JPH075600B2 - ヒドロキシフエニルプロピオン酸エステルの精製法 - Google Patents
ヒドロキシフエニルプロピオン酸エステルの精製法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- YAPRWCFMWHUXRS-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl) propanoate Chemical compound CCC(=O)OC1=CC=CC=C1O YAPRWCFMWHUXRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 38
- -1 Hydroxyphenylpropionic acid ester Chemical class 0.000 claims description 37
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 35
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 claims description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 21
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 18
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 15
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 13
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 11
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 11
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 10
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 2-Methylheptane Chemical compound CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XCYJPXQACVEIOS-UHFFFAOYSA-N 1-isopropyl-3-methylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C)=C1 XCYJPXQACVEIOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N caprylic alcohol Natural products CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N cyclodecane Chemical compound C1CCCCCCCCC1 LMGZGXSXHCMSAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 2
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNEATYXSUBPPKP-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diisopropylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1 UNEATYXSUBPPKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPPWGCYEYAMHDT-UHFFFAOYSA-N 1,4-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(C)C)C=C1 SPPWGCYEYAMHDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 1-Isopropyl-2-methylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Cl IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRIHSAFSOOUEGL-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(Cl)=CC=CC3=CC2=C1 SRIHSAFSOOUEGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPZIYBJCZRUDEG-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(1-hydroxy-2-methylpropan-2-yl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropan-1-ol Chemical compound C1OC(C(C)(CO)C)OCC21COC(C(C)(C)CO)OC2 BPZIYBJCZRUDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RPRPDTXKGSIXMD-UHFFFAOYSA-N butyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCCCC RPRPDTXKGSIXMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/10—Spiro-condensed systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は式 で示される3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオ
キシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオ
キサスピロ〔5・5〕ウンデカン(以下、ヒドロキシフ
ェニルプロピオン酸エステルと呼ぶ)の精製法に関す
る。
4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオ
キシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオ
キサスピロ〔5・5〕ウンデカン(以下、ヒドロキシフ
ェニルプロピオン酸エステルと呼ぶ)の精製法に関す
る。
<従来の技術> 上記式で示されるヒドロキシフェニルプロピオン酸エス
テルはポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフ
ィン、ポリスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、ABSなど
のスチレン系合成樹脂、ポリアセタール、ポリアミドな
どのエンジニヤリングプラスチックス、さらにはポリウ
レタンなどの各種の合成樹脂の加工時や使用時の熱、光
および酸素などによる軟化、脆化、表面亀裂や変色など
の劣化現象を防止するため賞用できることが知られてい
る(特開昭59−25826号公報、特開昭59−231089号公
報)。
テルはポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフ
ィン、ポリスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、ABSなど
のスチレン系合成樹脂、ポリアセタール、ポリアミドな
どのエンジニヤリングプラスチックス、さらにはポリウ
レタンなどの各種の合成樹脂の加工時や使用時の熱、光
および酸素などによる軟化、脆化、表面亀裂や変色など
の劣化現象を防止するため賞用できることが知られてい
る(特開昭59−25826号公報、特開昭59−231089号公
報)。
本発明者らは、このような上記式で示されるヒドロキシ
フェニルプロピオン酸エステルの精製法として、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって処理したのちカ
ラム流出液から溶媒を留去して融点約45〜55℃のガラス
状物質(以下γ晶という)を得る方法や、上記式で示さ
れるヒドロキシフェニルプロピオン酸エステルと類似の
構造を有する式 で示される3,9−ビス{2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−
1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピ
ロ〔5・5〕ウンデカンについて知られているn−ヘキ
サンを用いる再結晶法(前記特開昭59−25826号公報)
を、そのまま上記式で示されるヒドロキシフェニルプロ
ピオン酸エステルに適用することにより、融点約104〜1
09℃を示す白色結晶(以下αβ晶という)を得る方法を
先に見出している。
フェニルプロピオン酸エステルの精製法として、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって処理したのちカ
ラム流出液から溶媒を留去して融点約45〜55℃のガラス
状物質(以下γ晶という)を得る方法や、上記式で示さ
れるヒドロキシフェニルプロピオン酸エステルと類似の
構造を有する式 で示される3,9−ビス{2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−
1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピ
ロ〔5・5〕ウンデカンについて知られているn−ヘキ
サンを用いる再結晶法(前記特開昭59−25826号公報)
を、そのまま上記式で示されるヒドロキシフェニルプロ
ピオン酸エステルに適用することにより、融点約104〜1
09℃を示す白色結晶(以下αβ晶という)を得る方法を
先に見出している。
本発明者らはまた、Cu−Kα波長のX線によるX線回折
測定により、上記γ晶は第3図に示すとおりの、明確な
X線回折ピークの見られないX線回折パターンを示し、
αβ晶は、回折角2θ=2.8°、2θ=8.7°および2θ
=11.7°に鋭い回折ピークを有する、表1および第1図
に示すような、または第2図に示すようなX線回折パタ
ーンを示すものであることを確認した。このαβ晶は、
通常2種以上の異なる結晶構造をもつものの混合物とし
て得られるようであり、その混合割合の変化により第1
図のようなパターンを示したり、第2図のようなパター
ンを示したりするが、いずれの場合であっても回折角2
θ=2.8°、2θ=8.7°および2θ=11.7°に鋭い回折
ピークを有する。
測定により、上記γ晶は第3図に示すとおりの、明確な
X線回折ピークの見られないX線回折パターンを示し、
αβ晶は、回折角2θ=2.8°、2θ=8.7°および2θ
=11.7°に鋭い回折ピークを有する、表1および第1図
に示すような、または第2図に示すようなX線回折パタ
ーンを示すものであることを確認した。このαβ晶は、
通常2種以上の異なる結晶構造をもつものの混合物とし
て得られるようであり、その混合割合の変化により第1
図のようなパターンを示したり、第2図のようなパター
ンを示したりするが、いずれの場合であっても回折角2
θ=2.8°、2θ=8.7°および2θ=11.7°に鋭い回折
ピークを有する。
<発明が解決しようとしている問題点> しかしながら、前記したような精製法は、たとえば晶析
溶媒としてn−ヘキサンを用いて再結晶処理する方法で
は晶析装置へのスケーリングが激しく、精製すべき混合
物に含まれる不純物との溶解度差が少ないために精製効
果が低く、工業的規模での精製法としては不利なもので
あった。
溶媒としてn−ヘキサンを用いて再結晶処理する方法で
は晶析装置へのスケーリングが激しく、精製すべき混合
物に含まれる不純物との溶解度差が少ないために精製効
果が低く、工業的規模での精製法としては不利なもので
あった。
またカラムクロマトグラフィー法は精製法としては有効
であるが、経済的な理由から工業的な精製法として有利
とは言えず、また、この場合にはγ晶という非常に融点
の低いガラス状物質しかえられないため、目的物の性状
の点でも不満足であった。
であるが、経済的な理由から工業的な精製法として有利
とは言えず、また、この場合にはγ晶という非常に融点
の低いガラス状物質しかえられないため、目的物の性状
の点でも不満足であった。
このようなことから、本発明者らはγ晶を生成せしめる
ことなく、しかも晶析処理を行う場合にもスケーリング
等を生ぜしめることなく、操作上有利に高純度でαβ晶
を製造する方法について検討の結果、本発明に至った。
ことなく、しかも晶析処理を行う場合にもスケーリング
等を生ぜしめることなく、操作上有利に高純度でαβ晶
を製造する方法について検討の結果、本発明に至った。
<問題点を解決するための手段> すなわち本発明は、前記式で示されるヒドロキシフェニ
ルプロピオン酸エステルを、再結晶溶媒として炭素数1
〜8のアルコール類(II−1)、炭素数2〜8のカルボ
ン酸の炭素数1〜4のアルキルエステル類(II−2)、
炭素数1〜3の脂肪族ハロゲン化物(II−3)、炭素数
6〜14の芳香族塩素化物(II−4)、炭素数3〜13のケ
トン類(II−5)、炭素数2〜3の脂肪族ニトリル類
(II−6)、炭素数2〜6のグリコール類もしくはこれ
らの炭素数1〜4のアルキルエーテル化物(II−7)、
炭素数6〜14の芳香族炭化水素類(II−8)、及び炭素
数4〜6のエーテル類(II−9)から選ばれる1種以上
の溶媒(II)を5重量%以下の範囲で含んでいてもよい
炭素数5〜10の環状脂肪族炭化水素類(I)を用いる
か、あるいは炭素数5〜10の鎖状脂肪族炭化水素類(II
I)と上記(II−1)〜(II−9)から選ばれる少なく
とも1種以上の溶媒(II)との重量比(III):(II)
=1000:5〜100からなる混合溶媒を用い、晶析温度40℃
未満で再結晶処理を行うことを特徴とするCu−Kα波長
のX線によるX線回折測定による回折角2θ=2.8°、
2θ=8.7°及び2θ=11.7°に鋭いX線回折ピークを
示す結晶構造を有する前記式で示されるヒドロキシフェ
ニルプロピオン酸エステルを製造する精製法を提供する
ものである。
ルプロピオン酸エステルを、再結晶溶媒として炭素数1
〜8のアルコール類(II−1)、炭素数2〜8のカルボ
ン酸の炭素数1〜4のアルキルエステル類(II−2)、
炭素数1〜3の脂肪族ハロゲン化物(II−3)、炭素数
6〜14の芳香族塩素化物(II−4)、炭素数3〜13のケ
トン類(II−5)、炭素数2〜3の脂肪族ニトリル類
(II−6)、炭素数2〜6のグリコール類もしくはこれ
らの炭素数1〜4のアルキルエーテル化物(II−7)、
炭素数6〜14の芳香族炭化水素類(II−8)、及び炭素
数4〜6のエーテル類(II−9)から選ばれる1種以上
の溶媒(II)を5重量%以下の範囲で含んでいてもよい
炭素数5〜10の環状脂肪族炭化水素類(I)を用いる
か、あるいは炭素数5〜10の鎖状脂肪族炭化水素類(II
I)と上記(II−1)〜(II−9)から選ばれる少なく
とも1種以上の溶媒(II)との重量比(III):(II)
=1000:5〜100からなる混合溶媒を用い、晶析温度40℃
未満で再結晶処理を行うことを特徴とするCu−Kα波長
のX線によるX線回折測定による回折角2θ=2.8°、
2θ=8.7°及び2θ=11.7°に鋭いX線回折ピークを
示す結晶構造を有する前記式で示されるヒドロキシフェ
ニルプロピオン酸エステルを製造する精製法を提供する
ものである。
本発明の精製法においては、結晶を析出させる温度が重
要であり、上記いずれの再結晶溶媒を使用する場合であ
っても、その温度としては、40℃未満が好ましい。40℃
以上の温度においては再結晶溶媒への溶解ロスが多くな
り、その結果晶析収率が低下することとなり、実用的で
ない。もちろん、晶析収率は再結晶溶媒への溶解度に大
きく支配されるため、溶解度の非常に低い溶媒、例えば
n−ヘキサンのような鎖状脂肪族炭化水素類を用いる場
合には、40℃以上の温度にても高収率で晶析操作を実施
することができるが、この場合には、前記したように、
晶析装置へのスケーリングが激しく、工業的には、実施
不可能に近い。
要であり、上記いずれの再結晶溶媒を使用する場合であ
っても、その温度としては、40℃未満が好ましい。40℃
以上の温度においては再結晶溶媒への溶解ロスが多くな
り、その結果晶析収率が低下することとなり、実用的で
ない。もちろん、晶析収率は再結晶溶媒への溶解度に大
きく支配されるため、溶解度の非常に低い溶媒、例えば
n−ヘキサンのような鎖状脂肪族炭化水素類を用いる場
合には、40℃以上の温度にても高収率で晶析操作を実施
することができるが、この場合には、前記したように、
晶析装置へのスケーリングが激しく、工業的には、実施
不可能に近い。
本発明に使用される再結晶溶媒において、炭素数5〜10
の環状脂肪族炭化水素類(I)としてはシクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオ
クタン、シクロデカン等が例示され、これらは単独であ
っても2種以上の混合物として使用してもよい。
の環状脂肪族炭化水素類(I)としてはシクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオ
クタン、シクロデカン等が例示され、これらは単独であ
っても2種以上の混合物として使用してもよい。
また、鎖状脂肪族炭化水素類(III)としてはn−ペン
タン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、2
−メチルヘプタン、n−デカン等が例示され、これらは
単独であっても2種以上の混合物として使用してもよ
い。
タン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、2
−メチルヘプタン、n−デカン等が例示され、これらは
単独であっても2種以上の混合物として使用してもよ
い。
更に、炭素数1〜8のアルコール類(II−1)としては
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−
ブタノール、n−ペンタノール、n−オクタノール、2
−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、グリセリ
ン等が、炭素数2〜8のカルボン酸の炭素数1〜4のア
ルキルエステル類(II−2)としては酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、プロピオ
ン酸エチル、n−ヘキサン酸n−ブチル、フタル酸ジメ
チル、フタル酸ジ−n−ブチル等が、炭素数1〜3の脂
肪族ハロゲン化物(II−3)としては四塩化炭素、クロ
ロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,
2,2−テトラクロロエタン、1,2−ジクロロプロパン等
が、炭素数6〜14の芳香族塩素化物(II−4)としては
クロルベンゼン、m−ジクロロベンゼン、o−クロロト
ルエン、1−クロロナフタレン、1−クロロアントラセ
ン等が、炭素数3〜13のケトン類(II−5)としてはア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジエチルケトン、アセトフェノン,ベンゾフェノン
等が、炭素数2〜3の脂肪族ニトリル類(II−6)とし
てはアセトニトリル、プロピオニトリルが、炭素数2〜
6のグリコール類もしくはこれらの炭素数1〜4のアル
キルエーテル化物(II−7)としてはエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコールもしくはこれらのメチルエーテ
ル、エチルエーテル等が、炭素数6〜14の芳香族炭化水
素類(II−8)としてはトルエン、o−キシレン、m−
キシレン、p−キシレン、1,2,3−トリメチルベンゼ
ン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベ
ンゼン、1,2,4,5−テトラメチルベンゼン、エチルベン
ゼン、クメン、o−シメン、m−シメン、p−シメン、
o−ジイソプロピルベンゼン、m−ジイソプロピルベン
ゼン、p−ジイソプロピルベンゼン、ナフタレン、アン
トラセン等が、炭素数4〜6のエーテル類(II−9)と
してはジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒ
ドロピラン、ジイソプロピルエーテル等がそれぞれ例示
できる。
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−
ブタノール、n−ペンタノール、n−オクタノール、2
−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、グリセリ
ン等が、炭素数2〜8のカルボン酸の炭素数1〜4のア
ルキルエステル類(II−2)としては酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、プロピオ
ン酸エチル、n−ヘキサン酸n−ブチル、フタル酸ジメ
チル、フタル酸ジ−n−ブチル等が、炭素数1〜3の脂
肪族ハロゲン化物(II−3)としては四塩化炭素、クロ
ロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,
2,2−テトラクロロエタン、1,2−ジクロロプロパン等
が、炭素数6〜14の芳香族塩素化物(II−4)としては
クロルベンゼン、m−ジクロロベンゼン、o−クロロト
ルエン、1−クロロナフタレン、1−クロロアントラセ
ン等が、炭素数3〜13のケトン類(II−5)としてはア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジエチルケトン、アセトフェノン,ベンゾフェノン
等が、炭素数2〜3の脂肪族ニトリル類(II−6)とし
てはアセトニトリル、プロピオニトリルが、炭素数2〜
6のグリコール類もしくはこれらの炭素数1〜4のアル
キルエーテル化物(II−7)としてはエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコールもしくはこれらのメチルエーテ
ル、エチルエーテル等が、炭素数6〜14の芳香族炭化水
素類(II−8)としてはトルエン、o−キシレン、m−
キシレン、p−キシレン、1,2,3−トリメチルベンゼ
ン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベ
ンゼン、1,2,4,5−テトラメチルベンゼン、エチルベン
ゼン、クメン、o−シメン、m−シメン、p−シメン、
o−ジイソプロピルベンゼン、m−ジイソプロピルベン
ゼン、p−ジイソプロピルベンゼン、ナフタレン、アン
トラセン等が、炭素数4〜6のエーテル類(II−9)と
してはジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒ
ドロピラン、ジイソプロピルエーテル等がそれぞれ例示
できる。
かかる(II−1)〜(II−9)で示される溶媒(II)
は、1種でもよいし、同種あるいは異種間で2種以上を
混合して使用することもできる。
は、1種でもよいし、同種あるいは異種間で2種以上を
混合して使用することもできる。
こうした溶媒(II)は、鎖状脂肪族炭化水素類(III)
に対するαβ晶の溶解度を高めて精製効果を向上させた
り、晶析装置へのスケーリングを防止するため等の目的
で鎖状脂肪族炭化水素類(III)に混合して用いられ、
その量は、鎖状脂肪族炭化水素類(III)1000に対し
て、重量比で5〜100が好ましい。こうした量をこえる
溶媒(II)の鎖状脂肪族炭化水素類(III)への混合
は、αβ晶の溶解度を更に高めることとなり、精製効果
の点では好ましくとも、晶析収率の減少をもたらす結果
となり、実際上好ましくない。
に対するαβ晶の溶解度を高めて精製効果を向上させた
り、晶析装置へのスケーリングを防止するため等の目的
で鎖状脂肪族炭化水素類(III)に混合して用いられ、
その量は、鎖状脂肪族炭化水素類(III)1000に対し
て、重量比で5〜100が好ましい。こうした量をこえる
溶媒(II)の鎖状脂肪族炭化水素類(III)への混合
は、αβ晶の溶解度を更に高めることとなり、精製効果
の点では好ましくとも、晶析収率の減少をもたらす結果
となり、実際上好ましくない。
本発明において、炭素数5〜10の環状脂肪族炭化水素類
(I)は、一般にはそれ単独で再結晶溶媒として使用す
ることができるが、ヒドロキシフェニルプロピオン酸エ
ステルの環状脂肪族炭化水素類(I)への溶解度を高
め、精製効果を向上させるために、該環状脂肪族炭化水
素類(I)は上記溶媒(II)を5重量%以下の範囲で含
んでいてもよい。しかし、この量が5重量%を越えると
晶析収率が低下する。
(I)は、一般にはそれ単独で再結晶溶媒として使用す
ることができるが、ヒドロキシフェニルプロピオン酸エ
ステルの環状脂肪族炭化水素類(I)への溶解度を高
め、精製効果を向上させるために、該環状脂肪族炭化水
素類(I)は上記溶媒(II)を5重量%以下の範囲で含
んでいてもよい。しかし、この量が5重量%を越えると
晶析収率が低下する。
上記いずれの再結晶溶媒を用いる場合であっても、その
使用量は、原料に対して通常1〜10重量倍である。
使用量は、原料に対して通常1〜10重量倍である。
本発明において、再結晶操作そのものは特に限定され
ず、従来より公知の一般的方法で実施することができ、
たとえば原料を本発明に特定する再結晶溶媒に、その沸
点もしくはそれ以下の温度で完溶し、40℃未満の温度
で、必要に応じて結晶の核となる種晶を加えて攪拌し、
結晶を析出させ、晶析収率を上昇させるために必要に応
じて更に冷却した後、得られた結晶を通常の濾過装置に
より濾液と分離し、洗浄、乾燥することにより行われ
る。もちろん、必要に応じて、活性炭や活性白土、シリ
カゲル等による脱色操作等をこの操作の間に入れてもよ
い。
ず、従来より公知の一般的方法で実施することができ、
たとえば原料を本発明に特定する再結晶溶媒に、その沸
点もしくはそれ以下の温度で完溶し、40℃未満の温度
で、必要に応じて結晶の核となる種晶を加えて攪拌し、
結晶を析出させ、晶析収率を上昇させるために必要に応
じて更に冷却した後、得られた結晶を通常の濾過装置に
より濾液と分離し、洗浄、乾燥することにより行われ
る。もちろん、必要に応じて、活性炭や活性白土、シリ
カゲル等による脱色操作等をこの操作の間に入れてもよ
い。
<発明の効果> かくして、本発明の方法によれば、前記ヒドロキシフェ
ニルプロピオン酸エステルが、装置へのスケーリング等
の操作上の不都合を起こすことなく、高収率で、純度よ
く、しかもγ晶を生ぜしめることなく白色結晶状のαβ
晶として得ることができ、本発明は工業的規模で実施す
ることのできる極めて有用なヒドロキシフェニルプロピ
オン酸エステルの精製法であると言える。
ニルプロピオン酸エステルが、装置へのスケーリング等
の操作上の不都合を起こすことなく、高収率で、純度よ
く、しかもγ晶を生ぜしめることなく白色結晶状のαβ
晶として得ることができ、本発明は工業的規模で実施す
ることのできる極めて有用なヒドロキシフェニルプロピ
オン酸エステルの精製法であると言える。
<実施例> 次に実施例により、本発明を説明する。尚、以下の参考
例、実施例、比較例において、%は別に明記せぬ限り重
量%を意味する。
例、実施例、比較例において、%は別に明記せぬ限り重
量%を意味する。
参考例1 攪拌機、蒸留用冷却機、温度計、窒素導入管を備えた50
0mlの4口フラスコに3−(3−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル200.
3g(0.8モル)と3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジ
メチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・
5〕ウンデカン60.88g(0.2モル)を仕込み、窒素雰囲
気下150℃で30分間加熱攪拌して溶解し、これに酸化カ
ルシウム2.25g(0.04モル)を加えた。次いで190℃に迄
加熱昇温し、生成するメタノールを留去しつつ6時間保
温し、反応を完結させた。
0mlの4口フラスコに3−(3−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル200.
3g(0.8モル)と3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジ
メチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・
5〕ウンデカン60.88g(0.2モル)を仕込み、窒素雰囲
気下150℃で30分間加熱攪拌して溶解し、これに酸化カ
ルシウム2.25g(0.04モル)を加えた。次いで190℃に迄
加熱昇温し、生成するメタノールを留去しつつ6時間保
温し、反応を完結させた。
反応終了後、トルエンを加えて希釈し、希塩酸水で中和
後、水で洗浄し、次いでトルエンを留去した後、過剰の
原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオン酸メチル97.1gを留去した処、
淡黄色飴状物質148.3gを得た。この飴状物質を分析した
結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキ
シ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキ
サスピロ〔5・5〕ウンデカンが96.4%含まれており、
これは3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチ
ル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデ
カン基準収率96.5%にあたることが認められた。またこ
の飴状物質には原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル、及び
その他の副反応生成物がそれぞれ1.2%、2.4%含まれて
いることが認められた。
後、水で洗浄し、次いでトルエンを留去した後、過剰の
原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオン酸メチル97.1gを留去した処、
淡黄色飴状物質148.3gを得た。この飴状物質を分析した
結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキ
シ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキ
サスピロ〔5・5〕ウンデカンが96.4%含まれており、
これは3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチ
ル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデ
カン基準収率96.5%にあたることが認められた。またこ
の飴状物質には原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル、及び
その他の副反応生成物がそれぞれ1.2%、2.4%含まれて
いることが認められた。
参考例2 参考例1における酸化カルシウムのかわりにカリウムt
−ブトキシド2.25g(0.02モル)を用い、150℃、5mmHg
て反応を完結させた後、参考例1と同様の処理を行った
ところ、過剰の原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル92.5g
を回収すると共に褐色飴状物質145.2gを得た。この飴状
物質を分析した結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロ
ピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10
−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンが87.5%含
まれており、これは3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−
ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5
・5〕ウンデカン基準収率85.8%にあたることが認めら
れた。またこの飴状物質には原料3−(3−t−ブチル
−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸
メチル、及びその他の副反応生成物がそれぞれ1.4%、1
1.1%含まれていることが認められた。
−ブトキシド2.25g(0.02モル)を用い、150℃、5mmHg
て反応を完結させた後、参考例1と同様の処理を行った
ところ、過剰の原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル92.5g
を回収すると共に褐色飴状物質145.2gを得た。この飴状
物質を分析した結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロ
ピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10
−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンが87.5%含
まれており、これは3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−
ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5
・5〕ウンデカン基準収率85.8%にあたることが認めら
れた。またこの飴状物質には原料3−(3−t−ブチル
−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸
メチル、及びその他の副反応生成物がそれぞれ1.4%、1
1.1%含まれていることが認められた。
参考例3 参考例1における酸化カルシウムのかわりにリチウムア
ミド0.46g(0.02モル)を用い、150℃、5mmHgて反応を
完結させた後、参考例1と同様の処理を行ったところ、
過剰の原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)プロピオン酸メチル95.4gを回収す
ると共に褐色飴状物質145.8gを得た。この飴状物質を分
析した結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル
−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニル
オキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラ
オキサスピロ〔5・5〕ウンデカンが88.9%含まれてお
り、これは3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチル
エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウ
ンデカン基準収率87.5%にあたることが認められた。ま
たこの飴状物質には原料3−(3−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル、
及びその他の副反応生成物がそれぞれ1.5%、9.6%含ま
れていることが認められた。
ミド0.46g(0.02モル)を用い、150℃、5mmHgて反応を
完結させた後、参考例1と同様の処理を行ったところ、
過剰の原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)プロピオン酸メチル95.4gを回収す
ると共に褐色飴状物質145.8gを得た。この飴状物質を分
析した結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル
−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニル
オキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラ
オキサスピロ〔5・5〕ウンデカンが88.9%含まれてお
り、これは3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチル
エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウ
ンデカン基準収率87.5%にあたることが認められた。ま
たこの飴状物質には原料3−(3−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチル、
及びその他の副反応生成物がそれぞれ1.5%、9.6%含ま
れていることが認められた。
尚、参考例1で得た飴状物質について、Cu−Kα波長の
X線によるX線回折測定を行ったところ、第3図に示す
とおりのX線回折パターンを示し、また、参考例2およ
び3で得た飴状物質についても同様のX線回折パターン
が得られた。
X線によるX線回折測定を行ったところ、第3図に示す
とおりのX線回折パターンを示し、また、参考例2およ
び3で得た飴状物質についても同様のX線回折パターン
が得られた。
実施例1 参考例1で得られた飴状物質50gを150gのシクロヘキサ
ンに70℃で溶解させた後に攪拌下にすみやかに冷却し、
30℃で0.1gの種晶を投入した。その後、更に同温度で6
時間攪拌し、結晶を析出させた。得られた結晶をグラス
フィルターで濾過し、シクロヘキサンで洗浄後、減圧下
40℃で乾燥したところ、融点102〜107℃の白色結晶47.1
gを得た。この白色結晶を分析した結果、3,9−ビス{2
−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエ
チル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウン
デカンが98.2%含まれており、また原料3−(3−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピ
オン酸メチルは存在せず、その他の副反応生成物が1.8
%含まれていることが認められた。
ンに70℃で溶解させた後に攪拌下にすみやかに冷却し、
30℃で0.1gの種晶を投入した。その後、更に同温度で6
時間攪拌し、結晶を析出させた。得られた結晶をグラス
フィルターで濾過し、シクロヘキサンで洗浄後、減圧下
40℃で乾燥したところ、融点102〜107℃の白色結晶47.1
gを得た。この白色結晶を分析した結果、3,9−ビス{2
−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエ
チル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウン
デカンが98.2%含まれており、また原料3−(3−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピ
オン酸メチルは存在せず、その他の副反応生成物が1.8
%含まれていることが認められた。
実施例2〜6 実施例1におけるシクロヘキサンのかわりに、シクロペ
ンタン(実施例2)、メチルシクロペンタン(実施例
3)、メチルシクロヘキサン(実施例4)、シクロオク
タン(実施例5)またはシクロデカン(実施例6)を用
いてそれぞれ再結晶処理を行った結果を表2に示した。
ンタン(実施例2)、メチルシクロペンタン(実施例
3)、メチルシクロヘキサン(実施例4)、シクロオク
タン(実施例5)またはシクロデカン(実施例6)を用
いてそれぞれ再結晶処理を行った結果を表2に示した。
実施例7〜11 実施例1におけるシクロヘキサンに、2.5gの、メタノー
ル(実施例7)、エタノール(実施例8)、酢酸エチル
(実施例9)、酢酸n−ブチル(実施例10)または四塩
化炭素(実施例11)をそれぞれ加えた混合溶媒をそれぞ
れ用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
ル(実施例7)、エタノール(実施例8)、酢酸エチル
(実施例9)、酢酸n−ブチル(実施例10)または四塩
化炭素(実施例11)をそれぞれ加えた混合溶媒をそれぞ
れ用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
実施例12および13 実施例1における参考例1で得られた飴状物質のかわり
に、参考例2で得られた飴状物質(実施例12)または参
考例3で得られた飴状物質(実施例13)をそれぞれ用
い、実施例1と同様の再結晶処理を2回行った結果を表
2に示した。
に、参考例2で得られた飴状物質(実施例12)または参
考例3で得られた飴状物質(実施例13)をそれぞれ用
い、実施例1と同様の再結晶処理を2回行った結果を表
2に示した。
実施例14 参考例1で得られた飴状物質50gを150gのn−ヘキサン
/酢酸エチル混合溶媒(重量比10/1)に70℃で溶解させ
た後、攪拌下にすみやかに冷却し、30℃で0.1gの種晶を
投入した。その後、更に同温度で6時間攪拌し、結晶を
析出させた。得られた結晶をグラスフィルターで濾過
し、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下40℃で乾燥したとこ
ろ、融点99〜105℃の白色結晶46.5gを得た。この白色結
晶を分析した結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピ
オニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−
テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンが97.8%含ま
れており、また原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチルは存在
せず、その他の副反応生成物が2.2%含まれていること
が認められた。
/酢酸エチル混合溶媒(重量比10/1)に70℃で溶解させ
た後、攪拌下にすみやかに冷却し、30℃で0.1gの種晶を
投入した。その後、更に同温度で6時間攪拌し、結晶を
析出させた。得られた結晶をグラスフィルターで濾過
し、n−ヘキサンで洗浄後、減圧下40℃で乾燥したとこ
ろ、融点99〜105℃の白色結晶46.5gを得た。この白色結
晶を分析した結果、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピ
オニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−
テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンが97.8%含ま
れており、また原料3−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロピオン酸メチルは存在
せず、その他の副反応生成物が2.2%含まれていること
が認められた。
実施例15〜17 実施例14におけるn−ヘキサンのかわりに、n−ヘプタ
ン(実施例15)、n−オクタン(実施例16)または2−
メチルヘプタン(実施例17)をそれぞれ用いて再結晶処
理を行った結果を表2に示した。
ン(実施例15)、n−オクタン(実施例16)または2−
メチルヘプタン(実施例17)をそれぞれ用いて再結晶処
理を行った結果を表2に示した。
実施例18 実施例14におけるn−ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒の
かわりに、n−ヘプタン/n−ブタノール混合溶媒(重量
比20/1)を用いて再結晶処理を行った。洗浄にはn−ヘ
プタンを用いた。結果を表2に示した。
かわりに、n−ヘプタン/n−ブタノール混合溶媒(重量
比20/1)を用いて再結晶処理を行った。洗浄にはn−ヘ
プタンを用いた。結果を表2に示した。
実施例19〜25 実施例18におけるn−ブタノールのかわりに、四塩化炭
素(実施例19)、クロルベンゼン(実施例20)、メチル
エチルケトン(実施例21)、アセトニトリル(実施例2
2)、ジエチレングリコール(実施例23)、トルエン
(実施例24)または1,4−ジオキサン(実施例25)をそ
れぞれ用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
素(実施例19)、クロルベンゼン(実施例20)、メチル
エチルケトン(実施例21)、アセトニトリル(実施例2
2)、ジエチレングリコール(実施例23)、トルエン
(実施例24)または1,4−ジオキサン(実施例25)をそ
れぞれ用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
比較例1 実施例1におけるシクロヘキサンのかわりに、n−ヘキ
サンを用い、50℃で種晶を投入し結晶を析出させるほか
は、実施例1と同様の再結晶処理を行った結果を表2に
示した。
サンを用い、50℃で種晶を投入し結晶を析出させるほか
は、実施例1と同様の再結晶処理を行った結果を表2に
示した。
比較例2 実施例12におけるシクロヘキサンのかわりに、n−ヘキ
サンを用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
サンを用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
比較例3 実施例13におけるシクロヘキサンのかわりに、n−ヘキ
サンを用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
サンを用いて再結晶処理を行った結果を表2に示した。
尚、実施例1で得られた結晶について、Cu−Kα波長の
X線によるX線回折測定を行ったところ、第1図に示す
とおりのX線回折パターンを示し、また、比較例1で得
られた結晶については第2図に示すとおりのX線回折パ
ターンが得られた。また、実施例2〜25および比較例2
〜3で得られた結晶については第1図と同様のX線回折
パターンが得られた。
X線によるX線回折測定を行ったところ、第1図に示す
とおりのX線回折パターンを示し、また、比較例1で得
られた結晶については第2図に示すとおりのX線回折パ
ターンが得られた。また、実施例2〜25および比較例2
〜3で得られた結晶については第1図と同様のX線回折
パターンが得られた。
第1図は実施例1で得られた結晶の、第2図は比較例1
で得られた結晶の、また第3図は参考例1で得られた飴
状物質のX線回折パターンである。
で得られた結晶の、また第3図は参考例1で得られた飴
状物質のX線回折パターンである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 八児 真一 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 石井 玉樹 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】式 で示されるヒドロキシフェニルプロピオン酸エステル
を、再結晶溶媒として 炭素数1〜8のアルコール類(II−1)、 炭素数2〜8のカルボン酸の炭素数1〜4のアルキルエ
ステル類(II−2)、 炭素数1〜3の脂肪族ハロゲン化物(II−3)、 炭素数6〜14の芳香族塩素化物(II−4)、 炭素数3〜13のケトン類(II−5)、 炭素数2〜3の脂肪族ニトリル類(II−6)、 炭素数2〜6のグリコール類もしくはこれらの炭素数1
〜4のアルキルエーテル類(II−7)、 炭素数6〜14の芳香族炭化水素類(II−8)、 及び 炭素数4〜6のエーテル類(II−9) から選ばれる1種以上の溶媒(II)を5重量%以下の範
囲で含んでいてもよい炭素数5〜10の環状脂肪族炭化水
素類(I)を用い、晶析温度40℃未満で再結晶処理し
て、Cu−Kα波長のX線によるX線回折測定による回折
角2θ=2.8°、2θ=8.7°及び2θ=11.7°に鋭いX
線回折ピークを示す結晶構造を有する上記式で示される
ヒドロキシフェニルプロピオン酸エステルを得ることを
特徴とする該エステルの精製法。 - 【請求項2】環状脂肪族炭化水素類(I)がシクロヘキ
サンである特許請求の範囲第1項に記載の精製法。 - 【請求項3】式 で示されるヒドロキシフェニルプロピオン酸エステル
を、再結晶溶媒として炭素数5〜10の鎖状脂肪族炭化水
素類(III)と、 炭素数1〜8のアルコール類(II−1)、 炭素数2〜8のカルボン酸の炭素数1〜4のアルキルエ
ステル類(II−2)、 炭素数1〜3の脂肪族ハロゲン化物(II−3)、 炭素数6〜14の芳香族塩素化物(II−4)、 炭素数3〜13のケトン類(II−5)、 炭素数2〜3の脂肪族ニトリル類(II−6)、 炭素数2〜6のグリコール類もしくはこれらの炭素数1
〜4のアルキルエーテル類(II−7)、 炭素数6〜14の芳香族炭化水素類(II−8)、 及び 炭素数4〜6のエーテル類(II−9) から選ばれる少なくとも1種以上の溶媒(II)との、重
量比(III):(II)=1000:5〜100からなる混合溶媒を
用い、晶析温度40℃未満で再結晶処理して、Cu−Kα波
長のX線によるX線回折測定による回折角2θ=2.8
°、2θ=8.7°及び2θ=11.7°に鋭いX線回折ピー
クを示す結晶構造を有する上記式で示されるヒドロキシ
フェニルプロピオン酸エステルを得ることを特徴とする
該エステルの精製法。 - 【請求項4】鎖状脂肪族炭化水素類(III)がn−ヘプ
タンである特許請求の範囲第3項に記載の精製法。 - 【請求項5】鎖状脂肪族炭化水素類(III)がn−ヘキ
サンである特許請求の範囲第3項に記載の精製法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60-136272 | 1985-06-21 | ||
| JP13627285 | 1985-06-21 | ||
| JP60-190457 | 1985-08-29 | ||
| JP19045785 | 1985-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149680A JPS62149680A (ja) | 1987-07-03 |
| JPH075600B2 true JPH075600B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=26469902
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61040639A Expired - Fee Related JPH0739419B2 (ja) | 1985-06-21 | 1986-02-26 | 新規な結晶構造を有するヒドロキシフエニルプロピオン酸エステル及びその製造法 |
| JP61057927A Expired - Fee Related JPH075600B2 (ja) | 1985-06-21 | 1986-03-14 | ヒドロキシフエニルプロピオン酸エステルの精製法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61040639A Expired - Fee Related JPH0739419B2 (ja) | 1985-06-21 | 1986-02-26 | 新規な結晶構造を有するヒドロキシフエニルプロピオン酸エステル及びその製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4739080A (ja) |
| EP (1) | EP0206788B1 (ja) |
| JP (2) | JPH0739419B2 (ja) |
| CA (1) | CA1249838A (ja) |
| DE (1) | DE3680832D1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769479A (en) * | 1985-06-21 | 1988-09-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Hydroxyphenylpropionic acid ester with novel crystalline structure and production thereof |
| JP2683586B2 (ja) * | 1988-05-30 | 1997-12-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | スピロ環を有するジヒドロキシ化合物 |
| JP2906909B2 (ja) * | 1992-07-23 | 1999-06-21 | 住友化学工業株式会社 | 新規な結晶構造を有するヒドロキシフェニルプロピオン酸エステル |
| CN1105850C (zh) | 1998-06-29 | 2003-04-16 | 斯冈株式会社 | 流路切换装置 |
| JP2010195047A (ja) * | 2000-09-18 | 2010-09-09 | Ube Ind Ltd | ポリアミド積層二軸延伸フィルム |
| JP2002160334A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-06-04 | Ube Ind Ltd | ポリアミド積層二軸延伸フィルム |
| KR101311942B1 (ko) * | 2009-12-31 | 2013-09-26 | 제일모직주식회사 | 레지스트 하층막용 방향족 고리 함유 화합물 및 이를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 |
| JP2024157693A (ja) * | 2023-04-26 | 2024-11-08 | 住友化学株式会社 | 添加剤造粒物、プラスチック組成物の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5925826A (ja) * | 1982-08-04 | 1984-02-09 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 安定化合成樹脂組成物 |
| JPS59231089A (ja) * | 1983-06-14 | 1984-12-25 | Yoshitomi Pharmaceut Ind Ltd | テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカン誘導体および該化合物からなる有機材料の安定剤 |
| JPS60197747A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | 合成樹脂用安定剤 |
-
1986
- 1986-02-26 JP JP61040639A patent/JPH0739419B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1986-03-14 JP JP61057927A patent/JPH075600B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1986-05-30 US US06/868,742 patent/US4739080A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-11 CA CA000511332A patent/CA1249838A/en not_active Expired
- 1986-06-23 EP EP86304792A patent/EP0206788B1/en not_active Expired
- 1986-06-23 DE DE8686304792T patent/DE3680832D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0206788A2 (en) | 1986-12-30 |
| DE3680832D1 (de) | 1991-09-19 |
| JPS62149680A (ja) | 1987-07-03 |
| JPS62149679A (ja) | 1987-07-03 |
| EP0206788A3 (en) | 1988-03-16 |
| JPH0739419B2 (ja) | 1995-05-01 |
| CA1249838A (en) | 1989-02-07 |
| EP0206788B1 (en) | 1991-08-14 |
| US4739080A (en) | 1988-04-19 |
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