JPH0759652B2 - ポリオレフイン樹脂組成物 - Google Patents

ポリオレフイン樹脂組成物

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JPH0759652B2
JPH0759652B2 JP60173814A JP17381485A JPH0759652B2 JP H0759652 B2 JPH0759652 B2 JP H0759652B2 JP 60173814 A JP60173814 A JP 60173814A JP 17381485 A JP17381485 A JP 17381485A JP H0759652 B2 JPH0759652 B2 JP H0759652B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱加工安定性の改良されたポリオレフィン樹脂
組成物に関する。
ポリオレフィン樹脂は優れた物理的、化学的、電気的性
性質を有しているため、吹込成形、押出成形、射出成形
またはカレンダー加工などの各種の方法により成形品、
パイプ、シート、フィルム、繊維などに加工され、多く
の分野で使用されているが、これらのポリオレフィン樹
脂をそれ単独で用いる時は、加工時に熱および酸素の作
用により劣化し、軟化、脆化または変色などの現象を伴
ない、その機械的物性が著しく低下するため使用に供せ
ない問題のあることがよく知られている。
このような問題を解消する目的で、従来より各種のフェ
ノール系、ホスファイト系などの酸化防止剤をポリオレ
フィン樹脂の加工工程中に添加し使用することもよく知
られており、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル
フェノール、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(3
−メチル−6−t−ブチルフェノール)、ペンタエリス
リトール テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、n−オク
タデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネートなどのフェノール系酸化防
止剤を単独で用いたり、これらのフェノール系酸化防止
剤をトリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジス
テアリルペンタエリスリトールジホスファイトなどのホ
スファイト系酸化防止剤とを併用する方法などが知られ
ている。
しかしながら、これらの方法は熱および酸化安定性、耐
熱変色性などの点でまだ十分満足すべきものでなく、よ
り高性能の方法が望まれていた。
本発明者らは、これらの点に解決を与えるべく種々検討
の結果、ポリオレフィン樹脂に特定構造のフェノール系
化合物およびこれに対して特定割合の有機3価リン系酸
化防止剤を配合せしめることにより、加工時における熱
および酸素の作用による劣化に対して非常にすぐれたポ
リオレフィン樹脂組成物が得られることを見出し、本発
明に至った。
すなわち本発明は、一般式(I) (式中、R1は炭素数1〜3のアルキル基を示す。) で示されるフェノール系化合物および該フェノール系化
合物に対して0.1〜15重量倍の有機3価リン系酸化防止
剤を含有してなる熱加工安定性の改良されたポリオレフ
ィン樹脂組成物を提供するものである。
本発明に用いられる前記一般式(I)で示されるフェノ
ール系化合物は、一般式(II) で示される二価アルコールと一般式(III) (式中、R1は前記と同じ意味を有する。) で示されるプロピン酸またはその酸ハロゲン化物、酸無
水物あるいはその低級アルキルエステルとのエステル化
反応によって容易に製造することができる。
かかる一般式(I)で示されるフエノール系化合物にお
いて、R1はメチル基、エチル基、n−プロピル基または
イソプロピル基を示すが、加工時の劣化防止効果の点で
メチル基が好ましい。
また、本発明に用いられる有機3価リン系酸化防止剤の
代表例としては、下記一般式(IV−1)または(IV−
2)で示されるホスファイト化合物および下記一般式
(IV−3)で示されるホスホナイト系化合物が挙げられ
る。
(式中、R2,R3,R4は水素原子または炭素数1〜9のアル
キル基を示す。但し、R3とR4がともに分岐アルキル基で
あることはない。) (式中、R5は炭素数8〜18のアルキル基または炭素数6
〜18のアリール基を示す。) (R6−O2P−R7−PO−R6 (IV−3) (式中、R6は炭素数8〜18のアルキル基または炭素数6
〜18のアリール基を示し、R7は炭素数6〜18のアルキレ
ン基または炭素数6〜16のアリーレン基を示す。) なかでも、一般式(IV−1)で示されるホスファイト系
化合物においては、トリス(2,5−ジ−t−ブチルフェ
ニル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチルフェニ
ル)ホスファイト、トリス〔2,4−ビス(1,1−ジメチル
プロピル)フェニル〕ホスファイト、トリス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)ホスファイトが好ましい。
また、一般式(IV−2)で示されるホスファイト系化合
物においては、ジラウリルペンタエリスリトールジホス
ファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス(2,5−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−
ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト
が好ましい。
更に、一般式(IV−3)で示されるホスホナイト系化合
物においては、テトラステアリル−4,4′−ビフェニレ
ンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル
フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイトが好
ましい。
本発明は上記したようなフェノール系化合物およびリン
系酸化防止剤をポリオレフィン樹脂に配合せしめてなる
ものであるが、両化合物の併用割合は重量比で1:0.1〜1
5、好ましくは1:0.5〜10、更に好ましくは1:1〜5であ
る。
これらのフェノール系化合物およびリン系酸化防止剤は
その合計量としてポリオレフィン樹脂に対して0.01重量
%以上配合することにより効果が発揮されるが、一般的
には0.1〜10重量%配合される。
10重量%を越えて配合することもできるが、この場合に
はそれに見合うだけの効果が得難く、経済的に不利とな
る。
また、本発明のポリオレフィン樹脂組成物には他の添加
剤、たとえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、金
属不活性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電防止
剤、難燃剤、顔料および充填剤などを含有してもよい。
本発明により安定化されるポリオレフィン樹脂として
は、低密度ポリエチレン、中高密度ポリエチレン、リニ
ヤー低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン
−1などのポリα−オレフィン、プロピレン−エチレン
ランダムまたは、ブロック共重合体、エチレン−ブテン
−1ランダム共重合体などのポリα−オレフィン共重合
体、無水マレイン酸変性ポリプロピレンなどのポリα−
オレフィンとビニルモノマーの共重合体、およびこれら
の混合物、更には、イソプレンゴム(IR)、ブチルゴム
(IIR)、ニトリルゴム(NBR)、スチレン−ブタジエン
共重合ゴム(SBR)、エチレンプロピレン系ゴム(EPM,E
PDM)などのゴム類とポリオレフィン樹脂とのブレンド
品が挙げられるが、特にポリプロピレンに有効である。
次に実施例をあげて本発明を詳細に説明するが、本発明
はこれらにより限定されるものではない。
製造例1 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフ
ェニル)プロピオン酸メチル30.2g(0.121モル)3,9−
ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン15.3g(0.
0503モル)の混合物にナトリウムメトキシド0.82g(0.0
15モル)を加え、昇温する。140℃で3時間反応させた
のち減圧下、50mmHg、140〜160℃で7時間反応させた。
反応終了後、反応物をトルエンに溶解し、希塩酸水、水
で洗浄後、トルエンを減圧留去し、純度77%の粗生成物
42.9gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、純度99%の無色ガラス状の3,9−ビス
{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチ
ルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウ
ンデカン(化合物I−1)24gを得た。m・p・45〜55
℃ 製造例2 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−イソプロ
ピルフェニル)プロピオン酸メチル33,6g(0.121モ
ル)、3,6−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチ
ル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカ
ン15.3g(0.0503モル)およびナトリウムメトキシド0.8
2g(0.015モル)の混合物を、製造例1と同様にして反
応、後処理、精製することにより、純度98%の無色ガラ
ス状の3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−5−イソプロピルフェニル)プロピオニル
オキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラ
オキサスピロ〔5,5〕ウンデカン(化合物I−2)29gを
得た。m・p・47〜57℃ 製造例3 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸メチル35.3g(0.121モル)、3,9−ビ
ス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン15.3g(0.050
3モル)およびナトリウムメトキシド0.82g(0.015モ
ル)の混合物を製造例1と同様に反応、後処理、精製す
ることにより、純度99%の白色結晶の3,9−ビス{2−
〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル2,4,
8,10−メトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン(化合物A
O−1)21gを得た。m・p・98〜100℃ 実施例1 下記配合物をドライブレンドした後、小型押出機(スク
リューD=30mmφ、L/D=22)を用いて、次の条件で5
回くりかえし押出しを行ない、1回目、3回目および5
回目の押出りペレットについてメルトインデックスを測
定し、加工安定性を評価した。
その結果を表−1に示す。
<メルトインデックス測定条件> JIS K−7210準拠 温度:230℃ 荷重:2160g <押出し条件> 回転数:50rpm 温度: C1 C2 D 190℃ 220℃ 210℃ <配合> 未安定化ポリプロピレン樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.05 〃 供試化合物 表−1に記載 なお、表−1における供試化合物の記号は、前記したも
の以外は以下の化合物を示すものである。
AO−2 ペンタエリスリトール テトラキス〔3−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート〕 AO−3 n−オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート AO−4 トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホス
ファイト AO−5 ジステアリルペンタエリスリトールジホスファ
イト AO−6 ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタ
エリスリトールジホスファイト AO−7 テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)
−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト 実施例2 押出し条件を下記条件に変更する以外は実施例1と同様
の操作を行ない、加工安定性を評価した。
その結果を表−2に示す。
<押出し条件> 回転数:30rpm 温 度: C1 C2 D 220℃ 250℃ 240℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08K 5:524 5:5393) (72)発明者 佐々木 万治 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 蛯名 千年人 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭52−119652(JP,A) 特開 昭59−231089(JP,A) 特開 昭51−109050(JP,A) 特開 昭59−25826(JP,A) 特開 昭57−209942(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中、R1は炭素数1〜3のアルキル基を示す。) で示されるフェノール系化合物および該フェノール系化
    合物に対して0.1〜15重量倍のホスファイト系またはホ
    スホナイト系化合物を含有してなる熱加工安定性の改良
    されたポリオレフィン樹脂組成物。
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