JPH0784326B2 - 多孔質石英ガラス母材の焼成方法 - Google Patents
多孔質石英ガラス母材の焼成方法Info
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- JPH0784326B2 JPH0784326B2 JP60244152A JP24415285A JPH0784326B2 JP H0784326 B2 JPH0784326 B2 JP H0784326B2 JP 60244152 A JP60244152 A JP 60244152A JP 24415285 A JP24415285 A JP 24415285A JP H0784326 B2 JPH0784326 B2 JP H0784326B2
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- Japan
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- porous quartz
- porous
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
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- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、気相反応合成法によって製造された多孔質石
英ガラス母材を加熱炉中で加熱して透明合成石英ガラス
を得るための多孔質石英ガラス母材の焼成方法に関する
ものである。
英ガラス母材を加熱炉中で加熱して透明合成石英ガラス
を得るための多孔質石英ガラス母材の焼成方法に関する
ものである。
［従来の技術］ 従来より、合成石英ガラスを製造する方法の一つとして
気相反応法により多孔質石英ガラス母材を形成し、この
母材を加熱して透明ガラス化する方法が採用されてい
る。すなわち、バーナから珪素化合物、水素、酸素等の
原料ガスを鉛直に懸下した回転する種棒に向けて供給
し、四塩化珪素等の珪素化合物を酸・水素炎中で加水分
解させ、石英等の種棒の下端部にシリカ微粒子を付着、
堆積させて多孔質石英ガラス母材を形成する。次いでこ
の多孔質石英ガラス母材を加熱炉に入れて、該母材を焼
結させることにより透明ガラス化する方法である。この
母材を焼結させることを母材の焼成とも云う。
気相反応法により多孔質石英ガラス母材を形成し、この
母材を加熱して透明ガラス化する方法が採用されてい
る。すなわち、バーナから珪素化合物、水素、酸素等の
原料ガスを鉛直に懸下した回転する種棒に向けて供給
し、四塩化珪素等の珪素化合物を酸・水素炎中で加水分
解させ、石英等の種棒の下端部にシリカ微粒子を付着、
堆積させて多孔質石英ガラス母材を形成する。次いでこ
の多孔質石英ガラス母材を加熱炉に入れて、該母材を焼
結させることにより透明ガラス化する方法である。この
母材を焼結させることを母材の焼成とも云う。
［発明の解決しようとする問題点］ この方法によりフォトマスク基板用等の大型の石英ガラ
スを効率よく製造しようとする場合、多孔質石英ガラス
母材を大口径化するとともに、長尺化する必要がある。
こうした場合、従来より知られている方法、すなわち、
縦方向に適当な温度分布を有する、縦型管状炉中で、多
孔質石英ガラス母材を上方より下方に向けて、あるいは
逆方向に向けて移動させながら焼結させて透明ガラス化
する方法を採用した場合、母材の重量が大きい為に種棒
が熱変形により引き延ばされたり、破断したりし、結果
として石英ガラスロッドが安定して得られにくいという
問題点があった。また、通常焼結透明ガラス化させる際
の雰囲気としてヘリウムガスが用いられるが、従来の焼
成方法の場合、炉の構造上、上方より多孔質母材を支持
せざるを得ず炉上部の雰囲気シールを完全に行なうのが
困難であり、また煙突効果によるガスの吹き抜けが大で
あるため、放熱も大きく、高価なガスであるヘリウムを
多量に消費し、電力費も多くかかるという問題点があっ
た。
スを効率よく製造しようとする場合、多孔質石英ガラス
母材を大口径化するとともに、長尺化する必要がある。
こうした場合、従来より知られている方法、すなわち、
縦方向に適当な温度分布を有する、縦型管状炉中で、多
孔質石英ガラス母材を上方より下方に向けて、あるいは
逆方向に向けて移動させながら焼結させて透明ガラス化
する方法を採用した場合、母材の重量が大きい為に種棒
が熱変形により引き延ばされたり、破断したりし、結果
として石英ガラスロッドが安定して得られにくいという
問題点があった。また、通常焼結透明ガラス化させる際
の雰囲気としてヘリウムガスが用いられるが、従来の焼
成方法の場合、炉の構造上、上方より多孔質母材を支持
せざるを得ず炉上部の雰囲気シールを完全に行なうのが
困難であり、また煙突効果によるガスの吹き抜けが大で
あるため、放熱も大きく、高価なガスであるヘリウムを
多量に消費し、電力費も多くかかるという問題点があっ
た。
［問題点を解決するための手段］ 本発明は、前述の問題点を解決すべくなされたものであ
り、ハロゲン化珪素を酸・水素炎中で加水分解して生成
するシリカ微粒子を石英ガラス製造用種棒の一端に堆積
・成長させた多孔質石英ガラス母材を加熱して透明ガラ
ス化し合成石英ガラスを製造する方法において、予め多
孔質石英ガラス母材を前記石英ガラス製造用種棒から切
り離していない状態のままで、該多孔質石英ガラス母材
が完全に透明ガラス化しないような1150℃〜1350℃の雰
囲気温度と時間の条件で仮焼した後、水平方向に温度分
布を有していて最高雰囲気温度が14000℃〜1500℃の雰
囲気内に、前記多孔質石英ガラス母材を挿入し、前記多
孔質石英ガラス母材の成長軸が水平となるように移動さ
せながら、多孔質石英ガラス母材の成長下端から加熱し
て徐々に焼成を行い透明ガラス化し、しかも種棒の下端
部が加熱炉の前記最高雰囲気温度域に達する少し手前の
域で母材の移動を停止し、逆方向に移動させて母材を抜
き出すことを特徴とする、多硬質石英ガラス母材の焼成
方法を提供するものである。ここで前記の方法で形成し
た多孔質母材は、種棒の位置を軸とするほぼ円柱状をな
している。上記多孔質母材の成長軸とは、このほぼ円柱
状をなす母材の軸のことである。該母材の軸に垂直な方
向を径方向と書く。
り、ハロゲン化珪素を酸・水素炎中で加水分解して生成
するシリカ微粒子を石英ガラス製造用種棒の一端に堆積
・成長させた多孔質石英ガラス母材を加熱して透明ガラ
ス化し合成石英ガラスを製造する方法において、予め多
孔質石英ガラス母材を前記石英ガラス製造用種棒から切
り離していない状態のままで、該多孔質石英ガラス母材
が完全に透明ガラス化しないような1150℃〜1350℃の雰
囲気温度と時間の条件で仮焼した後、水平方向に温度分
布を有していて最高雰囲気温度が14000℃〜1500℃の雰
囲気内に、前記多孔質石英ガラス母材を挿入し、前記多
孔質石英ガラス母材の成長軸が水平となるように移動さ
せながら、多孔質石英ガラス母材の成長下端から加熱し
て徐々に焼成を行い透明ガラス化し、しかも種棒の下端
部が加熱炉の前記最高雰囲気温度域に達する少し手前の
域で母材の移動を停止し、逆方向に移動させて母材を抜
き出すことを特徴とする、多硬質石英ガラス母材の焼成
方法を提供するものである。ここで前記の方法で形成し
た多孔質母材は、種棒の位置を軸とするほぼ円柱状をな
している。上記多孔質母材の成長軸とは、このほぼ円柱
状をなす母材の軸のことである。該母材の軸に垂直な方
向を径方向と書く。
上記の如く、透明合成石英ガラスを得るために母材を焼
成するに当り、本発明では焼成を２段階に分けて行う。
第１段階の焼成を仮焼または予備焼成と呼び、第２段階
の焼成を透明ガラス化または単に焼成と云うこととす
る。
成するに当り、本発明では焼成を２段階に分けて行う。
第１段階の焼成を仮焼または予備焼成と呼び、第２段階
の焼成を透明ガラス化または単に焼成と云うこととす
る。
本発明において多孔質母材は、例えば第３図に示したよ
うな装置によって製造される。すなわちボンベ13および
ボンベ14から水素および酸素がマスフローコントローラ
ー15,16を通して多重管バーナ17に供給される。また四
塩化珪素、トリクロルシラン、四臭化珪素等の珪素化合
物のガスが、タンク18からポンプ20により熱交換器19を
通して多重管バーナ17に供給される。多重管バーナ17は
反応室21内において酸水素炎を形成し、珪素化合物を加
水分解してシリカ微粒子を形成する。
うな装置によって製造される。すなわちボンベ13および
ボンベ14から水素および酸素がマスフローコントローラ
ー15,16を通して多重管バーナ17に供給される。また四
塩化珪素、トリクロルシラン、四臭化珪素等の珪素化合
物のガスが、タンク18からポンプ20により熱交換器19を
通して多重管バーナ17に供給される。多重管バーナ17は
反応室21内において酸水素炎を形成し、珪素化合物を加
水分解してシリカ微粒子を形成する。
なお、図示していないが、窒素、アルゴン等の不活性ガ
スもバーナ17に供給され、これら珪素化合物のキャリア
ガスとしてあるいは酸水素炎中のエアカーテンとして使
用される。この加水分解反応を珪素化合物が四塩化珪素
である場合について化学式で示すと次式の様になる。
スもバーナ17に供給され、これら珪素化合物のキャリア
ガスとしてあるいは酸水素炎中のエアカーテンとして使
用される。この加水分解反応を珪素化合物が四塩化珪素
である場合について化学式で示すと次式の様になる。
2H2＋O2→2H2O ……（１） 2H2O＋SiCl4→SiO2＋4HCl ……（２） このシリカ微粒子が反応室21で鉛直に懸下された回転す
る石英ガラス製種棒22の下端部に付着堆積して順次成長
し、大口径の多孔質石英ガラス母材23が形成される。な
お反応によって発生するHClはNaOH水溶液とガラス洗浄
塔25で向流に接触して吸収除去される。
る石英ガラス製種棒22の下端部に付着堆積して順次成長
し、大口径の多孔質石英ガラス母材23が形成される。な
お反応によって発生するHClはNaOH水溶液とガラス洗浄
塔25で向流に接触して吸収除去される。
本発明においては上記した方法により製造される多孔質
石英ガラス母材23を、1400〜1500℃の焼成により透明ガ
ラス化する前に第１図に示した如き加熱炉２で予め1150
〜1350℃の温度範囲において仮焼して多孔質石英ガラス
母材の径方向の密度分布を整え、母材温度を高める。こ
の仮焼はクリーンな雰囲気中で行なう事が好ましく、必
要に応じて予めフィルター等で処理した空気、窒素ある
いはその他の不活性ガスを導入（装置は図示せず）しな
がら加熱炉２内において上記温度範囲内で行なう。仮焼
の時間は雰囲気温度、均熱域の長さ等により異なるが、
仮焼後の多孔質石英ガラス母材の径方向での収縮率が、
20〜50％、好ましくは35〜45％の範囲になる条件から選
ぶ事が出来る。収縮率が20％未満では多孔質石英ガラス
母材の外周部の密度がまだ充分に高まらず透明ガラス化
時に不均一な収縮がおこり母材がこわれたり、仮焼母材
がハンドリング時にこわれたりする原因となる。また、
収縮率が45％を超えると、多孔質石英ガラス母材の外周
部の密度が高くなりすぎ内部の脱泡が不完全になり透明
ガラス中に気泡等の欠点が発生する原因となる。上記理
由により多孔質母材の仮焼時の収縮率は20〜50％、好ま
しくは35〜45％の範囲内で制御する必要がある。かかる
仮焼を行ったのち多孔質石英ガラス母材を第２図に示し
た如く、水平方向に温度分布を有する加熱炉２′内を仮
焼ずみの多孔質母材の成長軸が水平となるように、仮焼
ずみの多孔質母材の成長軸の一端から移動させながら透
明ガラス化を行なう。ここで用いる透明ガラス化のため
の加熱炉２′は第２図に例示した如く、炉内雰囲気を制
御出来るシール構造をもち、必要に応じ母材をささえる
ためのガイドを炉内に設けてもよい。この透明ガラス化
のための加熱炉２′内の雰囲気はHeガスを少なくとも70
％以上好ましくは80〜90％を含む雰囲気とし、最高温度
1400〜1500℃の温度域において行なう。また焼成の時間
は、He濃度、温度によっても異なるが1.5〜４時間が適
当である。
石英ガラス母材23を、1400〜1500℃の焼成により透明ガ
ラス化する前に第１図に示した如き加熱炉２で予め1150
〜1350℃の温度範囲において仮焼して多孔質石英ガラス
母材の径方向の密度分布を整え、母材温度を高める。こ
の仮焼はクリーンな雰囲気中で行なう事が好ましく、必
要に応じて予めフィルター等で処理した空気、窒素ある
いはその他の不活性ガスを導入（装置は図示せず）しな
がら加熱炉２内において上記温度範囲内で行なう。仮焼
の時間は雰囲気温度、均熱域の長さ等により異なるが、
仮焼後の多孔質石英ガラス母材の径方向での収縮率が、
20〜50％、好ましくは35〜45％の範囲になる条件から選
ぶ事が出来る。収縮率が20％未満では多孔質石英ガラス
母材の外周部の密度がまだ充分に高まらず透明ガラス化
時に不均一な収縮がおこり母材がこわれたり、仮焼母材
がハンドリング時にこわれたりする原因となる。また、
収縮率が45％を超えると、多孔質石英ガラス母材の外周
部の密度が高くなりすぎ内部の脱泡が不完全になり透明
ガラス中に気泡等の欠点が発生する原因となる。上記理
由により多孔質母材の仮焼時の収縮率は20〜50％、好ま
しくは35〜45％の範囲内で制御する必要がある。かかる
仮焼を行ったのち多孔質石英ガラス母材を第２図に示し
た如く、水平方向に温度分布を有する加熱炉２′内を仮
焼ずみの多孔質母材の成長軸が水平となるように、仮焼
ずみの多孔質母材の成長軸の一端から移動させながら透
明ガラス化を行なう。ここで用いる透明ガラス化のため
の加熱炉２′は第２図に例示した如く、炉内雰囲気を制
御出来るシール構造をもち、必要に応じ母材をささえる
ためのガイドを炉内に設けてもよい。この透明ガラス化
のための加熱炉２′内の雰囲気はHeガスを少なくとも70
％以上好ましくは80〜90％を含む雰囲気とし、最高温度
1400〜1500℃の温度域において行なう。また焼成の時間
は、He濃度、温度によっても異なるが1.5〜４時間が適
当である。
また透明ガラス化は、第２図に図示した如く母材の成長
下端から加熱して徐々に焼成を行ない種棒の下端部が加
熱炉２′内の最高温度域に達する少し手前で停止させる
ことにより行なう事が好ましい。この様に行なえば石英
製種棒７が軟化変形することなく、種棒７の回収・再使
用が可能である。あるいは、仮焼が終了した時点で予め
種棒部分を多孔質石英ガラス母材がら切りはなし回収し
ても良い。その際には透明ガラス化なための加熱炉内に
ガラス化したロッドを移動する事が出来るようにガイド
を設け、母材の後部より押し棒11等により押す事により
母材をガイドにそわせて移動させる方法を採用すること
もできる。
下端から加熱して徐々に焼成を行ない種棒の下端部が加
熱炉２′内の最高温度域に達する少し手前で停止させる
ことにより行なう事が好ましい。この様に行なえば石英
製種棒７が軟化変形することなく、種棒７の回収・再使
用が可能である。あるいは、仮焼が終了した時点で予め
種棒部分を多孔質石英ガラス母材がら切りはなし回収し
ても良い。その際には透明ガラス化なための加熱炉内に
ガラス化したロッドを移動する事が出来るようにガイド
を設け、母材の後部より押し棒11等により押す事により
母材をガイドにそわせて移動させる方法を採用すること
もできる。
［実施例］ 実施例１ 四塩化珪素を原料として酸・水素炎中で加水分解し、石
英ガラス製の種棒の下端部にシリカ微粒子を付着、堆積
させて直径30cm、長さ120cmの多孔質石英ガラス母材を
合成した。この母材の重量は、約16kgであった。これを
第１図に示す仮焼炉（炉内径50cm、発熱部長さ70cm）の
下部にセットし、炉内雰囲気温度1300℃迄昇温した後、
母材を回転させながら200mm/hrの速度で引き上げながら
仮焼した。仮焼終了後炉上部より仮焼した母材を取り出
した。この仮焼母材は直径19cm、流さ108cmであった。
英ガラス製の種棒の下端部にシリカ微粒子を付着、堆積
させて直径30cm、長さ120cmの多孔質石英ガラス母材を
合成した。この母材の重量は、約16kgであった。これを
第１図に示す仮焼炉（炉内径50cm、発熱部長さ70cm）の
下部にセットし、炉内雰囲気温度1300℃迄昇温した後、
母材を回転させながら200mm/hrの速度で引き上げながら
仮焼した。仮焼終了後炉上部より仮焼した母材を取り出
した。この仮焼母材は直径19cm、流さ108cmであった。
これを、次いで第２図に示す透明ガラス化のための加熱
炉２′（炉内径25cm、発熱部長さ60cm）の一端に設けた
仮焼母材移動押棒に接続し、炉内雰囲気のシールを行な
った後、雰囲気ガス供給管９よりHeガスを0.5m2/hrの流
量で流し雰囲気をHe90％濃度とした。ついで押棒11によ
り母材を10cm/hrの速度で移動させ透明ガラス化を行な
わせた。この間炉内の雰囲気温度は均熱域温度1410℃と
なるように制御した。また均熱域の長さは30cmであっ
た。種棒の下端が炉内の最高温度域に達する少し手前で
母材の移動を停止し、逆方向に移動させ、炉内の低温度
帯域まで焼成した母材を抜き出し30分間冷却した後、炉
内より取り出した。
炉２′（炉内径25cm、発熱部長さ60cm）の一端に設けた
仮焼母材移動押棒に接続し、炉内雰囲気のシールを行な
った後、雰囲気ガス供給管９よりHeガスを0.5m2/hrの流
量で流し雰囲気をHe90％濃度とした。ついで押棒11によ
り母材を10cm/hrの速度で移動させ透明ガラス化を行な
わせた。この間炉内の雰囲気温度は均熱域温度1410℃と
なるように制御した。また均熱域の長さは30cmであっ
た。種棒の下端が炉内の最高温度域に達する少し手前で
母材の移動を停止し、逆方向に移動させ、炉内の低温度
帯域まで焼成した母材を抜き出し30分間冷却した後、炉
内より取り出した。
得られたロッドは透明ガラス化が完了しており、内部に
気泡等はなく、形状も整っていた。尚ロッドの重量は約
16kgであった。
気泡等はなく、形状も整っていた。尚ロッドの重量は約
16kgであった。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、透明ガラス化の
為の焼成を水平方向に行うので、種棒に過大な荷重がか
からず、従って熱変形により引き延ばされたり破断する
事が防止されるため、大口径、かつ長尺の石英ガラスロ
ッドを安定して得る事が出来、工業プロセスとしての高
い信頼性が得られる。また、仮焼から透明ガラス化に移
行する過程で高価が種棒を回収再使用する事が出来る
事、透明ガラス化炉の雰囲気シールが比較的容易なた
め、雰囲気ガスの消費量が低減される事、放熱が小さい
ため電力原単位が低減させる事などにより、生産コスト
を大巾に低減するという効果も認められる。
為の焼成を水平方向に行うので、種棒に過大な荷重がか
からず、従って熱変形により引き延ばされたり破断する
事が防止されるため、大口径、かつ長尺の石英ガラスロ
ッドを安定して得る事が出来、工業プロセスとしての高
い信頼性が得られる。また、仮焼から透明ガラス化に移
行する過程で高価が種棒を回収再使用する事が出来る
事、透明ガラス化炉の雰囲気シールが比較的容易なた
め、雰囲気ガスの消費量が低減される事、放熱が小さい
ため電力原単位が低減させる事などにより、生産コスト
を大巾に低減するという効果も認められる。
第１図は、本発明の実施例において用いた、多孔質石英
ガラス母材を仮焼するための装置の概略断面図、第２図
は、同じく本発明の実施例において用いた仮焼母材を透
明ガラス化するための装置の概略断面図である。 また第３図は、多孔質石英ガラス母材を得るための装置
の一例を示す説明図である。 １……多孔質石英ガラス母材、2,2′……加熱炉、３…
…ヒーター、４……仮焼中のガラス母材、５……加熱炉
前室、６……引上げ棒、７……種棒、８……透明ガラス
母材、９……雰囲気ガス供給管、10……雰囲気ガス排出
管、11……仮焼ずみ母材移動用押棒、12……ガイド
ガラス母材を仮焼するための装置の概略断面図、第２図
は、同じく本発明の実施例において用いた仮焼母材を透
明ガラス化するための装置の概略断面図である。 また第３図は、多孔質石英ガラス母材を得るための装置
の一例を示す説明図である。 １……多孔質石英ガラス母材、2,2′……加熱炉、３…
…ヒーター、４……仮焼中のガラス母材、５……加熱炉
前室、６……引上げ棒、７……種棒、８……透明ガラス
母材、９……雰囲気ガス供給管、10……雰囲気ガス排出
管、11……仮焼ずみ母材移動用押棒、12……ガイド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−72536（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−46940（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−174538（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−86431（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−97141（ＪＰ，Ａ) 特公 昭58−9057（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (1)
- 【請求項１】ハロゲン化珪素を酸・水素炎中で加水分解
して生成するシリカ微粒子を石英ガラス製造用種棒の一
端に堆積・成長させた多孔質石英ガラス母材を加熱して
透明ガラス化し合成石英ガラスを製造する方法におい
て、予め多孔質石英ガラス母材を前記石英ガラス製造用
種棒から切り離していない状態のままで、該多孔質石英
ガラス母材が完全に透明ガラス化しないような1150℃〜
1350℃の雰囲気温度と時間の条件で仮焼した後、水平方
向に温度分布を有していて最高雰囲気温度が1400℃〜15
00℃の雰囲気内に、前記多孔質石英ガラス母材を挿入
し、前記多孔質石英ガラス母材の成長軸が水平となるよ
うに移動させながら、多孔質石英ガラス母材の成長下端
から加熱して徐々に焼成を行い透明ガラス化し、しかも
種棒の下端部が加熱炉の前記最高雰囲気温度域に達する
少し手前の域で母材の移動を停止し、逆方向に移動させ
て母材を抜き出すことを特徴とする、多孔質石英ガラス
母材の焼成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60244152A JPH0784326B2 (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | 多孔質石英ガラス母材の焼成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60244152A JPH0784326B2 (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | 多孔質石英ガラス母材の焼成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62105935A JPS62105935A (ja) | 1987-05-16 |
| JPH0784326B2 true JPH0784326B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=17114533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60244152A Expired - Fee Related JPH0784326B2 (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | 多孔質石英ガラス母材の焼成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0784326B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2876091A1 (en) | 2013-11-18 | 2015-05-27 | Heraeus Quartz Uk Limited | Furnace for sintering silica soot bodies |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5356449A (en) * | 1993-05-24 | 1994-10-18 | At&T Bell Laboratories | Vad process improvements |
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1985
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