッドの場合に用いられる
磁気媒体用潤滑剤として有用であることがわかった他の
物質には、弗素化油(特にペルフルオロポリエーテ
ル)、脂肪酸及びそのエステル、有機シラン、及び有機
アミノシランが含まれる。
減少するため、及び腐食性雰囲気汚染物質からディスク
を保護するため、酸化物ディスクのようなコンピュータ
ーデータ記憶媒体が30〜120オングストロームの弗
素化油層で被覆された。このコーティングは読取り/書
込みヘッドが記録媒体上方を比較的高く飛び、空気クッ
ション上を動く約60〜100メガバイト/in2 以下の
密度を得る系では充分に有効である。高く飛ぶ(ハイ・
フライング)読取り/書込みヘッドの場合に用いられる
磁気媒体用潤滑剤として有用であることがわかった他の
物質には、弗素化油(特にペルフルオロポリエーテ
ル)、脂肪酸及びそのエステル、有機シラン、及び有機
アミノシランが含まれる。
【0004】現在開発されつつある、より高密度の磁気
記憶システムでは、読取り/書込みヘッドはより低く飛
ぶ。かかるヘッドのための潤滑剤層は典型的にずっと薄
く、多分30オングストローム未満の厚さである。この
ように薄い通常の潤滑剤層はロー・フライング(低く飛
ぶ)ヘッドによる反覆走査から生ずる増加した摩擦に耐
え得るように充分に磁気媒体を潤滑しない。
記憶システムでは、読取り/書込みヘッドはより低く飛
ぶ。かかるヘッドのための潤滑剤層は典型的にずっと薄
く、多分30オングストローム未満の厚さである。この
ように薄い通常の潤滑剤層はロー・フライング(低く飛
ぶ)ヘッドによる反覆走査から生ずる増加した摩擦に耐
え得るように充分に磁気媒体を潤滑しない。
【0005】技術上のもう1つの問題は潤滑剤の劣化で
ある。脂肪族鎖(本明細書では6〜22個の炭素原子を
有する脂肪族鎖と広く定義される)は毎回の読取り/書
込みサイクルで劣化し、スラッジの累積を生ずる。この
スラッジは磁気媒体とヘッドとの間のより高い摩擦、ヘ
ッドの不安定性、及びヘッドと媒体表面との間の間隔増
加をひき起こす。実際的の結果として性能が低下する。
ある。脂肪族鎖(本明細書では6〜22個の炭素原子を
有する脂肪族鎖と広く定義される)は毎回の読取り/書
込みサイクルで劣化し、スラッジの累積を生ずる。この
スラッジは磁気媒体とヘッドとの間のより高い摩擦、ヘ
ッドの不安定性、及びヘッドと媒体表面との間の間隔増
加をひき起こす。実際的の結果として性能が低下する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】かくして、ディスクに
薄層で永続的に付着し、摩擦増加又はスラッジ累積を起
こさずに反覆読取り/書込みサイクルを可能にし、かつ
ロー・フライング読取り/書込みヘッドの環境下で良好
な潤滑を与える新規の潤滑剤への要望が起きている。
薄層で永続的に付着し、摩擦増加又はスラッジ累積を起
こさずに反覆読取り/書込みサイクルを可能にし、かつ
ロー・フライング読取り/書込みヘッドの環境下で良好
な潤滑を与える新規の潤滑剤への要望が起きている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記核構造を
有する単分子層で被覆された極性磁気媒体表面を含む潤
滑された磁気媒体であって、また、その潤滑剤がLangmu
ir-Blodgett 単分子層である潤滑された磁気媒体であ
る。
有する単分子層で被覆された極性磁気媒体表面を含む潤
滑された磁気媒体であって、また、その潤滑剤がLangmu
ir-Blodgett 単分子層である潤滑された磁気媒体であ
る。
【0008】
【化3】 〔式中、各々の空いている位置は下記置換基
【0009】
【化4】 (式中sは6〜14である)で置換されている〕 かかる両親媒性化合物は磁気媒体のための改良された潤
滑剤である 。本発明の潤滑剤は、先行技術の潤滑剤よりも、より堅く
基板へ結合し、より劣化しにくく、かつより良好な潤滑
及び腐食保護を与える 。以下、本発明を幾つかの好まし
い実施態様に関して説明するが、本発明がこれらの好ま
しい実施態様に限定されるものでないことは言うまでも
ない。逆に、本発明は添付の特許請求の範囲で定義され
る本発明の精神及び範囲内に含まれ得るすべての代替
物、変更及び等価物を含む。本明細書中、2個以上の特
別な種類の置換基が選ばれるべき場合には、各選択は独
立になされるので、同じ種類の幾つかの置換基は同じで
あっても異っていてもよいものとする。
滑剤である 。本発明の潤滑剤は、先行技術の潤滑剤よりも、より堅く
基板へ結合し、より劣化しにくく、かつより良好な潤滑
及び腐食保護を与える 。以下、本発明を幾つかの好まし
い実施態様に関して説明するが、本発明がこれらの好ま
しい実施態様に限定されるものでないことは言うまでも
ない。逆に、本発明は添付の特許請求の範囲で定義され
る本発明の精神及び範囲内に含まれ得るすべての代替
物、変更及び等価物を含む。本明細書中、2個以上の特
別な種類の置換基が選ばれるべき場合には、各選択は独
立になされるので、同じ種類の幾つかの置換基は同じで
あっても異っていてもよいものとする。
【0010】本発明者らは、 (X−T)n −A−Ym 及び(X−T)n −R−(T−
A)n からなる群から選ばれる一般構造式を有する両親媒性化
合物を提案する。上記の各構造式中のXは広くフルオロ
カーボンと定義される。代表的なフルオロカーボンは下
記i 〜ivからなる群から選ばれる。 i.約6〜約22個、好ましくは6〜12個の炭素原子
を有する、分枝鎖又は(好ましくは)直鎖のペルフルオ
ロアルキル部分。このタイプの幾つかの例はペルフルオ
ロ−n−オクチル(C8 F17−)、ペルフルオロ−n−
デシル(C10F21−)及びペルフルオロ−n−ドデシル
(C12F25−)基である。 ii.上記ペルフルオロアルキル末端基と、1〜約5個の
脂肪族炭素原子を有する、直鎖又は分枝鎖、飽和又は不
飽和、未置換又は置換の低級脂肪族結合基とを含むペル
フルオロアルキル末端低級脂肪族基。低級脂肪族結合基
への許される置換基には、本明細書の別の所で定義され
る低級脂肪族、シクロ脂肪族及びアリール部分及び窒
素、燐、硫黄、酸素、ハロゲン、珪素及びこれらの組み
合わせから選ばれる1個以上のヘテロ原子置換基が含ま
れる。意図される代表的なヘテロ原子置換基は下記基:
A)n からなる群から選ばれる一般構造式を有する両親媒性化
合物を提案する。上記の各構造式中のXは広くフルオロ
カーボンと定義される。代表的なフルオロカーボンは下
記i 〜ivからなる群から選ばれる。 i.約6〜約22個、好ましくは6〜12個の炭素原子
を有する、分枝鎖又は(好ましくは)直鎖のペルフルオ
ロアルキル部分。このタイプの幾つかの例はペルフルオ
ロ−n−オクチル(C8 F17−)、ペルフルオロ−n−
デシル(C10F21−)及びペルフルオロ−n−ドデシル
(C12F25−)基である。 ii.上記ペルフルオロアルキル末端基と、1〜約5個の
脂肪族炭素原子を有する、直鎖又は分枝鎖、飽和又は不
飽和、未置換又は置換の低級脂肪族結合基とを含むペル
フルオロアルキル末端低級脂肪族基。低級脂肪族結合基
への許される置換基には、本明細書の別の所で定義され
る低級脂肪族、シクロ脂肪族及びアリール部分及び窒
素、燐、硫黄、酸素、ハロゲン、珪素及びこれらの組み
合わせから選ばれる1個以上のヘテロ原子置換基が含ま
れる。意図される代表的なヘテロ原子置換基は下記基:
【0011】
【化7】
【0012】である。ここで有用なペルフルオロアルキ
ル末端低級脂肪族基の特別な例には、ペルフルオロ−n
−ドデシルメチレン及びペルフルオロ−n−オクチル−
t−ブチレンが含まれる。 iii.約6〜約22個の炭素原子を有する低級脂肪族結合
ペルフルオロポリエーテル。ここで意図されるペルフル
オロポリエーテルは全部で約6〜約22個の炭素原子を
有する鎖を形成するためエーテル結合(−O−)で結合
された、直鎖又は分枝鎖の1〜約5個の炭素原子を有す
るペルフルオロアルキレンである。
ル末端低級脂肪族基の特別な例には、ペルフルオロ−n
−ドデシルメチレン及びペルフルオロ−n−オクチル−
t−ブチレンが含まれる。 iii.約6〜約22個の炭素原子を有する低級脂肪族結合
ペルフルオロポリエーテル。ここで意図されるペルフル
オロポリエーテルは全部で約6〜約22個の炭素原子を
有する鎖を形成するためエーテル結合(−O−)で結合
された、直鎖又は分枝鎖の1〜約5個の炭素原子を有す
るペルフルオロアルキレンである。
【0013】脂肪族結合基は上で定義した通りの低級脂
肪族基である。ここで有用な代表的なペルフルオロポリ
エーテル部分は下記のものである。 HOCH2 CF2 O(CF2 O)a (CF2 CF2 O)b CF2 CH2 ここでbは3〜100の数であり、aは0より大きい整
数又は0に等しく、a+bは100以下であり、随意に
50未満であり、かつペルフルオロメチレン及びペルフ
ルオロエチレン部分は鎖中にランダムに分布している。 iv. 末端トリフルオロメチル部分の1個の弗素原子が水
素で置換されている、前に定義した通りのペルフルオロ
アルキル部分。代表的な置換ペルフルオロアルキル基は
11H−エイコサフルオロデシル: H−(−CF2 −)10− である。
肪族基である。ここで有用な代表的なペルフルオロポリ
エーテル部分は下記のものである。 HOCH2 CF2 O(CF2 O)a (CF2 CF2 O)b CF2 CH2 ここでbは3〜100の数であり、aは0より大きい整
数又は0に等しく、a+bは100以下であり、随意に
50未満であり、かつペルフルオロメチレン及びペルフ
ルオロエチレン部分は鎖中にランダムに分布している。 iv. 末端トリフルオロメチル部分の1個の弗素原子が水
素で置換されている、前に定義した通りのペルフルオロ
アルキル部分。代表的な置換ペルフルオロアルキル基は
11H−エイコサフルオロデシル: H−(−CF2 −)10− である。
【0014】上記潤滑剤の一般構造式に戻ると、Aは核
である。Aは下記i 〜v からなる群から選ばれる。 i. 前に定義した通りの(但し飽和脂肪族基を除く)置
換又は未置換、直鎖又は分枝鎖の不飽和低級脂肪族基。 この範ちゅうの核の1例は2−ブテニル: −CH2 −CH=CH−CH2 − である。 ii. 約4〜約8個の環炭素原子を有する飽和及び不飽和
のシクロ脂肪族基。この範ちゅうの核の例には、シクロ
ブタン及びシクロヘキセンが含まれる。 iii.前に定義した通りのヘテロ原子(環又は非環置換基
として)及び前に定義した通りの低級脂肪族基(飽和低
級脂肪族基を含む)からなる群から選ばれる少なくとも
1つの部分で置換されたシクロ脂肪族基。代表的な部分
には、下記構造式:
である。Aは下記i 〜v からなる群から選ばれる。 i. 前に定義した通りの(但し飽和脂肪族基を除く)置
換又は未置換、直鎖又は分枝鎖の不飽和低級脂肪族基。 この範ちゅうの核の1例は2−ブテニル: −CH2 −CH=CH−CH2 − である。 ii. 約4〜約8個の環炭素原子を有する飽和及び不飽和
のシクロ脂肪族基。この範ちゅうの核の例には、シクロ
ブタン及びシクロヘキセンが含まれる。 iii.前に定義した通りのヘテロ原子(環又は非環置換基
として)及び前に定義した通りの低級脂肪族基(飽和低
級脂肪族基を含む)からなる群から選ばれる少なくとも
1つの部分で置換されたシクロ脂肪族基。代表的な部分
には、下記構造式:
【0015】
【化8】
【0016】を有する部分及びテトラメチルテトラプロ
ピレンシクロテトラシロキサンが含まれる。 iv. 1〜約30個の炭素原子を有し、単環式又は多環式
環を含むアリーレン、例えば
ピレンシクロテトラシロキサンが含まれる。 iv. 1〜約30個の炭素原子を有し、単環式又は多環式
環を含むアリーレン、例えば
【0017】
【化9】
【0018】及びナフタレン。 v. すべてが前に最も広く定義された通りの低級脂肪族
基、シクロ脂肪族基及びヘテロ原子からなる群から選ば
れる少なくとも1つの部分で置換されたアリーレン。下
記のものが例である。
基、シクロ脂肪族基及びヘテロ原子からなる群から選ば
れる少なくとも1つの部分で置換されたアリーレン。下
記のものが例である。
【0019】
【化10】
【0020】上記式中、Mはカチオン、例えば、アルカ
リ又はアルカリ土類金属である。ここでカチオンとして
意図される特別な金属はカリウム、ナトリウム、及びマ
グネシウムである。ここで使用できる核のその他の例は
ポルフィリン及び環式スルフィドの核である。上で示し
た一般構造式中、各Tは少なくとも1つの極性結合部分
を示す。この結合部分の目的はLB膜デポジション中水
相への強い配向親和力を与えること(後で説明するよう
に)及び次に潤滑剤を基体へ固着することである。
リ又はアルカリ土類金属である。ここでカチオンとして
意図される特別な金属はカリウム、ナトリウム、及びマ
グネシウムである。ここで使用できる核のその他の例は
ポルフィリン及び環式スルフィドの核である。上で示し
た一般構造式中、各Tは少なくとも1つの極性結合部分
を示す。この結合部分の目的はLB膜デポジション中水
相への強い配向親和力を与えること(後で説明するよう
に)及び次に潤滑剤を基体へ固着することである。
【0021】代表的なT部分は式
【0022】
【化11】
【0023】からなる群から選ばれる。上記式中に存在
するとき、R1 は水素及び飽和並びに不飽和の部分を含
むように上で最も広く定義された通りの低級脂肪族基か
ら選ばれる。式中には示してないが、式中の各第四級窒
素原子にはアニオン、例えばハロゲン化物又は水酸化
物、が付随している。2個以上のここに示した極性結合
部分の鎖を含む結合も意図される。
するとき、R1 は水素及び飽和並びに不飽和の部分を含
むように上で最も広く定義された通りの低級脂肪族基か
ら選ばれる。式中には示してないが、式中の各第四級窒
素原子にはアニオン、例えばハロゲン化物又は水酸化
物、が付随している。2個以上のここに示した極性結合
部分の鎖を含む結合も意図される。
【0024】上記の一般構造式の各Yは極性非結合部分
を含む。(本明細書に於て、非結合部分とは、フルオロ
カーボン部分を核へ直接的又は間接的に結合しない部分
と定義される。)もし分子中に2個以上のT基が存在す
る場合、ここではYは随意の置換基である。Yは好まし
くは式
を含む。(本明細書に於て、非結合部分とは、フルオロ
カーボン部分を核へ直接的又は間接的に結合しない部分
と定義される。)もし分子中に2個以上のT基が存在す
る場合、ここではYは随意の置換基である。Yは好まし
くは式
【0025】
【化12】
【0026】からなる群から選ばれる。上記式中、Mは
前に定義した通りのカチオンであり、Zはハロゲン化物
であり、かつR2 は水素及び前に定義した通りの低級脂
肪族基から選ばれる。前記一般構造式中、Rは飽和又は
不飽和、置換又は未置換、直鎖又は分枝鎖の1〜約5個
の炭素原子を有する低級脂肪族結合から選ばれる。R結
合の例は −CH2 CH2 −(エチレン);及び C(−CH2 −)4 (ネオペンチレン) である。
前に定義した通りのカチオンであり、Zはハロゲン化物
であり、かつR2 は水素及び前に定義した通りの低級脂
肪族基から選ばれる。前記一般構造式中、Rは飽和又は
不飽和、置換又は未置換、直鎖又は分枝鎖の1〜約5個
の炭素原子を有する低級脂肪族結合から選ばれる。R結
合の例は −CH2 CH2 −(エチレン);及び C(−CH2 −)4 (ネオペンチレン) である。
【0027】上の最初に挙げた一般式に於て、nは少な
くとも1であり、かつnとmとの和は少なくとも2であ
る。かくして、各分子は少なくとも1個の極性結合部分
と第2極性部分(結合又は非結合であり得る)とを有す
る。m、n又はこれらの和の値には臨界的な上限はな
い。本明細書中ではm+nの和として18までの値を示
す(下記実施例1参照)。
くとも1であり、かつnとmとの和は少なくとも2であ
る。かくして、各分子は少なくとも1個の極性結合部分
と第2極性部分(結合又は非結合であり得る)とを有す
る。m、n又はこれらの和の値には臨界的な上限はな
い。本明細書中ではm+nの和として18までの値を示
す(下記実施例1参照)。
【0028】本明細書中で説明された化合物は種々の合
成方法のいずれかを用いて製造され得る。本発明で意図
されかつ実施例中に示された好ましい方法は1)末端官
能基を有するフルオロカーボンを2)1個の又は(好ま
しくは)2個以上の官能基を有する核の前駆体と反応さ
せることである。フルオロカーボンと前駆体との官能基
の反応は両者を結合して本発明の化合物を生成するため
の極性結合を与える。かくして、本明細書中の一般式に
従って定義されたX−T−A、X−T−R又はR−T−
A部分を、単一反応を行うことによって生成することが
できる。
成方法のいずれかを用いて製造され得る。本発明で意図
されかつ実施例中に示された好ましい方法は1)末端官
能基を有するフルオロカーボンを2)1個の又は(好ま
しくは)2個以上の官能基を有する核の前駆体と反応さ
せることである。フルオロカーボンと前駆体との官能基
の反応は両者を結合して本発明の化合物を生成するため
の極性結合を与える。かくして、本明細書中の一般式に
従って定義されたX−T−A、X−T−R又はR−T−
A部分を、単一反応を行うことによって生成することが
できる。
【0029】例えば、ビス−ナジック−アンヒドリブテ
ン(bis-nadic-anhydry-butene) は下記構造式を有する
核前駆体である。
ン(bis-nadic-anhydry-butene) は下記構造式を有する
核前駆体である。
【0030】
【化13】
【0031】上記式中、官能基は2個の環式無水物基で
ある。1当量のビス−ナジック−アンヒドリブテンは下
記構造式 C12F25CH2 CH2 OH を有するフルオロアルコールのようなヒドロキシ末端フ
ルオロカーボンの4当量と反応して下記構造式
ある。1当量のビス−ナジック−アンヒドリブテンは下
記構造式 C12F25CH2 CH2 OH を有するフルオロアルコールのようなヒドロキシ末端フ
ルオロカーボンの4当量と反応して下記構造式
【0032】
【化14】
【0033】(上記構造式中、一般式の各XはC12F25
−末端基を示し、各Tはエステル結合であり、nは4で
あり、Aは
−末端基を示し、各Tはエステル結合であり、nは4で
あり、Aは
【0034】
【化15】
【0035】でありかつmは0であり、かくしてYは存
在しない)を有する化合物を生成することができる。 かくして、本明細書中で提案する化合物の1群は、無水
物又は対応する遊離カルボン酸、例えば、下記: 4,4′−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタ
ル酸アンヒドリド、 3,3′4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ
アンヒドリド、ピロメリト酸ジアンヒドリド、 1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸ジアン
ヒドリド、 4−スルホ−1,8−ナフタル酸アンヒドリドカリウム
塩、 2−スルホ安息香酸環式アンヒドリド、トリメリト酸ア
ンヒドリドクロリド、 4,5−ジカルボキシ−1,2,3−トリアゾール、及
びビス−ナジック−アンヒドリブテン のいずれかを下記ヒドロキシ末端フルオロカーボン: 〔C8 F17SO2 N(C2 H5)CH2 CH2 O〕2 −P
(O)OH、ペルフルオロアルキルヒドロキシアルキル
スルファミド、例えば C8 F17SO2 NH(CH2 CH2 OH)、 HOCH2 CF2 O(CF2 O)n (CF2 CF2 O)
m CF2 CH2 OH、C8 F17CH2 CH2 OH、及び C12F25CH2 CH2 OH のいずれかと通常のエステル化反応で反応させることに
よって製造することができる。酸、無水物又は他の核前
駆体をクエン酸トリ(2−ペルフルオロ−n−オクチ
ル)−エチル(TPFC):
在しない)を有する化合物を生成することができる。 かくして、本明細書中で提案する化合物の1群は、無水
物又は対応する遊離カルボン酸、例えば、下記: 4,4′−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタ
ル酸アンヒドリド、 3,3′4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ
アンヒドリド、ピロメリト酸ジアンヒドリド、 1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸ジアン
ヒドリド、 4−スルホ−1,8−ナフタル酸アンヒドリドカリウム
塩、 2−スルホ安息香酸環式アンヒドリド、トリメリト酸ア
ンヒドリドクロリド、 4,5−ジカルボキシ−1,2,3−トリアゾール、及
びビス−ナジック−アンヒドリブテン のいずれかを下記ヒドロキシ末端フルオロカーボン: 〔C8 F17SO2 N(C2 H5)CH2 CH2 O〕2 −P
(O)OH、ペルフルオロアルキルヒドロキシアルキル
スルファミド、例えば C8 F17SO2 NH(CH2 CH2 OH)、 HOCH2 CF2 O(CF2 O)n (CF2 CF2 O)
m CF2 CH2 OH、C8 F17CH2 CH2 OH、及び C12F25CH2 CH2 OH のいずれかと通常のエステル化反応で反応させることに
よって製造することができる。酸、無水物又は他の核前
駆体をクエン酸トリ(2−ペルフルオロ−n−オクチ
ル)−エチル(TPFC):
【0036】
【化16】
【0037】(ここでsは8である)のようなヒドロキ
シ末端フルオロカーボンと反応させて本発明の化合物を
製造することができる。
シ末端フルオロカーボンと反応させて本発明の化合物を
製造することができる。
【0038】ここで提案する化合物のもう1つの型は、
核前駆体のイミド又はアミン官能基をカルボン酸、アル
コール、非弗素ハロゲン化物(すなわち塩化物、臭化物
又は沃化物)又はフルオロカーボンの非弗素酸ハロゲン
化物官能基と反応させることによって製造される。代表
的なイミドは ピロメリト酸ジイミド、 N−(2−ヒドロキシエチル)フタルイミド、 4,5−ジクロロフタルイミド、及び N−2−ブロモエチルフタルイミド である。
核前駆体のイミド又はアミン官能基をカルボン酸、アル
コール、非弗素ハロゲン化物(すなわち塩化物、臭化物
又は沃化物)又はフルオロカーボンの非弗素酸ハロゲン
化物官能基と反応させることによって製造される。代表
的なイミドは ピロメリト酸ジイミド、 N−(2−ヒドロキシエチル)フタルイミド、 4,5−ジクロロフタルイミド、及び N−2−ブロモエチルフタルイミド である。
【0039】代表的なアミン及び関連物質は ビス(3,4−ジアミノフェニル)スルホン、メラミ
ン、2,4,6−トリアミノピリミジン、6−チオアン
チン、及び3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアジン
である。
ン、2,4,6−トリアミノピリミジン、6−チオアン
チン、及び3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアジン
である。
【0040】上記の反応のための代表的なハロゲン、酸
ハロゲン化物、及びカルボン酸官能性フルオロカーボン
は 沃化ペルフルオロドデシル、CF3 (CF2 )11I;弗
化ペルフルオロ−1−オクタンスルホニル、CF3 (C
F2 )7 SO2 F;塩化11H−エイコサフルオロデカ
ノイル、H(CF2 )10COCl;C8 F17CH2 CH
2 I;C10F21CH2 CH2 I;C12F25CH2 CH2
I;ペルフルオロデカン酸(PFDA)、C9 F19CO
OH;(C10F21CH2 CH2 S)2 C(CH3 )CH
2 CH2 CO2 H;及びF〔CF(CF3 )CF2 O〕
n CF(CF3 )CO2 H、n=2−50である。
ハロゲン化物、及びカルボン酸官能性フルオロカーボン
は 沃化ペルフルオロドデシル、CF3 (CF2 )11I;弗
化ペルフルオロ−1−オクタンスルホニル、CF3 (C
F2 )7 SO2 F;塩化11H−エイコサフルオロデカ
ノイル、H(CF2 )10COCl;C8 F17CH2 CH
2 I;C10F21CH2 CH2 I;C12F25CH2 CH2
I;ペルフルオロデカン酸(PFDA)、C9 F19CO
OH;(C10F21CH2 CH2 S)2 C(CH3 )CH
2 CH2 CO2 H;及びF〔CF(CF3 )CF2 O〕
n CF(CF3 )CO2 H、n=2−50である。
【0041】さらに、前に挙げたクエン酸ペルフルオロ
−n−オクチルのようなフルオロアルコールもトシレー
トへ転化された後、前記アミン及びイミドと反応させる
ことができる。代表的なアミン、イミド及びフルオロカ
ーボンから誘導することができる反応生成物及び新規潤
滑剤の1例はビス(3,4−ジアミノフェニル)スルホ
ンの沃化ペルフルオロドデシル塩:
−n−オクチルのようなフルオロアルコールもトシレー
トへ転化された後、前記アミン及びイミドと反応させる
ことができる。代表的なアミン、イミド及びフルオロカ
ーボンから誘導することができる反応生成物及び新規潤
滑剤の1例はビス(3,4−ジアミノフェニル)スルホ
ンの沃化ペルフルオロドデシル塩:
【0042】
【化17】
【0043】(上記式中、各Xはペルフルオロ−n−ド
デシル部分である)である。ここで提案する 化合物のもう1つの群は核の塩化物前駆
体とカルボン酸又はヒドロキシ官能基を有するフルオロ
カーボンとの反応生成物である。例えば、下記の塩化
物: 窒化塩化燐三量体(PNC); シアヌル酸塩化物(CCl);又は 1,2−フェニレンホスホロクロリド のいずれかを上記カルボン酸又はヒドロキシ官能性フル
オロカーボンのいずれかと反応させることができる。例
えば、PNCをTPFCと反応させること、あるいはC
ClをPFDAと反応させることができる。
デシル部分である)である。ここで提案する 化合物のもう1つの群は核の塩化物前駆
体とカルボン酸又はヒドロキシ官能基を有するフルオロ
カーボンとの反応生成物である。例えば、下記の塩化
物: 窒化塩化燐三量体(PNC); シアヌル酸塩化物(CCl);又は 1,2−フェニレンホスホロクロリド のいずれかを上記カルボン酸又はヒドロキシ官能性フル
オロカーボンのいずれかと反応させることができる。例
えば、PNCをTPFCと反応させること、あるいはC
ClをPFDAと反応させることができる。
【0044】前記塩化物を前述したペルフルオロスルホ
ニルアルキルアミド(フルオロカルボン酸とアルキルス
ルホンアミドとの反応生成物である)と反応させること
もできる。例えば、窒化塩化燐三量体とペルフルオロ−
n−オクチル−2−ヒドロキシエチルスルホンアミドと
の反応生成物は下記の構造式
ニルアルキルアミド(フルオロカルボン酸とアルキルス
ルホンアミドとの反応生成物である)と反応させること
もできる。例えば、窒化塩化燐三量体とペルフルオロ−
n−オクチル−2−ヒドロキシエチルスルホンアミドと
の反応生成物は下記の構造式
【0045】
【化18】
【0046】(上記構造式中、Xはペルフルオロ−n−
オクチル部分である)を有する。有用な核前駆体のもう
1つの群は、フルオロカーボンのカルボン酸、ヒドロキ
シ、又はアミン官能基と反応してカルバメート結合を生
ずることができるジイソシアネート又はポリイソシアネ
ート末端前駆体である。ここで意図される代表的なジイ
ソシアネート核前駆体はジフェニルメタン−4,4′−
ジイソシアネートである。
オクチル部分である)を有する。有用な核前駆体のもう
1つの群は、フルオロカーボンのカルボン酸、ヒドロキ
シ、又はアミン官能基と反応してカルバメート結合を生
ずることができるジイソシアネート又はポリイソシアネ
ート末端前駆体である。ここで意図される代表的なジイ
ソシアネート核前駆体はジフェニルメタン−4,4′−
ジイソシアネートである。
【0047】ここで有用な核前駆体のもう1つの群はア
クリレートである。代表的なアクリレートは下記の構造
を有する。 2−ヒドロキシエチルアクリレート、CH2 =CHCO
OCH2CH2 OH;ペンタエリトリットトリアクリレ
ート(PETA)(CH2 =CHCOOCH 2 )3 CC
H2 OH;2−イソシアナトエチルメタクリレート、C
H2 =C(CH3 )COOCH2 CH2 CNO;及びグ
リシジルメタクリレート、
クリレートである。代表的なアクリレートは下記の構造
を有する。 2−ヒドロキシエチルアクリレート、CH2 =CHCO
OCH2CH2 OH;ペンタエリトリットトリアクリレ
ート(PETA)(CH2 =CHCOOCH 2 )3 CC
H2 OH;2−イソシアナトエチルメタクリレート、C
H2 =C(CH3 )COOCH2 CH2 CNO;及びグ
リシジルメタクリレート、
【0048】
【化19】
【0049】アクリレートとフルオロカーボンとの反応
から誘導することができる新規潤滑剤の1例は〔C8 F
17SO2 N(C2 H5 )CH2 CH2 O〕2 −P(O)
OHとPETAとのエステルである。得られた生成物は
下記の式を有する。 (CH 2 =CHCOOCH 2 ) 3 CCH 2 O-P(O)〔OCH 2 CH2 N(C 2 H5)SO 2 C8 F17〕. この潤滑剤をさらにその3個のアクリレートによって交
叉結合させて機械的に強い膜を生成することができる。
すぐ上の構造式は一般構造式 (X−T)n −R−(T−A)n に次のようによく合っている。Xはペルフルオロ−n−
オクチルであり、Xと関連するnは2であり、Xと関連
するTは 〔OCH2 CH2 N(C2 H5 )SO2 〕 (前に同定された通りの3個の極性基の鎖である)であ
り、Xと関連するnは2であり、Rは −(CH2 )3 C−CH2 OP(O)− であり、各Aと関連するTのおのおのはエステル結合で
あり、AはCH2 =CH−であり、Aと関連するnは3
である。かくして、この式は、各Tが本発明の範囲内
で、前に個々に同定された通りの極性基のストリングで
あり得ることを示す。潤滑された磁気媒体 本発明のもう1つの面は、Aが本発明のこの実施態様に
於て飽和の低級脂肪族基であることもできる以外は前記
説明中に記載した構造を有する化合物を含む単分子層で
被覆された媒体の平面状極性表面を含む潤滑された磁気
媒体である。
から誘導することができる新規潤滑剤の1例は〔C8 F
17SO2 N(C2 H5 )CH2 CH2 O〕2 −P(O)
OHとPETAとのエステルである。得られた生成物は
下記の式を有する。 (CH 2 =CHCOOCH 2 ) 3 CCH 2 O-P(O)〔OCH 2 CH2 N(C 2 H5)SO 2 C8 F17〕. この潤滑剤をさらにその3個のアクリレートによって交
叉結合させて機械的に強い膜を生成することができる。
すぐ上の構造式は一般構造式 (X−T)n −R−(T−A)n に次のようによく合っている。Xはペルフルオロ−n−
オクチルであり、Xと関連するnは2であり、Xと関連
するTは 〔OCH2 CH2 N(C2 H5 )SO2 〕 (前に同定された通りの3個の極性基の鎖である)であ
り、Xと関連するnは2であり、Rは −(CH2 )3 C−CH2 OP(O)− であり、各Aと関連するTのおのおのはエステル結合で
あり、AはCH2 =CH−であり、Aと関連するnは3
である。かくして、この式は、各Tが本発明の範囲内
で、前に個々に同定された通りの極性基のストリングで
あり得ることを示す。潤滑された磁気媒体 本発明のもう1つの面は、Aが本発明のこの実施態様に
於て飽和の低級脂肪族基であることもできる以外は前記
説明中に記載した構造を有する化合物を含む単分子層で
被覆された媒体の平面状極性表面を含む潤滑された磁気
媒体である。
【0050】単分子層は厚さが120オングストローム
未満、好ましくは70オングストローム未満、最も好ま
しくは30オングストローム未満のLangmuir-Blodgett
(LB)単分子層であることができる。単分子層の基体
への適用は別の方法でも行うことができる。LB膜の性
質及び形成並びにLB膜を形成することができる両親媒
性物質に関する背景はAgarwal 著“Langmuir-Blodgett
Films "、Physics Today 、6月号、1988中に記載
されている。“両親媒性”もこの参考文献中で定義され
ている。Agarwal の参考文献中の“両親媒性”の定義及
びLB膜の説明は参照文として本明細書に含まれるもの
とする。
未満、好ましくは70オングストローム未満、最も好ま
しくは30オングストローム未満のLangmuir-Blodgett
(LB)単分子層であることができる。単分子層の基体
への適用は別の方法でも行うことができる。LB膜の性
質及び形成並びにLB膜を形成することができる両親媒
性物質に関する背景はAgarwal 著“Langmuir-Blodgett
Films "、Physics Today 、6月号、1988中に記載
されている。“両親媒性”もこの参考文献中で定義され
ている。Agarwal の参考文献中の“両親媒性”の定義及
びLB膜の説明は参照文として本明細書に含まれるもの
とする。
【0051】一般的に言って、LB膜はその親水性端部
(ここでは2個以上のT及びY部分)が基板へ隣接しか
つその疎水性端部(ここではX部分)が基板上に立って
いる配向した両親媒性分子の密に充填した単一層であ
る。本発明の新規性又は範囲はこの理論の精度に依存す
るものではないが、本発明の化合物は、本発明の化合物
のT及びY部分、並びにA及びRの構造中に含まれる任
意の極性部分が磁気媒体の極性表面へ、これらの極性部
分と磁気媒体中に存在する酸素原子との遊離電子対間の
ファンデルワールス力によってしっかり結合するので、
優れた永続的潤滑を与えると考えられる。(典型的な薄
膜磁気媒体は金属酸化物表面又は空気への暴露のために
酸化する炭素表面のいずれかを有する。)双極子相互作
用及びイオン又は静電的引力も結合に寄与する。
(ここでは2個以上のT及びY部分)が基板へ隣接しか
つその疎水性端部(ここではX部分)が基板上に立って
いる配向した両親媒性分子の密に充填した単一層であ
る。本発明の新規性又は範囲はこの理論の精度に依存す
るものではないが、本発明の化合物は、本発明の化合物
のT及びY部分、並びにA及びRの構造中に含まれる任
意の極性部分が磁気媒体の極性表面へ、これらの極性部
分と磁気媒体中に存在する酸素原子との遊離電子対間の
ファンデルワールス力によってしっかり結合するので、
優れた永続的潤滑を与えると考えられる。(典型的な薄
膜磁気媒体は金属酸化物表面又は空気への暴露のために
酸化する炭素表面のいずれかを有する。)双極子相互作
用及びイオン又は静電的引力も結合に寄与する。
【0052】Aが平面状でかつ芳香族複素環式環である
好ましい化合物では、環は非晶質炭素磁気記録ディスク
保護コーティングのパイ電子と相互作用するであろう。
さらにアミン塩は自然酸化された炭素表面と相互作用
し、強力な結合を生成するであろう。各潤滑剤分子と基
板との間のこれらの結合のために、極性基と関連してい
るA及びR部分は密に充填し(隣り合った分子の極性部
分間のファンデルワールス引力のため)、磁気媒体の極
性表面に平行な潤滑剤平面に実質的に固定される。極め
て無極性であるX部分は、潤滑剤のLB膜を磁気媒体へ
適用するときX部分が配向する方法である、潤滑剤平面
上にほぼ垂直に延びる。各フルオロカーボン部分は極性
結合基で核に結合しているので、各フルオロカーボン鎖
の基部は基体に固定される。
好ましい化合物では、環は非晶質炭素磁気記録ディスク
保護コーティングのパイ電子と相互作用するであろう。
さらにアミン塩は自然酸化された炭素表面と相互作用
し、強力な結合を生成するであろう。各潤滑剤分子と基
板との間のこれらの結合のために、極性基と関連してい
るA及びR部分は密に充填し(隣り合った分子の極性部
分間のファンデルワールス引力のため)、磁気媒体の極
性表面に平行な潤滑剤平面に実質的に固定される。極め
て無極性であるX部分は、潤滑剤のLB膜を磁気媒体へ
適用するときX部分が配向する方法である、潤滑剤平面
上にほぼ垂直に延びる。各フルオロカーボン部分は極性
結合基で核に結合しているので、各フルオロカーボン鎖
の基部は基体に固定される。
【0053】潤滑剤の幾つかのフルオロカーボン部分は
好ましくは同じであり、おのおの1端が同一の様式で固
定され、かつ基体から上方へ垂直に延びている。フルオ
ロカーボンは、その四面体結合ジオメトリーで指令され
る通りにジグザグ鎖である。この対称的配置は、各フル
オロカーボン鎖の対応する原子が基体上同じ距離に配置
されるので、フルオロカーボン鎖は入れ子式になる傾向
があり、鎖の密な充填を可能にする。
好ましくは同じであり、おのおの1端が同一の様式で固
定され、かつ基体から上方へ垂直に延びている。フルオ
ロカーボンは、その四面体結合ジオメトリーで指令され
る通りにジグザグ鎖である。この対称的配置は、各フル
オロカーボン鎖の対応する原子が基体上同じ距離に配置
されるので、フルオロカーボン鎖は入れ子式になる傾向
があり、鎖の密な充填を可能にする。
【0054】単分子層の核は強固に充填されかつX部分
は多数でありかつ好ましくは同じであり、そこでX部分
は基板上に草の葉のように立ち、高密度の永続性潤滑層
を与え、走査用読取り/書込みヘッドと面して摩擦を軽
減する。この理論は図1及び2に示される。図1は、お
のおのが上に示した下記分子:
は多数でありかつ好ましくは同じであり、そこでX部分
は基板上に草の葉のように立ち、高密度の永続性潤滑層
を与え、走査用読取り/書込みヘッドと面して摩擦を軽
減する。この理論は図1及び2に示される。図1は、お
のおのが上に示した下記分子:
【0055】
【化20】
【0056】の核A及び4個の極性結合基Tを示す12
のような密に充填された矩形“タイル”の配列で被覆さ
れた基板10の断面を概略示す。4個の相隣る分子の1
4、16、18及び20のような交差コーナーで、ファ
ンデルワールス力がT部分を相互に引きつけ、かつ各T
は、そのカルボニル部分が下の基板に対して最大の引力
の位置(カルボニル結合を潤滑剤平面に平行にした)に
配向するまで核Aとの単結合の回りに回転する傾向があ
るので、基板10に固定される。
のような密に充填された矩形“タイル”の配列で被覆さ
れた基板10の断面を概略示す。4個の相隣る分子の1
4、16、18及び20のような交差コーナーで、ファ
ンデルワールス力がT部分を相互に引きつけ、かつ各T
は、そのカルボニル部分が下の基板に対して最大の引力
の位置(カルボニル結合を潤滑剤平面に平行にした)に
配向するまで核Aとの単結合の回りに回転する傾向があ
るので、基板10に固定される。
【0057】多くのXフルオロカーボン鎖−T結合基1
個につき1個のXがある−は12のような分子で構成さ
れる潤滑剤平面をより明瞭に示すために図1から省いて
ある。相隣る分子の14〜20のような交差コーナーの
4個のT部分は密に充填されるので、各結合基に付随す
るフルオロカーボン部分はそれらの基部で等しく密に充
填される。
個につき1個のXがある−は12のような分子で構成さ
れる潤滑剤平面をより明瞭に示すために図1から省いて
ある。相隣る分子の14〜20のような交差コーナーの
4個のT部分は密に充填されるので、各結合基に付随す
るフルオロカーボン部分はそれらの基部で等しく密に充
填される。
【0058】図2について言うと、1組の交差コーナー
(14〜20のような)のX部分の2つが側面から示さ
れる。フルオロカーボン鎖22及び24は同じであり、
かくしてそれぞれの主鎖原子は配向ポリオレフィン膜の
結晶性構造のように並ぶので入子になることができる。
この配向は12のような分子によって構成される潤滑剤
平面に対して垂直に多くのフルオロカーボン鎖を配置さ
せる。
(14〜20のような)のX部分の2つが側面から示さ
れる。フルオロカーボン鎖22及び24は同じであり、
かくしてそれぞれの主鎖原子は配向ポリオレフィン膜の
結晶性構造のように並ぶので入子になることができる。
この配向は12のような分子によって構成される潤滑剤
平面に対して垂直に多くのフルオロカーボン鎖を配置さ
せる。
【0059】ここで説明した潤滑剤は、本質的に通常の
方法で、例えば、LBコーティング技術を用いて、薄膜
磁気媒体へ適用される。本発明の潤滑剤の1層のみのZ
型単分子層が基板に直接結合することができるが、2層
以上のZ型層(両図中に示すように、フルオロカーボン
鎖が基板から離れて延びている)をLB膜形成方法によ
って累積することができる。これは、特に基板表面がで
こぼこであるならば、単分子層による基板の完全な被覆
を保証するために行われる。本発明の潤滑剤層を、もう
1つの潤滑剤、例えばLB単分子層のフルオロカーボン
鎖と相容性のフルオロカーボンオイルで被覆することも
できる。
方法で、例えば、LBコーティング技術を用いて、薄膜
磁気媒体へ適用される。本発明の潤滑剤の1層のみのZ
型単分子層が基板に直接結合することができるが、2層
以上のZ型層(両図中に示すように、フルオロカーボン
鎖が基板から離れて延びている)をLB膜形成方法によ
って累積することができる。これは、特に基板表面がで
こぼこであるならば、単分子層による基板の完全な被覆
を保証するために行われる。本発明の潤滑剤層を、もう
1つの潤滑剤、例えばLB単分子層のフルオロカーボン
鎖と相容性のフルオロカーボンオイルで被覆することも
できる。
【0060】本発明の潤滑剤のLB単分子層を適用する
前に、磁気媒体表面を、イソプロパノールのような溶剤
に浸漬し、次に脱イオン水で被覆表面が高電気抵抗(例
えば約18メガオーム/平方)になるまで洗浄するなど
によって完全に清浄にすることが重要である。
前に、磁気媒体表面を、イソプロパノールのような溶剤
に浸漬し、次に脱イオン水で被覆表面が高電気抵抗(例
えば約18メガオーム/平方)になるまで洗浄するなど
によって完全に清浄にすることが重要である。
【0061】
【実施例及び参考例】以下の実施例は本発明の広い範囲
を例示しかつ当業者に本発明の実施を可能にする。
を例示しかつ当業者に本発明の実施を可能にする。
【0062】
【参考例1】窒素複素環式環上に3個の長鎖ペルフルオ
ロカーボン部分を有するペルフルオロポリエーテル酸の
トリアミノピリミジン塩を下記のようにして製造した。
0.4gの2,4,6−トリアミノピリミジン(F.W.
125.14)を5mlの脱イオン(DI)水に溶解し、
これを、FREON113溶剤(50ml)中の平均分子
量4000を有する式 F(C(CF3 )FCF2 O)n C(CF3 )FCOO
H の酸40gの溶液へ、撹拌しながら添加した。(FRE
ONはクロロフルオロカーボンに対する E. I. DuPont
de Nemours & Co., Wilmington 、Delawareの商標であ
る。)溶液は直ちに乳濁し、明らかに増粘した。2時間
連続撹拌後、2相に分離し、有機相の溶剤を蒸発によっ
て除去した。39gの黄褐色油状物を回収した。この油
状物には、約3450、3350及び3180cm-1(種
々の会合度のνN−H)、1690cm-1(CO2 −NH
3 のνC=O及び弗素化酸の吸収帯から約190cm-1の
レッドシフト)及び1300、1240、1180cm-1
(νCF2 γCF2 )に中心をもつ一連の吸収帯;16
10、980及び780cm-1(複素環式環に帰属する)
付近の吸収帯をも含む赤外分光吸収帯が観察された。こ
れらの分光特性は下記の構造 〔F(C(CF3 )FCF2 O) n C(CF3 )FCOO - + NH3〕3 C4 N2 (ここでC4 N2 は
ロカーボン部分を有するペルフルオロポリエーテル酸の
トリアミノピリミジン塩を下記のようにして製造した。
0.4gの2,4,6−トリアミノピリミジン(F.W.
125.14)を5mlの脱イオン(DI)水に溶解し、
これを、FREON113溶剤(50ml)中の平均分子
量4000を有する式 F(C(CF3 )FCF2 O)n C(CF3 )FCOO
H の酸40gの溶液へ、撹拌しながら添加した。(FRE
ONはクロロフルオロカーボンに対する E. I. DuPont
de Nemours & Co., Wilmington 、Delawareの商標であ
る。)溶液は直ちに乳濁し、明らかに増粘した。2時間
連続撹拌後、2相に分離し、有機相の溶剤を蒸発によっ
て除去した。39gの黄褐色油状物を回収した。この油
状物には、約3450、3350及び3180cm-1(種
々の会合度のνN−H)、1690cm-1(CO2 −NH
3 のνC=O及び弗素化酸の吸収帯から約190cm-1の
レッドシフト)及び1300、1240、1180cm-1
(νCF2 γCF2 )に中心をもつ一連の吸収帯;16
10、980及び780cm-1(複素環式環に帰属する)
付近の吸収帯をも含む赤外分光吸収帯が観察された。こ
れらの分光特性は下記の構造 〔F(C(CF3 )FCF2 O) n C(CF3 )FCOO - + NH3〕3 C4 N2 (ここでC4 N2 は
【0063】
【化21】
【0064】である)と一致する。
【0065】
【参考例2】極性チオ尿素塩基上に2個の長鎖ペルフル
オロポリエーテル部分を含むペルフルオロポリエーテル
酸部分のチオ尿素塩を下記のようにして製造した。0.4
gのチオ尿素を10mlの脱イオン水に溶解した。式 F−(−C(CF3 )F−CF2 −O)n −C(CF
3 )F−COOH の酸40gを50mlのFREON113に溶解し、これ
をチオ尿素溶液へ撹拌しながら添加し、2時間加熱し
た。2相に分離し、下層の有機相を脱イオン水で洗った
後、溶剤を蒸発させ、淡色液体を得た。IRスペクトル
は3600cm-1付近(νN−H、ブロード)、1820
cm-1(νC=S)、1670cm-1(−CO2NH3 のν
C=O)及び−CF2 による1180cm-1の吸収帯、ペ
ルフルオロポリエーテル酸による1030、860及び
800cm-1その他の吸収帯をも含んでいた。これらの分
光特性は下記の構造: 〔F(C(CF3 )F-CF2-O) n C(CF3 )F-COO - + NH3〕2 -C=
S と一致する。他の代表的なアミンはメラミン及びテトラ
キス(3−アミノプロピル)テトラメチルシクロテトラ
シロキサンである。他の代表的なフルオロカーボンは沃
化ペルフルオロドデシル並びにDuPontのZonyl TBS及
びURのようなフルオロアルキルスルホン酸及びフルオ
ロアルキル燐酸である。
オロポリエーテル部分を含むペルフルオロポリエーテル
酸部分のチオ尿素塩を下記のようにして製造した。0.4
gのチオ尿素を10mlの脱イオン水に溶解した。式 F−(−C(CF3 )F−CF2 −O)n −C(CF
3 )F−COOH の酸40gを50mlのFREON113に溶解し、これ
をチオ尿素溶液へ撹拌しながら添加し、2時間加熱し
た。2相に分離し、下層の有機相を脱イオン水で洗った
後、溶剤を蒸発させ、淡色液体を得た。IRスペクトル
は3600cm-1付近(νN−H、ブロード)、1820
cm-1(νC=S)、1670cm-1(−CO2NH3 のν
C=O)及び−CF2 による1180cm-1の吸収帯、ペ
ルフルオロポリエーテル酸による1030、860及び
800cm-1その他の吸収帯をも含んでいた。これらの分
光特性は下記の構造: 〔F(C(CF3 )F-CF2-O) n C(CF3 )F-COO - + NH3〕2 -C=
S と一致する。他の代表的なアミンはメラミン及びテトラ
キス(3−アミノプロピル)テトラメチルシクロテトラ
シロキサンである。他の代表的なフルオロカーボンは沃
化ペルフルオロドデシル並びにDuPontのZonyl TBS及
びURのようなフルオロアルキルスルホン酸及びフルオ
ロアルキル燐酸である。
【0066】
【実施例1】窒化塩化燐とクエン酸トリフルオロアルキ
ルとの縮合生成物を製造した。生成物は燐及び窒素芳香
族複素環式環上に18個のフルオロカーボン鎖を含んで
いた。 下記の核式:
ルとの縮合生成物を製造した。生成物は燐及び窒素芳香
族複素環式環上に18個のフルオロカーボン鎖を含んで
いた。 下記の核式:
【0067】
【化22】
【0068】を有する窒化塩化燐三量体(P3 N3 Cl
6 )1.1gをクロロホルム(25ml)に溶解した後、下
記構造式:
6 )1.1gをクロロホルム(25ml)に溶解した後、下
記構造式:
【0069】
【化23】
【0070】(Mw 〜1600、sは6、8、10、1
2又は14、一般に8又は10である)を有するクエン
酸トリフルオロアルキル11.4gへ滴加した。1晩中還
流し、10gの淡黄褐色物質を回収した。主要なIR吸
収帯は2960cm-1(νCH2)、1750(νCH
2 )、1750cm-1(νC=O、−CO2 )、1200
cm-1(CF2 、CF3 、ブロード)、及び1040cm-1
(多分P−O−C)付近に観察された。このスペクトル
は下記核:
2又は14、一般に8又は10である)を有するクエン
酸トリフルオロアルキル11.4gへ滴加した。1晩中還
流し、10gの淡黄褐色物質を回収した。主要なIR吸
収帯は2960cm-1(νCH2)、1750(νCH
2 )、1750cm-1(νC=O、−CO2 )、1200
cm-1(CF2 、CF3 、ブロード)、及び1040cm-1
(多分P−O−C)付近に観察された。このスペクトル
は下記核:
【0071】
【化24】
【0072】上の下記構造式:
【0073】
【化25】
【0074】を有する6個の末端基と一致する。124
0cm-1(主吸収帯)及び1300、1190、1140
及び980cm-1(小吸収帯)付近の窒化塩化燐によるI
R吸収帯はCF2 及びCF3 フルオロアルキルの吸収帯
でマスクされた。
0cm-1(主吸収帯)及び1300、1190、1140
及び980cm-1(小吸収帯)付近の窒化塩化燐によるI
R吸収帯はCF2 及びCF3 フルオロアルキルの吸収帯
でマスクされた。
【0075】
【参考例3】トリアミノピリミジンと3個の長鎖ペルフ
ルオロポリエーテルとのペルフルオロポリエーテルアミ
ンを下記のようにして製造した。約4000の分子量を
有する式: HOCH2 CF2 O(CF2 O)a (CF2 CF2 O)
b CF2 CH2 OH のジオール20g、FREON122(25ml)及びト
リエチルアミン5mlを混合した。次に、塩化トシルのキ
シレン溶液(25ml中1.9g)を添加し、混合物を2時
間撹拌した。次に、0.4gのLiOH(0.4g/10m
l)を含むトリアミノピリミジン、(NH2 )3 C4 N2
の水溶液を添加した。1晩中還流後、20gの淡色粘
稠液を得た。その顕著なIR吸収帯は3500cm-1(−
NH−)、2950cm-1(CH2 )、1600cm-1(複
素環式)、1200〜1100cm-1(CF2 )を含んで
いた。これらの吸収帯は下記構造式: 〔HOCH2 CF2O(CF 2 O)a (CF 2 CF2 O)b CF2 CH2 NH〕3
T (ここでTは下記の構造式:
ルオロポリエーテルとのペルフルオロポリエーテルアミ
ンを下記のようにして製造した。約4000の分子量を
有する式: HOCH2 CF2 O(CF2 O)a (CF2 CF2 O)
b CF2 CH2 OH のジオール20g、FREON122(25ml)及びト
リエチルアミン5mlを混合した。次に、塩化トシルのキ
シレン溶液(25ml中1.9g)を添加し、混合物を2時
間撹拌した。次に、0.4gのLiOH(0.4g/10m
l)を含むトリアミノピリミジン、(NH2 )3 C4 N2
の水溶液を添加した。1晩中還流後、20gの淡色粘
稠液を得た。その顕著なIR吸収帯は3500cm-1(−
NH−)、2950cm-1(CH2 )、1600cm-1(複
素環式)、1200〜1100cm-1(CF2 )を含んで
いた。これらの吸収帯は下記構造式: 〔HOCH2 CF2O(CF 2 O)a (CF 2 CF2 O)b CF2 CH2 NH〕3
T (ここでTは下記の構造式:
【0076】
【化26】
【0077】を有する)と一致する。
【0078】
【参考例4】ホスホニトリル及びペルフルオロポリエー
テルを含む潤滑剤の製造 式:HO-CH 2 CF2 O-〔C 2 F4O 〕m 〔CF2 O 〕n -CF 2
-CH 2 -OH を有するZDOL4000を20g(5mmol) 、冷却
器、滴下ロート及び磁気撹拌器に装着した三つ首ナス形
フラスコ中の50mlのGALDEN D80(AUSI
MONT)(前もって硫酸ナトリウム上で乾燥した)に
溶解した。0.6g(5.9mmol) のトリエチルアミンをそ
の透明な溶液に添加して撹拌した。10.4g(30mmo
l) の窒化塩化燐三量体を三角フラスコ中の50mlのm
−ピリリドンに溶解した。その透明なコハク色の溶液を
三つ首フラスコ上の滴下ロートに移した。ホスホニトリ
ル溶液を滴下添加し、その後、その混合物を72時間加
熱し還流した。それから、すべての溶媒を加熱して回転
エバポレータを使って緩慢な真空下で蒸発させた。残留
物を脱イオン水で洗浄し、その後脱水した。生成物とし
て油状物を得た。
テルを含む潤滑剤の製造 式:HO-CH 2 CF2 O-〔C 2 F4O 〕m 〔CF2 O 〕n -CF 2
-CH 2 -OH を有するZDOL4000を20g(5mmol) 、冷却
器、滴下ロート及び磁気撹拌器に装着した三つ首ナス形
フラスコ中の50mlのGALDEN D80(AUSI
MONT)(前もって硫酸ナトリウム上で乾燥した)に
溶解した。0.6g(5.9mmol) のトリエチルアミンをそ
の透明な溶液に添加して撹拌した。10.4g(30mmo
l) の窒化塩化燐三量体を三角フラスコ中の50mlのm
−ピリリドンに溶解した。その透明なコハク色の溶液を
三つ首フラスコ上の滴下ロートに移した。ホスホニトリ
ル溶液を滴下添加し、その後、その混合物を72時間加
熱し還流した。それから、すべての溶媒を加熱して回転
エバポレータを使って緩慢な真空下で蒸発させた。残留
物を脱イオン水で洗浄し、その後脱水した。生成物とし
て油状物を得た。
【0079】赤外分光光度法(IR)のデータ:350
0cm-1(OH)、1424、1091、971、885
(C−O−P)。このデータは形成された構造が下記式
0cm-1(OH)、1424、1091、971、885
(C−O−P)。このデータは形成された構造が下記式
【0080】
【化27】
【0081】(式中、各々の空いている位置は、 -O-CH 2 - CF2 O-〔C 2 F4 O〕m 〔CF2 O 〕n -CF4-CH 2 -OH によって置換されている)であることを示す。
【0082】
【参考例5】メラミン及びペルフルオロポリエーテルを
組み込んだ合成潤滑剤 40g(0.01mol)のZDOL4000を三つ首フラス
コ中、100mlのGalden D80の中で24時間、1.2
g(0.03mol)の水酸化ナトリウム及び1gのトリエチ
ルアミンと撹拌して、水酸化物を溶解した。トリクロロ
メラミンのm−ピリリドン溶液(25ml中7g(0.03
mol)) を滴下ロートから滴下添加した。その反応混合物
を撹拌し、72時間80℃に保持した。その混合物をそ
の後、冷却、濾過し、分液ロートへ移し、脱イオン水で
洗浄し、最後に脱水した。すべての溶媒を蒸発させて、
油状物を得た。
組み込んだ合成潤滑剤 40g(0.01mol)のZDOL4000を三つ首フラス
コ中、100mlのGalden D80の中で24時間、1.2
g(0.03mol)の水酸化ナトリウム及び1gのトリエチ
ルアミンと撹拌して、水酸化物を溶解した。トリクロロ
メラミンのm−ピリリドン溶液(25ml中7g(0.03
mol)) を滴下ロートから滴下添加した。その反応混合物
を撹拌し、72時間80℃に保持した。その混合物をそ
の後、冷却、濾過し、分液ロートへ移し、脱イオン水で
洗浄し、最後に脱水した。すべての溶媒を蒸発させて、
油状物を得た。
【0083】IRのデータは次のとおりであり:165
0cm-1(二級NH)、このデータは、生成物の構造式が 〔HO-CH 2 -CF 2 O-(C2 F 4 O)m -(CF2 O)n -CF 2 -CH 2 -O-NH 〕3 -C3 N 3 (式中、C3 N3 は下記構造式:
0cm-1(二級NH)、このデータは、生成物の構造式が 〔HO-CH 2 -CF 2 O-(C2 F 4 O)m -(CF2 O)n -CF 2 -CH 2 -O-NH 〕3 -C3 N 3 (式中、C3 N3 は下記構造式:
【0084】
【化28】
【0085】を有する)であることを確証している。
【0086】
【参考例6】ベンゾフェノンテトラ無水カルボン酸及び
ペルフルオロポリエーテルからなる合成潤滑剤 20g(5mmol) のZDOL4000を50mlのGalden
D80に溶解し、1mlのTyzor TPT(duPontのアル
キルチタネート) を添加した。混合物を撹拌している間
に、ベンゾフェノンテトラ無水カルボン酸のm−ピリリ
ドン溶液(10ml中6.5g(0.02mol))を滴下添加し
た。混合物を加熱し、還流し、それから16時間後に除
去した。溶媒は蒸発させて、その後、混合物を脱イオン
水で洗浄し、脱水して油状物を得た。
ペルフルオロポリエーテルからなる合成潤滑剤 20g(5mmol) のZDOL4000を50mlのGalden
D80に溶解し、1mlのTyzor TPT(duPontのアル
キルチタネート) を添加した。混合物を撹拌している間
に、ベンゾフェノンテトラ無水カルボン酸のm−ピリリ
ドン溶液(10ml中6.5g(0.02mol))を滴下添加し
た。混合物を加熱し、還流し、それから16時間後に除
去した。溶媒は蒸発させて、その後、混合物を脱イオン
水で洗浄し、脱水して油状物を得た。
【0087】IRデータは1750cm-1であり、これ
は、生成物が下記構造式 〔HO-CH 2 -CF 2 O-(C2 F 4 O)m -(CF2 O)n -CF 2 -CH
2 -O-C(O) 〕4 -C6H3-C(O)-C6 H3 - (式中、−C6 H3 −C(O)−C6 H3−は下記構造
式
は、生成物が下記構造式 〔HO-CH 2 -CF 2 O-(C2 F 4 O)m -(CF2 O)n -CF 2 -CH
2 -O-C(O) 〕4 -C6H3-C(O)-C6 H3 - (式中、−C6 H3 −C(O)−C6 H3−は下記構造
式
【0088】
【化29】
【0089】を表す)を有することを確証している。
【0090】
【試験例】潤滑された磁気媒体の試験 次の試験を使って、上述のように製造した合成潤滑剤を
磁気ディスクで評価した。基本的に試験は2種類あり、
1つは摩擦性能(連続滑りまたは引きずり試験(contin
uous sliding or drag test)と呼ばれている)に焦点を
置いたもので、他方は潤滑剤が与える耐久性特性に焦点
を置いたものである(接触開始停止試験(contact-star
t-stop test)またはCSS試験と呼ばれている)。
磁気ディスクで評価した。基本的に試験は2種類あり、
1つは摩擦性能(連続滑りまたは引きずり試験(contin
uous sliding or drag test)と呼ばれている)に焦点を
置いたもので、他方は潤滑剤が与える耐久性特性に焦点
を置いたものである(接触開始停止試験(contact-star
t-stop test)またはCSS試験と呼ばれている)。
【0091】引きずり試験は、潤滑剤のLangmuir-Blodg
ettフィルムを有する被覆したディスクを遅いスピード
(0.05インチ/秒、ips)で回転させ、試験の最初と最
終の1回の完全回転で、ディスク上で読み/書き変換器
(スライダー)を滑らせ;より速いスピード(15ips)
でディスクを回転し、2つの遅い回転サイクルの間で2
000回転する間に、ディスク上で連続的にスライダー
を滑らせることで実施した。すべての時間で、摩擦力を
歪ゲージシステムによって測定し、コンピューターによ
って、記録し、テスターの他の機能を制御し、モニター
した。
ettフィルムを有する被覆したディスクを遅いスピード
(0.05インチ/秒、ips)で回転させ、試験の最初と最
終の1回の完全回転で、ディスク上で読み/書き変換器
(スライダー)を滑らせ;より速いスピード(15ips)
でディスクを回転し、2つの遅い回転サイクルの間で2
000回転する間に、ディスク上で連続的にスライダー
を滑らせることで実施した。すべての時間で、摩擦力を
歪ゲージシステムによって測定し、コンピューターによ
って、記録し、テスターの他の機能を制御し、モニター
した。
【0092】CSS試験は、300ips のスピードで2.
5秒の上りランプ及び0.5秒の下りランプで7.5秒サイ
クルを使用し、残りまたはサイクル間は2秒サイクルを
使用し、加速度は4rev /秒/秒であった。この試験で
は、摩擦力と粒子(摩耗)の両方を測定しまたはカウン
トし、および記録した。従来のシステムでは、慣用の潤
滑剤及び薄い金属フィルム上のカーボン被膜を利用し、
引きずり及びCSS摩擦は試験の時間と共に増加した。
引きずり試験の場合では、摩擦は2000回転後、摩擦
係数は約0.2から約1に増加した。図3と図4は従来の
システムでの遅い速度(0.05ips)及び速い速度(15
ips)での摩擦の試験例である。
5秒の上りランプ及び0.5秒の下りランプで7.5秒サイ
クルを使用し、残りまたはサイクル間は2秒サイクルを
使用し、加速度は4rev /秒/秒であった。この試験で
は、摩擦力と粒子(摩耗)の両方を測定しまたはカウン
トし、および記録した。従来のシステムでは、慣用の潤
滑剤及び薄い金属フィルム上のカーボン被膜を利用し、
引きずり及びCSS摩擦は試験の時間と共に増加した。
引きずり試験の場合では、摩擦は2000回転後、摩擦
係数は約0.2から約1に増加した。図3と図4は従来の
システムでの遅い速度(0.05ips)及び速い速度(15
ips)での摩擦の試験例である。
【0093】一方、前述の3つの参考例(ホスホニトリ
ルー、ベンゾジ無水物−、およびメラミン−ZDOLア
ダクト)によって示される合成潤滑剤は、2000回転
連続擦り摩擦において、比較的平らな摩擦反応を示す。
遅い擦りまたは凝似静的摩擦はまた、最初の回転と最終
の回転の両方で低かった。図5と図6は凝似静的摩擦及
び動的摩擦の試験例である。ここから凝似静的摩擦係数
が0.15よりも低く、最終の回転の摩擦が最初のそれよ
りも低いことがわかり、試験期間中の平均動的摩擦係数
は0.3よりも低かった。
ルー、ベンゾジ無水物−、およびメラミン−ZDOLア
ダクト)によって示される合成潤滑剤は、2000回転
連続擦り摩擦において、比較的平らな摩擦反応を示す。
遅い擦りまたは凝似静的摩擦はまた、最初の回転と最終
の回転の両方で低かった。図5と図6は凝似静的摩擦及
び動的摩擦の試験例である。ここから凝似静的摩擦係数
が0.15よりも低く、最終の回転の摩擦が最初のそれよ
りも低いことがわかり、試験期間中の平均動的摩擦係数
は0.3よりも低かった。
【0094】図7(ホスホニトリル−アダクトから得ら
れる)は、ピーク摩擦及び粒子数のCSSプロット対サ
イクル数を示している。これから、上りランプおよび下
りランプ部分のピーク摩擦係数は試験期間中、ほとんど
同じレベルにとどまることがわかる。粒子カウント(3
μよりも大きい、Lpc;0.01μよりも大きい、cnc)はま
た、ほとんどノイズレベルほど低い。
れる)は、ピーク摩擦及び粒子数のCSSプロット対サ
イクル数を示している。これから、上りランプおよび下
りランプ部分のピーク摩擦係数は試験期間中、ほとんど
同じレベルにとどまることがわかる。粒子カウント(3
μよりも大きい、Lpc;0.01μよりも大きい、cnc)はま
た、ほとんどノイズレベルほど低い。
【0095】図8は、8000サイクルまで延長した同
様のCSSプロットを示す(ジ無水物−ZDOLアダク
ト)。図9は、比較のために慣用のシステムを示してい
る。
様のCSSプロットを示す(ジ無水物−ZDOLアダク
ト)。図9は、比較のために慣用のシステムを示してい
る。
【図1】本発明の潤滑剤で被覆された磁気媒体の表面の
概略の斜視図である。
概略の斜視図である。
【図2】図1に示した構造物の部分側面図である。
【図3】慣用の潤滑剤で処理したディスクにおける最初
の及び最終回転の0.05ips での擦り/凝似静的摩擦係
数を表すグラフである。 実験条件:ディスク=s/n92B、IPS=0.05、 半径=2.2インチ、ヘッドロード=14.02g
の及び最終回転の0.05ips での擦り/凝似静的摩擦係
数を表すグラフである。 実験条件:ディスク=s/n92B、IPS=0.05、 半径=2.2インチ、ヘッドロード=14.02g
【図4】慣用の潤滑剤で処理したディスクにおける動的
摩擦係数(15ipsでの連続接触擦り)を表すグラフで
ある。 実験条件:ディスク=s/n92B、IPS=15、 半径=2.2インチ、ヘッドロード=14.02g
摩擦係数(15ipsでの連続接触擦り)を表すグラフで
ある。 実験条件:ディスク=s/n92B、IPS=15、 半径=2.2インチ、ヘッドロード=14.02g
【図5】合成潤滑剤(ホスホニトリル−ZDOL400
0アダクト)で処理したディスクにおける引きずり試験
の凝似静的摩擦係数を表わすグラフである。 実験条件:ディスク=s/n51A、IPS=0.05、 半径=2インチ、ヘッドロード=14g
0アダクト)で処理したディスクにおける引きずり試験
の凝似静的摩擦係数を表わすグラフである。 実験条件:ディスク=s/n51A、IPS=0.05、 半径=2インチ、ヘッドロード=14g
【図6】合成潤滑剤(ホスホニトリル−ZDOL400
0アダクト)で処理したディスクにおける動的摩擦係数
を表すグラフである。 実験条件:ディスク=s/n51A IPS=15 半径=2インチ ヘッドロード=14g
0アダクト)で処理したディスクにおける動的摩擦係数
を表すグラフである。 実験条件:ディスク=s/n51A IPS=15 半径=2インチ ヘッドロード=14g
【図7】合成潤滑剤(ホスホニトリル−ZDOL400
0アダクト)で処理したディスクにおけるCSS試験中
の上りランプ/下りランプのピーク摩擦係数及び他のパ
ラメーターのグラフである。 実験条件:ディスク=s/nC52 半径=1.7インチ データ速度=200Hz IPS=300 ヘッドロード=14.07g 摩擦係数域値=0.2/1.5 試験開始;13:59:59 1991年4月30日
0アダクト)で処理したディスクにおけるCSS試験中
の上りランプ/下りランプのピーク摩擦係数及び他のパ
ラメーターのグラフである。 実験条件:ディスク=s/nC52 半径=1.7インチ データ速度=200Hz IPS=300 ヘッドロード=14.07g 摩擦係数域値=0.2/1.5 試験開始;13:59:59 1991年4月30日
【図8】ジ無水物−ZDOL4000アダクトで処理し
たディスクにおけるCSS試験の結果である。 実験条件:ディスク;s/n46A 半径=1.5インチ データ速度=200Hz IPS=300 ヘッドロード=14.08g 摩擦係数域値=0.2/1.5 試験開始;08:39:23 1991年6月4日
たディスクにおけるCSS試験の結果である。 実験条件:ディスク;s/n46A 半径=1.5インチ データ速度=200Hz IPS=300 ヘッドロード=14.08g 摩擦係数域値=0.2/1.5 試験開始;08:39:23 1991年6月4日
【図9】慣用の潤滑剤で処理されたディスクのCSS試
験の結果である。 実験条件:ディスク;s/n19A 半径=1.5インチ データ速度=200Hz IPS=300 ヘッドロード=14.2g 摩擦係数域値=0.2/1.5 試験開始;18:31:49 1990年9月22日
験の結果である。 実験条件:ディスク;s/n19A 半径=1.5インチ データ速度=200Hz IPS=300 ヘッドロード=14.2g 摩擦係数域値=0.2/1.5 試験開始;18:31:49 1990年9月22日
【図10】W/OスライダーでのS/S試験中のバック
グラウンド粒子カウントである。
グラウンド粒子カウントである。
10 基板 12 矩形タイル 14、16、18、20 交差コーナー 22、24 フルオロカーボン鎖
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C10M 105/74 // C10N 30:06 40:06 40:18
Claims (2)
- 【請求項1】 下記核構造を有する単分子層で被覆され
た極性磁気媒体表面を含む潤滑された磁気媒体。 【化1】 〔式中、各々の空いている位置は下記置換基 【化2】 (式中sは6〜14である)で置換されている〕 - 【請求項2】 潤滑剤がLangmuir-Blodgett 単分子層で
ある請求項1記載の潤滑された磁気媒体。
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