JPH0784437B2 - 複素環レチノイド - Google Patents

複素環レチノイド

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JPH0784437B2
JPH0784437B2 JP60207724A JP20772485A JPH0784437B2 JP H0784437 B2 JPH0784437 B2 JP H0784437B2 JP 60207724 A JP60207724 A JP 60207724A JP 20772485 A JP20772485 A JP 20772485A JP H0784437 B2 JPH0784437 B2 JP H0784437B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、新規芳香族複素環誘導体、その製造方法な
らびにそのひとまたは動物治療および化粧用途に関する
ものである。
新規複素環誘導体は、「レチノイド」の名称で知られて
いる化合物に見られる生物学的プロフィールを呈し、こ
れらの化合物のうち最もよく知られている代表的なもの
がトランスおよびシスレチノイン(トレチノインおよび
イソトレチノイン)酸およびエトレチネートである。
レチノイドに比較して、この発明による芳香族複素環化
合物は、その構造上、光および酸素に対して優れた安定
性を示し、他方角質化(分化−増殖)異常に結び付く皮
膚疾患および他の炎症および/または免疫アレルギー性
要素に結び付く皮膚疾患の局所的および全身的処置にお
ける強い活性ならびに抗腫よう活性を示す。他方、これ
らの生成物は皮膚または呼吸系に起こるアトピーの処置
に使用され得る。
同様にこの化合物は、眼科領域における適用、特に角膜
症(corneopathies)の処置に適している。
化学構造および活性を考慮して、この発明による芳香族
複素環化合物を「ヘテロ−ジフェリン」という名称で以
後示すことにする。
この発明によるヘテロ−ジフェリン類は、下記一般式: 〔式中、 R1は、(i)−CH3 (ii)−CH2OH (式中、R3は、水素原子、基−OH4(ここでR4は水素原
子、1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、モノもし
くはポリヒドロキシアルキル基であるか、または R3は、 (ここで、r′およびr″は水素原子、低級アルキル基
または一緒になって複素環を形成する) を表す) を表し、 R2は、水素原子または基−CH3を表し、 Arは、下式: (a) (b) (式中、ZはOまたはSである) (c) (式中、R5は、低級アルキル基を表す) および、 (d) (式中、R6は、水素原子または1〜10個の炭素原子を有
するアルキル基を表し、R7は、4〜12個の炭素原子を有
する分枝状アルキル基またはシクロアルキル基を表す) で示される対応する芳香族基を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、酸素原子、硫黄原子または基−N−R8(ここで、
R8は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシカル
ボニル基を表す)を表すが、ただし、YがCHを表し、X
が酸素または硫黄原子を表す場合、Arは式(C)(ここ
でR5=−CH3)で示される基以外のものであり、またY
が窒素原子でXが酸素原子を表す場合、Arは式(C)ま
たは式(D)(ここでR6は1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基を表し、R7は炭素原子4〜12個を有する分枝
状アルキル基を表す)で示される基以外のものである〕 で表される。
低級アルキル基としては、1〜6個の炭素原子を有する
基、特にメチル、エチル、イソプロピル、ブチルおよび
第3級イソブチルが含まれる。
モノヒドロキシアルキル基としては、2または3個の炭
素原子を有する基、特に2−ヒドロキシエチル基および
2−ヒドロキシプロピル基が含まれる。
ポリヒドロキシアルキル基としては、グリセロール、ペ
ンタエリスリトールまたはマンニトールの誘導基が含ま
れる。
低級アルコキシカルボニル基としては、1〜4個の炭素
原子の分枝状または非分枝状アルキル鎖を有する基が含
まれる。好ましい低級アルコキシカルボニル基として
は、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプ
ロポキシカルボニルおよび第3級ブトキシカルボニルが
挙げられる。
基r′およびr″が一緒になって複素環を形成する場
合、これらはピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノまた
はピロリジノ基であり得る。
基R7がシクロアルキル基を表す場合、これらは好ましく
はシクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシルまたはア
ダマンチル基である。
さらに具体的な形として、この発明によるヘテロ−ジフ
ェリンは、下記一般式: 〔式中、 R1は、−CH2OHまたは (式中、R3は、−OR4または (ここで、R4は、水素原子、基−CH3または−CH2CH2OH
を表し、r′およびr″は同一または異なって水素原
子、低級アルキル基または一緒になってモノホリノ環を
形成する)を表す) を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、硫黄原子、酸素原子またはN−R8(ここでR8は、
水素原子、−CH3基または−CO2第3級ブチル基である)
を表す〕 に対応する。
また別のものとして下記一般式: 〔式中、 R4は、水素原子または−CH3基を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、硫黄原子、酸素原子またはN−R8(ここでR8は、
水素原子または−CO2第3級ブチル基である)を表す〕 で示されるものがある。
さらに別の例として下記一般式: 〔式中、 R4は、水素原子または基−CH3を表し、 R6は、基−CH3またはC10H21を表し、 R7は、第3級ブチル、1,1−ジメチルデシルまたはアダ
マンチル基を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、硫黄原子、酸素原子またはN−R8(ここでR8は水
素原子である)を表す〕 で示されるものがある。
式(I)で示される好ましいヘテロ−ジフェリン類とし
ては特に次のものが挙げられる。
2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)チ
オフェンカルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)チ
オフェンカルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラビドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボ
ン酸メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボ
ン酸、 2−(p−t−ブチルフェニル)−ベンゾ(b)フラン
カルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−ベンゾ(b)フラン
カルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸
メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン
酸、 1−t−ブトキシカルボニル−2−(p−t−ブチルフ
ェニル)−6−インドールカルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−インドールカル
ボン酸、 1−t−ブトキシカルボニル−2−(5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−6
−インドールカルボン酸メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−インドールカルボン酸メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−インドールカルボン酸、 1−メチル−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカルボ
ン酸メチル、 1−メチル−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカルボ
ン酸、 2−(p−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−ベンズイミダゾールカルボン酸メチ
ル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−ベンズイミダゾールカルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン
酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
モルホリド、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
エチルアミド、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
・2−ヒドロキシエチルエステル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾリルメチルアル
コール、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエステ
ル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸メチルエステ
ル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシフ
ェニル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸メチルエ
ステル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシフ
ェニル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエステ
ル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸メチルエ
ステル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸、 2−(3−t−ブチル−4−メトキシフェニル)−6−
ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエステル、 2−(3−t−ブチル−4−メトキシフェニル)−6−
ベンゾ(b)フランカルボン酸、 2−〔3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシフ
ェニル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエ
ステル、 2−〔3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシフ
ェニル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル〕−5−ベンズイミダゾールカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシフェ
ニル〕−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエス
テル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボン酸メ
チルエステル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボン酸お
よび 2−(4,4−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1−ベンゾピラ
ン−6−イル)−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メ
チルエステル。
式(I)の化合物を得る様々な合成法が考えられる。こ
れらの方法として特に次のものを述べることにする。
(A)第1方法(式I) この方法は、式(1)で示される芳香族カルボン酸誘導
体を、4位にアミノ基および3位にアミノ、ヒドロキシ
またはチオ基を有する式(2)で示される芳香族カルボ
ン酸エステルと反応させることからなる。
この方法は、式(I)の化合物において基Yが窒素原子
を表す場合に特に好ましい。
(B)第2方法(式II) この方法は、式(1)で示される芳香族カルボン酸誘導
体を、4位にメチル基および3位にアミノ、ヒドロキシ
またはチオ基を有する式(4)で示される芳香族カルボ
ン酸エステルと反応させることからなる。次に、得られ
た中間化合物(5)の4位をブロモ化してブロモメチル
誘導体(6)とする。トリアリールもしくはトリアルキ
ルホスフィン、トリアリールもしくはトリアルキルホス
ファイト、またはアリールホスフィン酸オキシドと反応
後、化合物(7)を得、次いで閉環して式(8)で示さ
れる化合物となる。
この方法は、式(I)で示される化合物においてYが基
CHを表わす場合に特に好ましい。
Q=OHまたはCl XはNH、OまたはS この最後の方法によると、閉環反応すなわち化合物
(7)から化合物(8)への過程は、塩基の存在下に行
うが、このような塩基としては、例えば酸化リチウムも
しくは炭酸カリウムのようなアルカリ金属水酸化物もし
くは炭酸塩、例えば水素化ナトリウムのようなアルカリ
金属水素化物、例えばナトリウムメチレートもしくはカ
リウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコレ
ート、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミンもしくはジアザビシクロウンデセン(DBU)のよ
うな第3級アミン、または例えばナトリウムアミドもし
くはリチウムジイソプロピルアミドのようなアルカリア
ミドが挙げられる。反応温度は−10℃+150℃の範囲で
あり、溶媒として非プロトン双極性溶媒(ジメチルスル
ホキシドまたはジメチルホルムアミド)、アルコール、
エーテル(ジオキサンまたはテトラヒドロフラン)を用
いることができる。テトラヒドロフラン(THF)中、塩
基としてトリエチルアミンまたはDBUを用いて0℃〜80
℃の温度で反応を行えば有利である。
ブロモ化反応、すなわち式(6)の化合物を得る際に
は、予め乾燥したベンゼンまたは四塩化炭素に溶かした
N−ブロモスクシンイミドを存在させ、好ましくは70℃
〜90℃の温度範囲で、ラジカル開始剤として好ましくは
過酸化ベンゾイルを用いて行う。
式Iによる脱水閉環に続くアシル化反応および式IIによ
るアシル化反応は常套方法にしたがい行われる。XがNH
基を表す場合、第3級アミンの存在下に酸クロライド
(Q=Cl)の形で式(1)の化合物を用いて反応を行な
えば有利である。
式Iによる脱水閉環反応を、好ましくはキシレンのよう
な溶媒の還流温度で例えばp−トルエンスルホン酸のよ
うな酸触媒を用いて行なうのが好ましい。
前述の方法により得られたエステルを、常法により基R1
の定義(i)〜(iii)の対象となる様々な類似体に変
換する。
すなわち、これらのエステルの鹸化は対応する酸をもた
らす。これらを、次ぎに容易にアミドへ変換される酸ク
ロライドに変えることができる。同様にアミンと前記で
得られたエステルの直接作用によりこれらのアミドが得
られる。適当な還元剤(例えば水素化アルミニウムリチ
ウム)を用いたエステル、アルデヒドまたはアミドの還
元により、対応するアルコールおよびアミンに到達す
る。
この発明による化合物が塩形を呈する場合としては、式
(I)の化合物が遊離酸形を呈する場合には、アルカリ
もしくはアルカリ土類金属もしくは有機アミン類の塩が
問題となり、また式(I)の化合物が遊離アミン形を呈
する場合には、鉱酸もしくは有機酸の塩が問題となる。
この発明の化合物は、「テープ・ストリッピング(tape
stripping)」により誘発後、ヌードラットにおけるオ
ルニチンデカルボキシラーゼの抑制試験において非常に
優れた活性を示す。この試験により、細胞増殖現象に関
わるレチノイド類の活性を測定することことができる。
特にこれらの化合物は、角質化(分化、増殖)異常に結
び付く皮膚疾患および炎症および/または免疫アレルギ
ー要因に結び付く他の皮膚疾患等特に皮膚または呼吸器
系のアトピーを処置するのに有効である。例えば: 一般的、面ぼう性または多形性ざ瘡、老人性日焼けざ
瘡、および薬物によるざ瘡または職業性ざ瘡。
広がりのあるおよび/または重症の乾癬状態、および角
質化の他の障害、および特に魚鱗癬および魚鱗癬形症
状。
ダリエ病。
手の平−足の裏におけるたこ。
白板症および白板形症状、苔癬変形。
良性または悪性、重症または広がりのある、あらゆる皮
膚増殖。
湿疹。
喘息。
同様にこれらの化合物は、ある種のリウマチ性疾患、特
に乾癬性リウマチおよび角膜に関する眼科領域の諸症状
に対する活性を示す。
従って、この発明はまた、少なくとも式(I)で示され
る化合物および/または前記で定義した塩を成分とする
医薬を対象とするものである。
従って、この発明は同様に、医薬的に許容される媒体中
に少なくとも1種の式(I)で示される化合物を含むこ
とを特徴とする、特に前記疾患の処置を目的とした新規
医薬組成物を対象とするものである。
前述したように、この発明による複素環誘導体は、従来
のレチノイドと比較して、光および酸素に対して良好な
安定性を示すが、これは容易に異性化し得る二重結合を
有していないためである。
一般に、この発明による化合物は、約2μg/(体重)kg
〜2mg/(体重)kgの一日用量で投与される。
組成物の媒体として、従来からのあらゆる媒体を用いる
ことができ、活性化合物は、担体中に溶けた状態または
分散した状態で存在する。
投与は、経腸経路、非経口経路、局所経路または目を通
して行い得る。経腸経路の場合、このような薬剤は、錠
剤、カプセル、糖衣錠、シロップ、懸濁液、溶液、溶
剤、顆粒、乳剤の形態をとり得る。非経口経路の場合、
このような組成物は、持続注入用または注射用溶液また
は懸濁液の形態をとり得る。
局所経路の場合、この発明による化合物を基礎とする医
薬組成物は、軟膏、チンキ剤、クリーム、ポマード、粉
末、タンブル(timbre)、湿潤タンポン、溶液、ローシ
ョン、ゲル、噴霧剤または懸濁液の形を呈する。局所用
組成物は、式(I)の化合物を好ましくは0.0005〜約5
重量%含有する。
局部用組成物は、臨床適用方法により無水または含水形
態をとり得る。目を通しての投与は主として目薬の形を
とる。
同様に、この発明による式(I)の化合物は、化粧領
域、特に体および毛髪の衛生および特にざ瘡、頭髪再
生、抗脱毛、皮膚または頭髪の脂肪分を抑え、または日
光の有害な影響の処置、または生理学的に乾燥した皮膚
を克服するために適用される。
同様にこの発明は、適当な化粧用媒体中に少なくとも式
(I)の化合物を含有する化粧組成物を目的とするもの
であり、このような組成物はローション、ゲル、石鹸、
シャンプーまたはクリームの形をとる。
化粧組成物における式(I)で示される化合物(群)の
濃度は、0.0005〜2重量%、好ましくは0.01〜1重量%
である。
この発明による医薬および化粧組成物は、不活性な添加
剤または同時に薬効もしくは化粧成分および特にチアモ
ルホリンおよびその誘導体または尿素のような水和剤、
S−カルボキシメチル−システイン、S−ベンジル−シ
ステアミンおよびその誘導体、チオキソロンのような抗
脂漏剤、抗ざ瘡剤、エリスロマイシンおよびそのエステ
ル、ネオマイシン、テトラサイクリン、4,5−ポリメチ
レン−3−イソチアゾリノンのような抗生物質、「ミノ
キシジル(Minoxidil)」(2,4−ジアミノ−6−ピペリ
ジノ−3−ピリミジンオキシド)およびその誘導体、ア
ントラリンおよびその誘導体、ジアゾキシド(Diazoxid
e)(3−クロロメチル−1,2,4−ベンゾチアジアジン−
1,1−ジオキシド)、フェニトイン(Phenytoin)(5,5
−ジフェニル−2,4−イミダゾリジンジオン)およびよ
う化オキサプロパニウムのような頭髪再生助剤、カロテ
ノイドおよび特に−カロテン、ステロイド系および非ス
テロイド系抗炎症剤、アントラリンおよびその誘導体、
5,8,11,14−エイコサテトライン酸および5,8,11−トリ
ノイン酸、そのエステルおよびアミド類のような抗乾癬
剤を含有し得る。
同様にこの発明による組成物は、呈味改良剤、保存剤、
安定剤、湿潤安定剤、pH調節剤、浸透圧修正剤、乳化
剤、UV−AおよびUV−Bフィルター、抗酸化剤、例えば
α−トコフェロール、ブチルヒドロキシアニソールまた
はブチルヒドロキシトルエンを含有し得る。
次に、この発明による式(I)の活性化合物の製造実施
例およびこれらを含有する組成物の製剤例を挙げて説明
するが、これらに限定するわけではない。
〔実施例〕
実施例1 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)チ
オフェンカルボン酸メチル。
(a)3−(p−t−ブチルベンゾイルチオ)−4−メ
チル安息香酸メチル。
無水テトラヒドロフラン20mlに、3−メルカプト−4−
メチル安息香酸メチル1.80g(10ミリモル)、トリエチ
ルアミン1.11g(1.5ml、11ミリモル)およびp−t−ブ
チルベンゾイルクロライド2.20g(11ミリモル)を相次
いで加える。20℃で2時間撹拌し、水(100ml)に注
ぎ、ジクロロメタン(3×100ml)で抽出する。有機相
を乾燥し、濃縮する。次いで、溶離剤としてジクロロメ
タン(50%)およびヘキサン(50%)の混合物を用いて
短いシリカカラム(5×10cm)に通し精製する。Rf値=
0.35(溶離剤:ジクロロメタン)を示す生成物を回収す
る。溶媒を濃縮し、3−(p−t−ブチルベンゾイルチ
オ)−4−メチル安息香酸メチル(3.08g、90%)とし
て得る。
(b)4−ブロモメチル−3−(p−t−ブチルベンゾ
イルチオ)安息香酸メチル。
実施例1(a)で得られたエステル2.80gを還流温度で
無水四塩化炭素に溶解する。過酸化ベンゾイル20mgおよ
び分割してN−ブロモスクシンイミド1.45g(8.15ミリ
モル)を加える。10時間還流温度に加熱し、N−ブロモ
スクシンイミド0.145g(0.8ミリモル)を加え、更に4
時間還流温度に加熱する。溶媒を濃縮し、溶離剤として
ジクロロメタンを用い、短いシリカカラム(5×10cm)
を通して残留物を大ざっぱに精製する。このようにし
て、Rf値=0.35、0.40、0.45(溶離剤:ジクロロメタ
ン)を示す3つの生成物の混合物を得る。これらの生成
物は、極性の少ない順に出発生成物、モノブロモ生成物
およびジブロモ生成物である。この最後の生成物は、ク
ロマトグラフィーにより除去される〔「ウオーターズ
(Waters)」プレプ500、シリカカラム、溶離剤:ジク
ロロメタン(50%)およびヘキサン(50%)の混合
物〕。
このようにして所望のエステル約80%および出発生成物
約20%を含有する油状物(3.20g)を得る。
(c)2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ
(b)チオフェンカルボン酸メチル。
テトラヒドロフラン20mlに、実施例1(b)で得た混合
物3.10gおよびトリフェニルホスフィン1.85g(7ミリモ
ル)を溶解する。4時間窒素気流下還流温度に加熱し、
次いで、冷却し、ジアザビシクロウンデセン(DBU)1.0
6g(7ミリモル)を滴下する。毎滴時濃黄色のものが一
時的に出現するのが認められる。滴下終了後、わずかな
沈殿が見られる。15分間で50℃に加熱し、水(100ml)
に注ぎ、ジクロロメタン(3×100ml)で抽出し、乾燥
して溶媒を濃縮する。所望の生成物をクロマトグラフィ
ーにより得る〔シリカカラム、溶離剤:ジクロロメタン
(20%)およびヘキサン(80%)の混合物〕。得られた
個体をヘキサンで再結晶させる。このようにして2−
(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)チオフ
ェンカルボン酸メチル(1.60g、1(a)で得たエステ
ルから62%)を得る。mp:155℃、Rf値=0.70(溶離剤:
ジクロロメタン(20%)およびヘキサン(80%)の混合
物)。
実施例2 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)チ
オフェンカルボン酸。
実施例1(c)で得たエステル1.2g(3.7ミリモル)
を、メタノールに溶かした2Nのソーダ溶液100mlに懸濁
する。4時間還流温度に加熱し、水(100ml)に注ぎ、
濃塩酸でpH0まで酸性化し、エチルエーテル(3×100m
l)で抽出し、乾燥し、濃縮する。得られた個体をアセ
トニトリルで再結晶する。このようにして、2−(p−
t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカ
ルボン酸(1.05g、91%)を得る。
mp:318℃、Rf=0.7(溶離剤:ジクロロメタン(80%)
およびメタノール(20%)の混合物)。
実施例3 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボ
ン酸メチル。
(a)4−メチル−3−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,
5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルチオ)安息香酸
メチル。
実施例1(a)と同様に、3−メルカプト−4−メチル
安息香酸メチル1.83g(10ミリモル)、トリエチルアミ
ン1.5mlおよび5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テト
ラメチル−2−ナフトイルクロライド2.76g(11ミリモ
ル)から出発して、4−メチル−3−(5,6,7,8−テト
ラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルチ
オ)安息香酸メチル(3.50g、88%)を得る。
mp:120℃、Rf=0.7(溶離剤としてジクロロメタンを用
いる)。
(b)4−ブロモメチル−3−(5,6,7,8−テトラヒド
ロ−(5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルチオ)
安息香酸メチル。
実施例1(b)と同様に、実施例3(a)で得たエステ
ル3.30g(8.3ミリモル)、N−ブロモスクシンイミド1.
48g(8.3ミリモル)および過酸化ベンゾイル20mgから出
発して、クロマトグラフィー後〔「ウオーターズ(Wate
rs)」プレプ500、シリカカラム、溶離剤:ジクロロメ
タン(60%)およびヘキサン(40%)の混合物〕、約10
%の出発生成物および90%の4−ブロモメチル−3−
(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2
−ナフトイルチオ)安息香酸メチルを含有する混合物
(2.50g)を得る。
(c)実施例1(c)と同様に、3(b)で得た混合物
2.40gとトリフェニルホスフィン1.6gをテトラヒドロフ
ラン15mlに溶かしたものから出発して、6時間還流後、
ホスホニウム塩を得、ただちにDBU0.9mlで処理する。実
施例1(c)と同様の処理およびクロマトグラフィー後
(シリカカラム、溶離剤:ジクロロメタン30%およびヘ
プタン70%の混合物)、2−(5,6,7,8−テトラヒドロ
−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−6−ベン
ゾ(b)チオフェンカルボン酸メチルを得る(1.50g、
3(a)で得たエステルから50%)。
mp:170℃、Rf=0.8(溶離剤:ジクロロメタン) 実施例4 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボ
ン酸。
実施例2と同様に、実施例3(c)で得たエステル1.10
g(2.9ミリモル)から出発して、2−(5,6,7,8−テト
ラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−
6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸を得る(0.99
g、93%)。mp:297℃、Rf=0.7(溶離剤:ジクロロメタ
ン(80%)およびメタノール(20%)の混合物)。
実施例5 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)フ
ランカルボン酸メチル。
(a)3−(p−t−ブチルベンゾイルオキシ)−4−
メチル安息香酸メチル。
実施例1(a)と同様に、3−ヒドロキシ−4−メチル
安息香酸メチル3.30g(20ミリモル)、トリエチルアミ
ン(2.20g、22ミリモル)およびp−t−ブチルベンゾ
イルクロライド(3.90g、20ミリモル)をテトラヒドロ
フラン(THmp)40mlに溶かしたものから出発して、2−
(p−t−ブチルベンゾイルオキシ)−4−メチル安息
香酸メチル(5.30g、81%)を得る。Rf=0.45(溶離
剤:エチルエーテル(30%)およびヘキサン(70%)の
混合物)。
(b)4−ブロモメチル−3−(p−t−ブチルベンゾ
イルオキシ)安息香酸メチル。
実施例1(b)と同様に、5(a)で得たエステル1.60
g(5ミリモル)、N−ブロモスクシンイミド1.30gおよ
び過酸化ベンゾイル(10mg)から出発して、四塩化炭素
5mlに溶かし、20分かけて窒素気流下還流温度にし、ク
ロマトグラフィー〔高速液体クロマトグラフィー(HPL
C)、カラム「ゾルバックス・シル(ZORBAX SIL)」、
溶離剤:ジクロロメタン(80%)およびヘキサン(20
%)の混合物〕後、4−ブロモメチル−3−(p−t−
ブチルベンゾイルオキシ)安息香酸メチルを得る(0.94
g、46%)。
mp:107℃。Rf=0.40(溶離剤:エチルエーテル(30%)
およびヘキサン(70%)の混合物)。
(c)2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ
(b)フランカルボン酸メチル。
実施例1(c)と同様に、実施例5(b)で得たエステ
ル0.52g(1.30ミリモル)およびトリフェニルホスフィ
ン(0.40g)をTHmp2mlに溶かしたものから出発して、窒
素気流下4時間還流温度に加熱後、20℃で15分間さらに
還流温度で15分間DBU(0.30g)で処理すると所望の粗エ
ステルが得られる。精製後(HPLC、カラム「ゾルバック
ス・シル」、溶離剤:ジインプロピルエーテル(10%)
およびヘプタン(90%)の混合物)、2−(p−t−ブ
チルフェニル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メ
チル(0.35g、87%)を得る。
mp:148℃、Rf=0.55(溶離剤:エチルエーテル(30%)
およびヘプタン(70%)の混合物)。
実施例6 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)フ
ランカルボン酸。
実施例5(c)で得られたエステル0.30g(1ミリモ
ル)をエタノール10mlに溶かす。水酸化カリウム2ml(5
N)を加え、2時間50℃に加熱する。得られた沈澱に水
(30ml)を加えて溶解し、塩酸(N)10mlを加える。エ
チルエーテル150mlで抽出し、pH=6になるまで水洗
し、濃縮する。残留物を乾燥し、THF(20ml)に溶解す
る。THFを留去して2−(p−t−ブチルフェニル)−
6−ベンゾ(b)フランカルボン酸を得る(0.28g、98
%)。
mp:294℃、Rf=0.60(溶離剤:ジクロロメタン(80%)
およびメタノール(20%)の混合物。) 実施例7 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸
メチル。
(a)5′−メトキシカルボニル−2′−メチルフェニ
ル−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−
2−ナフトエ酸 実施例5(a)と同様に、3−ヒドロキシ−4−メチル
安息香酸メチル3.32g(20ミリモル)および5,6,7,8−テ
トラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイル
クロライド5.51g(22ミリモル)から出発して5′−メ
トキシカルボニル−2′−メチルフェニル−5,6,7,8−
テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトエ
酸を得る(7.10g、93%)。
mp:159℃、Rf=0.6(溶離剤:エチルエーテル(50%)
およびヘキサン(50%)の混合物)。
(b)2′−ブロモメチル−5′−メトキシカルボニル
フェニル−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ
チル−2−ナフトエ酸。
実施例5(b)と同様に、7(a)で得たエステル1.33
g(3.5ミリモル)から出発して2′−ブロモメチル−
5′−メトキシカルボニルフェニル−5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトエ酸を得
る(1.00g、62%)。mp:119℃、Rf=0.4(溶離剤:エチ
ルエーテル(30%)およびヘキサン(70%)の混合
物)。
(c)実施例5(c)と同様に、7(b)で得たエステ
ル0.76g(1.66ミリモル)から出発して2−(5,6,7,8−
テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル
−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルを得る(0.
51g、85%)。
mp:112℃、Rf=0.55(溶離剤:エチルエーテル(30
%)、ヘプタン(70%))。
実施例8 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン
酸。
実施例6と同様に、7(c)で得たエステル3.00g(8.3
ミリモル)を、メタノールに溶かしたソーダ溶液(2N)
200mlで処理する。還流温度に4時間加熱後、濃縮し、
水(100ml)に注ぎ、濃塩酸によりpH0に酸性化し、エー
テルで抽出し(3×100ml)、乾燥し、濃縮する。残留
物をアセトニトリルで再結晶する。このようにして2−
(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2
−ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸を得
る(2.30g、80%)。
mp:280℃、Rf=0.75(溶離剤:エチルエーテル)。
実施例9 1−t−ブトキシカルボニル−2−(p−t−ブチルフ
ェニル)−6−インドールカルボン酸メチル。
(a)3−(p−t−ブチルベンズアミド)−4−メチ
ル安息香酸メチル。
3−アミノ−4−メチル安息香酸メチル3.30g(20ミリ
モル)をTHF40mlに溶かし、トルエチルアミン2.2g(20
ミリモル)の存在下0℃でp−t−ブチルベンゾイルク
ロライド3.9g(20ミリモル)により処理する。2時間
後、水100mlを加え、得られた沈澱物を集めて水洗する
(3×100ml)。真空乾燥し、四塩化炭素を用いて再結
晶する。
このようにして3−(p−t−ブチルベンズアミド)−
4−メチル安息香酸メチルを得る(5.70g、88%)。
mp:193℃、Rf=0.85(溶離剤:エチルエーテル)。
(b)3−[N−(t−ブトキシカルボニル)−p−t
−ブチルベンズアミド]−4−メチル安息香酸メチル。
9(a)で得たエステル0.97g(3ミリモル)をTHF5ml
およびDMmp1mlに溶かす。水素化ナトリウム100mg(油中
80%、3.3ミリモル)を加えて1時間撹拌する。次いで
重炭酸ジ第3級ブチル0.72gを加え、20℃で2時間撹拌
する。次に水(100ml)に注ぎ、ジクロロメタンで抽出
し(3×50ml)、濃縮し、乾燥する。得られた残留物を
シクロヘキサンで再結晶する。このようにして3−(t
−ブトキシカルボニル−p−t−ブチルベンズアミド)
−4−メチル安息香酸メチルを得る(1.10g、86%)。
mp:153℃、Rf=0.5(溶離剤:エチルエーテル(5%)
およびジクロロメタン((95%)の混合物)。
(c)4−ブロモメチル−3−(t−ブトキシカルボニ
ル−p−t−ブチルベンズアミド)安息香酸メチル。
9(b)で得たエステル4.30g(10ミリモル)をN−ブ
ロモ−スクシンイミド1.80g(10ミリモル)および過酸
化ベンゾイル20mgを用いて2時間還流下四塩化炭素中で
処理する。N−ブロモ−スクシンイミド0.20gを加え、
1時間還流加熱する。溶媒を濃縮し、混合物を、短いシ
リカカラム上溶離剤としてクロロホルム(90%)および
ヘキサン(10%)の混合物を用いて瀘過する。クロマト
グラフィー後(「ウォーターズ」プレプ500、シリカカ
ラム、溶離剤:エチルエーテル(10%)、ジクロロメタ
ン(20%)、ヘキサン(70%)の混合物)、4−ブロモ
メチル−3−(t−ブトキシカルボニル−p−t−ブチ
ルベンズアミド)安息香酸メチルを得る(3.60g、71
%)。
mp:135℃、Rf=0.6(溶離剤:ジクロロメタン)。
(d)1−t−ブトキシカルボニル−2−(p−t−ブ
チルフェニル)−6−インドールカルボン酸メチル。
9(c)で得たエステル3.30g(6.5ミリモル)をTHF20m
lに溶かす。トリフェニルホスフイン2.05g(7.8ミリモ
ル)を加え、6時間還流温度に加熱する。20℃に冷却
し、DBU1.17ml(7.8ミリモル)を加える。30分還流下加
熱し、水(100ml)に注ぎ、濃塩酸溶液を用いてpH=0
まで酸性化し、ジクロロメタンで抽出(3×100ml)す
る。水洗して中和し、乾燥後濃縮する。得られた残留物
をジクロロメタンに溶解し、シリカカラム(5×10cm)
を通して大ざっぱに精製する。溶媒を濃縮し、シクロヘ
キサンを用いて再結晶する。このようにして、1−t−
ブトキシカルボニル−2−(p−t−ブチルフェニル)
−6−インドールカルボン酸メチル(1.60g、61%)を
得る。
mp:167℃、Rf=0.7(溶離剤:エチルエーテル(50
%)、ヘキサン(50%))。
実施例10 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−インドールカル
ボン酸。
9(d)で得たエステル1.25g(3.1ミリモル)を、還流
下ソーダのメタノール溶液(2N)100mlと2時間攪拌す
る。濃縮し、水(100ml)に注ぎ、エチルエーテルで抽
出(3%100ml)し、塩酸溶液(N)を用いてpH4になる
まで水相を酸性化する。エーテルで抽出(3×100ml)
し、乾燥し、有機相を濃縮する。得られた残留物をアセ
トニトリルで再結晶する。このようにして、2−(p−
t−ブチルフェニル)−6−インドールカルボン酸(0.
75g、84%)を得る。
mp:297℃、Rf=0.5(溶離剤:ジクロロメタン(80%)
およびメタノール(20%)の混合物)。
実施例11 1−t−ブトキシカルボニル−2−(5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−6
−インドールカルボン酸メチル。
(a)3−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラ
メチル−2−ナフトアミド)−4−メチル安息香酸メチ
ル。
実施例9(a)と同様に、3−アミノ−4−メチル安息
香酸メチル4.95g(30ミリモル)および2−(5,6,7,8−
テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル)ナフトイルク
ロライド(7.50g、30ミリモル)から出発して、3−
(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2
−ナフトアミド)−4−メチル安息香酸メチル(9.65
g、93%)を得る。
mp:159℃、Rf=0.75(溶離剤:ジクロロメタン(95%)
およびエチルエーテル(5%)の混合物)。
(b)3−〔N−t−ブトキシカルボニル−(5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフト
アミド)〕−4−メチル安息香酸メチル。
実施例9(b)と同様に、11(a)で得たエステル9.85
%(26ミリモル)から出発して、3−〔N−t−ブトキ
シカルボニル−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テ
トラメチル−2−ナフトアミド)〕−4−メチル安息香
酸メチル(8.50g、67%)を得る。
mp:132℃、Rf=0.8(溶離剤:エチルエーテル)。
(c)4−ブロモメチル−3−〔N−t−ブトキシカル
ボニル−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ
チル−2−ナフトアミド)〕安息香酸メチル。
11(b)で得たエステル7.75g(17.3ミリモル)を、N
−ブロモスクシンイミド3.08gおよび過酸化ベンゾイル4
0mgを四塩化炭素40mlに溶かしたものを用いて還流下2
時間処理する。濃縮乾固し、溶離剤としてジクロロメタ
ンを用いて短いシリカカラム(5×10cm)で濾過する。
溶媒を留去し、残留物をクロマトグラフィーにより精製
する〔「ウォーターズ」プレプ500、シリカカラム、溶
離剤:エチルエーテル(5%)、ジクロロメタン(15
%)およびヘキサン(80%)からなる混合物〕。このよ
うにして、出発物質20%および4−ブロモメチル−3−
〔N−t−ブトキシカルボニル−(5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトアミド)〕
安息香酸メチル(7.2g)80%を含有する混合物を得る。
(d)11(c)で得た混合物7.10gをTHF40mlに溶かし、
トリフェニルホスフイン3.20g(12ミリモル)で処理す
る。4時間還流温度に加熱し、冷却し、DBU1.80g(12ミ
リモル)を加える。20℃で2時間撹拌する。9(d)と
同様の処理後、1−t−ブトキシカルボニル−2−(5,
6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ
フチル)−6−インドールカルボン酸メチル(3.80g、1
1(b)で得たエステルから出発、56%)を得る。
mp:162℃、Rf=0.6(溶離剤:ジクロロメタン)。
実施例12 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−インドールカルボン酸。
実施例10と同様に、11(d)で得たエステル3.40g(7.3
ミリモル)から出発して、2−(5,6,7,8−テトラヒド
ロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−6−イ
ンドールカルボン酸(2.30g、90%)を得る。
mp:215℃、Rf=0.6(溶離剤:メタノール(20%、ジク
ロロメタン(80%)の混合物)。
実施例13 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−インドールカルボン酸メチル。
実施例12で得た酸1.60g(4.6ミリモル)をメタノール50
mlに溶かす。濃硫酸0.5mlを加え、8時間加熱還流す
る。メタノールを蒸発させて、残渣をジクロロメタン
(200ml)に溶かし、重炭酸ナトリウム溶液を用いて洗
浄する。有機相を集めて、乾燥濃縮する。残留物を溶離
剤としてジクロロメタンを用いて短いシリカカラム(5
×10cm)を通して精製する。こうして、2−(5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチ
ル)−6−インドールカルボン酸メチルを得る(1.60
g、96%)。
mp:202℃、Rf=0.5(溶離剤:エチルエーテル(50%)
およびヘプタン(50%)の混合物)。
実施例14 1−メチル−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカルボ
ン酸メチル。
実施例13で得たエステル1.40g(3.8ミリモル)を無水TH
F20mlに溶かし、水素化ナトリウム(油中80%)0.14g
(4.6ミリモル)を用いて処理する。1時間撹拌し、よ
う化メチル0.65g(4.4ミリモル)を加える。2時間撹拌
後、水(100ml)に注ぎ、ジクロロメタンで抽出(3×1
00ml)する。有機相を濃縮乾固する。得られた残留物を
ヘキサンで再結晶する。このようにして、1−メチル−
2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−インドールカルボン酸メチルを
得る(1.30g、91%)。
mp:156℃、Rf=0.65(溶離剤:エチルエーテル(50
%)、ヘキサン(50%)の混合物)。
実施例15 1−メチル−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
テトラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカルボ
ン酸。
実施例14で得たエステル1.00g(2.65ミリモル)を実施
例12と同様に処理する。このようにして、酢酸エチルお
よびイソプロピルエーテルの混合物で再結晶した後、1
−メチル−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テ
トラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカルボン
酸(0.90g、93%)を得る。
mp:256℃、Rf=0.8(溶離剤:エチルエーテル)。
実施例16 2−(p−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸メチル。
(a)4−アミノ−3−(p−t−ブチルベンズアミ
ド)安息香酸メチル。
エチルエーテル150mlに溶かした3,4−ジアミノ安息香酸
メチル1.65g(10ミリモル)およびトリエチルアミン1.1
0g(11ミリモル)を、0℃の温度でp−t−ブチルベン
ゾイルクロライド2.00g(10ミリモル)により滴下処理
する。周囲温度に戻るまで放置し、1時間撹拌する。水
(100ml)に注ぎ、ジクロロメタンで抽出(3×100ml)
し、乾燥濃縮する。イソプロピルエーテルおよびシクロ
ヘキサンの混合物で再結晶する。このようにして、4−
アミノ−3−(p−t−ブチルベンズアミド)安息香酸
メチル(2.40g、73%)を得る。
mp:175℃、Rf=0.6(溶離剤:エチルエーテル) (b)2−(p−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイ
ミダゾールカルボン酸メチル。
16(a)で得た生成物2gをキシレン100mlに溶かし、p
−トルエンスルホン酸(1水和物)20mgを加える。16時
間還流下加熱し、水を生成次第除去する。次に溶媒を濃
縮し、ジクロロメタン(100ml)に溶かし、飽和重炭酸
ナトリウム溶液で洗浄する。有機相を乾燥し、溶媒を留
去し、残留物を、溶離剤としてジクロロメタン(95%)
およびエチルエーテル(5%)の混合物を用いて短いシ
リカカラム(5×10cm)を通して精製する。溶媒を留去
し、残留物をシクロヘキサンおよびイソプロピルエーテ
ルの混合物中で再結晶する。このようにして、2−(p
−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾールカル
ボン酸メチルを得る(1.40g、74%)。
mp:208℃、Rf=0.6(溶離剤:エチルエーテル)。
実施例17 2−(p−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸。
実施例16(b)で得たエステル1.20g(3.9ミリモル)
を、水酸化ナトリウムのメタノール溶液(2N)75mlと48
時間撹拌する。メタノールを蒸発させ、水100mlを加え
る。エチルエーテルで抽出後、塩酸溶液(N)を用いて
pH4に酸性化する。エチルエーテルで抽出(3×100ml)
し、乾燥濃縮する。酢酸エチルおよびイソプロピルエー
テルの混合物で再結晶する。このようにして、2−(p
−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾールカル
ボン酸を得る(0.70g、61%)。
mp:212℃、Rf=0.6(溶離剤:メタノール(20%)およ
びジクロロメタン(80%)の混合物)。
実施例18 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−5−ベンズイミダゾールカルボン酸
メチル。
(a)4−アミノ−3−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,
5,8,8−テトラメチル−2−ナフトアミド)安息香酸メ
チル。
実施例16(a)と同様に、3,4−ジアミノ安息香酸メチ
ル2.70g(16.2ミリモル)および5,6,7,8−テトラヒドロ
−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルクロライド
4.05g(16.2ミリモル)から出発して、酢酸エチルおよ
びイソプロピルエーテルの混合物で再結晶後、4−アミ
ノ−3−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ
チル−2−ナフトアミド)安息香酸メチル(5.20g、84
%)を得る。
mp:216℃、Rf=0.7(溶離剤:エチルエーテル)。
(b)実施例16(b)と同様に、実施例18(a)で得た
エステル5.00g(13ミリモル)から出発して、2−(5,
6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ
フチル)−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルを
得る(3.70g、78%)。
mp:223℃、Rf=0.75(溶離剤:エチルエーテル)。
実施例19 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−5−ベンズイミダゾールカルボン
酸。
実施例17と同様に、実施例18(b)で得たエステル2.90
g(8ミリモル)から出発して水酸化ナトリウムのメタ
ノール溶液(2N)150mlで処理し、2−(5,6,7,8−テト
ラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−
5−ベンズイミダゾールカルボン酸を得る(2.40g、86
%)。
mp:228℃,Rf=0.6(溶離剤:ジクロロメタン(80%)、
メタノール(20%)の混合物)。
実施例20 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
メチル。
(a)3−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸メチル。
丸底フラスコに、3−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸
36.6g(0.2モル)、メタノール40mlおよび濃硫酸5.4ml
を注入する。8時間還流加熱し、反応媒質を蒸発させ、
残留物に水を注ぎ、中和し、エチルエーテル1リットル
で抽出する。有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウム
で乾燥後、濃縮する。得られた固体をヘキサン/シクロ
ヘキサン混合物中で再結晶する(38.5g、97.7%)。
mp:89℃、Rf=0.55(溶離剤:エチルエーテル(50%)
/ヘキサン(50%))。
(b)4−アミノ−3−ヒドロキシ安息香酸メチル。
丸底フラスコに、3−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸
メチル5.9g(0.03モル)、エチルアルコール70mlおよび
鉄粉10.1g(0.18モル)を入れる。10℃に冷却し、濃塩
酸10mlを滴下し、周囲温度で2時間撹拌する。反応媒質
を濾過し、濾液を濃縮する。残留物を重炭酸水/エチル
エーテルに注ぎ、有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濃縮する。得られた固体をシクロヘキサ
ン/イソプロピルエーテル混合物中で再結晶する(4.5
g、90%)。
mp:121℃、Rf=0.55(溶離剤:エチルエーテル)。
(c)丸底フラスコに、4−アミノ−3−ヒドロキシ安
息香酸メチル3.34g(0.02モル)、5,6,7,8−テトラヒド
ロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトエ酸4.6g(0.0
2モル)、ほう酸1.23g(0.02モル)およびキシレン200m
lを入れる。30分間加熱還流し、デイーン・スターク法
により生成した水を分離する。濃縮乾固し、重炭酸水を
溶かし、メチレンクロライドで抽出する。有機相を傾斜
で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮する。生成物
を、メチレンクロライドを溶離剤としてシリカカラムフ
ラッシュクロマトグラフィーにより精製する。ヘキサン
中に昌出させる(3.0g、41.3%)。
mp:149℃、Rf=0.3(溶離剤:ヘキサン(70%)/エチ
ルエーテル(30%)混合物)。
実施例21 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン
酸。
丸底フラスコに、20(c)で得たエステル2.5g(6.88ミ
リモル)をメタノール性ソーダ(2M)200mlに溶かした
ものを入れる。4時間加熱還流し、濃縮乾固し、水に溶
かし、濃塩酸を用いてpH=4となるまで酸性化し、沈澱
した固体を濾過し、無水燐酸で乾燥しする。次に酢酸エ
チル/テトラヒドロフラン混合物中で再結晶する(1.5
g、62.5%)。
mp:310℃、Rf=0.7(溶離剤:エチルエーテル)。
実施例22 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
モルホリド。
(a)2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラ
メチル−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカル
ボン酸クロライド。
丸底フラスコに、実施例21で得た酸6.98g(20ミリモ
ル)を無水ジクロロメタン100mlに溶かしたものを入れ
る。ジシクロヘキシルアミン4ml(20ミリモル)を加
え、20℃で2時間撹拌する。溶媒を留去し、無水エーテ
ルで処理する。このようにして得た塩(10.5g)を濾過
し、このままで用いる。
塩を丸底フラスコに入れ、乾燥ジクロロメタン100mlお
よび塩化チオニル1.45ml(20ミリモル)を加える。20℃
で4時間撹拌し、濃縮乾固して白色固体(7.25g、99
%)を得る。
(b)2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラ
メチル−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカル
ボン酸モルホリド。
丸底フラスコに、モルホリド1.05ml(12ミリモル)およ
びジクロロメタン50mlを入れる。
前記で得た酸クロライド1.4g(4ミリモル)をジクロロ
メタン50mlに溶かして滴下する。20℃で2時間撹拌し、
水に注ぎ、有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を濃縮する。
イソプロピルエーテル中で再結晶し、所望の化合物1.2g
を得る(72%)。mp:149〜150℃。
実施例23 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
エチルアミド。
実施例22と同様に、エチルアミン12ミリモルおよび実施
例22(a)で得た酸クロライド4ミリモルから出発して
2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
エチルアミド(1.1g、74%)を得る。
mp:164−165℃(酢酸エチル/イソプロピルエーテル混
合物で再結晶)。
実施例24 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
・2−ヒドロキシエチルエステル。
丸底フラスコに、エチレングリコール6.4ml(114ミリモ
ル)、ピリジン1.9ml(23ミリモル)およびジクロロメ
タン50mlを入れる。0℃に冷却し、実施例22(a)で得
た酸クロライド1.4g(11ミリモル)をジクロロメタン50
mlに溶かしたものを滴下する。次いで、20℃で2時間撹
拌し、水に溶かし、有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を濃縮する。溶離剤としてジクロ
ロメタン90%/エーテル10%混合物を用いて生成物を急
速にシリカカラムクロマトグラフィーに付す(4.0g、91
%)。
mp:126〜127℃。
実施例25 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾリルメチルアル
コール。
丸底フラスコに、窒素気流下THF50mlおよびLiAlH4を330
mg入れる。実施例20(c)で得たエステル2.0g(5.7ミ
リモル)を少しずつ加え、1時間加熱還流する。
酒石酸ナトリウムおよびカリウム複塩溶液で処理し、濾
過し、有機相を集める。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去する。得られた残留物を、溶離剤としてジクロ
ロメタン(95%)およびエーテル(5%)の混合物を用
いてシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
生成物をシクロヘキサン(1g、52%)で再結晶する。m
p:125〜126℃。
実施例26 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−6−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエステ
ル。
(a)3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香
酸。
丸底フラスコに、マグネシウム屑5.4g(225ミリグラム
原子)およびTHF30mlを入れる。2−アダマンチル−4
−ブロモアニソール48.3g(150ミリモル)および1,2−
ジブロモエタン6ml(70ミリモル)をTHF300mlに溶かし
た溶液を滴下する。
2時間加熱還流し、−70℃に冷却し、CO2気流を1時間
通す。温度を20℃まだ上昇させ、水に注ぎ、濃塩酸によ
り酸性化してpH1にし、エチルエーテルで抽出する。有
機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
する。
得られた固体を酢酸エチルで再結晶する(3.7g、86
%)。
mp:238〜239℃。
(b)3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香
酸塩化物。
丸底フラスコに塩化チオニル200mlを入れ、前記で得た
酸35g(122ミリモル)を少量ずつ加える。気体放出が止
まるまで加熱還流する。濃縮乾固し、無水ベンゼン100m
lに溶かし、濃縮乾固する。このようにして3−(1−
アダマンチル)−4−メトキシ安息香酸塩化物を得る
(37g)。
mp:153〜154℃。このままで用いる。
(c)4−アミノ−3−[3−(1−アダマンチル)−
4−メトキシベンズアミド]安息香酸メチルエステル。
丸底フラスコに、3,4−ジアミノ安息香酸メチルエステ
ル3.32g(20ミリモル)、トリエチルアミン3.1ml(22ミ
リモル)および無水エーテル100mlを入れる。前記で得
られた酸クロライド(6.1g、20ミリモル)をエチルエー
テール100mlに溶かした溶液を0℃で滴下する。温度を2
0℃に上昇させ、2時間撹拌する。水に注ぎ、エーテル
相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
濃縮する。得られた固体をイソプロピルエーテル100ml
に入れて15分間加熱還流する。20℃に戻した後濾過す
る。このようにして白色固体7.4gを得るが、これはこの
まま次の合成に用いられる。
(d)2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
フェニル]−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メチル
エステル。
丸底フラスコに、前記で得られたエステル10.5g(24ミ
リモル)、キシレン30mlおよびp−トルエンスルホン酸
4.6g(24ミリモル)を入れる。
生じた水を分離しながら12時間加熱還流する。濃縮乾固
し、残留物を飽和重炭酸ナトリウム溶液に溶かす。
固体を濾過後、溶離剤としてメチレンクロライド95%お
よびエーテル5%の混合物を用いてシリカカラムクロマ
トグラフィーにより精製する。溶媒を留去し、得られた
白色固体を酢酸エチル400ml中短時間加熱還流する。放
冷後、所望のエステルが得られる(8.7g、87%)。
mp:257〜8℃。
実施例27 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−6−ベズオキサゾールカルボン酸メチルエステ
ル。
(a)4−アミノ−3−[3−(1−アダマンチル)−
4−メトキシベンゾイルオキシ]安息香酸メチルエステ
ル。
丸底フラスコに、4−アミノ−3−ヒドロキシ安息香酸
メチルエステル3.8g(30ミリモル)、トリエチルアミン
3.5ml(25ミリモル)およびエーテル100mlを入れる。0
℃に冷却し、実施例26(b)で得た酸クロライド7g(23
ミリモル)をエチルエーテル100mlに溶かして滴下す
る。次いで20℃で4時間撹拌し、水に注ぎ、有機相を傾
斜で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。得
られた残留物をシクロヘキサンで再結晶する。このよう
にして生成物8.5gを得るが、これはこのまま次の合成に
用いる。
(b)2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
フェニル]−6−ベンズオキサゾールカルボン酸エチル
エステル。
丸底フラスコに、前記で得たエステル8.5g(20ミリモ
ル)、キシレン400mlおよびp−トルエンスルホン酸3.7
g(20ミリモル)を入れる。生じた水を分離しながら12
時間加熱還流する。濃縮乾固し、残留物を飽和重炭酸ナ
トリウム溶液に溶かし、濾過して得られた固体を、ジク
ロロメタンを溶離剤として用いたシリカカラムクロマト
グラフィーにより精製する。
酢酸エチルおよびイソプロピルエーテルの混合物で再結
晶させると所望のエステル7.7g(95%)が得られる。m
p:183〜184℃。
実施例28 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−6−ベンズオキサゾールカルボン酸。
丸底フラスコに、実施例27(b)で得られたエステル6.
4g(15ミリモル)およびソーダ(16g)をTHF300mlおよ
び水50mlに溶かした溶液を入れる。
72時間周囲温度で撹拌し、溶媒を留去し、水に溶かし、
塩酸(N)を用いてpH5に酸性化する。得られた固体を
濾過し、水洗する。固体を酢酸エチル7リットルで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮する。次いで固体
を、1時間還流下酢酸エチル500mlで処理する。冷却
し、固体を濾過する(5.9g、95%)。mp:312〜314℃。
実施例29 2−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシフ
ェニル]−6−ベンズオキサゾールカルボン酸メチルエ
ステル。
(a)2−(1−アダマンチル)−4−ブロモ−1−デ
シルオキシベンゼン。
丸底フラスコに、水素化ナトリウム(油中80%)3.2g
(104ミリモル)およびN,N−ジメチルホルムアミド100m
lを入れる。2−アダマンチル−4−ブロモフェノール
(29g、95ミリモル)をN,N−ジメチルホルムアミド100m
lに溶かした溶液を滴下し、気体放出が止まるまで撹拌
する。次いで、1−ヨードデカン23ml(104ミリモル)
を加え、20℃で8時間撹拌する。水に注ぎ、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。生成物をシリカカラ
ムクロマトグラフィー(溶離剤:ヘプタン)により精製
する。
このようにして、2−(1−アダマンチル)−4−ブロ
モ−1−デシルオキシベンゼン40.7g(96%)を得る。m
p:69〜70℃。
(b)3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシ安
息香酸。
実施例26(a)と同様に、実施例29(a)で得た誘導体
17.9g(40ミリモル)から出発して、酢酸エチルおよび
イソプロピルエーテルの混合物で昌出後、3−(1−ア
ダマンチル)−4−デシルオキシ安息香酸(13.5g、82
%)を得る。mp:151〜152℃。
(c)3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシ安
息香酸塩化物。
実施例26(b)と同様に、3−(1−アダマンチル)−
4−デシルオキシ安息香酸7.45g(18ミリモル)から出
発して反応する酸塩化物(100%)を得る。
(d)4−アミノ−3−[3−(1−アダマンチル)−
4−デシルオキシベンゾイルオキシ]安息香酸および4
−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベン
ズアミド]−3−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル。
丸底フラスコに、4−アミノ−3−ヒドロキシ安息香酸
メチルエステル3.0g(18ミリモル)、トリエチルアミン
2.8ml(20ミリモル)およびエーテル100mlを入れる。0
℃に冷却し、前記で得た酸クロライド(7.7g、18ミリモ
ル)をエーテル50mlに溶かした溶液を滴下する。20℃で
2時間撹拌し、水に注ぎ、有機相を傾斜で分離し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濃縮する。溶離剤としてジクロ
ロメタンを用いてシリカカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、続いて4−[3−(1−アダマンチル)−4
−デシルオキシベンズアミド]−3−ヒドロキシ安息香
酸メチルエステル2,2g、次いで4−アミノ−3−[3−
(1−アダマンチル)−4−デシルオキシベンゾイルオ
キシ]安息香酸メチルエステル5gを得る。
(e)2−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオ
キシフェニル]−6−ベンズオキサゾールカルボン酸メ
チルエステル。
丸底フラスコに、前記で得た混合物6.8g(12ミリモ
ル)、キシレン300mlおよびp−トルエンスルホン酸2.3
g(12ミリモル)を入れる。5時間還流温度に加熱し、
生成する水を分離する。濃縮乾固し、飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液に溶かし、ジクロロメタンで抽出する。得られ
た残留物を酢酸エチルおよびイソプロピルエーテルの混
合物で再結晶する。このようにして、2−[3−(1−
アダマンチル)−4デシルオキシフェニル]−6−ベン
ズオキサゾールカルボン酸メチルエステル5.3g(81%)
を得る。mp:127〜128℃。
実施例30 2−[3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシフ
ェニル]−6−ベンズオキサゾールカルボン酸。
実施例28と同様に、実施例29(e)で得たエステル4.6g
(8.5ミリモル)から出発して2−[3−(1−アダマ
ンチル)−4−デシルオキシフェニル]−6−ベンズオ
キサゾールカルボン酸3.9g(88%)を得る。
mp:200〜201℃(酢酸エチルで再結晶)。
実施例31 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエステ
ル。
(a)3−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンゾイルオキシ]−4−メチル安息香酸メチルエステ
ル。
実施例5(a)と同様に、3−ヒドロキシ−4−メチル
安息香酸エステル4.99g(30ミリモル)および実施例26
(b)で得た酸クロライド9.14g(30ミリモル)から出
発して、シリカカラムクロマトグラフィー(溶離剤:ジ
クロロメタン50%/ヘキサン50%の混合物)後、所望の
エステル(92%)12gを得る。mp:110℃。
(b)3−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンゾイルオキシ]−4−ブロモメチル安息香酸メチル
エステル。
実施例5(b)と同様に、前記で得たエステル1.70g
(3.9ミリモル)、N−ブロモスクシンイミド0.70gおよ
びベンゾイルペルオキシド20mgを四塩化炭素15mlに溶か
し、窒素気流下3時間還流温度に加熱したものから出発
して、シリカカラムクロマトグラフィー(溶離剤:エチ
ルエーテル30%およびヘキサン70%の混合物)後、所望
の生成物および出発物質の混合物を得るが、これはこの
まま次の合成に使用する。
(c)2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
フェニル]−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチル
エステル。
前記で得た混合物を、無水THF100mlに溶かす。トリフェ
ニル−ホスフィン4.17g(16ミリモル)を加え、4時間
還流温度に加熱する。
周囲温度に冷却し、ジアザビシクロウンデセン(DBU)
2.4ml(16ミリモル)を滴下する。添加後35℃で30分間
撹拌し、水に注ぎ、酸性化して(塩酸(6N)により)pH
1にし、エーテルで抽出する。
有機相を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮す
る。
残留物をシリカカラムクロマトグラフィーに付す(溶離
剤:エチルエーテル20%、およびヘキサン80%の混合
物)。蛍光フラクション(254nmの紫外線照射)を回収
し、溶媒を濃縮する。このようにして所望のエステル1.
82g(27%、工程31(b)および31(c)を合わせた収
率)を得る。mp:180℃。
実施例32 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸。
実施例8と同様に、実施例31(c)で得たエステル1.52
g(3.65ミリモル)から出発して、2−[3−(1−ア
ダマンチル)−4−メトキシフェニル]−6−ベンゾ
(b)フランカルボン酸(1.32g、90%)を得る。mp:29
0℃。
実施例33 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−6−ベンゾ(b)チオフエンカルボン酸メチルエ
ステル。
(a)4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンゾイルチオ]−4−メチル安息香酸メチルエステ
ル。
実施例1(a)と同様に、3−メルカプト−4−メチル
安息香酸メチル5.47g(30ミリモル)、トリエチルアミ
ン4.6ml(33ミリモル)および実施例26(b)で得た酸
クロライド9.14g(30ミリモル)から出発して、4−
[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイル
チオ]−4−メチル安息香酸メチルエステル(12.83g、
95%)を得る。mp:140℃。
(b)4−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンゾイルチオ]−4−ブロモメチル安息香酸メチルエ
ステル。
実施例1(b)と同様に、前記で得たエステル12.50g
(28ミリモル)、N−ブロモスクシンイミド4.94g(28
ミリモル)および過酸化ベンゾイル100mgを四塩化炭素2
00mlに溶かしたものから出発して、シリカカラムクロマ
トグラフィー(溶離剤:エチルエーテル40%/ヘキサン
60%の混合物)後、出発物質および所望の生成物を含有
する混合物を得るが、これはこのまま次の合成に用い
る。
(c)2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
フェニル]−6−ベンゾ(b)チオフエンカルボン酸メ
チルエステル。
実施例1(c)と同様に、前記で得た混合物全部、トリ
フェニルホスフェン4.55g(17.5ミリモル)およびDBU2.
60ml(17.5ミリモル)から出発して、シリカカラムクロ
マトグラフィー(溶離剤:ジクロロメタン40%/ヘキサ
ン60%の混合物)後、所望のエステルを得る(1.68g、1
4%−工程33(b)および33(c)を合わせた収率)。m
p:172℃。
実施例34 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸。
実施例2と同様に、実施例33(c)で得たエステル1.32
gから出発して、対応する酸1.15g(90%)を得る。mp:3
05℃。
実施例35 2−(3−t−ブチル−4−メトキシフェニル)−6−
ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエステル。
(a)3−t−ブチル−4−メトキシ安息香酸。
実施例26(a)と同様に、4−ブロモ−3−t−ブチル
−メトキシベンゼン12.16g(50ミリモル)、マグネシウ
ム1.34g(55ミリグラム原子)および過剰量の炭酸ガス
から出発して、融点190℃を有する3−t−ブチル−4
−メトキシ安息香酸8.31g(80%)を得る。
(b)3−t−ブチル−4−メトキシ安息香酸クロライ
ド。
実施例22(a)と同様に、前記で得た酸19.0g(92ミリ
モル)およびシクロヘキシルアミン18.3ml(92ミリモ
ル)から出発して、得られた塩を塩化チオニル6.7ml(9
2ミリモル)で処理し、酸クロライド(油状淡黄色)19.
8g(95%)を得るが、これはこのまま次の合成に用い
る。
(c)3−[3−t−ブチル−4−メトキシベンゾイル
オキシ]−4−メチル安息香酸メチルエステル。
実施例5(a)と同様に、3−ヒドロキシ−4−メチル
安息香酸メチル14.5g(87ミリモル)および前記で得た
酸クロライド19.8g(87ミリモル)から出発して、シリ
カカラムクロマトグラフィー(溶離剤:ジクロロメタン
60%/ヘキサン40%の混合物)後、3−[3−t−ブチ
ル−4−メトキシベンゾイルオキシ]−4−メチル安息
香酸メチルエステル(27.7g、94%)を得る。mp:152
℃。
(d)4−ブロモメチル−3−(3−t−ブチル−4−
メトキシベンゾイルオキシ)安息香酸メチルエステル。
実施例31(b)と同様に、前述のエステル27.3g(76.5
ミリモル)およびN−ブロモスクシンイミド13.6g(76.
5ミリモル)から出発して、触媒として過酸化ベンゾイ
ル100mgを用いて、シリカカラムクロマトグラフィー
(溶離剤:ジクロロメタン60%/ヘキサン40%の混合
物)後、痕跡量の二臭化物を含む出発物質と一臭化物の
混合物を得る。この混合物は、このまま次の合成に用い
られる。
(e)2−(3−t−ブチル−4−メトキシフェニル)
−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエステル。
前記で得た混合物(27.6g)を無水THF100mlに溶かす。
トリフェニルホスフィン16.6g(63ミリモル)を加え、
4時間加熱還流する。20℃に冷却し、窒素気流下DBU9.5
ml(63ミリモル)を滴下する。滴下終了後、80℃で20分
間撹拌する。水に注入し、pH1に酸性化(塩酸(6N)を
用いる)し、ジクロロメタン200mlで3回抽出する。
有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去し、残留物をシリカカラム
クロマトグラフィーにより(溶離剤:ジクロロメタン40
%/ヘキサン60%の混合物)精製する。
蛍光フラクションを回収(254nmの紫外線照射)し、溶
媒を濃縮すると、2−(3−t−ブチル−4−メトキシ
フェニル)−6−ベンゾ(b)−フランカルボン酸メチ
ルエステル(11.2g、43%)が得られる。mp:179℃。
実施例36 2−(3−t−ブチル−4−メトキシフエニル)−6−
ベンジ(b)フランカルボン酸。
実施例8と同様に、実施例35(e)で得たエステル7.64
g(22.5ミリモル)をメタノール(500ml)および水性ソ
ーダ(135ml、5N)の混合物で処理したものから出発し
て、2−(3−t−ブチル−4−メトキシフエニルノ)
−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸(6.74g、92%)
を得る。mp:235℃。
実施例37 2−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシフ
エニル]−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエ
ステル。
(a)4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデシル)フエ
ノール。
2−メチル−1−ウンデンセン(35.6g、211ミリモ
ル)、パラブロモフェノール(36.6g,211ミリモル)お
よび予め水洗い、アセトンですすぎ、80℃で3時間乾燥
器で乾燥したダウエックス(Dowex)樹脂5×12(100〜
200メッシュ)からなる混合物を48時間100〜110℃に加
熱する。周囲温度に冷却し、シリカカラムクロマトグラ
フィー(溶離剤:ジクロロメタン40%/ヘキサン60%の
混合物)に付すと、淡黄色油状物の形で4−ブロモ−2
−(1,1−ジメチルデシル))フエノールが得られる(3
0.85g、43%)。
この生成物はこのまま次の合成で用いる。
(b)4−ブロモ−2−(1,1−ジメチルデシル)アン
ソール。
前記で得た化合物(30.85g、90ミリモル)を無水THF100
mlに溶解し、次に水素化ナトリウム(油中80%)2.7g
(90ミリモル)を少量ずつ分割して添加処理する。添加
終了後、周囲温度で30分撹拌し、次いでよう化メチル1
2.8g(90ミリモル)を加える。20℃で2時間撹拌し、溶
媒を留去し、残留物をシリカカラムクロマトグラフィー
(溶離剤:ジクロロメタン40%/ヘキサン60%の混合
物)により、精製する。
溶媒を留去後、黄色油状形態で所望の生成物を得る。
(c)3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メメトキシ
安息香酸。
前記で得たブロモ誘導体(28.46g、80ミリモル)を無水
THF80mlに溶かしたものを、マグネシウム屑(2.34g、96
ミリグラム原子)およびよう素結晶上にゆっくりと加え
る。添加を始めるにあたり、反応が始まるまで(還流が
明らかになる)加熱する。次いでブロモ誘導体を加える
速度によりこの還流状態を一定に保つ。
添加終了後、50℃で30分撹拌を続け、0℃に冷却し、炭
酸ガス流を3時間流す。
次いでTHFを留去し、水300mlを加え、PH1に酸性化(塩
酸(6N)を用いる)する。エチルエーテル(3×300m
l)で抽出する。有機相を飽和NaCl溶液で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。
得られた固体を氷ヘキサン50mlで洗浄し、80℃で乾燥器
により乾燥する。
3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシ安息香酸1
5.25g(59%)を得る。mp:112℃。
(d)3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシ安
息香酸クロライド。
実施例22(a)と同様に、前記で得た酸14.4g(44.8ミ
リモル)およびジシクロヘキシルアミン9ml(44.8ミリ
モル)から出発し得られた塩を塩化チオニル3.26ml(4
4.8ミリモル)により20℃で16時間処理し、粗酸クロラ
イドを得るが、このまま次工程で用いる。
(e)3−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メト
キシベンゾイルオキシ]−4−メチル安息香酸メチルエ
ステル。
実施例35(c)と同様に、3−ヒドロキシ−4−メチル
安息香酸メチル6.98g(42ミリモル)、実施例27(d)
でえた粗酸クロライド全量およびトリエチルアミン4.25
g(42ミリモル)から出発して3−[3−(1,1−ジメチ
ルデシル)−4−メトキシベンゾイルオキシ]−4−メ
チル安息香酸メチルエステル(17.84g、工程37(d)お
よび37(e)を合わせたときの収率91%)を黄色油状物
の形で得、これを結晶化する。mp:90℃。
(f)4−ブロモメチル−[3−(1,1−ジメチルデシ
ル)−4−メトキシベンゾイルオキシ]安息香酸メチル
エステル。
実施例35(d)と同様に、前記で得たエステル17.4g(3
7ミリモル)およびN−ブロモスクシンイミド6.60g(37
ミリモル)から出発して、カラムクロマトグラフィー
(溶離剤:エチルエーテル40%/ヘキサン60%の混合
物)により精製した後、所望のモノブロモ生成物、出発
物質および痕跡量のジブロモ誘導体を含有する混合物を
得る。そのままこの混合物を次工程に用いる。
(g)2−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メト
キシフェニル]−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メ
チルエステル。
実施例35(e)と同様に、前記で得た混合物全部、トリ
フエニルホスフイン9.73g(37ミリモル)およびDBU5.5m
l(37ミリモル)から出発して、ヘキサンで3回再結晶
後2−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシ
フェニル]−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチル
エステル3.02gを、工程37(f)および37(g)を合わ
せて収率18%で得る。mp:95℃。
実施例38 2−[3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシフ
ェニル]−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸。
実施例36と同様に、実施例37(g)で得たエステル1.85
g(4ミリモル)から出発して、2−[3−(1,1−ジメ
チルデシル)−4−メトキシフェニル]−6−ベンゾ
(b)フランカルボン酸(1.47g、82%)を得る。mp:15
0℃。
実施例39 2−[3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
ル]−5−ベズズイミダゾールカルボン酸。
丸底フラスコに、実施例26(d)で得たエステル7.8g
(19ミリモル)およびメタノール性ソーダ液(2N)300m
lを入れる。24時間還流温度に加熱し、濃縮乾固し、水
に溶かし、塩酸を用いてpH5に酸性化し、固体を濾過
し、水洗する。次いで固体をP2O5の存在下真空乾燥す
る。固体をTHF(1リットル)を用いて抽出し、次に不
溶物を濾過後THFを留去する。生成物を、THF(300ml)
および酢酸エチル(300ml)の混合物中で1時間還流温
度に加熱する。冷却後、固体を濾過し、2−[3−(1
−アダマンチル)−4−メトキシフェニル]−5−ベン
ズイミダゾールカルボン酸7g(93%)を得る。mp:358〜
359℃。
実施例40 2−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシフェ
ニル]−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエス
テル。
(a)2−(1−アダマンチル)−4−ブロモ−t−ブ
チルジメチルシリルオキシベンゼン。
丸底フラスコに、2−(1−アダマンチル)−4−ブロ
モフエノール30.7g(100ミリモル)、トリエチルアミン
15.4ml(110ミリモル)、4−(N,N−ジメチルアミノ)
ピリジン500mg(4ミリモル)およびTHF200mlをいれ
る。
窒素気流F、DMF100mlに溶かしたt−ブチルジメチルシ
リルクロライド15.7g(104ミリモル)の溶液を滴下し、
4時間撹拌し、水に溶かし、エーテルで抽出し、有機相
を傾斜で分離する。水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去し、得られた残留物を溶離剤としてヘキ
サンを用いてシリカカラムに通して精製する。
このようにして、所望の生成物3.62gを得る。mp:111〜1
12℃。
(b)3−(1−アダマンチル)−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ安息香酸。
丸底フラスコに、マグネシウム1.18g(48.8ミリグラム
原子)およびTHF50mlを入れ、前記で得た生成物13.7g
(32.5ミリモル)をTHF100mlに溶かしたものを滴下し、
2時間還流温度に加熱する。−78℃に冷却し、反応媒質
に炭酸ガスを流す。周囲温度に放暖し、水に溶かし、塩
酸(5N)を用いてpH1まで酸性化する。エーテルで抽出
し、常法で処理した後、得られた固体をイソプロピルエ
ーテル200ml中で還流温度に加熱する。
冷却後、固体を濾過すると3−(1−アダマンチル)−
4−t−ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸8.2g(65
%)をえる。mp:245〜246℃。
(c)3−(1−アダマンチル)−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ安息香酸クロライド。
丸底フラスコに、前記で得た酸6.45g(16.7ミリモ
ル)、ジシクロヘキシルアミン3.3ml(16.7ミリモル)
および塩化メチル100mlを入れる。周囲温度で2時間撹
拌した後、塩化チオニル1.35ml(18.4ミリモル)を加
え、2時間撹拌する。濃縮乾固し、エーテル200mlに溶
かし、ジシクロヘキシルアンモニウムクロライドを濾過
し、溶媒を留去する。このようにして固体6.9gを得る
が、このまま次工程にもちいる。
(d)4−アミノ−3−[3−(1−アダマンチル)−
4−t−ブチルジメチルシリルオキシベンズアミド]安
息香酸メチルエステル。
丸底フラスコに、3.4−ジアミノ安息香酸メチル2.77g
(16.7ミリモル)、トリエチルアミン2.6ml(18.4ミリ
モル)およびエーテル100mlを入れる。前記で得た酸ク
ロライド6.75g(16.7ミリモル)をエーテル100mlに溶か
した溶液滴下し、20℃で2時間撹拌する。水に溶かし、
メチレンクロライド抽出し、有機相を傾斜で分離し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。得られた残
留物を、溶離剤としてジクロロメタン95%−エーテル5
%の混合物を用い、シリカカラムに通して精製する。こ
のようにして所望のエステル6.9g(78%)を得る。mp:2
16〜217℃。
(e)2−[3−(1−アダマンチル)−4−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシフエニル]−5−ベンズイミダ
ゾールカルボン酸メチルエステル。
丸底フラスコに、前記で得た生成物6.3g(11.6ミリモ
ル)、p−トルエンスルホン酸2.2g(11.6ミリモル)お
よびキシレン100mlを入れる。還流温度に2時間加熱
し、濃縮乾固し、飽和重炭酸ナトリウム溶液に溶かし、
メチレンクロライドで抽出し、有機相を傾斜で分離し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残留物をシリカ
カラム(溶離剤ジジクロロメタン95%およびエーテル5
%の混合物)に通して精製する。このようにして所望の
エステル5.5g(92%)を得る。mp:277〜278℃。
(f)2−[3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキ
シフエニル]−5−ベンジイミダゾールカルボン酸メチ
ルエステル。
丸底フラスコに、前記で得たエステル5.2g(10ミリモ
ル)およびTHF100mlを入れる。ふっ化テトラブチルアン
モニウム11ml(11ミリモル)をTHF(M)に溶かした溶
液を滴下し、2時間撹拌する。水に溶かし、固体を濾過
し、水洗し、THFで抽出する。THFを留去し、白色固体を
回収し、これを酢酸エチル600mlおよびTHF100mlの混合
物に入れて加熱する。周囲温度に放冷後、得られた固体
を濾過する(3.8g95%)。mp:328〜330℃。
実施例41 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボン酸メ
チルエステル。
(a)4−アミノ−3−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,
5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルチオ)安息香酸
メチルエステル。
丸底フラスコに、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジチオジ安
息香酸メチル5.4g(14.8ミリモル)、トリフエニルホス
フイン3.9g(14.8ミリモル)、ジオキサン75mlおよび水
5mlを入れる。窒素気流下4時間還流温度に加熱する。2
0℃に冷却後、トリエチルアミン6.2ml(44.5ミリモ
ル)、続いて50mlのエーテルに溶かした5,6,7,8−テト
ラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトエ酸ク
ロライド7.4g(29.6ミリモル)を滴下する。20℃で1時
間撹拌し、混合物を水に溶かし、エーテルで抽出し、有
機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
する。イソプロピルエーテル66%−酢酸エチル33%の混
合物で再結晶し所望のエステル8g(68%)を得る。mp:1
54〜155℃。
(b)2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラ
メチル−2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボ
ン酸メチルエステル。
丸底フラスコに、前記で得たエステル9g(22.6ミリモ
ル)、p−トルエンスルホン酸4.3g(22.6ミリモル)お
よびキシレン200mlを入れる。
2時間還流温度に加熱し、濃縮乾固し、ジクロロメタン
に溶かし、飽和重炭酸ナトリウムで洗浄する。通常の処
理をした後、残留物を得、これをイソプロピルエーテル
で再結晶する。このようにして2−(5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−6
−ベンゾチアゾールカルボン酸メチルエステル8.2g(95
%)を得る。mp:143〜144℃。
実施例42 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボン酸。
丸底フラスコに、実施例41(b)で得たエステル5.6g
(14.7ミリモル)、メタノールに溶かしたソーダ2N溶液
200mlおよびTHF100mlを入れる。20℃で4時間撹拌し、
濃縮乾固し、水に溶かし、N塩酸を用いてpH5に酸性化
し、得られた固体を濾過し、これを中性になるまで水洗
する。固体をエーテルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、濃縮し、酢酸エチルで再結晶する。このようにし
て、2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ
チル−2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボン
酸4g(75%)を得る。mp:292〜293℃。
実施例43 2−(4,4−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1−ベンゾピラ
ン−6−イル)−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メ
チルエステル。
(a)4,4−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1−ベンゾピラ
ン−6−カルボン酸。
110mlの水にソーダ(21g)を溶かして−5℃に冷却した
溶液に、臭素9mlを滴化する。15分後、ジオキサン(50m
l)に溶かした6−アセチル−4,4−ジメチル−2,3−ジ
ヒドロ−1−ベンゾピラン6gを加える。
20℃に放暖した後、50℃に加熱し、冷却し、メタ重亜硫
酸ナトリウム9.2gを含む溶液70ml、続いて濃塩酸42mlを
加える。水で希釈し、濾過し、沈澱が中性になるまで洗
浄する。アセトンと水の混合物で結晶化後、90%の収率
で所望の酸を得る。
(b)4,4−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1−ベンゾピラ
ン−6−カルボン酸クロライド。
丸底フラスコ中で、実施例42(a)で得た酸90mg(0.43
ミリモル)を無水ジクロロメタン0.8mlにけん濁する。
ジシクロヘキシルアミン87μ(0.43ミリモル)を滴下
すると、反応媒質は澄明になる。周囲温度で30分撹拌
し、塩化チオニル32μ(0.43ミリモル)を加える。
周囲温度で一夜撹拌後、塩酸ジシクロヘキシルアミンを
濾過し、ジクロロメタンを留去し、生成物をそのまま次
の工程で使用する。
(c)4−アミノ−3−(4,4−ジメチルー2,3ージヒド
ロ−1−ベンゾピラン−6−カルボキシアミド)安息香
酸メチルエステル。
前記で得た粗生物を2mlのエチルエーテルに溶かし、3,4
−ジアミノ安息香酸メチルエステル72.5mg(0.43ミリモ
ル)、トルエチルアミン61μの混合物を滴下する。
周囲温度で2時間撹拌後、水(20ml)に溶かす。エチル
エーテル10mlで3回抽出し、有機相を飽和水素ナトリウ
ム溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後濃
縮する。得られた残留物をシリカカラムクロマトフラフ
ィー(溶離剤:エーテル80%およびヘキサン20%の混合
物)に付す。このようにして所望の生成物82mg(53%)
をえる。mp:213℃。
(d)2−(4,4−ジメチルー2,3ージヒドロ−1−ベン
ゾピラン−6−イル)−5−ベンズイミダゾールカルボ
ン酸メチルエステル。
丸底フラスコに、前記で得たエステル(82mg、0.23ミリ
モル)、p−トルエンスルホン酸−水和物44mg(0.23ミ
リモル)およびキシレン5mlを入れる。混合物を1時間
還流下加熱し、20℃に冷却し、シリカカラムクロマトフ
ラフィー(溶離剤=エーテル80%およびヘキサン20%)
を行う。
このようにして、2−(4,4−ジメチルー2,3ージヒドロ
−1−ベンゾピラン−6−イル)−5−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸メチルエステル20mg(26%)を得る。m
p:110〜115℃。
実施例44 5−メチル−2−{3−(1−アダマンチル)−4−メ
トキシフェニル}ベンズイミダゾール。
(a)3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香
酸クロリド。
3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香酸10g
を、SOCl2100mlを含むフラスコ内へ滴加して、3−(1
−アダマンチル)−4−メトキシ安息香酸クロリド11g
を得る。
(b)2−{3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンゾイルアミノ}−4−メチルアニリン。
3,4−ジアミノトルエン2.4g(20ミリモル)、トリエチ
ルアミン3.1ml(22ミリモル)および無水エーテルをフ
ラスコへ入れ、(a)で得られた酸クロリド6.1g(20ミ
リモル)のエチルエーテル100ml溶液を0℃で滴加す
る。温度を室温まで上昇させた後、2時間にわたって撹
拌する。反応混合物を水に注加し、エーテル層を分取
し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、エーテルを蒸発さ
せる。このようにして得られた褐色固体をイソプロピル
エーテル100ml中で15分間還流加熱させる。室温まで冷
却し、濾過して褐色の成績体を得る。融点178℃。
(c)5−メチル−2−{3−(1−アダマンチル)−
4−メトキシフェニル}ベンズイミダゾール。
(b)で得られた褐色の成績体0.8g(2.15(ミリモ
ル)、キシレン3mlおよびp−トルエンスルホン酸0.41g
(2.15ミリモル)をフラスコに入れ、12時間にわたって
加熱還流させ、副生した水を除去する。反応混合物を蒸
発乾固させ、残渣を重炭酸ナトリウムの飽和水溶液に溶
解させる。固形分を濾過し、95%塩化メチレン:5%エー
テル混合物を溶離液として使用するシリカカラムクロマ
トグラフィーにより精製する。溶媒を蒸発させ、白色固
体100mg(融点292℃)を得る。
NMR1H(CDCl3)ppm:7.94B2+B3;7.51A2;7.38A2;7.04A1;
6.85B1 3.82(OCH3);2.44(A2−CH3);1.92(アダマンタン9
H);1.66(アダマンタン6H)。
実施例45 7−メチル−2−{3−(1−アダマンチル)−4−メ
トキシフェニル}ベンズイミダゾール。
(a)3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ安息香
酸クロリド。
実施例44(a)と同様にして、酸クロリドを得る。
(b)2−{3−(1−アダマンチル)−4−メトキシ
ベンゾイルアミノ}−3−メチルアニリン。
2,3−ジアミノトルエン3.32g(27ミリモル)、トリエチ
ルアミン4.1ml(29ミリモル)および無水エチルエーテ
ル120mlをフラスコに入れ、(a)で得られた酸クロリ
ド8.4g(27ミリモル)のエチルエーテル120ml溶液を0
℃で滴加する、温度を20℃まで上昇させた後、2時間に
わたって撹拌する。反応混合物を水に注加し、エーテル
層を分取し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、エーテル
を蒸発させる。このようにして得られた褐色固体をイソ
プロピルエーテル100ml中で15分間還流加熱させる、室
温まで冷却し、濾過して固体成績体0.5gを得る。
(c)7−メチル−2−{3−(1−アダマンチル)−
4−メトキシフェニル}ベンズイミダゾール。
(b)で得られた固体成績体0.5g、キシレン3mlおよび
p−トルエンスルホン酸0.26g(1.34ミリモル)をフラ
スコに入れ、12時間にわたって加熱、還流させ、副生し
た水を除去する。反応混合物を蒸発乾固させ、残渣を重
炭酸ナトリウムの飽和水溶液に溶解させる。固形分を濾
過し、クロロホルム/酢酸エチル(9:1)混合物を溶離
液として使用するシリカカラムクロマトグラフィーによ
り精製して、無晶形固体0.54gを得る。クロロホルム/
酢酸エチル(9:1)を使用したときのR1値0.38を示す。
NMR1H(DMSO−d6)ppm:8.05(2Har);7.38(m,4H);7.1
1(d,1H);3.94(3H,OCH3);2.65(3H,CH3);2,28(9H,
アダマンタン);1.76(6H,アダマンタン)。
(組成物の実施例) (A)経口経路 製剤例1:0.2gの錠剤 実施例4の化合物 0.001g 澱粉 0.114g 燐酸ニカルシウム 0.020g シリカ 0.020g ラクトース 0.030g タルク 0.010g ステアリン酸マグネシウム 0.005g この製剤例において実施例4の化合物の代わりに等量の
実施例34の化合物を用いることもできる。
製剤例2:0.5gの錠剤、粉末形態 実施例1の化合物 0.001g とうもろこし澱粉 0.150g ステアリン酸マグネシウム 0.250g しょ糖 適量加えて合計 0.500g 粉末をゼラチンおよび二酸化チタンを成分とするカプセ
ルに調製する。この製剤例において、実施例1の化合物
の代わりに等量の実施例35の化合物を用いることもでき
る。
製剤例3:懸濁液を含有する0.4gのカプセル 実施例8の化合物 0.005g グリセリン 0.200g しょ糖 0.050g ポリエチレンングリコール400 0.050g 精製水 適量加えて合計 0.400g この懸濁液をゼラチン、グリセリン、二酸化チタンおよ
び水を成分とするカプセルに調製する。この製剤例にお
いて、実施例8の化合物の代わりに等量の実施例31の化
合物を用いることもできる。
製剤例4:飲用懸濁液、5mlアンプル中 実施例19の化合物 0.001g グリセリン 0.500g ソルビトール(〜70%) 0.500g 糖酸ナトリウム 0.010g パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.040g 着香科 適量 精製水 適量加えて合計 5.000ml この製剤例において、実施例19の化合物の代わりに等量
の実施例39の化合物を用いることもできる。
(B)局所経路 製剤例5:軟膏 実施例4の化合物 0.001g ステアリルアルコール 3.000g ラノリン 5.000g ワセリン 15.000g 蒸留水 適量加えて合計 100.000g 製剤例6:油クリーム、非イオン水中 実施例2の化合物 0.050g セチルアルコール 3.000g ステアリルアルコール 3.400g オキシエチレン化セチルアルコール(20モル) 0.630g オキシエチレン化スセアリルアルコール(20モル)1.47
0g モノステアリン酸グリセロール 2.000g ワセリン油 15.000g グリセリン 10.000g 保存剤 適量 蒸溜水 適量加えて合計 100.000g この製剤例において、実施例2の化合物の代わりに等量
の実施例34の化合物を用いてもよい。
製剤例7:軟膏 実施例1の化合物 0.020g ミリスチン酸イソプロピル 81.700g 流動ワセリン油 9.100g アエロジル(Aerosil)200 9.180g (デグツサ社市販のシリカ) この製剤において、実施例1の化合物の代わりに等量の
実施例35の化合物を用いることもできる。
製剤例8:油状クリーム、陰イオン水中 実施例14の化合物 0.010g ドデシル硫酸ナトリウム 0.800g グリセロール 2.000g ステアリルアルコール 20.000g ミグリオール(Miglyol)812(ダイナミット・ノーベル
社市販のカプリン/カプリル酸トリグリセリド)20.000
g 保存剤 適量 脱鉱物質水 10.000g 製剤例9:ゲル 実施例19の化合物 0.005g クルセル(Klucel)HF(エルキユール社市販のヒドロキ
シプロピルセルロース) 2.000g 水/エタノール(50:50) 適量加えて合計 100.000g この製剤例において、実施例19の化合物の代わりに等量
の実施例39の化合物を用いることもできる。
製剤例10:目薬 実施例19の化合物 0.025g Na2NPO4、0.1M 80.000g Na2PO4、0.1M 20.000g *この化合物の粒子の100%が直径25ミクロン以下でな
くてはならない。
この目薬はpH=7.4(涙液のpH)のけんだく液であり、
涙に対して等張性である。
適当なアンプルに調製後、製剤を減菌する。この製品は
使用前に強く振らなければならない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/40 ABL 31/415 31/42 C07D 209/12 8217−4C 235/18 263/56 307/79 307/80 333/54 333/56 405/04 235 (72)発明者 ジヤン‐ミシエル・ブルナルドン フランス国06650 ル・ルーレ、ルーツ・ ド・ニース 89番

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式: 〔式中、 R1は、(i)−CH3 (ii)−CH2OH (式中、R3は、水素原子、基−OR4(ここでR4は水素原
    子、1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、モノもし
    くはポリヒドロキシアルキル基であるか、または R3は、 (ここで、r′およびr″は水素原子、低級アルキル基
    または一緒になって複素環を形成する) を表す) を表し、 R2は、水素原子または基−CH3を表し、 Arは、下式: (a) (b) (式中、ZはOまたはSである) (c) (式中、R5は、低級アルキル基を表す) および、 (d) (式中、R6は、水素原子または1〜10個の炭素原子を有
    するアルキル基を表し、R7は、4〜12個の炭素原子を有
    する分枝状アルキル基またはシクロアルキル基を表す) で示される対応する芳香族基を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、酸素原子、硫黄原子または基−N−R8(ここで、
    R8は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシカル
    ボニル基を表す)を表すが、ただし、YがCHを表し、X
    が酸素または硫黄原子を表す場合、Arは式(C)(ここ
    でR5=−CH3)で示される基以外のものであり、またY
    が窒素原子でXが酸素原子を表す場合、Arは式(C)ま
    たは式(D)(ここでR6は1〜4個の炭素原子を有する
    アルキル基を表し、R7は炭素原子4〜12個を有する分枝
    状アルキル基を表す)で示される基以外のものである〕 に対応することを特徴とする、芳香族複素環化合物(た
    だし、R1がメチル、R2が水素、Arがp−メチルフェニ
    ル、Yが窒素およびXが−N(CH3)−ある化合物とR
    1がメチル、R2が水素、Arがp−メチルフェニル、Yが
    窒素およびXが硫黄である化合物を除く)。
  2. 【請求項2】低級アルキル基が1〜6個の炭素原子を有
    する基であり、メチル、エチル、イソプロピル、ブチル
    および第3級ブチル基からなる群から選ばれることを特
    徴とする、特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  3. 【請求項3】低級モノヒドロキシアルキル基が2または
    3個の炭素原子を有する基であり、2−ヒドロキシエチ
    ルおよび2−ヒドロキシプロピル基からなる群から選ば
    れること、ならびにポリヒドロキシアルキル基がグリセ
    ロール、ペンタエリスリトールまたはマンニトールから
    誘導された基であることを特徴とする、特許請求の範囲
    第1項記載の化合物。
  4. 【請求項4】低級アルコキシカルボニル基がメトキシカ
    ルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
    ニルまたは第3級ブトキシカルボニル基であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  5. 【請求項5】基r′およびr″が一緒になって、ピペリ
    ジノ、ピペラジノ、モルホリノまたはピロリジノ基から
    なる群から選ばれる複素環を形成することを特徴とす
    る、特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  6. 【請求項6】シクロアルキル基が、シクロヘキシル、1
    −メチルシクロヘキシルまたはアダマンチル基であるこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  7. 【請求項7】下式: 〔式中、 R1は、−CH2OHまたは (式中、R3は、−OR4または (ここで、R4は、水素原子、基−CH3または−CH3CH2OH
    を表し、r′およびr″は同一または異なって水素原
    子、低級アルキル基または一緒になってモルホリノ環を
    形成する)を表す) を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、硫黄原子、酸素原子またはN−R8(ここでR8は、
    水素原子、−CH3基または−CO2第3級ブチル基である)
    を表す〕 で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第1〜6
    項のいずれか1項記載の化合物。
  8. 【請求項8】下式: 〔式中、 R4は、水素原子または−CH3基を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、硫黄原子、酸素原子またはN−R8(ここでR8は、
    水素原子または−CO2第3級ブチル基である)を表す〕 で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第1〜6
    項のいずれか1項記載の化合物。
  9. 【請求項9】下式: 〔式中、 R4は、水素原子または基−CH3を表し、 R6は、基−CH3またはC10H21を表し、 R7は、第3級ブチル、1,1−ジメチルデシルまたはアダ
    マンチル基を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、硫黄原子、酸素原子またはN−R8(ここでR8は水
    素原子である)を表す〕 で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第1〜6
    項のいずれか1項記載の化合物。
  10. 【請求項10】2−(p−t−ブチルフェニル)−6−
    ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−ベンゾ(b)チ
    オフェンカルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラビドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボ
    ン酸メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボ
    ン酸、 2−(p−t−ブチルフェニル)−ベンゾ(b)フラン
    カルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−ベンゾ(b)フラン
    カルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸
    メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン
    酸、 1−t−ブトキシカルボニル−2−(p−t−ブチルフ
    ェニル)−6−インドールカルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−6−インドールカル
    ボン酸、 1−t−ブトキシカルボニル−2−(5,6,7,8−テトラ
    ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−6
    −インドールカルボン酸メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−インドールカルボン酸メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−インドールカルボン酸、 1−メチル−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
    テトラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカルボ
    ン酸メチル、 1−メチル−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−
    テトラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカルボ
    ン酸、 2−(p−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾ
    ールカルボン酸メチル、 2−(p−t−ブチルフェニル)−5−ベンズイミダゾ
    ールカルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−ベンズイミダゾールカルボン酸メチ
    ル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−ベンズイミダゾールカルボン酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
    メチル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン
    酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
    モルホリド、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
    エチルアミド、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾールカルボン酸
    ・2−ヒドロキシエチルエステル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンズオキサゾリルメチルアル
    コール、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−5.−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエステ
    ル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸メチルエステ
    ル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシフ
    ェニル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸メチルエ
    ステル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−デシルオキシフ
    ェニル〕−6−ベンズオキサゾールカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエステ
    ル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸メチルエ
    ステル、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸、 2−(3−t−ブチル−4−メトキシフェニル)−6−
    ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエステル、 2−(3−t−ブチル−4−メトキシフェニル)−6−
    ベンゾ(b)フランカルボン酸、 2−〔3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシフ
    ェニル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸メチルエ
    ステル、 2−〔3−(1,1−ジメチルデシル)−4−メトキシフ
    ェニル〕−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニ
    ル〕−5−ベンズイミダゾールカルボン酸、 2−〔3−(1−アダマンチル)−4−ヒドロキシフェ
    ニル〕−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエス
    テル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボン酸メ
    チルエステル、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
    −2−ナフチル)−6−ベンゾチアゾールカルボン酸お
    よび 2−(4,4−ジメチル−2,3−ジヒドロ−1−ベンゾピラ
    ン−6−イル)−5−ベンズイミダゾールカルボン酸メ
    チルエステル からなる群から選ばれることを特徴とする、特許請求の
    範囲第1〜9項のいずれか1項記載の化合物。
  11. 【請求項11】下記一般式: 〔式中、 R1は、(i)−CH3 (ii)−CH2OH (式中、R3は、水素原子、基−OR4(ここでR4は水素原
    子、1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、モノもし
    くはポリヒドロキシアルキル基であるか、または R3は、 (ここで、r′およびr″は水素原子、低級アルキル基
    または一緒になって複素環を形成する) を表す) を表し、 R2は、水素原子または基−CH3を表し、 Arは、下式: (a) (b) (式中、ZはOまたはSである) (c) (式中、R5は、低級アルキル基を表す) および、 (d) (式中、R6は、水素原子または1〜10個の炭素原子を有
    するアルキル基を表し、R7は、4〜12個の炭素原子を有
    する分枝状アルキル基またはシクロアルキル基を表す) で示される対応する芳香族基を表し、 Yは、CHまたは窒素原子を表し、 Xは、酸素原子、硫黄原子または基−N−R8(ここで、
    R8は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシカル
    ボニル基を表す)を表すが、ただし、YがCHを表し、X
    が酸素または硫黄原子を表す場合、Arは式(C)(ここ
    でR5=−CH3)で示される基以外のものであり、またY
    が窒素原子でXが酸素原子を表す場合、Arは式(C)ま
    たは式(D)(ここでR6は1〜4個の炭素原子を有する
    アルキル基を表し、R7は炭素原子4〜12個を有する分枝
    状アルキル基を表す)で示される基以外のものである〕 で示される化合物を適当な化粧用担体中に含むことを特
    徴とする、体および毛髪の衛生用化粧組成物。
  12. 【請求項12】式(I)の化合物を0.0005ないし2重量
    %、好ましくは0.01ないし1重量%の濃度で含有するこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第15項記載の化粧組成
    物。
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