JPH07302408A

JPH07302408A - 磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH07302408A
Application number: JP9476994A
Authority: JP
Inventors: Mitsuharu Shoji; 光治庄子; Hiroyuki Omori; 広之大森; Yasunari Sugiyama; 康成杉山; Tetsuya Yamamoto; 哲也山元
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-05-09
Filing date: 1994-05-09
Publication date: 1995-11-14

Abstract

(57)【要約】【目的】高周波域で良好な電磁変換特性を示す磁気ヘ
ッド及びその製造方法において、磁性膜上にガラス等を
充填する必要をなくし、信頼性を高め、耐摩耗性を向上
させ、歩止まりを良くし、再生効率を高めることを目的
とする。【構成】基板上に磁性膜が成膜された互いに対向する
一対の磁気コア半体を有し、前記磁気コア半体の突き合
わせ面の少なくとも一方の面に薄膜コイルが形成されて
なる磁気ヘッドの製造方法において、前記基板上に前記
磁性膜を成膜するに際し、予め基板２１にイオンミリン
グ等により凹部を形成し、前記凹部に磁性膜２３ａ，２
３ｂを成膜する。なお、前記磁性膜は、磁気ギャップの
デプス方向に磁化容易軸を持つ磁性膜２３ｂと、前記磁
化容易軸と直交する磁化容易軸を持つ磁性膜２３ａとか
ら構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
や磁気ディスク装置等に好適な磁気ヘッドに関し、特に
コイルを薄膜工程により形成してなる磁気ヘッド及びそ
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ビデオテープレコーダ（ＶＴＲ）や磁気
ディスク装置等の磁気記録再生装置の磁気ヘッドとして
は、フェライトよりなる磁気コアの磁気ギャップ形成面
に金属磁性膜を成膜した、いわゆるメタル・イン・ギャ
ップ型磁気ヘッドや、一対の非磁性材料よりなる基板で
金属磁性膜を挟み込んだ形の、いわゆるラミネート型磁
気ヘッド等が使用されているが、今後の高画質化、デジ
タル化等に対応するためには、より高周波域で良好な電
磁変換特性を示すことが必要である。

【０００３】しかしながら、上記メタル・イン・ギャッ
プ型磁気ヘッドは、インピーダンスが大きく、高周波数
での使用には適さない。

【０００４】また、上記ラミネート型磁気ヘッドは、高
密度記録化のためにトラック幅を減少させる場合、磁路
を構成する金属磁性膜の膜厚を減少させる必要があり、
再生効率が低下する。さらに、磁路が金属磁性膜のみで
形成されるため、金属磁性膜の磁気異方性の制御に問題
があり、高い再生効率を得るのが困難である。なぜな
ら、一般に磁気ヘッドの磁気異方性は、磁化容易軸が磁
束の方向に対して常に垂直方向であるのが理想である
が、金属磁性膜の磁化容易軸を磁束の方向に対して常に
垂直方向になるようにすることは難しく、現状では異方
性のない等方（無配向）膜か、異方性があっても一方向
の一軸異方性を持つものしかないからである。

【０００５】そこで、高周波対応の磁気ヘッドとして、
例えば特開昭６３−２３１７１３号公報や特開平３−２
４８３０５号公報に記載されるように、通常の磁気ヘッ
ドよりも金属磁性膜で構成される磁路を小さくし、且つ
薄膜工程を用いて磁気ギャップ形成面に薄膜コイルを形
成した磁気ヘッドが提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
６３−２３１７１３号公報に記載されるような磁気ヘッ
ドは、基板上に金属磁性膜を成膜後、金属磁性膜上に低
融点のガラス等を充填して平坦化する工程があるため、
使用できる磁性膜に制限がある。すなわち、アモルファ
ス磁性材料等の熱処理を施せない材料からなる磁性膜は
使用できない。また、窒化系磁性材料等のガラスと反応
しやすい材料からなる磁性膜は、反応により発泡等が生
じて、充填が不十分となってしまうため適さない。も
し、あえてガラスと反応しやすい磁性膜を用いる場合
は、反応を抑えるための処理が必要となり工程が増える
という問題点がある。そして更に、このようなタイプの
磁気ヘッドでは、充填したガラス等が媒体摺動面に露出
するため、耐摩耗性が劣ってしまうという問題もある。

【０００７】一方、特開平３−２４８３０５号公報に記
載されるような磁気ヘッドは、基板上に金属磁性膜を絶
縁層を介して積層した積層基板を複数作製して、これら
の積層基板をガラス融着により接合しヘッドブロックと
して、このヘッドブロックをもとに磁気ヘッドを作製す
るものである。このような磁気ヘッドでは、薄膜コイル
を形成するための凹部を、基板及び磁性膜からなる面に
イオンミリング等を施して形成するが、基板と磁性膜で
はミリングレートが異なるため、一様な平面からなる凹
部を形成するのは困難である。また、磁性膜の膜厚分布
のむらや磁性膜の剥離等により、ヘッドブロック上に薄
膜コイルを形成する際に、リソグラフィのマスクパター
ンのピッチが狂う可能性が大きく、歩止まりが大幅に低
下するという問題がある。また、積層基板の接合部が全
面に渡って磁性膜となるので、磁性膜と基板の応力の違
いによって基板に反りが生じるという問題がある。さら
に、このような反りが生じると、磁性膜、ガラス、及び
基板の密着性が低下し接着強度が弱まってしまう。

【０００８】そこで本発明は、上述の従来の磁気ヘッド
の有する欠点を解消すべく提案されたものであって、高
周波域で良好な電磁変換特性を示す磁気ヘッド及びその
製造方法において、磁性膜上にガラス等を充填する必要
がなく、信頼性が高く、耐摩耗性に優れた、歩止まりの
良い磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的
とする。

【０００９】さらに、本発明は、磁性膜の磁化容易軸が
磁束の方向に対して常に略垂直方向で、再生効率に優れ
た磁気ヘッド及びその製造方法を提供することも目的と
する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気ヘッドは、基板上に磁性膜が成膜さ
れた互いに対向する一対の磁気コア半体を有し、前記磁
気コア半体の突き合わせ面の少なくとも一方の面に薄膜
コイルが形成されてなる磁気ヘッドであって、前記基板
上に磁気コア半体の磁路形状に対応する形状の凹部が形
成され、前記凹部に前記磁性膜が成膜されるものであ
る。

【００１１】上記磁気ヘッドにおいて、凹部の形成は、
基板上に磁気コア半体の磁路形状に対応する形状の凹部
が形成されるものならば、特に限定されるものではな
く、例えばイオンミリングによって形成されるものであ
る。なお、凹部の形状は、薄膜コイル形成部を避けるよ
うな形状とすることが好ましい。

【００１２】また、上記磁気ヘッドにおいて、磁性膜は
互いに直交する磁化容易軸をもつ２種の磁性膜からなる
ことが好ましい。そして、この場合は、互いに直交する
磁化容易軸をもつ２種の磁性膜のうち、一方の磁性膜の
磁化容易軸が磁気ギャップのデプス方向であることが更
に好ましい。

【００１３】一方、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
基板上に磁性膜が成膜された互いに対向する一対の磁気
コア半体を有し、前記磁気コア半体の突き合わせ面の少
なくとも一方の面に薄膜コイルが形成されてなる磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記基板上に前記磁性膜を成
膜するに際し、予め前記基板に凹部を形成し、前記凹部
に前記磁性膜を成膜するものである。

【００１４】上記磁気ヘッドの製造方法において、凹部
の形成方法は、磁性膜を成膜する所に凹部を形成するも
のならば特に限定されるものではなく、例えばイオンミ
リングが挙げられる。なお、凹部の形状は、薄膜コイル
形成部を避けるような形状とすることが好ましい。

【００１５】また、上記磁気ヘッドの製造方法におい
て、磁性膜の成膜は、一方向に磁化容易軸を持つ磁性
膜、及び前記磁化容易軸と直交する磁化容易軸を持つ磁
性膜の、２種の磁性膜の成膜であることが好ましい。そ
して、この場合は、互いに直交する磁化容易軸を持つこ
れら２種の磁性膜の成膜に際して、一方の磁性膜の磁化
容易軸を磁気ギャップのデプス方向とすることが更に好
ましい。

【００１６】

【作用】本発明においては、基板上に磁気コア半体の磁
路形状に対応する形状の凹部が形成され、前記凹部に磁
性膜が成膜されるため、不要な開口や溝等が形成される
ことがなく、ガラス等を充填する必要がない。したがっ
て、窒化系磁性材料等のガラスと反応しやすい材料から
なる磁性膜や、アモルファス磁性材料等の熱処理を施せ
ない材料からなる磁性膜であっても問題なく適用が可能
となる。更に、ガラス等の充填材が媒体摺動面に露出す
ることがないので、優れた耐摩耗性が得られる。

【００１７】また、磁性膜が形成されるのは、前記凹部
内だけなので、磁性膜と基板の応力の違いによって基板
に反りが生じることがほとんどない。そのため、接着強
度が強く信頼性の高い磁気ヘッドとなる。

【００１８】また、前記凹部を、イオンミリングによっ
て形成することにより、前記凹部を高速かつ正確に形成
することができる。

【００１９】また、前記凹部を、薄膜コイル形成部を避
けるような形状とすることにより、薄膜コイルの形成が
基板上で行われるようになるため、薄膜コイルを形成す
るにあたって、主に基板に対して薄膜工程を施すことと
なり磁性膜に対して薄膜工程を施すことがなくなる。

【００２０】さらに、磁性膜を、互いに直交する磁化容
易軸をもつ２種の磁性膜によって形成することにより、
磁性膜の磁気異方性の制御が可能となる。特に、互いに
直交する磁化容易軸をもつ２種の磁性膜のうち、一方の
磁性膜の磁化容易軸を磁気ギャップのデプス方向とする
ことにより、磁性膜の磁化容易軸が磁束の方向に対して
常に略垂直方向となり、磁気ヘッドの再生効率が向上す
る。

【００２１】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例とし
て、磁気ヘッドの製造方法の実施例の説明を通して、磁
気ヘッドの実施例について説明する。

【００２２】実施例１本実施例の磁気ヘッドを製造するには、まず、結晶化ガ
ラスや非磁性セラミックス等の非磁性体よりなる平板状
の基板を用意する。そして、図１に示すように、基板１
の一主面１ａに対して、フォトリソグラフィ技術を用い
てパターニングを行い、イオンミリング等により、磁気
コア半体の磁路形状に対応する形状の磁性膜用凹部２を
形成する。なお、磁性膜用凹部２は、その深さを、所望
するトラック幅以上とし、その形状を、後の工程で薄膜
コイルが基板上に形成されるようにするため、薄膜コイ
ル形成部を避けるような略コ字形状とする。

【００２３】次に、図２に示すように、磁性膜用凹部２
を形成した基板１の主面１ａ上に、金属磁性膜３を、磁
性膜用凹部内２を含めて、スパッタ法や真空蒸着法等に
より成膜する。なお、金属磁性膜３としては、高飽和磁
束密度を有し、良好な軟磁気特性を有するものであれば
如何なるものであってもよく、例えば、厚さ数μｍの、
ＦｅＡｌＳｉ膜、ＦｅＲｕＧａＳｉ膜、ＦｅＨｆＴａＮ
膜、ＦｅＡｌＮ膜、アモルファス膜等が挙げられる。ま
た、この金属磁性膜３は、単層膜でも、ＳｉＯ ₂等の絶
縁膜を介して積層した積層膜であってもよい。

【００２４】次に、図３に示すように、金属磁性膜３を
成膜した面に、イオンミリングや鏡面加工等を施して金
属磁性膜３の不要部分を取り除いた上で、鏡面加工を施
す。このとき、金属磁性膜３は、磁性膜用凹部内２だけ
に残るように、且つ残った部分の膜厚がトラック幅とな
るようにする。

【００２５】次に、図４に示すように、金属磁性膜４が
成膜された基板１を短冊状に切断して短冊状基板４を作
製する。このとき、一方の切断面１ｂが磁気コア半体同
士の突き合わせ面となるように、且つ他の切断面１ｃが
前記突き合わせ面の反対側の面となるようにする。

【００２６】次に、図５に示すように、複数の短冊状基
板４を接合一体化して接合基板５を作製する。このと
き、前記突き合わせ面が上部主面１ｂとなるように接合
する。なお、接合は、ガラス融着や低温メタル接合（例
えば金の拡散接合）等によって行う。

【００２７】次に、接合基板５に、薄膜工程によって薄
膜コイルを形成する。なお、磁気コア半体は一つの接合
基板５から複数作製されるものであり、個々の磁気コア
半体に対応して薄膜コイルが形成されるが、以下の説明
では便宜上、接合基板の内の一つの磁気コア半体に対応
する部分（図５中の破線Ａで囲まれた部分）を拡大して
説明する。

【００２８】まず、図６に示すように、磁気コア半体同
士の突き合わせ面となる面に、薄膜コイルの略中心に位
置することになるバックギャップ部６と、一対の磁気コ
ア半体を接合一体化するときに各磁気コア半体の薄膜コ
イル同士を接続することになる電極接点部７を、フォト
リソグラフィ技術を用いてパターニングを行った上で、
イオンミリング等により、薄膜コイルの形成部位に薄膜
コイル用凹部８を形成する。このとき、電極接点部７は
バックギャップ部６より２〜３μｍ低くしておく。

【００２９】次に、図７に示すように、薄膜コイル用凹
部８内に、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニン
グを行い、真空蒸着法やメッキ等により薄膜コイル９を
形成する。なお、薄膜コイル９の材料としては、良導体
であれば如何なるものであってもよく、例えば、Ａｕ、
Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等が挙げられる。

【００３０】次に、図８に示すように、前記薄膜コイル
用凹部８内を、薄膜コイル９の保護膜となる絶縁膜１０
によって埋める。ただし、薄膜コイル９の引き出し電極
部９ａは露出したままとする。なお、絶縁膜の材料とし
ては、ＳｉＯ₂やＡｌ₂Ｏ₃等が挙げられる。

【００３１】次に、図９に示すように、バックギャップ
部６及び電極接点部７が露出するまで、絶縁膜１０が形
成された面に鏡面加工を施す。

【００３２】次に、図１０に示すように、前記薄膜コイ
ル用凹部８以外の部分と、バックギャップ部６と、電極
接点部７に、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニ
ングを行い、磁気ギャップの形成、及び一対の磁気コア
半体を接合するときの接着に用いるための、良導体金属
膜１１を成膜する。なお、ここで用いる良導体金属とし
ては、例えば、Ａｕ、Ｓｎ等が挙げられる。

【００３３】次に、以上のように作製された、基板１上
に磁性膜３及び薄膜コイル９が形成された磁気コア半体
１２から磁気ヘッドを作製する。

【００３４】まず、一対の磁気コア半体１２ａ，１２ｂ
を、図１１に示すように、薄膜コイル９を形成した面１
ｂ同士を突き合わせ、加圧しながら適当な温度で接着
し、図１２に示すように接合一体化する。このとき、薄
膜コイル９が形成された薄膜コイル用凹部８内は、絶縁
膜１０によって保護されているため、不用意な断線や短
絡が発生することはない。なお、一対の磁気コア半体１
２ａ，１２ｂを突き合わせるに際しては、一方の磁気コ
ア半体１２ａの側面側の突出した薄膜コイル９の引き出
し電極を切断して短くし、他方の磁気コア半体１２ｂに
形成した薄膜コイルの引き出し電極部９ａが外部に露呈
するように設定する。

【００３５】最後に、図１３に示すように、スライシン
グ加工によってチップ切断し、各磁気ヘッド単位に切り
出し、磁気ヘッド１３が作製される。

【００３６】以上のように作製された磁気ヘッドにおい
ては、薄膜コイルが既に形成されており、後から巻線を
施す必要がない。

【００３７】また、従来の磁気ヘッドと異なり、不要な
開口や溝等が形成されることがなく、ガラス等を充填す
る必要がない。そのため、ガラス等と反応しやすい磁性
膜であっても使用できる。また、ガラス等を充填するた
めの熱処理が不要なので、熱処理を行うと特性が悪化す
る磁性膜であっても使用できる。なお、この場合は、短
冊状基板の接合は、低温メタル接合（例えば、金の拡散
接合）等で行う。

【００３８】また、薄膜コイルを形成するにあたって、
磁性膜に対して薄膜工程を施すことがなく、主に基板に
対して薄膜工程を施すため、薄膜コイルの形成が容易で
ある。

【００３９】更に、充填されたガラス等が媒体摺動面に
露出するようなこともないので、耐摩耗性にも優れてい
る。

【００４０】実施例２本実施例の磁気ヘッドを製造するには、まず、結晶化ガ
ラスや非磁性セラミックス等の非磁性体よりなる平板状
の基板を用意する。そして、図１４に示すように、基板
２１の一主面２１ａに対して、磁性膜用凹部として、複
数の縦溝２２ａを形成する。なお、前記縦溝２２ａの形
成は、機械加工によって形成しても、フォトリソグラフ
ィ技術を用いてパターニングを行いイオンミリング等に
より形成してもよい。また、この縦溝２２ａは、所望す
る磁気ギャップのデプス方向に平行、且つ所望するトラ
ック幅以上の深さとなるように形成する。

【００４１】次に、図１５に示すように、縦溝２２ａを
形成した基板２１の主面２１ａ上に、一軸性の磁気異方
性を持つ金属磁性膜２３ａを、磁化容易軸Ｍ１が図中矢
印で示すように縦溝２２ａの形成方向と垂直となるよう
に、縦溝２２ａの内部を含めて、スパッタ法や真空蒸着
法等により成膜する。なお、磁化容易軸Ｍ１を付与する
方法としては、例えば、磁界中で成膜を行う方法や、基
板を傾斜させてスパッタ粒子の入射方向を変えて異方性
をつける方法等が挙げられる。

【００４２】次に、図１６に示すように、金属磁性膜２
３ａを成膜した面に、イオンミリングや鏡面加工等を施
して金属磁性膜２３ａの不要部分を取り除いた上で、鏡
面加工を施す。このとき、金属磁性膜２３ａは、縦溝２
２ａ内だけに残るように、且つ残った部分の膜厚がトラ
ック幅以上となるようにする。

【００４３】次に、図１７に示すように、縦溝２２ａ内
に金属磁性膜２３ａを形成した基板２１の主面２１ａに
対して、磁性膜用凹部として、縦溝２２ａと直交する複
数の横溝２２ｂを形成する。なお、前記横溝２２ｂの形
成は、縦軸２２ａの形成と同様、機械加工によって形成
しても、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニング
を行いイオンミリング等により形成してもよい。また、
この横溝２２ｂは、縦溝２２ａと同じ深さとなるように
形成する。

【００４４】次に、図１８に示すように、横溝２２ｂを
形成した基板２１の主面２１ａ上に、一軸性の磁気異方
性を持つ金属磁性膜２３ｂを、磁化容易軸Ｍ２が図中矢
印で示すように横溝２２ｂの形成方向と垂直となるよう
に、横溝２２ｂの内部を含めて、スパッタ法や真空蒸着
法等により成膜する。なお、磁化容易軸Ｍ２を付与する
方法は縦軸２２ａ内に金属磁性膜２３ａを成膜した場合
と同様である。

【００４５】ただし、横軸２２ｂ形成後に成膜した金属
磁性膜２３ｂに、磁気異方性を付与するに際して、磁界
をかけることにより磁気異方性を付与する場合は、縦軸
２２ａに形成した金属磁性膜２３ａの異方性の方向を乱
さないように、且つ横軸２２ｂ形成後に成膜した金属磁
性膜２３ｂに異方性を付与できるように金属磁性膜を選
択する必要がある。このような金属磁性膜の選択として
は、例えば、縦軸２２ａに形成する金属磁性膜２３ａを
ＦｅＡｌＳｉ膜として、横軸２２ｂ形成後に成膜する金
属磁性膜２３ｂをアモルファス膜とすればよい。

【００４６】次に、図１９に示すように、金属磁性膜２
３ｂを成膜した面に、イオンミリングや鏡面加工等を施
して金属磁性膜２３ｂの不要部分を取り除いた上で、鏡
面加工を施す。このとき、金属磁性膜２３ｂは、横溝２
２ｂ内だけに残るように、且つ残った部分の膜厚がトラ
ック幅となるようにする。

【００４７】次に、図２０に示すように、基板２１を短
冊状に切断して短冊状基板２４を作製する。このとき、
一方の切断面２１ｂが磁気コア半体同士の突き合わせ面
となるように、且つ他の切断面２１ｃが前記突き合わせ
面の反対側の面となるようにする。

【００４８】次に、図２１に示すように、複数の短冊状
基板２４を接合一体化して接合基板２５を作製する。こ
のとき、前記突き合わせ面が上部主面２１ｂとなるよう
に接合する。なお、接合は、ガラス融着や低温メタル接
合（例えば金の拡散接合）等によって行う。

【００４９】この接合基板２５を用いて、実施例１と同
様に、薄膜コイルの形成、一対の磁気コア半体の接合一
体化等の工程を経て、図２２に示すような、磁気ヘッド
２６を作製する。

【００５０】本実施例の磁気ヘッドは、実施例１の磁気
ヘッドの効果に加えて、高い再生効率を得ることができ
るという効果が得られる。なぜなら、本実施例の磁気ヘ
ッドは、図２３に示すように、磁気コアが、磁化容易軸
Ｍ２が磁気ギャップｇのデプス方向に平行な、縦溝２２
ａに形成された金属磁性膜２３ａと、磁化容易軸Ｍ１が
磁気ギャップｇのデプス方向に垂直な、横溝２２ｂに形
成された金属磁性膜２３ｂとからなっており、各金属磁
性膜２３ａ，２３ｂの磁化容易軸Ｍ１，Ｍ２は磁束の方
向に対して常に略垂直方向になっているからである。

【００５１】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、不要な開口や溝等が形成されることがな
く、ガラス等を充填する必要がない。したがって、ガラ
ス等と反応しやすい磁性膜であっても使用できる。ま
た、ガラス等を充填するための熱処理が不要なので、熱
処理を行うと特性が悪化する磁性膜であっても使用でき
る。更に、充填されたガラス等が媒体摺動面に露出する
ようなことがないので、耐摩耗性にも優れている。

【００５２】また、磁性膜を成膜する凹部を、薄膜コイ
ル形成部を避けるような形状とすることにより、薄膜コ
イルの形成が基板上で行われるようになるため、薄膜コ
イルを形成するにあたって、主に基板に対して薄膜工程
を施すこととなり磁性膜に対して薄膜工程を施すことが
なくなる。したがって、薄膜コイルの形成が容易であ
り、歩止まりが大幅に向上する。

【００５３】また、磁性膜を成膜する凹部を、イオンミ
リングによって形成することにより、前記凹部を高速か
つ正確に形成することができる。

【００５４】また、磁性膜が形成されるのは、予め形成
された凹部内だけなので、磁性膜と基板の応力の違いに
よって基板に反りが生じることがほとんどない。そのた
め、接着強度が強く信頼性の高い磁気ヘッドとなる。

【００５５】さらに、磁性膜を、互いに直交する磁化容
易軸をもつ２種の磁性膜によって形成することにより、
磁性膜の磁気異方性の制御が可能となる。特に、互いに
直交する磁化容易軸をもつ２種の磁性膜のうち、一方の
磁性膜の磁化容易軸を磁気ギャップのデプス方向とし
て、磁性膜の磁化容易軸を磁束の方向に対して常に略垂
直方向となるようにすることにより、磁気ヘッドの再生
効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の磁気ヘッドの製造工程を工程順に示
すものであり、基板への磁性膜用凹部の形成工程を示す
概略斜視図である。

【図２】金属磁性膜の成膜工程を示す概略斜視図であ
る。

【図３】不要な金属磁性膜を取り除く工程を示す概略斜
視図である。

【図４】短冊状基板の作製工程を示す概略斜視図であ
る。

【図５】接合基板の作製工程を示す概略斜視図である。

【図６】薄膜コイル用凹部の形成工程を示す概略平面図
である。

【図７】薄膜コイルの形成工程を示す概略平面図であ
る。

【図８】薄膜コイルの保護層である絶縁膜の形成工程を
示す概略平面図である。

【図９】鏡面加工を施し、バックギャップ部と電極接点
部を露呈させる工程を示す概略平面図である。

【図１０】磁気ギャップ形成用及び磁気コア半体接合用
の良導体金属膜の成膜工程を示す概略平面図である。

【図１１】一対の磁気コア半体の突き合わせ工程を示す
概略斜視図である。

【図１２】一対の磁気コア半体の接合状態を示す概略斜
視図である。

【図１３】実施例１で得られる磁気ヘッドを示す概略斜
視図である。

【図１４】実施例２の磁気ヘッドの製造工程を工程順に
示すものであり、基板への磁性膜用凹部である縦溝の形
成工程を示す概略斜視図である。

【図１５】縦溝への金属磁性膜の成膜工程を示す概略斜
視図である。

【図１６】不要な金属磁性膜を取り除く工程を示す概略
斜視図である。

【図１７】基板への磁性膜用凹部である横溝の形成工程
を示す概略斜視図である。

【図１８】横溝への金属磁性膜の成膜工程を示す概略斜
視図である。

【図１９】不要な金属磁性膜を取り除く工程を示す概略
斜視図である。

【図２０】短冊状基板の作製工程を示す概略斜視図であ
る。

【図２１】接合基板の作製工程を示す概略斜視図であ
る。

【図２２】実施例２で得られる磁気ヘッドを示す概略斜
視図である。

【図２３】図２２に示す磁気ヘッドの磁気コアの磁化容
易軸を示す模式的断面図である。

【符号の説明】

１基板２磁性膜用凹部３金属磁性膜４短冊状基板５接合基板６バックギャップ部７電極接点部８薄膜コイル用凹部９薄膜コイル１０絶縁膜１１良導体金属膜１２磁気コア半体１３磁気ヘッド２１基板２２ａ縦溝２２ｂ横溝２３ａ，２３ｂ金属磁性膜２４短冊状基板２５接合基板２６磁気ヘッドＭ１，Ｍ２磁化容易軸

フロントページの続き (72)発明者山元哲也東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に磁性膜が成膜された互いに対向
する一対の磁気コア半体を有し、前記磁気コア半体の突
き合わせ面の少なくとも一方の面に薄膜コイルが形成さ
れてなる磁気ヘッドにおいて、前記基板上に磁気コア半体の磁路形状に対応する形状の
凹部が形成され、前記凹部に前記磁性膜が成膜されてい
ることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】前記凹部がイオンミリングによって形成
されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッ
ド。
【請求項３】前記磁性膜が互いに直交する磁化容易軸
をもつ２種の磁性膜からなることを特徴とする請求項１
記載の磁気ヘッド。
【請求項４】互いに直交する磁化容易軸をもつ２種の
磁性膜のうち、一方の磁性膜の磁化容易軸が磁気ギャッ
プのデプス方向であることを特徴とする請求項３記載の
磁気ヘッド。
【請求項５】基板上に磁性膜が成膜された互いに対向
する一対の磁気コア半体を有し、前記磁気コア半体の突
き合わせ面の少なくとも一方の面に薄膜コイルが形成さ
れてなる磁気ヘッドの製造方法において、前記基板上に前記磁性膜を成膜するに際し、予め前記基
板に凹部を形成し、前記凹部に前記磁性膜を成膜するこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】前記凹部をイオンミリングによって形成
することを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造
方法。
【請求項７】前記磁性膜の成膜が、一方向に磁化容易
軸を持つ磁性膜、及び前記磁化容易軸と直交する磁化容
易軸を持つ磁性膜の、２種の磁性膜の成膜であることを
特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】互いに直交する磁化容易軸を持つ２種の
磁性膜の成膜に際し、一方の磁性膜の磁化容易軸を磁気
ギャップのデプス方向とすることを特徴とする請求項７
記載の磁気ヘッドの製造方法。