JPH0771816B2 - ポリエステルの溶融成形方法 - Google Patents
ポリエステルの溶融成形方法Info
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- JPH0771816B2 JPH0771816B2 JP61240533A JP24053386A JPH0771816B2 JP H0771816 B2 JPH0771816 B2 JP H0771816B2 JP 61240533 A JP61240533 A JP 61240533A JP 24053386 A JP24053386 A JP 24053386A JP H0771816 B2 JPH0771816 B2 JP H0771816B2
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- polyester
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は,耐熱性,成形性に優れたサーモトロピック液
晶性ポリエステルの溶融成形方法に関するものである。
晶性ポリエステルの溶融成形方法に関するものである。
(従来の技術) 耐熱性高分子として,加工性に優れたサーモトロピック
液晶性ポリエステルが注目されており,これを用いた繊
維,フイルム等の成形物について盛んに研究されてい
る。
液晶性ポリエステルが注目されており,これを用いた繊
維,フイルム等の成形物について盛んに研究されてい
る。
しかしながら,サーモトロピック液晶性ポリエステルか
らの成形物は,不透明であるばかりでなく,押出方向
(MD方向)には極めて高強度,高弾性率を有しているに
もかかわらず,押出方向と直角の方向(TD方向)には極
度に低強度,低弾性率であるため,成形時の操業性が悪
かったり,成形物の強度の異方性が問題になったりする
という決定があった。
らの成形物は,不透明であるばかりでなく,押出方向
(MD方向)には極めて高強度,高弾性率を有しているに
もかかわらず,押出方向と直角の方向(TD方向)には極
度に低強度,低弾性率であるため,成形時の操業性が悪
かったり,成形物の強度の異方性が問題になったりする
という決定があった。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は,サーモトロピック液晶性ポリエステルの上記
の欠点を解消し,異方性の緩和された,高温で使用する
のに適したポリエステル成形物を,操業性良く製造する
方法を提供しようとするものである。
の欠点を解消し,異方性の緩和された,高温で使用する
のに適したポリエステル成形物を,操業性良く製造する
方法を提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは,上記の目的を達成するために鋭意研究の
結果,ある種のサーモトロピック液晶性ポリエステル
は,クリアリングポイントを有しており,クリアリング
ポイント以上の温度で溶融成形することが有効であるこ
とを見出し,本発明に到達した。
結果,ある種のサーモトロピック液晶性ポリエステル
は,クリアリングポイントを有しており,クリアリング
ポイント以上の温度で溶融成形することが有効であるこ
とを見出し,本発明に到達した。
ここで,クリアリングポイントとは,サーモトロピック
液晶性ポリエステルを加熱して溶融させたとき,まず,
光学的に異方性を示す濁った液体となるが,これをさら
に高温に加熱すると,光学的に等方性の透明な液体とな
る場合があり,この転移点温度をいうものである。
液晶性ポリエステルを加熱して溶融させたとき,まず,
光学的に異方性を示す濁った液体となるが,これをさら
に高温に加熱すると,光学的に等方性の透明な液体とな
る場合があり,この転移点温度をいうものである。
(サーモトロピック液晶性ポリエステルの種類によって
は,クリアリングポイントに到達する前に分解してしま
う。) 本発明は,特定の構造単位からなり,クリアリングポイ
ントを有するサーモトロピック液晶性ポリエステルを溶
融成形するに際し,クリアリングポイント以上の温度で
溶融成形することを特徴とするポリエステルの溶融成形
方法を要旨とするものである。
は,クリアリングポイントに到達する前に分解してしま
う。) 本発明は,特定の構造単位からなり,クリアリングポイ
ントを有するサーモトロピック液晶性ポリエステルを溶
融成形するに際し,クリアリングポイント以上の温度で
溶融成形することを特徴とするポリエステルの溶融成形
方法を要旨とするものである。
本発明の方法が適用されるポリエステルは,クリアリン
グポイントを有するものであり,通常,流動開始温度が
300℃前後で,350℃前後にクリアリングポイントを有
し,分解温度がクリアリングポイントよりも十分高いも
のが使用される。
グポイントを有するものであり,通常,流動開始温度が
300℃前後で,350℃前後にクリアリングポイントを有
し,分解温度がクリアリングポイントよりも十分高いも
のが使用される。
このようなポリエステルとしては,ポリエステルの繰り
返し単位に対して,下記構造式(I)で表される単位を
5〜95モル%有するサーモトロピック液晶性ランダムコ
ポリエステル,特に下記構造式(I),(II)及び(II
I)で表される構成単位からなり,(I)と(II)とが
実質的に当量であり,(I)と(III)とのモル比が95:
5〜5:95であるサーモトロピック液晶性ランダムコポリ
エステルが好ましく,クリアリングポイント未満の温度
で溶融重合して得られたものが好適である。
返し単位に対して,下記構造式(I)で表される単位を
5〜95モル%有するサーモトロピック液晶性ランダムコ
ポリエステル,特に下記構造式(I),(II)及び(II
I)で表される構成単位からなり,(I)と(II)とが
実質的に当量であり,(I)と(III)とのモル比が95:
5〜5:95であるサーモトロピック液晶性ランダムコポリ
エステルが好ましく,クリアリングポイント未満の温度
で溶融重合して得られたものが好適である。
〔Ar1は3価の芳香族基,Ar2及びAr3は2価の芳香族基
を示す。ただし,芳香環は置換基を有していてもよ
い。〕 上記ポリエステルにおいて,構造式(I)の単位の量
は,ポリエステルの繰り返し単位に対し,5〜95モル%,
好ましくは25〜80モル%,より好ましくは40〜50モル%
が好適である。この単位が多すぎると,強度が低下し,
少なすぎると融点又は流動開始温度が高くなりすぎる。
を示す。ただし,芳香環は置換基を有していてもよ
い。〕 上記ポリエステルにおいて,構造式(I)の単位の量
は,ポリエステルの繰り返し単位に対し,5〜95モル%,
好ましくは25〜80モル%,より好ましくは40〜50モル%
が好適である。この単位が多すぎると,強度が低下し,
少なすぎると融点又は流動開始温度が高くなりすぎる。
構造式(I)におけるAr1としては,ベンゼン環及びナ
フタリン環が最も好ましい。また,構造式(I)におい
て芳香環の水素原子は炭素原子数1〜20のアルキル基,
アルコキシ基,炭素原子数6〜20のアリール基,アリロ
キシ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい。
フタリン環が最も好ましい。また,構造式(I)におい
て芳香環の水素原子は炭素原子数1〜20のアルキル基,
アルコキシ基,炭素原子数6〜20のアリール基,アリロ
キシ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい。
構造式(I)の単位は,含リン芳香族ジオール成分から
誘導されるものである。
誘導されるものである。
含リン芳香族ジオールの具体例としては,次の式(a)
〜(d)で表されるものが挙げられるが,特に好ましい
ものは,式(a)及び式(b)で表されるものである。
〜(d)で表されるものが挙げられるが,特に好ましい
ものは,式(a)及び式(b)で表されるものである。
構造式(I)の単位とともに繰り返しエステル単位を形
成する構造式(II)の単位は,芳香族ジカルボン酸残基
であり,芳香族ジカルボン酸としては,テレフタル酸
(TPA)及びイソフタル酸(IPA)が好適であり,TPAとIP
Aとをモル比で100:0〜0:100,好ましくは100:0〜50:50,
最適には80:20〜50:50の割合で用いるのが適当である。
成する構造式(II)の単位は,芳香族ジカルボン酸残基
であり,芳香族ジカルボン酸としては,テレフタル酸
(TPA)及びイソフタル酸(IPA)が好適であり,TPAとIP
Aとをモル比で100:0〜0:100,好ましくは100:0〜50:50,
最適には80:20〜50:50の割合で用いるのが適当である。
構造式(I)及び(II)の単位とともにコポリエステル
を形成する構造式(III)の単位は,4−ヒドロキシ安息
香酸残基,6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸残基のような
オキシカルボン酸残基であり,芳香環は前述のような置
換基を有していてもよい。
を形成する構造式(III)の単位は,4−ヒドロキシ安息
香酸残基,6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸残基のような
オキシカルボン酸残基であり,芳香環は前述のような置
換基を有していてもよい。
構造式(I)の単位と構造式(III)の単位とのモル比
は,95:5〜5:95,好ましくは75:25〜20:80,最適には40:60
〜50:50が好適である。構造式(III)の単位が少なすぎ
ると液晶性が低下し,多すぎると融点又は流動開始温度
が高くなりすぎる。
は,95:5〜5:95,好ましくは75:25〜20:80,最適には40:60
〜50:50が好適である。構造式(III)の単位が少なすぎ
ると液晶性が低下し,多すぎると融点又は流動開始温度
が高くなりすぎる。
また,良好なサーモトロピック液晶性コポリエステルを
形成する範囲で,上記以外の成分を共重合してもよく,
そのような共重合成分としては,ハイドロキノン,4,4′
−ジヒドロキシジフェニル,ナフタル酸,2,2−ビス
(4′−カルボキシフェニル)プロパン,ビス(4−カ
ルボキシフェニル)メタン,ビス(4−カルボキシフェ
ニル)エーテル,トリメリット酸,エチレングリコー
ル,1,4−ブタンジオール,1,6−ヘキサンジオール,2−ブ
テン−1,4−ジオール,シクロヘキサンジメタノール,
ペンタエリスリトール等が挙げられる。
形成する範囲で,上記以外の成分を共重合してもよく,
そのような共重合成分としては,ハイドロキノン,4,4′
−ジヒドロキシジフェニル,ナフタル酸,2,2−ビス
(4′−カルボキシフェニル)プロパン,ビス(4−カ
ルボキシフェニル)メタン,ビス(4−カルボキシフェ
ニル)エーテル,トリメリット酸,エチレングリコー
ル,1,4−ブタンジオール,1,6−ヘキサンジオール,2−ブ
テン−1,4−ジオール,シクロヘキサンジメタノール,
ペンタエリスリトール等が挙げられる。
本発明における特に好ましいコポリエステルの一例とし
て,構造式(I)で表される単位が前記式(a)で示さ
れる9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−(2′,5′−ジ
ヒドロキシフェニル)ホスファフェナントレン−10−オ
キシド(PHQ)の残基,構造式(I)で表される単位がT
PA/IPAから誘導される単位,構造式(III)で表される
単位が4−ヒドロキシ安息香酸(4HBA)残基からなる単
位であるコポリエステルについて,その製造法の一例を
説明する。
て,構造式(I)で表される単位が前記式(a)で示さ
れる9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−(2′,5′−ジ
ヒドロキシフェニル)ホスファフェナントレン−10−オ
キシド(PHQ)の残基,構造式(I)で表される単位がT
PA/IPAから誘導される単位,構造式(III)で表される
単位が4−ヒドロキシ安息香酸(4HBA)残基からなる単
位であるコポリエステルについて,その製造法の一例を
説明する。
(イ)TPA/IPAからなる酸成分とPHQのジアセテート体
(PHQ-A)からなるジオール成分と4HBAのアセテート体
(4HBA-A)からなるオキシカルボン酸成分とをヒドロキ
シ基とカルボキシル基とが当量となる量(及び好ましく
は同時に全ヒドロキシル基の量の0.01〜0.25倍当量の無
水酢酸)もしくは(ロ)TPA/IPAからなる酸成分とPHQか
らなるジオール成分と4HBAからなるオキシカルボン酸成
分とをヒドロキシル基とカルボキシル基とが当量となる
量及び全ヒドロキシル基の量の1.05〜1.25倍当量の無水
酢酸を反応器に仕込み,不活性雰囲気中で,常圧下,150
℃を超えない温度で,0.5〜4時間エステル化反応させ
る。次いで,不活性雰囲気中,常圧下,150〜300℃の温
度で,0.5〜3時間酸交換反応させ,さらに,230〜300℃
の温度で反応を続ける。その際,フルバキュームまでの
時間が1時間以上となるような減圧スケジュールで減圧
を開始する。その後順次昇温し,酢酸を溜出させ,最終
的に通常300〜350℃の温度で,1トル程度の高減圧下に数
十分〜数時間,溶融相又は固相で重縮合反応させること
によって,サーモトロピック液晶性コポリエステルを製
造することができる。
(PHQ-A)からなるジオール成分と4HBAのアセテート体
(4HBA-A)からなるオキシカルボン酸成分とをヒドロキ
シ基とカルボキシル基とが当量となる量(及び好ましく
は同時に全ヒドロキシル基の量の0.01〜0.25倍当量の無
水酢酸)もしくは(ロ)TPA/IPAからなる酸成分とPHQか
らなるジオール成分と4HBAからなるオキシカルボン酸成
分とをヒドロキシル基とカルボキシル基とが当量となる
量及び全ヒドロキシル基の量の1.05〜1.25倍当量の無水
酢酸を反応器に仕込み,不活性雰囲気中で,常圧下,150
℃を超えない温度で,0.5〜4時間エステル化反応させ
る。次いで,不活性雰囲気中,常圧下,150〜300℃の温
度で,0.5〜3時間酸交換反応させ,さらに,230〜300℃
の温度で反応を続ける。その際,フルバキュームまでの
時間が1時間以上となるような減圧スケジュールで減圧
を開始する。その後順次昇温し,酢酸を溜出させ,最終
的に通常300〜350℃の温度で,1トル程度の高減圧下に数
十分〜数時間,溶融相又は固相で重縮合反応させること
によって,サーモトロピック液晶性コポリエステルを製
造することができる。
なお,溶融相,特にクリアリングポイント未満の温度
で,剪断応力下では,溶融粘度が低くなるので,クリア
リングポイント未満の温度で重縮合反応を行うのが,工
業生産上好ましい。
で,剪断応力下では,溶融粘度が低くなるので,クリア
リングポイント未満の温度で重縮合反応を行うのが,工
業生産上好ましい。
通常,重縮合反応には触媒が用いられるが,本発明にお
けるコポリエステルの製造には,各種金属化合物及び有
機スルホン酸化合物の中から選ばれた1種以上の化合物
が用いられる。
けるコポリエステルの製造には,各種金属化合物及び有
機スルホン酸化合物の中から選ばれた1種以上の化合物
が用いられる。
金属化合物としては,アンチモン,チタン,ゲルマニウ
ム,スズ,亜鉛,アルミニウム,マグネシウム,カルシ
ウム,マンガン,ナトリウム,カリウムあるいはコバル
ト等の化合物が用いられ,一方,有機スルホン酸化合物
としては,スルホサリチル酸,o−スルホ安息香酸無水物
等の化合物が用いられる。特に好ましいものは,ジメチ
ルスズマレエートやo−スルホ安息香酸無水物である。
ム,スズ,亜鉛,アルミニウム,マグネシウム,カルシ
ウム,マンガン,ナトリウム,カリウムあるいはコバル
ト等の化合物が用いられ,一方,有機スルホン酸化合物
としては,スルホサリチル酸,o−スルホ安息香酸無水物
等の化合物が用いられる。特に好ましいものは,ジメチ
ルスズマレエートやo−スルホ安息香酸無水物である。
触媒の添加量は,ポリエステルの繰り返し単位1モルに
対し通常0.1×10-4〜100×10-4モル,好ましくは0.5×1
0-4〜50×10-4モル,最適には1×10-4〜10×10-4モル
が適当である。
対し通常0.1×10-4〜100×10-4モル,好ましくは0.5×1
0-4〜50×10-4モル,最適には1×10-4〜10×10-4モル
が適当である。
本発明におけるポリエステルは,成形物にした状態で,
極限粘度〔η〕が0.3以上であることが望ましく,好ま
しくは0.3〜0.6,最適には0.5〜3.0である。〔η〕がこ
の範囲より小さいと耐熱性を始めとする各種の物理的,
機械的特性値が劣り,一方,〔η〕がこの範囲より大き
いと溶融粘度が高くなりすぎて流動性等が損なわれたり
する。
極限粘度〔η〕が0.3以上であることが望ましく,好ま
しくは0.3〜0.6,最適には0.5〜3.0である。〔η〕がこ
の範囲より小さいと耐熱性を始めとする各種の物理的,
機械的特性値が劣り,一方,〔η〕がこの範囲より大き
いと溶融粘度が高くなりすぎて流動性等が損なわれたり
する。
したがって,成形に供するポリエステルの〔η〕は,成
形時の〔η〕の低下を見込んで,ポリエステル中の水分
率が100ppm程度のとき,前記した値よりも通常0.1以上
〔η〕の高いポリエステルを使用するのが適当である。
ポリエステル中の水分率を100ppm程度とするには,減圧
下,150〜200℃の温度で,8〜48時間程度乾燥すればよ
い。
形時の〔η〕の低下を見込んで,ポリエステル中の水分
率が100ppm程度のとき,前記した値よりも通常0.1以上
〔η〕の高いポリエステルを使用するのが適当である。
ポリエステル中の水分率を100ppm程度とするには,減圧
下,150〜200℃の温度で,8〜48時間程度乾燥すればよ
い。
また,本発明におけるポリエステルの好ましい熱的特性
値としては,流動開始温度が330℃以下,好ましくは300
℃以下,最適には280〜230℃,熱変形温度が155℃以
上,好ましくは180℃以上,最適には180〜230℃であ
る。これらの条件を満足させることによって耐熱性,各
種の物理的,機械的特性とを両立させることができる。
値としては,流動開始温度が330℃以下,好ましくは300
℃以下,最適には280〜230℃,熱変形温度が155℃以
上,好ましくは180℃以上,最適には180〜230℃であ
る。これらの条件を満足させることによって耐熱性,各
種の物理的,機械的特性とを両立させることができる。
本発明は,このようにして得られたポリエステルを,そ
のクリアリングポイント以上の温度で溶融成形するもの
である。成形に際しては,溶融成形物を冷却する温度,
時間等の冷却条件によって成形物の異方性の程度が左右
されるので,異方性の程度を小さくするには,急冷する
ことが望ましい。
のクリアリングポイント以上の温度で溶融成形するもの
である。成形に際しては,溶融成形物を冷却する温度,
時間等の冷却条件によって成形物の異方性の程度が左右
されるので,異方性の程度を小さくするには,急冷する
ことが望ましい。
本発明の方法で得られる成形物は,MD方向はもちろん,TD
方向にも十分な強度を有しているが,繊維やフイルムの
ような成形物の場合,延伸,熱処理等を施すことによ
り,強度特性等をさらに向上させることができる。特
に,フイルムの場合,MD方向及びTD方向の少なくとも一
方向に2〜30倍,好ましくは3〜15倍に延伸することは
望ましく,延伸は,逐次2軸延伸法,テンター方式又は
インフレーション方式の同時2軸延伸法等公知の方法で
実施することができる。
方向にも十分な強度を有しているが,繊維やフイルムの
ような成形物の場合,延伸,熱処理等を施すことによ
り,強度特性等をさらに向上させることができる。特
に,フイルムの場合,MD方向及びTD方向の少なくとも一
方向に2〜30倍,好ましくは3〜15倍に延伸することは
望ましく,延伸は,逐次2軸延伸法,テンター方式又は
インフレーション方式の同時2軸延伸法等公知の方法で
実施することができる。
(実施例) 次に,実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
例中ポリマーの極限粘度〔η〕は,フェノールと四塩化
エタンとの等重量混合溶媒中20℃で測定した溶液粘度か
ら求めた。
エタンとの等重量混合溶媒中20℃で測定した溶液粘度か
ら求めた。
サーモトロピック液晶性及びクリアリングポイント(C
p)は,ホットステージ付Leitz偏光顕微鏡で確認した。
p)は,ホットステージ付Leitz偏光顕微鏡で確認した。
また,流動開始温度(Tf)は,フローテスター(島津製
作所製CFT-500型)を用い,直径0.5mm,長さ2.0mmのダイ
で,荷重を100kg/cm2とし,200℃で3分間予熱後,昇温
速度10℃/minで昇温して行き,ポリマーがダイから流出
し始める温度を求めたものである。
作所製CFT-500型)を用い,直径0.5mm,長さ2.0mmのダイ
で,荷重を100kg/cm2とし,200℃で3分間予熱後,昇温
速度10℃/minで昇温して行き,ポリマーがダイから流出
し始める温度を求めたものである。
実施例1及び比較例 反応装置にPHQ-Aと4HBA-Aと無水酢酸をモル比で4.5:5.
5:2及びPHQと等モルのTPA/IPA(モル比60/40)を仕込
み,触媒としてジメチルスズマレエートをポリエステル
の繰り返し単位1モルに対し4×10-4モル加え,窒素雰
囲気中,常圧下,145℃の温度で,1時間エステル化反応さ
せた。その後,窒素雰囲気中,常圧下,200℃の温度で,1
時間酸交換反応させた。その後,窒素雰囲気中,常圧
下,200℃から昇温速度25℃/時間で275℃まで昇温し,
このとき,フルバキューム(1トル)まで90分となるよ
うな減圧スケジュールで減圧を開始した。その後順次昇
温し,酢酸を溜出させ,最終的に320℃の温度で,1トル
の減圧下に4時間,溶融相で重縮合反応させ,〔η〕0.
83,Tf286℃,Cp377℃で,色調の優れた液晶性ポリエステ
ルを得た。
5:2及びPHQと等モルのTPA/IPA(モル比60/40)を仕込
み,触媒としてジメチルスズマレエートをポリエステル
の繰り返し単位1モルに対し4×10-4モル加え,窒素雰
囲気中,常圧下,145℃の温度で,1時間エステル化反応さ
せた。その後,窒素雰囲気中,常圧下,200℃の温度で,1
時間酸交換反応させた。その後,窒素雰囲気中,常圧
下,200℃から昇温速度25℃/時間で275℃まで昇温し,
このとき,フルバキューム(1トル)まで90分となるよ
うな減圧スケジュールで減圧を開始した。その後順次昇
温し,酢酸を溜出させ,最終的に320℃の温度で,1トル
の減圧下に4時間,溶融相で重縮合反応させ,〔η〕0.
83,Tf286℃,Cp377℃で,色調の優れた液晶性ポリエステ
ルを得た。
得られたポリエステルを日本製鋼所製J-100S型射出成形
機を用いて,第1表に示す成形条件で,ピンゲート及び
フイルムゲートの金型で成形し,MD方向の物性評価用及
びTD方向の物性評価用のASTMに規定されたダンベル1号
試験片を得た。
機を用いて,第1表に示す成形条件で,ピンゲート及び
フイルムゲートの金型で成形し,MD方向の物性評価用及
びTD方向の物性評価用のASTMに規定されたダンベル1号
試験片を得た。
この試験片について,インストロン引張試験機により,
引張速度5mm/minで引張強度及び引張弾性度を測定し
た。
引張速度5mm/minで引張強度及び引張弾性度を測定し
た。
結果を第1表に示す。
なお,No.1〜5が実施例で,No.6〜10は比較例である。
実施例2〜6 次の方法で,第2表に示した特性値を有する液晶性ポリ
エステルを製造し,実施例1と同様な試験を行った結果
を第2表に示す。
エステルを製造し,実施例1と同様な試験を行った結果
を第2表に示す。
(実施例2) 反応装置にPHQと4HBAと無水酢酸とをモル比で5:5:17及
びPHQと等モルのTPA/IPA(モル比70/30)を仕込み,触
媒としてジメチルスズマレエートをポリエステルの繰り
返し単位1モルに対し4×10-4モル加え,窒素雰囲気
中,常圧下,130℃の温度で,2時間エステル化反応させ
た。その後,窒素雰囲気中,常圧下,220℃の温度で,1時
間酸交換反応させた。その後,窒素雰囲気中,常圧下,2
20℃から昇温速度20℃/時間で280℃まで昇温し,この
とき,フルバキューム(1トル)まで60分間となるよう
な減圧スケジュールで減圧を開始した。その後順次昇温
し,酢酸を溜出させ,最終的に310℃の温度で,1トルの
減圧下に2時間,溶融相で重縮合反応させ,色調の優れ
た液晶性ポリエステルを得た。
びPHQと等モルのTPA/IPA(モル比70/30)を仕込み,触
媒としてジメチルスズマレエートをポリエステルの繰り
返し単位1モルに対し4×10-4モル加え,窒素雰囲気
中,常圧下,130℃の温度で,2時間エステル化反応させ
た。その後,窒素雰囲気中,常圧下,220℃の温度で,1時
間酸交換反応させた。その後,窒素雰囲気中,常圧下,2
20℃から昇温速度20℃/時間で280℃まで昇温し,この
とき,フルバキューム(1トル)まで60分間となるよう
な減圧スケジュールで減圧を開始した。その後順次昇温
し,酢酸を溜出させ,最終的に310℃の温度で,1トルの
減圧下に2時間,溶融相で重縮合反応させ,色調の優れ
た液晶性ポリエステルを得た。
(実施例3) 反応装置にPHQとハイドロキノン(HQ)と4HBAと無水酢
酸とをモル比で4:1:5:18及びPHQとHQの和と等モルのTPA
/IPA(モル比80/20)を仕込み,触媒としてジメチルス
ズマレエートをポリエステルの繰り返し単位1モルに対
し4×10-4モル加え,窒素雰囲気中,常圧下,150℃の温
度で,45分間エステル化反応させた。その後,窒素雰囲
気中,常圧下,180℃の温度で,3時間酸交換反応させた。
その後,窒素雰囲気中,常圧下,180℃から昇温速度50℃
/時間で280℃まで昇温し,このとき,フルバキューム
(1トル)まで90分となるような減圧スケジュールで減
圧を開始した。その後,順次昇温し,酢酸を溜出させ,
最終的に325℃の温度で,1トルの減圧下に2時間,溶融
相で重縮合反応させ,色調の優れた液晶性ポリエステル
を得た。
酸とをモル比で4:1:5:18及びPHQとHQの和と等モルのTPA
/IPA(モル比80/20)を仕込み,触媒としてジメチルス
ズマレエートをポリエステルの繰り返し単位1モルに対
し4×10-4モル加え,窒素雰囲気中,常圧下,150℃の温
度で,45分間エステル化反応させた。その後,窒素雰囲
気中,常圧下,180℃の温度で,3時間酸交換反応させた。
その後,窒素雰囲気中,常圧下,180℃から昇温速度50℃
/時間で280℃まで昇温し,このとき,フルバキューム
(1トル)まで90分となるような減圧スケジュールで減
圧を開始した。その後,順次昇温し,酢酸を溜出させ,
最終的に325℃の温度で,1トルの減圧下に2時間,溶融
相で重縮合反応させ,色調の優れた液晶性ポリエステル
を得た。
(実施例4〜6) 実施例1においてPHQの代わりに前記リン化合物
(b),(c),(d)を用いた以外は実施例1と同様
にして液晶性ポリエステルを得た。
(b),(c),(d)を用いた以外は実施例1と同様
にして液晶性ポリエステルを得た。
(発明の効果) 本発明によれば,耐熱性と物理的,機械的強度に優れた
高強度,高弾性率の異方性のないポリエステル成形物
を,操業性が良く製造することができる。
高強度,高弾性率の異方性のないポリエステル成形物
を,操業性が良く製造することができる。
本発明によって得られるポリエステル成形物は特に耐熱
性と強度を要求される用途に使用される素材として極め
て有用である。
性と強度を要求される用途に使用される素材として極め
て有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−89323(JP,A) 特開 昭61−78832(JP,A) 特開 昭60−240722(JP,A) 特公 平4−494(JP,B2)
Claims (5)
- 【請求項1】下記構造式(I)〜(III)で表される構
成単位からなり,(I)と(II)とが実質的に当量であ
り,(I)と(III)とのモル比が95:5〜5:95であるサ
ーモトロピック液晶性ランダムコポリエステルを溶融成
形するに際し,クリアリングポイント以上の温度で溶融
成形することを特徴とするポリエステルの溶融成形方
法。 〔Ar1は3価の芳香族基、Ar2及びAr3は2価の芳香族基
を示す。ただし,芳香環は置換基を有していてもよ
い。〕 - 【請求項2】構造式(I)で表される単位が下記構造式
で表されるものである特許請求の範囲第1項記載の方
法。 - 【請求項3】構造式(I)で表される単位が下記構造式
で表されるものである特許請求の範囲第1項記載の方
法。 - 【請求項4】構造式(II)で表される単位がテレフタル
酸及び/又はイソフタル酸の残基である特許請求の範囲
第1項記載の方法。 - 【請求項5】構造式(III)で表される単位が4−ヒド
ロキシ安息香酸残基である特許請求の範囲第1項記載の
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240533A JPH0771816B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | ポリエステルの溶融成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240533A JPH0771816B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | ポリエステルの溶融成形方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6394812A JPS6394812A (ja) | 1988-04-25 |
| JPH0771816B2 true JPH0771816B2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=17060945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61240533A Expired - Lifetime JPH0771816B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | ポリエステルの溶融成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0771816B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5889323A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-05-27 | Asahi Chem Ind Co Ltd | フイルムの製法 |
| JPS60240722A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-29 | Nippon Ester Co Ltd | 耐熱性ポリアリレ−ト |
| JPS6178832A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Nippon Ester Co Ltd | 耐熱性コポリアリレ−ト |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP61240533A patent/JPH0771816B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6394812A (ja) | 1988-04-25 |
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