JPH078838B2 - ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方法 - Google Patents
ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH078838B2 JPH078838B2 JP1030157A JP3015789A JPH078838B2 JP H078838 B2 JPH078838 B2 JP H078838B2 JP 1030157 A JP1030157 A JP 1030157A JP 3015789 A JP3015789 A JP 3015789A JP H078838 B2 JPH078838 B2 JP H078838B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- carbonate
- reaction
- trifluoromethoxyphenyl
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- MNDOCBYJHVESMN-UHFFFAOYSA-N bis[2-(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical class FC(F)(F)OC1=CC=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(F)(F)F MNDOCBYJHVESMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- ORUJFMPWKPVXLZ-UHFFFAOYSA-N guaiacol carbonate Chemical class COC1=CC=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1OC ORUJFMPWKPVXLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- UCKJOTCMOROBTO-UHFFFAOYSA-N bis[2-(trichloromethoxy)phenyl] carbonate Chemical class ClC(Cl)(Cl)OC1=CC=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(Cl)(Cl)Cl UCKJOTCMOROBTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920001774 Perfluoroether Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 35
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 11
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- -1 trifluoromethoxyphenyl Chemical group 0.000 description 7
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PVBTWSPZTNYNHG-UHFFFAOYSA-N bis(4-methoxyphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(OC)C=C1 PVBTWSPZTNYNHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MUCRFDZUHPMASM-UHFFFAOYSA-N bis(2-chlorophenyl) carbonate Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1Cl MUCRFDZUHPMASM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNYCSMNFLYBEFB-UHFFFAOYSA-N bis[3,4-bis(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound FC(OC=1C=C(C=CC1OC(F)(F)F)OC(OC1=CC(=C(C=C1)OC(F)(F)F)OC(F)(F)F)=O)(F)F HNYCSMNFLYBEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFIVZAZNNLEQQL-UHFFFAOYSA-N bis[4-(trichloromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound C1=CC(OC(Cl)(Cl)Cl)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(OC(Cl)(Cl)Cl)C=C1 LFIVZAZNNLEQQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZNPDYUCPHONSY-UHFFFAOYSA-N bis[4-(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound C1=CC(OC(F)(F)F)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 LZNPDYUCPHONSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- IYRWEQXVUNLMAY-UHFFFAOYSA-N carbonyl fluoride Chemical compound FC(F)=O IYRWEQXVUNLMAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 1-(6-chloroimidazo[1,2-b]pyridazin-3-yl)ethanone Chemical compound C1=CC(Cl)=NN2C(C(=O)C)=CN=C21 ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K Antimony trifluoride Inorganic materials F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- HXELGNKCCDGMMN-UHFFFAOYSA-N [F].[Cl] Chemical group [F].[Cl] HXELGNKCCDGMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- DDSXIEWHFFAHOU-UHFFFAOYSA-N bis(2-chloro-4-methoxyphenyl) carbonate Chemical compound ClC1=C(C=CC(=C1)OC)OC(OC1=C(C=C(C=C1)OC)Cl)=O DDSXIEWHFFAHOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUOCLUOJPVKGPL-UHFFFAOYSA-N bis(2-chloro-5-methoxyphenyl) carbonate Chemical compound ClC1=C(C=C(C=C1)OC)OC(OC1=C(C=CC(=C1)OC)Cl)=O XUOCLUOJPVKGPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYPFBFQMIOKCFH-UHFFFAOYSA-N bis(3-chloro-4-methoxyphenyl) carbonate Chemical compound ClC=1C=C(C=CC1OC)OC(OC1=CC(=C(C=C1)OC)Cl)=O JYPFBFQMIOKCFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDTRAKFCKAVFGO-UHFFFAOYSA-N bis(3-chlorophenyl) carbonate Chemical compound ClC1=CC=CC(OC(=O)OC=2C=C(Cl)C=CC=2)=C1 UDTRAKFCKAVFGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVJHUJCKUPDYQF-UHFFFAOYSA-N bis[2,4-bis(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound FC(OC1=C(C=CC(=C1)OC(F)(F)F)OC(OC1=C(C=C(C=C1)OC(F)(F)F)OC(F)(F)F)=O)(F)F UVJHUJCKUPDYQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDRULRZLWSMFEN-UHFFFAOYSA-N bis[2,5-bis(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound FC(OC1=C(C=C(C=C1)OC(F)(F)F)OC(OC1=C(C=CC(=C1)OC(F)(F)F)OC(F)(F)F)=O)(F)F GDRULRZLWSMFEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSDZURFSDFGMNE-UHFFFAOYSA-N bis[2-chloro-4-(trichloromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound ClC1=C(C=CC(=C1)OC(Cl)(Cl)Cl)OC(OC1=C(C=C(C=C1)OC(Cl)(Cl)Cl)Cl)=O NSDZURFSDFGMNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGQSDPIJIJHFSM-UHFFFAOYSA-N bis[2-chloro-4-(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound ClC1=C(C=CC(=C1)OC(F)(F)F)OC(OC1=C(C=C(C=C1)OC(F)(F)F)Cl)=O CGQSDPIJIJHFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNDUISFOXUNSPM-UHFFFAOYSA-N bis[2-chloro-5-(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound ClC1=C(C=C(C=C1)OC(F)(F)F)OC(OC1=C(C=CC(=C1)OC(F)(F)F)Cl)=O YNDUISFOXUNSPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KISHVRRAOPDTPG-UHFFFAOYSA-N bis[3-(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound FC(OC=1C=C(C=CC1)OC(OC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O)(F)F KISHVRRAOPDTPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDWRLQRHRQZFW-UHFFFAOYSA-N bis[3-chloro-4-(trichloromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound ClC=1C=C(C=CC1OC(Cl)(Cl)Cl)OC(OC1=CC(=C(C=C1)OC(Cl)(Cl)Cl)Cl)=O RUDWRLQRHRQZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIIXAIXAHQHDDC-UHFFFAOYSA-N bis[3-chloro-4-(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound ClC=1C=C(C=CC1OC(F)(F)F)OC(OC1=CC(=C(C=C1)OC(F)(F)F)Cl)=O QIIXAIXAHQHDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZUXLQLWPKKCBV-UHFFFAOYSA-N bis[4-(trichloromethoxy)-3-(trichloromethyl)phenyl] carbonate Chemical compound ClC(C=1C=C(C=CC=1OC(Cl)(Cl)Cl)OC(OC1=CC(=C(C=C1)OC(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl)=O)(Cl)Cl XZUXLQLWPKKCBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOQHSWCYVOQA-UHFFFAOYSA-N bis[4-(trifluoromethoxy)-2-(trifluoromethyl)phenyl] carbonate Chemical compound FC(C1=C(C=CC(=C1)OC(F)(F)F)OC(OC1=C(C=C(C=C1)OC(F)(F)F)C(F)(F)F)=O)(F)F VEPOQHSWCYVOQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOZUZUBZHREQCC-UHFFFAOYSA-N bis[4-chloro-3-(trifluoromethoxy)phenyl] carbonate Chemical compound ClC1=CC=C(C=C1OC(F)(F)F)OC(OC1=CC=C(C(=C1)OC(F)(F)F)Cl)=O XOZUZUBZHREQCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJKSCLOKJQBQNW-UHFFFAOYSA-N bis[4-methoxy-3-(trichloromethyl)phenyl] carbonate Chemical compound ClC(C=1C=C(C=CC1OC)OC(OC1=CC(=C(C=C1)OC)C(Cl)(Cl)Cl)=O)(Cl)Cl HJKSCLOKJQBQNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCLREXWLRWGQNM-UHFFFAOYSA-N bis[5-(trifluoromethoxy)-2-(trifluoromethyl)phenyl] carbonate Chemical compound FC(C1=C(C=C(C=C1)OC(F)(F)F)OC(OC1=C(C=CC(=C1)OC(F)(F)F)C(F)(F)F)=O)(F)F PCLREXWLRWGQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical class COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N sulfur tetrafluoride Chemical compound FS(F)(F)F QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000004784 trichloromethoxy group Chemical group ClC(O*)(Cl)Cl 0.000 description 1
- 238000007039 two-step reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C1/00—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B39/00—Halogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
- C07C17/202—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
- C07C17/206—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C53/00—Saturated compounds having only one carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or hydrogen
- C07C53/38—Acyl halides
- C07C53/46—Acyl halides containing halogen outside the carbonyl halide group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
- C07C68/06—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from organic carbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/96—Esters of carbonic or haloformic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、殺菌剤、除草剤、医薬の中間体として有用な
化合物であるビス(トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネート誘導体の製造方法に関する。
化合物であるビス(トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネート誘導体の製造方法に関する。
[従来技術とその解決しようとする課題] 従来、ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネ
ート誘導体を得る方法としては、以下に記す反応式で示
されるようなヒドロキノンを二フッ化カルボニルで処理
した後、四フッ化硫黄でフッ素化して目的生成物を得る
方法が知られている。
ート誘導体を得る方法としては、以下に記す反応式で示
されるようなヒドロキノンを二フッ化カルボニルで処理
した後、四フッ化硫黄でフッ素化して目的生成物を得る
方法が知られている。
[W.A.Sheppard,J.Org.Chem.29(1),1(1964)] 上記方法は、二フッ化カルボニルおよび四フッ化硫黄の
取り扱いが極めて困難なこと、目的とするビス(トリフ
ルオロメトキシフェニル)カーボネートの収率が低い等
の問題を有している。
取り扱いが極めて困難なこと、目的とするビス(トリフ
ルオロメトキシフェニル)カーボネートの収率が低い等
の問題を有している。
[課題を解決するための手段] 本発明者らはこのような現状に鑑み、上記ビス(トリフ
ルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方
法について鋭意検討を行った結果、ビス(メトキシフェ
ニル)カーボネート誘導体から塩素化、フッ素化の二段
階の反応を行うことにより、目的生成物が得られるを見
いだし本発明に到達したものである。
ルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方
法について鋭意検討を行った結果、ビス(メトキシフェ
ニル)カーボネート誘導体から塩素化、フッ素化の二段
階の反応を行うことにより、目的生成物が得られるを見
いだし本発明に到達したものである。
すなわち本発明は、一般式 (ただし、式中Xは水素、ハロゲン、パーハロアルキル
基またはパーハロアルコキシ基)で表わされるビス(メ
トキシフェニル)カーボネート誘導体を溶媒中でガス状
塩素と反応させ、一般式 (ただし、式中Xは(I)式と同じ。)で表わされるビ
ス(トリクロロメトキシフェニル)カーボネート誘導体
を得た後、さらに無水フッ化水素酸と反応させ、一般式 (ただし、式中Yは水素、ハロゲン、パーフルオロアル
キル基またはパーフルオロアルコキシ基)で表わされる
ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘
導体を得ることを特徴とするビス(トリフルオロメトキ
シフェニル)カーボネート誘導体の製造方法である。
基またはパーハロアルコキシ基)で表わされるビス(メ
トキシフェニル)カーボネート誘導体を溶媒中でガス状
塩素と反応させ、一般式 (ただし、式中Xは(I)式と同じ。)で表わされるビ
ス(トリクロロメトキシフェニル)カーボネート誘導体
を得た後、さらに無水フッ化水素酸と反応させ、一般式 (ただし、式中Yは水素、ハロゲン、パーフルオロアル
キル基またはパーフルオロアルコキシ基)で表わされる
ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘
導体を得ることを特徴とするビス(トリフルオロメトキ
シフェニル)カーボネート誘導体の製造方法である。
本発明の原料となるビス(メトキシフェニル)カーボネ
ート誘導体は、メトキシフェノール誘導体とホスゲンと
の反応により比較的容易に製造することができ、したが
って安価に入手することができる。
ート誘導体は、メトキシフェノール誘導体とホスゲンと
の反応により比較的容易に製造することができ、したが
って安価に入手することができる。
まず本発明の第1段階の反応は、ビス(メトキシフェニ
ル)カーボネート誘導体と塩素ガスの反応であるが、こ
の場合原料は常温で固体であるので、溶媒に溶解させた
形で反応させるのが好ましい。
ル)カーボネート誘導体と塩素ガスの反応であるが、こ
の場合原料は常温で固体であるので、溶媒に溶解させた
形で反応させるのが好ましい。
溶媒としては、原料のビス(メトキシフェニル)カーボ
ネート誘導体および中間生成物のビス(トリクロロメト
キシフェニル)カーボネート誘導体の両方を溶解し、塩
素化の条件のもとで不活性であるとともに極性のないこ
とが望ましい。
ネート誘導体および中間生成物のビス(トリクロロメト
キシフェニル)カーボネート誘導体の両方を溶解し、塩
素化の条件のもとで不活性であるとともに極性のないこ
とが望ましい。
上記条件を満足するものとして、四塩化炭素、トリクロ
ロメタン、ジクロロメタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等が挙げられる。
ロメタン、ジクロロメタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等が挙げられる。
原料であるビス(メトキシフェニル)カーボネート誘導
体の芳香核はメトキシ基によって活性化されているの
で、金属イオンおよび水が存在すると、核の塩素化が起
こりやすい。
体の芳香核はメトキシ基によって活性化されているの
で、金属イオンおよび水が存在すると、核の塩素化が起
こりやすい。
従って、濾過等により溶媒中に存在している微少の金属
懸濁物を除去したり、尿素化合物等の添加により金属錯
体を形成させることにより、金属イオンの影響を排除し
たり、水の場合はゼオライト等の脱水剤と接触させた
り、蒸溜等を行うことにより水を除いた後、反応を行う
必要がある。
懸濁物を除去したり、尿素化合物等の添加により金属錯
体を形成させることにより、金属イオンの影響を排除し
たり、水の場合はゼオライト等の脱水剤と接触させた
り、蒸溜等を行うことにより水を除いた後、反応を行う
必要がある。
この塩素化反応においては、反応をラジカル的に進行さ
せる必要があるので、光照射を行ったり、有機過酸化物
や有機アゾ化合物等のラジカル発生剤を用いると反応を
迅速に進行させることができる。
せる必要があるので、光照射を行ったり、有機過酸化物
や有機アゾ化合物等のラジカル発生剤を用いると反応を
迅速に進行させることができる。
反応温度は条件によって多少ことなるが、30〜150℃が
好ましく、反応温度が30℃以下では反応速度が遅すぎ、
一方反応温度が高すぎると分解生成物が増加し収率が低
くなる。
好ましく、反応温度が30℃以下では反応速度が遅すぎ、
一方反応温度が高すぎると分解生成物が増加し収率が低
くなる。
上記反応により、原料化合物中のメトキシ基が選択的に
塩素化され、トリクロロメトキシ基となり、ビス(トリ
クロロメトキシフェニル)カーボネート誘導体が得られ
る。
塩素化され、トリクロロメトキシ基となり、ビス(トリ
クロロメトキシフェニル)カーボネート誘導体が得られ
る。
次にビス(トリクロロメトキシフェニル)カーボネート
誘導体と無水フッ化水素酸の反応であるが、使用する溶
媒は前段階の塩素化工程と代えても代えなくてもよく、
前段階の溶媒をそのまま使用するほうが工程も簡略化で
き経済的にも有利である。この場合、前段階の反応終了
後、溶液中に存在する塩化水素および塩素を窒素、ヘリ
ウム等の不活性ガスを吹き込むことにより除去した後、
そのまま無水フッ化水素酸との反応を行う。
誘導体と無水フッ化水素酸の反応であるが、使用する溶
媒は前段階の塩素化工程と代えても代えなくてもよく、
前段階の溶媒をそのまま使用するほうが工程も簡略化で
き経済的にも有利である。この場合、前段階の反応終了
後、溶液中に存在する塩化水素および塩素を窒素、ヘリ
ウム等の不活性ガスを吹き込むことにより除去した後、
そのまま無水フッ化水素酸との反応を行う。
本工程の塩素−フッ素交換反応では、触媒を添加しない
系でも十分高収率で目的生成物を得ることができるが、
原料の一般式(I)においてXで表わされる置換基が、
ハロゲン、パーハロアルキル基等の場合、反応が進行し
にくくなる傾向にあり、この場合五塩化アンチモン、三
フッ化アンチモンまたは五フッ化アンチモン等の触媒を
使用することにより、より迅速に反応を進行させること
ができる。
系でも十分高収率で目的生成物を得ることができるが、
原料の一般式(I)においてXで表わされる置換基が、
ハロゲン、パーハロアルキル基等の場合、反応が進行し
にくくなる傾向にあり、この場合五塩化アンチモン、三
フッ化アンチモンまたは五フッ化アンチモン等の触媒を
使用することにより、より迅速に反応を進行させること
ができる。
触媒を添加する場合は、原料の塩化物に対して、0.1〜1
0モル%が好ましい。
0モル%が好ましい。
無水フッ化水素酸の量は原料のビス(トリクロロメトキ
シフェニル)カーボネート誘導体に対し、3.0〜3.3倍当
量が好ましい。添加量が3.0倍当量より低い場合、反応
が十分に進行せず未反応物が残りやすく、一方3.3倍当
量より高い場合、反応に大きな差はないが経済的でな
い。次に反応温度および圧力については、それぞれ0〜
200℃、1〜100kg/cm2が好ましく、さらには0〜80℃、
5〜20kg/cm2がより好ましい。
シフェニル)カーボネート誘導体に対し、3.0〜3.3倍当
量が好ましい。添加量が3.0倍当量より低い場合、反応
が十分に進行せず未反応物が残りやすく、一方3.3倍当
量より高い場合、反応に大きな差はないが経済的でな
い。次に反応温度および圧力については、それぞれ0〜
200℃、1〜100kg/cm2が好ましく、さらには0〜80℃、
5〜20kg/cm2がより好ましい。
反応温度か0℃より低い場合、反応速度が遅すぎ、一方
反応温度が200℃より高い場合は、無水フッ化水素酸の
蒸気圧が高くなりすぎ、反応装置上好ましくなく、また
タール等が生成しやすく、収率が低くなる。
反応温度が200℃より高い場合は、無水フッ化水素酸の
蒸気圧が高くなりすぎ、反応装置上好ましくなく、また
タール等が生成しやすく、収率が低くなる。
本発明で製造することのできる化合物としては、ビス
(4−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート、
ビス(3−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネー
ト、ビス(3−クロロ−4−トリフルオロメトキシフェ
ニル)カーボネート、ビス(2−クロロ−4−トリフル
オロメトキシフェニル)カーボネート、ビス(2−クロ
ロ−5−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネー
ト、ビス(4−クロロ−5−トリフルオロメトキシフェ
ニル)カーボネート、ビス(3−トリフルオロメチル−
4−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート、ビ
ス(2−トリフルオロメチル−4−トリフルオロメトキ
シフェニル)カーボネート、ビス(2−トリフルオロメ
チル−5−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネー
ト、ビス(4−トリフルオロメチル−5−トリフルオロ
メトキシフェニル)カーボネート、ビス(3−トリフル
オロメトキシ−4−トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネート、ビス(2−トリフルオロメトキシ−4−ト
リフルオロメトキシフェニル)カーボネート、ビス(2
−トリフルオロメトキシ−5−トリフルオロメトキシフ
ェニル)カーボネート、ビス(4−トリフルオロメトキ
シ−5−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート
等が挙げられ、これらはそれぞれ対応する原料より製造
することができるが、原料の置換基Xがパークロロアル
キル基やパークロロアルコキシ基の場合は、フッ素化の
工程で置換基もフッ素化され、パーフルオロアルキル基
やパーフルオロアルコキシ基に変化する。
(4−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート、
ビス(3−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネー
ト、ビス(3−クロロ−4−トリフルオロメトキシフェ
ニル)カーボネート、ビス(2−クロロ−4−トリフル
オロメトキシフェニル)カーボネート、ビス(2−クロ
ロ−5−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネー
ト、ビス(4−クロロ−5−トリフルオロメトキシフェ
ニル)カーボネート、ビス(3−トリフルオロメチル−
4−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート、ビ
ス(2−トリフルオロメチル−4−トリフルオロメトキ
シフェニル)カーボネート、ビス(2−トリフルオロメ
チル−5−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネー
ト、ビス(4−トリフルオロメチル−5−トリフルオロ
メトキシフェニル)カーボネート、ビス(3−トリフル
オロメトキシ−4−トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネート、ビス(2−トリフルオロメトキシ−4−ト
リフルオロメトキシフェニル)カーボネート、ビス(2
−トリフルオロメトキシ−5−トリフルオロメトキシフ
ェニル)カーボネート、ビス(4−トリフルオロメトキ
シ−5−トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート
等が挙げられ、これらはそれぞれ対応する原料より製造
することができるが、原料の置換基Xがパークロロアル
キル基やパークロロアルコキシ基の場合は、フッ素化の
工程で置換基もフッ素化され、パーフルオロアルキル基
やパーフルオロアルコキシ基に変化する。
[実施例] 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はかかる実施例に限定されるものではない。
明はかかる実施例に限定されるものではない。
実施例1 300mlのガラス製三ツ口フラスコにビス(4−メトキシ
フェニル)カーボネート50g、四塩化炭素150gを仕込
み、窒素を吹き込みながら昇温し、系内の水分を除去さ
せるために四塩化炭素30gを溜去させた後、ラジカル発
生剤として2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(AIB
N)1.0gを加える 次に反応温度65〜70℃で塩素を吹き
込み、反応を行ったが、反応速度が途中で低下してきた
際、1.0gづつ数回に分け、AIBNを追加した。
フェニル)カーボネート50g、四塩化炭素150gを仕込
み、窒素を吹き込みながら昇温し、系内の水分を除去さ
せるために四塩化炭素30gを溜去させた後、ラジカル発
生剤として2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(AIB
N)1.0gを加える 次に反応温度65〜70℃で塩素を吹き
込み、反応を行ったが、反応速度が途中で低下してきた
際、1.0gづつ数回に分け、AIBNを追加した。
反応時間8時間でビス(4−トリクロロメトキシフェニ
ル)カーボネートが選択率79.6%で得られた。
ル)カーボネートが選択率79.6%で得られた。
上記ビス(4−トリクロロメトキシフェニル)カーボネ
ート20g、ジクロロメタン10g、無水フッ化水素酸24gを1
00mlステンレス製オートクレーブに仕込み、反応温度13
0℃、圧力25kg/cm2で攪拌しながら9時間反応を行っ
た。
ート20g、ジクロロメタン10g、無水フッ化水素酸24gを1
00mlステンレス製オートクレーブに仕込み、反応温度13
0℃、圧力25kg/cm2で攪拌しながら9時間反応を行っ
た。
反応終了後、水洗および5%炭酸ソーダ水溶液洗浄し、
エバポレーターにてジクロロメタンを除去したところ、
選択率68.2%でビス(4−トリフルオロメトキシフェニ
ル)カーボネート11gが得られた。
エバポレーターにてジクロロメタンを除去したところ、
選択率68.2%でビス(4−トリフルオロメトキシフェニ
ル)カーボネート11gが得られた。
実施例2 ビス(4−メトキシフェニル)カーボネートの代わり
に、ビス(2−クロロ−5−メトキシフェニル)カーボ
ネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化反応を行っ
たところ、ビス(2−クロロ−5−トリクロロメトキシ
フェニル)カーボネートが選択率70%で62g得られた。
に、ビス(2−クロロ−5−メトキシフェニル)カーボ
ネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化反応を行っ
たところ、ビス(2−クロロ−5−トリクロロメトキシ
フェニル)カーボネートが選択率70%で62g得られた。
反応終了後、窒素ガスを系内に吹き込み、溶液中の塩素
を系外に排出した後、そのまま無水フッ化水素酸との反
応を行った。すなわち、上記溶液に対し、無水フッ化水
素酸90gを添加して実施例1と同様の装置および操作で
反応を行ったところ、ビス(2−クロロ−5−トリフル
オロメトキシフェニル)カーボネートが選択率65.3%で
38g得られた。
を系外に排出した後、そのまま無水フッ化水素酸との反
応を行った。すなわち、上記溶液に対し、無水フッ化水
素酸90gを添加して実施例1と同様の装置および操作で
反応を行ったところ、ビス(2−クロロ−5−トリフル
オロメトキシフェニル)カーボネートが選択率65.3%で
38g得られた。
実施例3 ビス(4−メトキシフェニル)カーボネートの代わり
に、ビス(3−クロロ−4−メトキシフェニル)カーボ
ネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化反応を行っ
たところ、ビス(3−クロロ−4−トリクロロメトキシ
フェニル)カーボネートが選択率72.0%で62g得られ
た。
に、ビス(3−クロロ−4−メトキシフェニル)カーボ
ネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化反応を行っ
たところ、ビス(3−クロロ−4−トリクロロメトキシ
フェニル)カーボネートが選択率72.0%で62g得られ
た。
さらに、ビス(3−クロロ−4−トリクロロメトキシフ
ェニル)カーボネートを実施例1と同様の装置および操
作で無水フッ化水素酸との反応を行ったところ、ビス
(3−クロロ−4−トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネートが選択率68.5%で12g得られた。
ェニル)カーボネートを実施例1と同様の装置および操
作で無水フッ化水素酸との反応を行ったところ、ビス
(3−クロロ−4−トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネートが選択率68.5%で12g得られた。
実施例4 ビス(4−メトキシフェニル)カーボネートの代わり
に、ビス(2−クロロ−4−メトキシフェニル)カーボ
ネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化反応を行っ
たところ、ビス(2−クロロ−4−トリクロロメトキシ
フェニル)カーボネートが選択率67.2%で60g得られ
た。
に、ビス(2−クロロ−4−メトキシフェニル)カーボ
ネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化反応を行っ
たところ、ビス(2−クロロ−4−トリクロロメトキシ
フェニル)カーボネートが選択率67.2%で60g得られ
た。
さらに、ビス(2−クロロ−4−トリクロロメトキシフ
ェニル)カーボネートを実施例1と同様の装置および操
作で無水フッ化水素酸との反応を行ったところ、ビス
(2−クロロ−4−トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネートが選択率66.3%で10g得られた。
ェニル)カーボネートを実施例1と同様の装置および操
作で無水フッ化水素酸との反応を行ったところ、ビス
(2−クロロ−4−トリフルオロメトキシフェニル)カ
ーボネートが選択率66.3%で10g得られた。
実施例5 ビス(4−メトキシフェニル)カーボネートの代わり
に、ビス(3−トリクロロメチル−4−メトキシフェニ
ル)カーボネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化
反応を行ったところ、ビス(3−トリクロロメチル−4
−トリクロロメトキシフェニル)カーボネートが選択率
69.3%で59g得られた。
に、ビス(3−トリクロロメチル−4−メトキシフェニ
ル)カーボネート50gを用いて実施例1と同様に塩素化
反応を行ったところ、ビス(3−トリクロロメチル−4
−トリクロロメトキシフェニル)カーボネートが選択率
69.3%で59g得られた。
さらに、ビス(3−トリクロロメチル−4−トリクロロ
メトキシフェニル)カーボネートを実施例1と同様の装
置および操作で無水フッ化水素酸との反応を行ったとこ
ろ、ビス(3−トリフルオロメチル−4−トリフルオロ
メトキシフェニル)カーボネートが選択率67.0%で9g得
られた。
メトキシフェニル)カーボネートを実施例1と同様の装
置および操作で無水フッ化水素酸との反応を行ったとこ
ろ、ビス(3−トリフルオロメチル−4−トリフルオロ
メトキシフェニル)カーボネートが選択率67.0%で9g得
られた。
[発明の効果] 本発明の方法によれば、安価に入手することができるビ
ス(メトキシフェニル)カーボネート誘導体を原料とし
て、工業的に容易かつ収率よく目的とするビス(トリフ
ルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体を製造で
きる。
ス(メトキシフェニル)カーボネート誘導体を原料とし
て、工業的に容易かつ収率よく目的とするビス(トリフ
ルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体を製造で
きる。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 (ただし、式中Xは水素、ハロゲン、パーハロアルキル
基またはパーハロアルコキシ基)で表わされるビス(メ
トキシフェニル)カーボネート誘導体を溶媒中でガス状
塩素と反応させ、一般式 (ただし、式中Xは水素、ハロゲン、パーハロアルキル
基またはパーハロアルコキシ基)で表わされるビス(ト
リクロロメトキシフェニル)カーボネート誘導体を得た
後、さらに無水フッ化水素酸と反応させ、一般式 (ただし、式中Yは水素、ハロゲン、パーフルオロアル
キル基またはパーフルオロアルコキシ基)で表わされる
ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘
導体を得ることを特徴とするビス(トリフルオロメトキ
シフェニル)カーボネート誘導体の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1030157A JPH078838B2 (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方法 |
| IT19190A IT1238680B (it) | 1989-02-09 | 1990-01-30 | Procedimento per preparare bis(trifluorometossifenil)carbonato e suoi derivati |
| GB9002071A GB2228261B (en) | 1989-02-09 | 1990-01-30 | Process of preparing bis(trifluoromethoxyphenyl)-carbonate and its derivatives |
| DE4003687A DE4003687C2 (de) | 1989-02-09 | 1990-02-07 | Verfahren zur Herstellung von Bis-(trifluormethoxyphenyl)-carbonat und Derivaten davon |
| FR9001467A FR2642751B1 (fr) | 1989-02-09 | 1990-02-08 | Procede de preparation de bis(trifluoromethoxyphenyl)carbonate et ses derives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1030157A JPH078838B2 (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02209847A JPH02209847A (ja) | 1990-08-21 |
| JPH078838B2 true JPH078838B2 (ja) | 1995-02-01 |
Family
ID=12295921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1030157A Expired - Fee Related JPH078838B2 (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH078838B2 (ja) |
| DE (1) | DE4003687C2 (ja) |
| FR (1) | FR2642751B1 (ja) |
| GB (1) | GB2228261B (ja) |
| IT (1) | IT1238680B (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE233631C (ja) * | ||||
| FR2547812B1 (fr) * | 1983-06-23 | 1985-10-31 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede d'halogenation et de fluoration simultanees de derives aromatiques |
| FR2592377B1 (fr) * | 1985-12-31 | 1988-08-12 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation de chloroformiate de trichloromethylphenyle |
-
1989
- 1989-02-09 JP JP1030157A patent/JPH078838B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-01-30 GB GB9002071A patent/GB2228261B/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-30 IT IT19190A patent/IT1238680B/it active IP Right Grant
- 1990-02-07 DE DE4003687A patent/DE4003687C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-08 FR FR9001467A patent/FR2642751B1/fr not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02209847A (ja) | 1990-08-21 |
| GB9002071D0 (en) | 1990-03-28 |
| IT9019190A0 (it) | 1990-01-30 |
| GB2228261A (en) | 1990-08-22 |
| FR2642751B1 (fr) | 1993-12-24 |
| DE4003687C2 (de) | 1994-06-09 |
| IT9019190A1 (it) | 1991-07-30 |
| FR2642751A1 (fr) | 1990-08-10 |
| GB2228261B (en) | 1992-04-15 |
| DE4003687A1 (de) | 1990-08-16 |
| IT1238680B (it) | 1993-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW201119997A (en) | Method for the manufacture of fluorinated ethylene carbonates | |
| JPWO2018123301A1 (ja) | 四フッ化硫黄の製造方法 | |
| US4837364A (en) | Processes for preparing pentafluoroethoxy- and pentafluoroethylthiobenzene drivatives | |
| JPH078838B2 (ja) | ビス(トリフルオロメトキシフェニル)カーボネート誘導体の製造方法 | |
| JP3094677B2 (ja) | 新規置換n−フルオロピリジニウムスルホナート、その製造中間体及びそれらの製造方法 | |
| US6580002B2 (en) | Process for the preparation of trifluoromethyl-substituted biphenylcarboxylic acids and novel trichloromethyl-and trifluoromethyl-substituted biphenylcarbonitriles | |
| JP3046896B2 (ja) | 5−(トリフルオロメチル)−ウラシルの製造方法、並びに新規化合物類である2,4−ジクロロ−5−トリクロロメチル−ピリミジンおよび2,4−ジフルオロ−5−トリフルオロメチル−ピリミジン | |
| JPH1149742A (ja) | 2−(トリフルオロメチルチオ)ビフェニルの製造方法、及びその合成中間体とその製造方法 | |
| EP0450584B1 (en) | Bromination method | |
| JPS6139297B2 (ja) | ||
| JPH0665225A (ja) | アリールエーテルのα−塩素化方法 | |
| US5489715A (en) | Process for preparing 4,5-difluorobenzaldehydes | |
| WO1998040335A1 (fr) | Procede pour produire du 1,1,1,3,3-pentafluoropropane | |
| JP3259893B2 (ja) | 3,3−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプロパン−2−オンの製造法 | |
| JPH0245435A (ja) | BrClによるビフェニルの臭素化方法 | |
| JP2006512331A (ja) | 光化学ハロゲン化法 | |
| JP3149537B2 (ja) | 1h−ペルフルオロアルカンの製造法 | |
| JP3436568B2 (ja) | チオフェン誘導体の製造方法 | |
| JPH09188659A (ja) | 含ハロゲン芳香族ニトリル化合物の製造方法 | |
| JPH05988A (ja) | トリフルオロアニソール類の製造方法 | |
| JPH0662469B2 (ja) | ビス(トリフルオロメチルフェニル)メタノールの製造法 | |
| JP2000351751A (ja) | 含フッ素エステル及びそれを用いたペルフルオロプロピオン酸ハライドの製造方法 | |
| JPH0426648A (ja) | フッ素化ベンズアルデヒド類の製造方法 | |
| JPS591444A (ja) | ビス(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフエニル)カ−ボネ−トの製造法 | |
| JPH09227475A (ja) | 含フッ素ビフェニル系液晶化合物及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |