JPS6234934A - ポリオレフイン樹脂組成物 - Google Patents

ポリオレフイン樹脂組成物

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JPS6234934A
JPS6234934A JP60173814A JP17381485A JPS6234934A JP S6234934 A JPS6234934 A JP S6234934A JP 60173814 A JP60173814 A JP 60173814A JP 17381485 A JP17381485 A JP 17381485A JP S6234934 A JPS6234934 A JP S6234934A
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Manji Sasaki
佐々木 万治
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱加工安定性の改良されたポリオレフィン樹脂
組成物に関する。
ポリオレフィン樹脂は優れた物理的、化学的、電気的性
質を有しているため、吹込成形、押出成形、射出成形ま
たはカレンダー加工などの各種の方法により成形品、パ
イプ、シート、フィルム、繊維などに加工され、多くの
分野で使用されているが、これらのポリオレフィンtl
lilをそれ単独で用いる時は、加工時に熱および酸素
の作用により劣化し、軟化、脆化または変色などの現象
を伴ない、その機械的物性が著しく低下するため使用に
供せない問題のあることがよく知られている。
このような問題を解消する目的で、従来より各種のフェ
ノール系、ホスファイト系などの酸化防止剤を4リオレ
フイン樹脂の加工工程中ニ添加し使用することもよく知
られており、例えば2.6−ジーt−ブチル−4−メチ
ルフェノール、2.2−メチレンビス(4−メチル−6
−t−ブチルフェノール)、4.4′−ブチリデンビス
(8−メチル−6−t−ブチルフェノール)、ペンタエ
リスリトール テトラキス〔8−(8,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、n
−オクタデシル 8−(8,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネートなどのフェノール
系酸化防止剤を単独で用いたり、仁れらの7 x / 
−ル系酸化FB止Mをトリス(ノニルフェニル)ホスフ
ァイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホ
スファイト、ジ−ペンタエリスリトールジホスファイト
などのホスファイト系酸化防止剤とを併用する方法など
が知られている。
しかしながら、これらの方法は熱および酸化安定性、耐
熱変色性などの点でまだ十分満足すべきものでなく、よ
り高性能の方法が望まれていた。
本発明者らは、これらの点に解決を与えるべく種々検討
の結果、ポリオレフィン樹脂に特定構造のフェノール系
化合物およびこれに対して特定割合のホスファイト系化
合物を配合せしめることにより、加工時における熱およ
び酸素の作用による劣化に対して非常にすぐれたポリオ
レフィン樹脂組成物が得られることを見出し、本発明に
至った。
すなわち本発明は、一般式(I) (I) (式中、R1は水素原子または炭素数1〜8のアルキル
基を示す。) で示されるフェノール系化合物および該フェノール系化
合物に対して0,1〜15重量倍のホスファイト系化合
物を含有してなる熱加工安定性の改良されたポリオレフ
ィン樹脂組成物を提供するものである。
本発明に用いられる前記一般式(I)で示されるフェノ
ール系化合物は、一般式(2) で示される二価アルコールと一般式(m)C(CHs)
s (式中、R1は前記と同じ意味を有する。)で示される
プロピン酸またはその酸ハロゲン化物、酸無水物あるい
はその低級アルキルエステルとのエステル化反応によっ
て容易に製造することができる。
かかる一般式(I)で示されるフェノール系化合物にお
いて、R1は水素原子、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基またはイソプロピル基を示すが、加工時の劣化防
止効果の点でメチル基が好ましい。
また、本発明に用いられるホスファイト系化合物の代表
例としては下記一般式(■−1)。
(mV−2)および(IV−8)Q示される化合倫が挙
げられる。
(式中、Rg 、 Ra 、 R4は水素原子または炭
素数1〜9のアルキル基を示す。但し、R11トR4が
ともに分岐アルキル基であることはない。) (式中、R5は炭素数8〜18のアルキル基または炭素
数6〜18のアリール基を示す。)(R6−0+P−R
?−P(−0−Re)2(rv−a)(式中、Rlmは
炭素数8〜18のアルキル基または炭素数6〜18のア
リール基を示し、R7は炭素数6〜18のアルキレン基
または炭素数6〜18のアリーレン基を示す。) ゛なかでも、一般式(TV−1)で示されるホスファイ
ト系化合物においては、トリス(2、5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチルフ
ェニル)ホスファイト、トリス〔2,4−ビス(1,1
−ジメチルプロピル)フェニル〕ホスファイト、トリス
(2゜4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトが好
ましい。
また、一般式(IV−2)  で示されるホスファイト
系化合物においては、ジラウリルペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ビス(2゜5−ジ−t−ブチルフェニル
)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4
−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホ
スファイトが好ましい。
更に、一般式(■−8)  で示されるホスファイト系
化合物においては、テトラステアリル−4,4′−ビフ
ェニレンジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)−4゜4′−ビフェニレンジホスフ
ァイトが好ましい。
本発明は上記したようなフェノール系化合物およびホス
ファイト系化合物をポリオレフィン樹脂に配合せしめて
なるものであるが、固化合物の併用割合は重量比で1;
0.1〜15、好ましくは1:0.5〜10、更に好ま
しくは1:1〜5である。
これらのフェノール系化合物およびホスファイト系化合
物はその合計量としてポリオレフィン樹脂に対して0.
01重量%以上配合することにより効果が発揮されるが
、一般的には0.1〜10重量%配合される。
10重量%を越えて配合することもできるが、この場合
にはそれに見合うだけの効果が得難く、経済的に不利と
なる。
また、本発明のポリオレフィン樹脂組成物には他の添加
剤、たとえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、金
属不活性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電防止
剤、難燃剤、顔料および充填剤などを含有してもよい。
本発明により安定化されるポリオレフィン樹脂としては
、低密度ポリエチレン、中高密度ポリエチレン、リニヤ
−低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
1などのポリa −オレフィン、プロピレン−エチレン
ランダムまたは、プロ・ツク共重合体、エチレン−ブテ
ン−1ランダム共重合体などのポリα−オレフィン共重
合体、無水マレイン酸変性ポリプロピレンなどのポリα
−オレフィンとビニルモノマーの共重合体、およびこれ
らの混合物、更には、イソプレンゴム(IR)、ブチル
ゴム(I IR)、ニトリルゴム(NBR)、スチレン
−ブタジェン共重合ゴム(SBR)、エチレンプロピレ
ン系ゴム(EI’M、EPDM)などのゴム類とポリオ
レフィン樹脂とのブレンド品が挙げられるが、特ξqポ
リプロピレンに有効である。
次に実施例をあげて本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれらにより限定されるものではない。
製造例1 8−(8−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフ
ェニル)プロピオン酸メチル80、211 (0,12
1モル)と8.9−ビス(2−ヒドロキレ−1,1−ジ
メチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピ
ロ(5,5)ウンデカン15.8f(0,0508モル
)の混合物にナトリウムメトキシド0.82f(0,0
15モル)を加え、昇温する。140℃で8時間反応さ
せたのち減圧下、50 mHf、140〜160℃で7
時間反応させた。
反応終了後、反応物をトルエンに溶解し、希塩酸水、水
で洗浄後、トルエンを減圧留去し、純度77%の粗生成
物42.9fを得た。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
純度99%の無色ガラス状の8゜9−ビス(2−(8−
(8−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)プロピオニルオキシ)−1,1−ジメチルエチル)
−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウ
ンデカン(化合物1−1)241を得た。m−p−45
〜55℃ ―造例2 a−(a−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−イソプロ
ピルフェニル)プロピオン酸メチル88.69(0,1
21モル)、3.9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−
ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサス
ピロ(5,5〕ウンデカン15.8り(0−0501モ
ル)およびナトリウムメトキシド0.82g(0,01
5モル)の混合物を、製造例1と同様にして反応、後処
理、精製することにより、純度98疼の無色ガラス状の
8.9−ビス(2−CB−(a−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−イソプロピルフェニル)プロピオニルオキ
シ)−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−
テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン(化合物l−
2)29Nを得た。 m−p・47〜57℃ 製造例8 8−(8,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸メチル85.8y (o、 t 21
モル)、8.9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメ
チルエチル)−2゜4.8.10−テトラオキサスピロ
(5、5’)ウンデカン15.1mg(0,0508モ
ル)およびナトリウムメトキシド0.82!j(0,0
15モル)の混合物を製造例1と同様に反応、後処理、
精製することにより、純度99%の白色結晶の8.9−
ビス[2−〔8−(8,5−ジーt−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメ
チルエチル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔
5,5:]ウンデカン(化合物AO−1)211/を得
た。m−p・ 98〜100℃実施例1 下記配合物をトライブレンドした後、小型押出機(スク
リューD=80簡φ、L/D=22 )を用いて、次の
条件で6回くりかえし押出しを行ない、1回目、8回目
および5回目の押出しペレットについてメルトインデッ
クスを測定し、加工安定性を評価した。
その結果を表−1に示す。
〈メルトインデックス測定条件〉 JIS  K−7210準拠 温度;280℃ 荷重:2160f く押出し条件〉 回転数:5Qrpm 温度: CI  C2D 190℃ 220℃ 210℃ く配  合〉 未安定化ポリプロピレン樹脂      100重量部
ステアリン酸カルシウム        0.05  
#供試化合物            表−1に記載な
お、表−1における供試化合物の記号は、前記したもの
以外は以下の化合物を示すものである。
AO−2ペンタエリスリトール テトラキス(8−(8
,5−ジ−t−ブチル− 4−ヒドロキシフェニル)プロピオ ネート〕 AO−an−オクタデシル 8−(8,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフ ェニル)プロピオネート AO−4)リス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホ
スファイト AO−5ジステアリルペンタエリスリトールジホスファ
イト AO−8ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペン
タエリスリトールジホス ファイト AO−7テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル
)−4,4’−ビフェニレ ンジホスファイト 表−1(1) 表−1(匂 実施例2 押出し条件を下記条件に変更する以外は実施例1と同様
の操作を行ない、加工安定性を評価した。
その結果を表−2に示す。
く押出し条件〉 回転数: 8 Q rpm 温 度:  CI   C2D 220℃ 250℃  240℃ 表−2(1) 表−2(乃

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は水素原子または炭素数1〜3のアルキ
    ル基を示す。) で示されるフェノール系化合物および該フェノール系化
    合物に対して0.1〜15重量倍のホスファイト系化合
    物を含有してなる熱加工安定性の改良されたポリオレフ
    ィン樹脂組成物
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