JPH0788445B2 - ポリオレフイン樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はポリオレフィン樹脂組成物に関し、詳しくは、
特定の酸化防止剤及び過塩素酸化合物を含有せしめてな
る加工安定性、耐熱性、酸化窒素によるガス汚染性等の
改善されたポリオレフィン樹脂組成物に関する。

〔従来技術及びその問題点〕

ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンは、
熱、光、酸素、酸化窒素等の作用により劣化し、着色し
たり機械的強度が低下し、使用に耐えなくなることが知
られている。

かかるポリオレフィンの劣化を防ぐ目的で、これまで多
くの添加剤が単独で、あるいは種々組み合わせ用いられ
てきた。これらの添加剤の中でも、フェノール化合物と
有機ホスファイト化合物及び／又は有機硫黄化合物との
組み合わせは耐熱性を改善し、また着色を抑制する効果
が比較的大きいことが知られている。

しかしながら、その効果は未だ不十分であり、更に改善
することが要望されていた。

〔問題を解決するための手段〕

本発明者らはこれらの欠点を改善するために、鋭意検討
した結果、ポリオレフィン樹脂に対し、テトラキス〔メ
チレン−３−（3,5−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート〕メタン及び過塩素酸化合物の
少なくとも一種を配合した場合、耐熱性、着色防止性が
満足し得るまで改善され、更に加工性の極めて優れたポ
リオレフィン樹脂組成物が得られることを見出し、本発
明に到達した。

以下に、本発明になるポリオレフィン組成物について詳
述する。

本発明で用いられるテトラキス〔メチレン−３−（3,5
−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート〕メタンとともに、燐系及び硫黄系の酸化防止剤を
併用することができる。

テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ第３ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタンの添加
量は、ポリオレフィン樹脂100重量部に対して0.001〜５
重量部、好ましくは0.01〜３重量部である。

燐系抗酸化剤としては、例えばトリラウリルホスフアィ
ト、トリデシルホスファイト、オクチル・ジフエニルホ
スファイト、トリフェニルホスフアィト、トリス（2,4
−ジ第３ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニ
ルフェニル）ホスフアィト、トリス（モノ・ジ混合ノニ
ルフェニル）ホスフアィト、ヘキサ（トリデシル）・1,
1,3−トリス（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ブタンジホスフアィト、テトラ（C
_12-15混合アルキル）−4,4'−イソプロピリデンジフェ
ニルジホスフアィト、テトラ（トリデシル）−4,4'−ブ
チリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフェノー
ル）ジホスフアィト、水素化−４−4'−イソプロピリデ
ンジフェノールポリホスフアィト、ビス（オクチルフェ
ニル）・ビス〔4,4'−ブチリデンビス（３−メチル−６
−第３ブチルフェノール）〕・1,6−ヘキサンジオール
ジホスフアィト、フェニル・4,4'−イソプロピリデンジ
フェノール・ペンタエリスリトールジホスフアィト、ジ
ステアリルペンタエリスリトールジホスフアィト、ジ
（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（2,4−ジ第３ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスフアィト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスフアィト、ビス（2,6−ジ第３ブチル
−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス（2,6−ジ第３ブチル−４−エチルフェニ
ル）ペンタエリスリト−ルジホスファイト、9,10−ジハ
イドロ−９−オキサ−10−フォスファフエナンスレン−
10−オキサイド、テトラキス（2,4−ジ第３ブチルフェ
ニル）−4,4'−ビフェニレンジホスホナイト等があげら
れる。

これら燐系抗酸化剤の添加量は、ポリオレフィン100重
量部に対して0.001〜５、好ましくは0.01〜３重量部で
ある。

硫黄系抗酸化剤としては、例えばジラウリル−、ジステ
アリル−、ジミリスチル−、ラウリル・ステアリル−な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル−、オ
クチル−、ラウリル−、ステアリル−などのアルキルチ
オプロピオン酸の多価アルコール（例えばグリセリン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（例
えばペンタエリスリトール・テトララウリルチオプロピ
オネート）等があげられる。

これら硫黄系抗酸化剤の添加量は、ポリオレフィン100
重量部に対して0.001〜５、好ましくは0.01〜３重量部
である。

又、本発明で用いられる過塩素酸化合物としては、例え
ば過塩素酸のLi、Na、Ｋ、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn,Al、NH₄
塩、ハイドロタルサイト、ゼオライト及び各種の無機酸
塩の過塩素酸処理物等が上げられる。特に過塩素酸の第
IIa族金属（Mg、Ca、Sr、Ba）塩が好ましい。

上記過塩素酸化合物の添加量は、ポリオレフィン樹脂10
0重量部に対して0.001〜１重量部、好ましくは0.005〜
0.5重量部である。

本発明で安定化されるポリオレフィンとしては、エチレ
ン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、４−メ
チルペンテン、ヘプテン、オクテン等のα−オレフィン
の単独あるいは共重合体；これらのα−オレフィンの過
半重量と酢酸ビニル等のビニルエステル、アクリル酸や
無水マレイン酸やメタクリル酸メチル等の不飽和有機酸
類（塩、アミド、アミンも含む）、ビニルトリメトキシ
シラン等のビニルシランなどのランダム、ブロックある
いはグラフト共重合体；もしくはこれらの重合体の塩素
化、スルホン化、酸化等の変性処理されたもの等を挙げ
ることができる。

具体的には、例えば低、中あるいは高密度ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン−プロピレ
ンランダムあるいはブロック共重合体、エチレン−プロ
ピレン−ブテン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、
エチレン−酢酸ビルル共重合体、エチレン−４−メチル
ペンテン共重合体、プロピレン−ヘキセン共重合体、プ
ロピレン−ヘキセン−ブテン共重合体などである。

本発明組成物に光安定剤を添加することによって、その
耐光性を更に改善することができる。

これら光安定剤としては、例えば２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−イソオ
クトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、２−（2'−ヒ
ドロキシ−3'−第３ブチル−5'−メチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（2'−ヒドロキシ−
3',5'−ジ第３ブチル−5'−メチルフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−（2'−ヒドロキシ−5'−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（2'−ヒド
ロキシ−3',5'−ジ第３アミルフェニル）ベンゾトリア
ゾール等のベンゾトリアゾール類、フェニルサリシレー
ト、ｐ−第３ブチルフェニルサリシレート、2,4−ジ第
３ブチルフェニル−3,5−ジ第３ブチル−４−ヒドロキ
シベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−ジ第３ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類、2,2'
−チオビス（４−第３オクチルフェノール）Ni塩、〔2,
2'−チオビス（４−第３オクチルフェノラート）〕ブチ
ルアミンNi塩、3,5−ジ第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）ホスホン酸モノエチルエステルNi塩等のニッケ
ル化合物類、α−シアノ−β−メチル−β−（ｐ−メト
キシフェニル）アクリル酸メチル等の置換アクリロニト
リル類、Ｎ−（２−エチルフェニル）−N'−（２−エト
キシ−５−第３ブチルフェニル）シュウ酸ジアミド、Ｎ
−（２−エチルフェニル）−N'−（２−エトキシフェニ
ル）シュウ酸ジアミド等のシュウ酸ジアニリド類及びビ
ス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケ
ート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）セバケート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４
−ピペリジル）−２−ブチル−２−（3,5−ジ第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、トリス（2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラキス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレー
ト、ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）
−ジ（トリデシル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）−ジ（トリデシル）−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジノール／琥珀酸ジ
メチル縮合物、２−第３オクチルアミノ−4,6−ジクロ
ロ−ｓ−トリアジン/1,6−ビス（2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン縮合物等のピペリ
ジン系化合物が挙げられる。

必要に応じて本発明組成物は充填剤、顔料、発泡剤、帯
電防止剤、難燃剤、滑剤、、加工助剤、造核剤、過酸化
物架橋剤、金属石鹸類等を目的に応じて包含させること
ができる。

〔実施例〕

以下、実施例によって本発明を更に具体的に説明する。
しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ 下記配合物を230℃、25rpmで押出し加工後、250℃で射
出成型し、厚さ1mmのシートを作成した。このシートを
用いて150℃のギヤーオーブン中で熱安定性を測定し、
またJIS LO855に準じ染色堅ろう度試験装置を用いて、
酸化窒素ガスによる耐ガス汚染性（144時間漬浸後及び
漬浸後一週間放置後の試片の黄色度）を測定した。

得られた結果を表−１に示す。

（配合） 重量部 ポリプロピレン（Profax 6501） 100 ステアリン酸カルシウム 0.05 テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ第 0.1 ３ブチル−４−ヒドロキシフェニル） プロピオネート〕メタン 過塩素酸化合物（表−１） 0.05 実施例２ 下記配合物を用い、実施例１と同様にして厚さ1mmのシ
ートを作成した。このシートを用いて、実施例１と同様
の試験を行った。

その結果を表２に示す。

（配合） 重量部 ポリプロピレン（Profax 6501） 100 ステアリン酸カルシウム 0.05 テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ第 0.1 ３ブチル−４−ヒドロキシフェニル） プロピオネート〕メタン 過塩素酸バリウム 0.05 ホスファイト化合物 0.1 実施例３ 下記配合物を250℃、20rpmで押出し加工後、250℃で射
出成型し、厚さ1mmのシートを作成した。得られたシー
トを用い、160℃のギヤーオーブン中で熱安定性を測定
した。

結果を表−３に示す。

（配合） 重量部 ポリプロピレン（Profax 6501） 80 食添タルク 20 メラミン 0.05 ステアリン酸カルシウム 0.05 ジステアリルチオジプロピオネート 0.15 過塩素酸バリウム 0.05 フェノール系酸化防止剤（表−３） 0.05 実施例４ 下記配合物を230℃、25rpmで押出し加工後、250℃で射
出成型し、厚さ1mmのシートを作成した。このシートを
用いて160℃のギヤーオーブン中で熱安定性を測定し、
またJIS LO855に準じ染色堅ろう度試験装置を用いて、
酸化窒素ガスによる耐ガス汚染性（144間後の試片の黄
色度）を測定した。更に、55℃における蛍光灯着色性
（48時間及び72時間照射後の黄色度）を測定した。得ら
れた結果を表−４に示す。

（配合） 重量部 ポリプロピレン（Profax 6501） 100 ステアリン酸カルシウム 0.05 テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ第 0.1 ３ブチル−４−ヒドロキシフェニル） プロピオネート〕メタン 過塩素酸バリウム 0.05 光安定剤（表−４） 0.1 実施例５ 下記配合物を160℃で５分間ミキシングロールで混練
し、ついで160℃、180Kg,/cm²の条件でプレス加工して
厚さ1mmのシートを作成した。

このシートを用い、150℃のギヤーオーブン中での熱安
定性試験を行った。

結果を表−５に示す。

（配合） 低密度ポリエチレン 100重量部 フェノール系酸化防止剤（表−５） 0.1 過塩素酸バリウム 0.02

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沼尻 義光 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 アデ カ・アーガス化学株式会社内 (72)発明者 飯塚 俊一 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 アデ カ・アーガス化学株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−34042（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−140261（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−30839（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−173159（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリオレフィン樹脂に対し、テトラキス
   〔メチレン−３−（3,5−ジ第３ブチル−４−ヒドロキ
   シフェニル）プロピオネート〕メタン及び過塩素酸化合
   物の少なくとも一種を配合してなる、安定化されたポリ
   オレフィン樹脂組成物。