JPH075606B2 - 新規セファロスポリン系化合物 - Google Patents
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Landscapes
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は新規なβ−ラクタム系抗菌剤及びその医薬とし
て許容される塩、及びエステル類に関する。さらに詳細
には本発明は抗菌活性を有する新規なセファロスポリン
系化合物及びその医薬として許容される塩、及びエステ
ル並びにその用途に関する。
て許容される塩、及びエステル類に関する。さらに詳細
には本発明は抗菌活性を有する新規なセファロスポリン
系化合物及びその医薬として許容される塩、及びエステ
ル並びにその用途に関する。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課題］ セファロスポリン系抗生物質はグラム陽性菌、グラム陰
性菌に対し幅広い抗菌活性を示し、すでに種々の半合成
セファロスポリン系化合物が市販され、各種感染性疾病
の治療剤として臨床的に用いられている。しかしなが
ら、これらの化合物の中で緑膿菌や変形菌に対して抗菌
活性を示す治療剤は数少ない、またこれらの化合物の多
くは耐性菌により産生されるβ−ラクタマーゼに対して
不安定であり、現在臨床上問題とされている緑膿菌に対
する抗菌活性が低い等の欠点がある。
性菌に対し幅広い抗菌活性を示し、すでに種々の半合成
セファロスポリン系化合物が市販され、各種感染性疾病
の治療剤として臨床的に用いられている。しかしなが
ら、これらの化合物の中で緑膿菌や変形菌に対して抗菌
活性を示す治療剤は数少ない、またこれらの化合物の多
くは耐性菌により産生されるβ−ラクタマーゼに対して
不安定であり、現在臨床上問題とされている緑膿菌に対
する抗菌活性が低い等の欠点がある。
［課題を解決するための手段］ 本発明者らは既に特願昭63-164165号において、セファ
ロスポリンの３位にビニル基を介して１−置換−５−ヒ
ドロキシ−４−ピリドン−２−イル基を有する新規セフ
ァロスポリン誘導体が広範囲の病原菌に対し強い活性を
有することを見出した。今回更に、前者の５−ヒドロキ
シ−４−ピリドン構造に着目し研究を発展させた結果式
（Ｉ）で示される新規セフェム化合物が、グラム陽性
菌、及びグラム陰性菌に対し幅広く強力な抗菌活性を有
しており、特に緑膿菌に対し極めて強い抗菌活性を示す
こと、さらに種々のβ−ラクタマーゼ産生菌に対しても
強い抗菌活性を示すこと、しかも低毒性でよく吸収され
ること、等を見いだして本発明を完成した。
ロスポリンの３位にビニル基を介して１−置換−５−ヒ
ドロキシ−４−ピリドン−２−イル基を有する新規セフ
ァロスポリン誘導体が広範囲の病原菌に対し強い活性を
有することを見出した。今回更に、前者の５−ヒドロキ
シ−４−ピリドン構造に着目し研究を発展させた結果式
（Ｉ）で示される新規セフェム化合物が、グラム陽性
菌、及びグラム陰性菌に対し幅広く強力な抗菌活性を有
しており、特に緑膿菌に対し極めて強い抗菌活性を示す
こと、さらに種々のβ−ラクタマーゼ産生菌に対しても
強い抗菌活性を示すこと、しかも低毒性でよく吸収され
ること、等を見いだして本発明を完成した。
したがって本発明は、抗菌剤として有用な一般式（Ｉ） ［式中、R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、又はカルボキシ基又は保護されたカルボキシ基で
置換されている低級アルキル基、低級アルケニル基、R2
は水素原子又は置換基を有しても良い低級アルキル基、
低級アルケニル基を表す。］で表される新規セファロス
ポリン系化合物及びその薬理上許容される塩、又はエス
テル及びそれらを有効成分として含有する抗菌剤に関す
る。本発明の式（Ｉ）で示される化合物の薬理学上許容
される塩としては、医学上許容される塩類、とくに慣用
の非毒性塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアル
カリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩類、例
えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、エタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩等の有機アミン塩及びリジン、アルギニンのような
塩基性アミノ酸塩が挙げられる。一般式（Ｉ）の化合物
のR4で示される、１もしくは複数の置換基を有してもよ
い炭素数１−４のアルキル基の置換基の例としては、水
酸基及び、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ
基及び、アミノ基及び、メチルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基等のモノ及びジ低級アルキル置換アミノ基及び、ホ
ルミル基、アセチル基等のアシル基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、カルバモイル基、シアノ
基、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、スルホン酸基、
スルホン酸アミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基等が挙
げられる。本発明の化合物（Ｉ）は次に示す方法によっ
て製造することができる。
ル基、又はカルボキシ基又は保護されたカルボキシ基で
置換されている低級アルキル基、低級アルケニル基、R2
は水素原子又は置換基を有しても良い低級アルキル基、
低級アルケニル基を表す。］で表される新規セファロス
ポリン系化合物及びその薬理上許容される塩、又はエス
テル及びそれらを有効成分として含有する抗菌剤に関す
る。本発明の式（Ｉ）で示される化合物の薬理学上許容
される塩としては、医学上許容される塩類、とくに慣用
の非毒性塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアル
カリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩類、例
えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、エタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩等の有機アミン塩及びリジン、アルギニンのような
塩基性アミノ酸塩が挙げられる。一般式（Ｉ）の化合物
のR4で示される、１もしくは複数の置換基を有してもよ
い炭素数１−４のアルキル基の置換基の例としては、水
酸基及び、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ
基及び、アミノ基及び、メチルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基等のモノ及びジ低級アルキル置換アミノ基及び、ホ
ルミル基、アセチル基等のアシル基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、カルバモイル基、シアノ
基、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、スルホン酸基、
スルホン酸アミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基等が挙
げられる。本発明の化合物（Ｉ）は次に示す方法によっ
て製造することができる。
すなわち次式（II） ［式中、R1は前記と同意義、Ｚは水素原子、又はアミノ
保護基、Ｙは水素原子又はカルボキシル保護基、Ｘはハ
ロゲン原子を表す。］で示される化合物に、次式（II
I） ［式中、R2は前記と同意義R3は水素原子又は水酸基の保
護基を表す。］で示される化合物を反応せしめることに
よって製造できる。一般式（Ｉ）のアミノ保護基Ｚとし
ては第３級ブトキシカルボニル基のごときアルコキシカ
ルボニル基、又はホルミル基、クロロアセチル基のごと
きアシル基もしくはトリチル基など酸加水分解等で容易
に脱離できる通常のアミノ保護基である。カルボキシル
基保護基Ｙとしてはｐ−メトキシベンジル基、ジフェニ
ルメチル基、ｐ−ニトロベンジル基、アリル基、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基等通常セファロスポリンに
用いられる保護基が挙げられる。一般式（II）のエノー
ル性水酸基の保護基Ｗとしては通常セファロスポリンに
おいてカルボキシル基の保護基として用いられるものが
使用でき、例えばｐ−メトキシベンジル基、ジフェニル
メチル基、ｐ−ニトロベンジル基、アリル基、低級アル
キル基、低級アルコキシ基が挙げられる。
保護基、Ｙは水素原子又はカルボキシル保護基、Ｘはハ
ロゲン原子を表す。］で示される化合物に、次式（II
I） ［式中、R2は前記と同意義R3は水素原子又は水酸基の保
護基を表す。］で示される化合物を反応せしめることに
よって製造できる。一般式（Ｉ）のアミノ保護基Ｚとし
ては第３級ブトキシカルボニル基のごときアルコキシカ
ルボニル基、又はホルミル基、クロロアセチル基のごと
きアシル基もしくはトリチル基など酸加水分解等で容易
に脱離できる通常のアミノ保護基である。カルボキシル
基保護基Ｙとしてはｐ−メトキシベンジル基、ジフェニ
ルメチル基、ｐ−ニトロベンジル基、アリル基、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基等通常セファロスポリンに
用いられる保護基が挙げられる。一般式（II）のエノー
ル性水酸基の保護基Ｗとしては通常セファロスポリンに
おいてカルボキシル基の保護基として用いられるものが
使用でき、例えばｐ−メトキシベンジル基、ジフェニル
メチル基、ｐ−ニトロベンジル基、アリル基、低級アル
キル基、低級アルコキシ基が挙げられる。
この化合物（II）と（III）との反応は、通常、アセト
ン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化
メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジ
メチルホルムアミド、ピリジンのような慣用溶媒又はこ
の反応に悪影響を与えない他の有機溶媒中で行なわれ
る。これらの溶媒は水と混合して使用してもよい。
ン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化
メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジ
メチルホルムアミド、ピリジンのような慣用溶媒又はこ
の反応に悪影響を与えない他の有機溶媒中で行なわれ
る。これらの溶媒は水と混合して使用してもよい。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却下ないし
加温下に行なわれる。
加温下に行なわれる。
これらの方法により得られる生成物は、本発明の目的化
合物（Ｉ）であるか、又は目的化合物（Ｉ）のアミノ
基、カルボキシル基、並びにピリドン環上の水酸基の保
護体であり、従って必要により常法にて、夫々の保護基
の除去を行なう。カルボキシル保護基及びアミノ保護基
の除去の方法は脱離される保護基の種類により適宜選択
される。アミノ保護基の脱離反応には加水分解、還元及
び保護基がアシル基である化合物に対してはイミノハロ
ゲン化剤、次いでイミノエーテル化剤を作用させた後、
必要に応じて加水分解する方法等の慣用される任意の方
法を適用できる。酸を用いた加水分解の方法は一般的な
方法の一つであり、たとえばアルコキシカルボニル基、
ホルミル基、トリチル基等の基の脱離に適用される。ま
た使用される酸としては、ギ酸、トリフルオル酢酸、塩
酸等がアミノ保護基の種類に応じて適宜選択される。反
応は無溶媒下又は水、親水性有機溶媒もしくはそれらの
混合溶媒の存在下のいずれでも行なうことができる。ま
たトリフルオル酢酸を用いる場合はアニソールの存在下
に反応を行なってもよい。カルボキシル保護基の脱離反
応には加水分解、還元等慣用される任意の方法を適用で
きる。酸を用いた加水分解は一般的方法の一つであり、
たとえばシリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジフェニ
ルメチル基等の脱離に適用される。ピリドン環上の水酸
基の保護基の脱離反応についても加水分解、還元等慣用
される任意の方法が適用できる。酸あるいは塩基を用い
た加水分解は一般的方法の一つであり、例えばｐ−メト
キシベンジル基、ジフェニルメチル基等の脱離には酸
が、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基の脱離には
塩基が適用される。
合物（Ｉ）であるか、又は目的化合物（Ｉ）のアミノ
基、カルボキシル基、並びにピリドン環上の水酸基の保
護体であり、従って必要により常法にて、夫々の保護基
の除去を行なう。カルボキシル保護基及びアミノ保護基
の除去の方法は脱離される保護基の種類により適宜選択
される。アミノ保護基の脱離反応には加水分解、還元及
び保護基がアシル基である化合物に対してはイミノハロ
ゲン化剤、次いでイミノエーテル化剤を作用させた後、
必要に応じて加水分解する方法等の慣用される任意の方
法を適用できる。酸を用いた加水分解の方法は一般的な
方法の一つであり、たとえばアルコキシカルボニル基、
ホルミル基、トリチル基等の基の脱離に適用される。ま
た使用される酸としては、ギ酸、トリフルオル酢酸、塩
酸等がアミノ保護基の種類に応じて適宜選択される。反
応は無溶媒下又は水、親水性有機溶媒もしくはそれらの
混合溶媒の存在下のいずれでも行なうことができる。ま
たトリフルオル酢酸を用いる場合はアニソールの存在下
に反応を行なってもよい。カルボキシル保護基の脱離反
応には加水分解、還元等慣用される任意の方法を適用で
きる。酸を用いた加水分解は一般的方法の一つであり、
たとえばシリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジフェニ
ルメチル基等の脱離に適用される。ピリドン環上の水酸
基の保護基の脱離反応についても加水分解、還元等慣用
される任意の方法が適用できる。酸あるいは塩基を用い
た加水分解は一般的方法の一つであり、例えばｐ−メト
キシベンジル基、ジフェニルメチル基等の脱離には酸
が、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基の脱離には
塩基が適用される。
以上の如くして得られた一般式（Ｉ）の化合物は反応混
合物中より常法により採取される。
合物中より常法により採取される。
例えば、アンバーライトXAD-2（ロームアンドハース社
製）、ダイアイオンHP-20又はセビビーズSP207（三菱化
成（株）製）等の吸着製レジンによる精製、沈澱法、結
晶化法等を適宜組合せることにより達成される。
製）、ダイアイオンHP-20又はセビビーズSP207（三菱化
成（株）製）等の吸着製レジンによる精製、沈澱法、結
晶化法等を適宜組合せることにより達成される。
一般式（Ｉ）で示される化合物又はその塩を主成分とし
て含有する抗菌剤は主として静注、筋注等の注射剤、カ
プセル剤、錠剤、散剤等の経口剤もしくは直腸投与剤、
油脂性座薬、水溶性座薬等の種々の剤形で使用される。
これらの各種製剤は通常用いられている賦型剤、増量
剤、結合剤、湿潤化剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤、
分散剤、緩衝剤、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味矯
臭剤、無痛化剤等を用いて常法により製造することがで
きる。製剤法の具体例は後記の実施例によってさらに詳
細に説明する。
て含有する抗菌剤は主として静注、筋注等の注射剤、カ
プセル剤、錠剤、散剤等の経口剤もしくは直腸投与剤、
油脂性座薬、水溶性座薬等の種々の剤形で使用される。
これらの各種製剤は通常用いられている賦型剤、増量
剤、結合剤、湿潤化剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤、
分散剤、緩衝剤、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味矯
臭剤、無痛化剤等を用いて常法により製造することがで
きる。製剤法の具体例は後記の実施例によってさらに詳
細に説明する。
投与量は症状や年齢、性別等を考慮して、個々の場合に
応じて適宜決定されるが、通常成人１日あたり250-3000
mgであり、これを１日１−４回に分けて投与する。
応じて適宜決定されるが、通常成人１日あたり250-3000
mgであり、これを１日１−４回に分けて投与する。
［発明の効果］ 本発明の目的化合物（Ｉ）又はその塩類は新規化合物で
あり、グラム陽性菌及び陰性菌を含む広範囲の病原性微
生物の発育を阻止する高い抗菌活性を示す。目的化合物
（Ｉ）の有用性を示すために、この発明の化合物（Ｉ）
の中のいくつかについて寒天希釈法により測定した抗菌
活性を第１表に示す。
あり、グラム陽性菌及び陰性菌を含む広範囲の病原性微
生物の発育を阻止する高い抗菌活性を示す。目的化合物
（Ｉ）の有用性を示すために、この発明の化合物（Ｉ）
の中のいくつかについて寒天希釈法により測定した抗菌
活性を第１表に示す。
［実施例］ 本発明は、更に以下の製造例及び実施例で詳しく説明さ
れるが、これらは本発明を限定するものではなく、本発
明の範囲を逸脱しない範囲で種々の変形及び修正が可能
である事は言うまでも無い。
れるが、これらは本発明を限定するものではなく、本発
明の範囲を逸脱しない範囲で種々の変形及び修正が可能
である事は言うまでも無い。
なお、実施例中のNMRデータは断りのない限り90M Hzを
用い、重水中の場合には、水のピークをδ値4.82とした
時のδ値を示し、他の重溶媒の場合には、TMSを基準と
した時のδ値を示した。
用い、重水中の場合には、水のピークをδ値4.82とした
時のδ値を示し、他の重溶媒の場合には、TMSを基準と
した時のδ値を示した。
製造例１ ２−メチルアミノメチル−１−ジフェニルメ
チルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピ
リドン １−ジフェニルメチルオキシ−２−ヒドロキシメチル−
５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン13.3g
をジクロルメタン300mlに懸濁し、−10〜−15℃でN,N−
ジメチルホルムアミド0.3ml及び塩化チオニル6.6mlを加
えた。
チルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピ
リドン １−ジフェニルメチルオキシ−２−ヒドロキシメチル−
５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン13.3g
をジクロルメタン300mlに懸濁し、−10〜−15℃でN,N−
ジメチルホルムアミド0.3ml及び塩化チオニル6.6mlを加
えた。
氷冷下1.5時間反応させた後飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液300mlで洗浄し無水MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下
留去し、２−クロルメチル誘導体を得た。精製する事な
しにこの２−クロルメチル体をジクロルメタン100mlに
溶解し更に40％のメチルアミン水溶液100mlを加え室温
で17時間攪拌した。反応終了後有機層を水洗し、溶解
し、無水MgSO4で乾燥後溶媒を減圧下留去した。得られ
た残渣をカラムクロマトグラフィー［Wakogel C-300（W
ako），(CHCl3-CH3OH)］で精製し、表題の化合物8.3gを
油状物として得た。
溶液300mlで洗浄し無水MgSO4で乾燥した。溶媒を減圧下
留去し、２−クロルメチル誘導体を得た。精製する事な
しにこの２−クロルメチル体をジクロルメタン100mlに
溶解し更に40％のメチルアミン水溶液100mlを加え室温
で17時間攪拌した。反応終了後有機層を水洗し、溶解
し、無水MgSO4で乾燥後溶媒を減圧下留去した。得られ
た残渣をカラムクロマトグラフィー［Wakogel C-300（W
ako），(CHCl3-CH3OH)］で精製し、表題の化合物8.3gを
油状物として得た。
NMR(CDCl3)δ： 2.32(3H,s,NCH3),3.50(2H,s,NCH2),3.80(3H,s,OCH3),4.
68(2H,s,OCH2),6.18（1H,s,pyridone 3-H）,6.29（1H,
s,pyridone 6-H）,6.65(1H,s,CHPh2),6.84,7.17（4H,AB
q,arom）,7.2-7.5（10H,m,arom） 製造例２ ２−ｎ−ヘキシルアミノメチル−１−ジフェ
ニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びｎ−ヘキシルアミンより表題の化合
物720mgを得た。
68(2H,s,OCH2),6.18（1H,s,pyridone 3-H）,6.29（1H,
s,pyridone 6-H）,6.65(1H,s,CHPh2),6.84,7.17（4H,AB
q,arom）,7.2-7.5（10H,m,arom） 製造例２ ２−ｎ−ヘキシルアミノメチル−１−ジフェ
ニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びｎ−ヘキシルアミンより表題の化合
物720mgを得た。
NMR(CDCl3)δ： 0.80(3H,br t,CH3),1.1-1.3(8H,m,(CH2)4),2.4(2H,m,NC
H2),3.45(2H,s,NCH2),4.60(2H,s,OCH2),6.12（1H,s,pyr
idone 3-H）,6.20（1H,s,pyridone 6-H）,6.65(1H,s,CH
Ph2),6.75,7.10（4H,ABq,J＝8 Hz arom）,7.1-7.3（10
H,m,arom） 製造例３ ２−ヒドロキシエチルアミノメチル−１−ジ
フェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキ
シ−４−ピリドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びモノエタノールアミンより表題の化
合物520gを無色結晶として得た。
H2),3.45(2H,s,NCH2),4.60(2H,s,OCH2),6.12（1H,s,pyr
idone 3-H）,6.20（1H,s,pyridone 6-H）,6.65(1H,s,CH
Ph2),6.75,7.10（4H,ABq,J＝8 Hz arom）,7.1-7.3（10
H,m,arom） 製造例３ ２−ヒドロキシエチルアミノメチル−１−ジ
フェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキ
シ−４−ピリドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びモノエタノールアミンより表題の化
合物520gを無色結晶として得た。
NMR(CDCl3)δ： 2.15(2H,m,CH2),2.55(2H,m,CH2),3.50(2H,s,NCH2),3.70
(3H,s,OCH3),4.60(2H,s,OCH2),6.05（1H,s,pyridone 3-
H）,6.25（1H,s,pyridone 6-H）,6.60(1H,s,CHPh2),6.7
5（2H,d,arom）,7.1-7.4（12H,m,arom） 製造例４ ２−イソプロピルアミノメチル−１−ジフェ
ニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びイソプロピルアミンより表題の化合
物620mgを油状物として得た。
(3H,s,OCH3),4.60(2H,s,OCH2),6.05（1H,s,pyridone 3-
H）,6.25（1H,s,pyridone 6-H）,6.60(1H,s,CHPh2),6.7
5（2H,d,arom）,7.1-7.4（12H,m,arom） 製造例４ ２−イソプロピルアミノメチル−１−ジフェ
ニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びイソプロピルアミンより表題の化合
物620mgを油状物として得た。
NMR(CDCl3)δ： 0.95（6H,d,J＝6.4 Hz,CH(CH3)2),2.55(1H,m,CH(C
H3)2),3.45(2H,s,NCH2),3.70(3H,s,OCH3),4.65(2H,s,OC
H2),6.15（1H,s,pyridone 3-H）,6.22（1H,s,pyridone
6-H）,6.60(1H,s,CHPh2),6.75（2H,d,arom）,7.1-7.4
（12H,m,arom） 製造例５ ２−アリルアミノメチル−１−ジフェニルメ
チルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピ
リドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びアリルアミンより表題の化合物600m
gを油状物として得た。
H3)2),3.45(2H,s,NCH2),3.70(3H,s,OCH3),4.65(2H,s,OC
H2),6.15（1H,s,pyridone 3-H）,6.22（1H,s,pyridone
6-H）,6.60(1H,s,CHPh2),6.75（2H,d,arom）,7.1-7.4
（12H,m,arom） 製造例５ ２−アリルアミノメチル−１−ジフェニルメ
チルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピ
リドン 製造例１に準じて、１−ジフェニルメチルオキシ−２−
ヒドロキシメチル−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−
４−ピリドン1g及びアリルアミンより表題の化合物600m
gを油状物として得た。
NMR(CDCl3)δ： 3.05（2H,m,CH2 CH=),3.48(2H,s,NCH2),3.72(3H,s,OC
H3),4.62(2H,s,OCH2),4.9-5.2（2H,m,＝CH2）,5.65(1H,
m,CH2CH=),6.10（1H,s,pyridone 3-H）,6.25（1H,s,pyr
idone 6-H）,6.75（2H,d,arom）,7.1-7.4（12H,m,aro
m） 実施例１ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
クロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メ
トキシベンジルエステル 800mgを窒素置換下アセトン1
5mlに溶解しヨウ化ナトリウム160mgを加え室温で１時間
攪拌する。この溶液を５℃に冷却後、参考例１で得た２
−メチルアミノメチル−１−ジフェニルメチルオキシ−
５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン480mg
を加え５℃で４時間攪拌する。反応終了後反応液を濃縮
乾固し残渣を塩化メチレン50mlに溶解し、水及び５％亜
硫酸水素ナトリウム水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下溶媒を留去し残渣をカラムクロマトグラフ
ィー［Wakogel C-300（Wako），CHCl3-CH3OH）］で精製
し、表題の化合物850mgを得た。
H3),4.62(2H,s,OCH2),4.9-5.2（2H,m,＝CH2）,5.65(1H,
m,CH2CH=),6.10（1H,s,pyridone 3-H）,6.25（1H,s,pyr
idone 6-H）,6.75（2H,d,arom）,7.1-7.4（12H,m,aro
m） 実施例１ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
クロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メ
トキシベンジルエステル 800mgを窒素置換下アセトン1
5mlに溶解しヨウ化ナトリウム160mgを加え室温で１時間
攪拌する。この溶液を５℃に冷却後、参考例１で得た２
−メチルアミノメチル−１−ジフェニルメチルオキシ−
５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン480mg
を加え５℃で４時間攪拌する。反応終了後反応液を濃縮
乾固し残渣を塩化メチレン50mlに溶解し、水及び５％亜
硫酸水素ナトリウム水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下溶媒を留去し残渣をカラムクロマトグラフ
ィー［Wakogel C-300（Wako），CHCl3-CH3OH）］で精製
し、表題の化合物850mgを得た。
NMR(CDCl3)δ： 2.05(3H,s,NCH3),3.0-3.6（6H,m,2-H,3′‐H,NCH2),3.7
0(6H,br s,OCH3×２）,4.00(3H,s,OCH3),4.68(2H,s,C
H2),4.85(1H,d,J=5 Hz,6-H),5.05（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8
Hz,7-H）,5.80（1H,s,pyridone 3-H）,6.3−7.3（37H,
m） 実施例２ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミ
ノアセトアミド］−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフ
ェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ
−４−ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエス
テル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミ
ノアセトアミド］−３−クロルメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル及び２
−メチルアミノメチル−１−ジフェニルメチルオキシ−
５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドンを用い
て実施例１と同様に処理して表題の化合物を得た。
0(6H,br s,OCH3×２）,4.00(3H,s,OCH3),4.68(2H,s,C
H2),4.85(1H,d,J=5 Hz,6-H),5.05（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8
Hz,7-H）,5.80（1H,s,pyridone 3-H）,6.3−7.3（37H,
m） 実施例２ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミ
ノアセトアミド］−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフ
ェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ
−４−ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエス
テル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミ
ノアセトアミド］−３−クロルメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル及び２
−メチルアミノメチル−１−ジフェニルメチルオキシ−
５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドンを用い
て実施例１と同様に処理して表題の化合物を得た。
NMR(CDCl3)δ： 1.35(9H,s,(CH3)3),2.00(2H,s,NCH3),3.1−3.6（6H,m,2
-H,3′‐H,NCH2),3.72(6H,s,OCH3×２）,4.68(4H,br s,
CH2×２）,4.85(1H,d,J=5 Hz,6-H),5.10(1H,s,CH2),5.8
0（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,5.90（1H,s,pyridone
3-H）,6.3−7.3（37H,m）,8.45（1H,d,J＝8 Hz,CONH） 実施例３ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−ク
ロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステル及び２−メチルアミノメチル−１
−ジフェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジル
オキシ−４−ピリドンを用いて実施例１と同様に処理し
て表題の化合物を得た。
-H,3′‐H,NCH2),3.72(6H,s,OCH3×２）,4.68(4H,br s,
CH2×２）,4.85(1H,d,J=5 Hz,6-H),5.10(1H,s,CH2),5.8
0（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,5.90（1H,s,pyridone
3-H）,6.3−7.3（37H,m）,8.45（1H,d,J＝8 Hz,CONH） 実施例３ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−ク
ロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステル及び２−メチルアミノメチル−１
−ジフェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジル
オキシ−４−ピリドンを用いて実施例１と同様に処理し
て表題の化合物を得た。
NMR(CDCl3)δ： 1.60(6H,s,(CH3)2),2.00(3H,s,NCH3),3.1-3.6(6H,m,2-
H,3′-H,NCH2),3.70(3H,s,OCH3×２）,4.70(2H,s,C
H2）,4.80(1H,d,J=5 Hz,6-H),5.10(2H,s,CH2),5.80（1
H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,5.90（1H,s,pyridone 3-
H）,6.3-7.3（48H,m） 実施例４ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキ
シ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−
２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−ク
ロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステル及び参考例２で得た、２−ｎ−ヘ
キシルアミノメチル−１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドンを用いて
実施例１と同様に処理して表題の化合物を得た。
H,3′-H,NCH2),3.70(3H,s,OCH3×２）,4.70(2H,s,C
H2）,4.80(1H,d,J=5 Hz,6-H),5.10(2H,s,CH2),5.80（1
H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,5.90（1H,s,pyridone 3-
H）,6.3-7.3（48H,m） 実施例４ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキ
シ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−
２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−ク
ロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステル及び参考例２で得た、２−ｎ−ヘ
キシルアミノメチル−１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドンを用いて
実施例１と同様に処理して表題の化合物を得た。
NMR(CDCl3)δ： 1.62(3H,s,CH3),1.70(3H,s,CH3),2.40(2H,m,NCH2),3.1-
3.6（8H,m,2-H,3′‐H,CH2,NCH2),3.70(3H,s,OCH3),3.7
2（3H,s,OCH3）,4.72(2H,s,CH2),4.80(1H,d,J=5 Hz,6-
H),5.10(2H,s,CH2),5.78（1H,s,pyridone 3-H）,5.80
（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,6.3-7.3（48H,m） 実施例５ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（１−ジフェニ
ルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４
−ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−ク
ロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステル及び参考例３で得た、２−（２−
ヒドロキシエチル）アミノメチル−１−ジフェニルメチ
ルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリ
ドンを用いて実施例１と同様に処理して表題の化合物を
得た。
3.6（8H,m,2-H,3′‐H,CH2,NCH2),3.70(3H,s,OCH3),3.7
2（3H,s,OCH3）,4.72(2H,s,CH2),4.80(1H,d,J=5 Hz,6-
H),5.10(2H,s,CH2),5.78（1H,s,pyridone 3-H）,5.80
（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,6.3-7.3（48H,m） 実施例５ ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（１−ジフェニ
ルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４
−ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−ク
ロルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステル及び参考例３で得た、２−（２−
ヒドロキシエチル）アミノメチル−１−ジフェニルメチ
ルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリ
ドンを用いて実施例１と同様に処理して表題の化合物を
得た。
NMR(CDCl3)δ： 1.62(3H,s,CH3),1.70(3H,s,CH3),2.40(2H,m,NCH2),3.1-
3.6（8H,m,2-H,3′‐H,CH2,NCH2),3.70(3H,s,OCH3),3.7
2(3H,s,OCH3),4.72(2H,s,CH2),4.80（1H,d,J＝5 Hz,6-
H）,5.10(2H,s,CH2),5.78（1H,s,pyridone 3-H）,5.80
（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,6.3-7.3（48H,m） 実施例６ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−（Ｎ−
メチル−Ｎ−（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２
−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸 実施例１で得た、７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド］−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニル
メチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−
ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル10
0mgを塩化メチレン0.5mlに溶解しアニソール0.5mlを加
え氷冷する。トリフルオル酢酸3mlを加え５℃で１時間
攪拌する。
3.6（8H,m,2-H,3′‐H,CH2,NCH2),3.70(3H,s,OCH3),3.7
2(3H,s,OCH3),4.72(2H,s,CH2),4.80（1H,d,J＝5 Hz,6-
H）,5.10(2H,s,CH2),5.78（1H,s,pyridone 3-H）,5.80
（1H,dd,J＝5 Hz,J＝8 Hz,7-H）,6.3-7.3（48H,m） 実施例６ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−（Ｎ−
メチル−Ｎ−（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２
−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸 実施例１で得た、７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド］−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニル
メチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−
ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル10
0mgを塩化メチレン0.5mlに溶解しアニソール0.5mlを加
え氷冷する。トリフルオル酢酸3mlを加え５℃で１時間
攪拌する。
反応終了後イソプロピルエーテル50mlを加え析出する沈
殿を濾取しイソプロピルエーテルで洗浄後氷水1.5mlに
懸濁させ氷冷下５％炭酸水素ナトリウム水でpHを7.2に
調整し溶解させる。
殿を濾取しイソプロピルエーテルで洗浄後氷水1.5mlに
懸濁させ氷冷下５％炭酸水素ナトリウム水でpHを7.2に
調整し溶解させる。
DIAION HP-20 20mlに展開し溶離液を凍結乾燥し表題の
化合物のナトリウム塩42mgを粉末として得た。
化合物のナトリウム塩42mgを粉末として得た。
NMR(D2O)δ： 2.65(3H,s,NCH3),3.42,3.80（2H,ABq,J＝16 Hz,2-H）,
3.7-4.2（4H,m,3′‐H,NCH2),4.05(3H,s,OCH3),5.25（1
H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.85（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.65（1
H,s,pyridone 3-H）,7.05（1H,s,thiazole 5-H）,7.65
（1H,s,pyridone 6-H） 実施例７ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−カルボキシメトキシイミノアセトアミド］−
３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（1,5−ジヒドロキシ−４−ピ
リドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸 実施例２で得た、７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノアセトアミド］−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキ
シベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イルメチル）ア
ミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステルを用いて実施例６と同様に処理し
て表題の化合物のナトリウム塩を粉末として得た。
3.7-4.2（4H,m,3′‐H,NCH2),4.05(3H,s,OCH3),5.25（1
H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.85（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.65（1
H,s,pyridone 3-H）,7.05（1H,s,thiazole 5-H）,7.65
（1H,s,pyridone 6-H） 実施例７ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−カルボキシメトキシイミノアセトアミド］−
３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（1,5−ジヒドロキシ−４−ピ
リドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸 実施例２で得た、７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノアセトアミド］−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５−ｐ−メトキ
シベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イルメチル）ア
ミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メト
キシベンジルエステルを用いて実施例６と同様に処理し
て表題の化合物のナトリウム塩を粉末として得た。
NMR(D2O)δ： 2.80(3H,s,NCH3),3.35-4.30（6H,m,2-H,3′‐H,NCH2),
4.62(2H,s,OCH2),5.30（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.90（1H,
d,J＝5 Hz,7-H）,6.70（1H,s,pyridone 3-H）,7.10（1
H,s,thiazole 5-H）,7.68（1H,s,pyridone 6-H） 実施例８ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（1,5−
ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチル）アミノ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施例６と
同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉末とし
て得た。
4.62(2H,s,OCH2),5.30（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.90（1H,
d,J＝5 Hz,7-H）,6.70（1H,s,pyridone 3-H）,7.10（1
H,s,thiazole 5-H）,7.68（1H,s,pyridone 6-H） 実施例８ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−（1,5−
ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチル）アミノ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施例６と
同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉末とし
て得た。
NMR(D2O)δ： 1.55(6H,s,(CH3)2),2.78(3H,s,NCH3),3.4-4.25（6H,m,2
-H,3′‐H,NCH2),5.30（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.90（1H,
d,J＝5 Hz,7-H）,6.72（1H,s,pyridone 3-H）,7.05（1
H,s,thiazole 5-H）,7.70（1H,s,pyridone 6-H） 実施例９ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−
（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチ
ル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキ
シ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−
２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施
例６と同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉
末として得た。
-H,3′‐H,NCH2),5.30（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.90（1H,
d,J＝5 Hz,7-H）,6.72（1H,s,pyridone 3-H）,7.05（1
H,s,thiazole 5-H）,7.70（1H,s,pyridone 6-H） 実施例９ ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−
（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチ
ル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキ
シ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−
２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施
例６と同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉
末として得た。
NMR(D2O)δ： 0.85(3H,m,CH3),1.2-1.7(8H,m,(CH2)4）,1.50(6H,br,(C
H3)2),2.80(2H,m,NCH2),3.4-4.1（6H,m,2-H,3′‐H,NCH
2）,5.20（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.82（1H,d,J＝5 Hz,7-
H）,6.70（1H,s,pyridone 3-H）,7.00（1H,s,thiazole
5-H）,7.55（1H,s,pyridone 6-H） 実施例10 ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）−Ｎ−（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−
イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（１−ジフェニ
ルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４
−ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル
を用いて実施例６と同様に処理して表題の化合物のナト
リウム塩を粉末として得た。
H3)2),2.80(2H,m,NCH2),3.4-4.1（6H,m,2-H,3′‐H,NCH
2）,5.20（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.82（1H,d,J＝5 Hz,7-
H）,6.70（1H,s,pyridone 3-H）,7.00（1H,s,thiazole
5-H）,7.55（1H,s,pyridone 6-H） 実施例10 ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）−Ｎ−（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−
イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（１−ジフェニ
ルメチルオキシ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４
−ピリドン−２−イルメチル）アミノメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル
を用いて実施例６と同様に処理して表題の化合物のナト
リウム塩を粉末として得た。
NMR(D2O)δ： 1.50(6H,br s,(CH3)2),2.70(2H,m,NCH2),3.3-1.8（8H,
m,2-H,3′‐H,CH2,NCH2),5.15（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.
80（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.72（1H,s,pyridone 3-H）,
7.00（1H,s,thiazole 5-H）,7.62（1H,s,pyridone 6-
H） 実施例11 ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−メカルボキシエトキシイ
ミノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−アリル−Ｎ−（1,5
−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチル）アミ
ノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−アリル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施例６と
同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉末とし
て得た。
m,2-H,3′‐H,CH2,NCH2),5.15（1H,d,J＝5 Hz,6-H）,5.
80（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.72（1H,s,pyridone 3-H）,
7.00（1H,s,thiazole 5-H）,7.62（1H,s,pyridone 6-
H） 実施例11 ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−メカルボキシエトキシイ
ミノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−アリル−Ｎ−（1,5
−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチル）アミ
ノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−アリル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキシ−５
−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−２−イ
ルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施例６と
同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉末とし
て得た。
NMR(D2O)δ： 1.52(3H,s,CH3),1.54(3H,s,CH3),3.5(2H,m,NCH2 CH=),3.
7-4.3（6H,m,2-H,3′‐H,NCH2),5.25（1H,d,J＝5 Hz,6-
H）,5.55(1H,m,=CH2),5.90（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.00
（1H,m,CH＝）,6.75（1H,s,pyridone 3-H）,7.05（1H,
s,thiazole 5-H）,7.65（1H,s,pyridone 6-H） 実施例12 ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−
（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチ
ル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキ
シ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−
２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施
例６と同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉
末として得た。
7-4.3（6H,m,2-H,3′‐H,NCH2),5.25（1H,d,J＝5 Hz,6-
H）,5.55(1H,m,=CH2),5.90（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.00
（1H,m,CH＝）,6.75（1H,s,pyridone 3-H）,7.05（1H,
s,thiazole 5-H）,7.65（1H,s,pyridone 6-H） 実施例12 ７−［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−メチル−１−カルボキシエトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−
（1,5−ジヒドロキシ−４−ピリドン−２−イルメチ
ル）アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−［（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−メチル−１−ジフェニルメトキ
シカルボニル）エトキシイミノアセトアミド］−３−
（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（１−ジフェニルメチルオキ
シ−５−ｐ−メトキシベンジルオキシ−４−ピリドン−
２−イルメチル）アミノメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステルを用いて実施
例６と同様に処理して表題の化合物のナトリウム塩を粉
末として得た。
NMR(D2O)δ： 1.4(6H,m,CH(CH3)2 ),1.52(3H,s,CH3),1.54(3H,s,CH3),
3.3-4.5（7H,m,2-H,3′‐H,NCH2,CH(CH3)2),5.15（1H,
d,J＝5 Hz,6-H）,5.85（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.65（1H,
s,pyridone 3-H）,7.00（1H,s,thiazole 5-H）,7.65（1
H,s,pyridone 6-H）
3.3-4.5（7H,m,2-H,3′‐H,NCH2,CH(CH3)2),5.15（1H,
d,J＝5 Hz,6-H）,5.85（1H,d,J＝5 Hz,7-H）,6.65（1H,
s,pyridone 3-H）,7.00（1H,s,thiazole 5-H）,7.65（1
H,s,pyridone 6-H）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴原 聖至 神奈川県横浜市港北区師岡町760 明治製 菓株式会社薬品総合研究所内 (72)発明者 井上 重治 神奈川県横浜市港北区師岡町760 明治製 菓株式会社薬品総合研究所内 審査官 池田 正人
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（１） ［式中、R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、又はカルボキシ基又は保護されたカルボキシ基で
置換されている低級アルキル基、低級アルケニル基、R2
は水素原子又は置換基を有しても良い低級アルキル基、
低級アルケニル基を表す。］で表される新規セファロス
ポリン系化合物及びその薬理上許容される塩、又はエス
テル。 - 【請求項２】請求項１記載の一般式（Ｉ）の化合物を有
効成分として含有する抗菌剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15407190A JPH075606B2 (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 新規セファロスポリン系化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15407190A JPH075606B2 (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 新規セファロスポリン系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0446181A JPH0446181A (ja) | 1992-02-17 |
| JPH075606B2 true JPH075606B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=15576260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15407190A Expired - Lifetime JPH075606B2 (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 新規セファロスポリン系化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075606B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-14 JP JP15407190A patent/JPH075606B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0446181A (ja) | 1992-02-17 |
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