JPH0789968A - 新規セフェム化合物 - Google Patents
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式：
【化１】
［式中、Ｒ1 はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ
2 は水素原子または低級アルキル基、Ｒ3 はカルボキシ
基または保護されたカルボキシ基、Ｒ4 はハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルキルチオ基、シアノ基、
低級アルコキシカルボニル基、Ｒ5 は水素原子または低
級アルキル基をそれぞれ示す。但し、Ｒ4 がハロゲン原
子のときはＲ5 は低級アルキル基であり、Ｒ4 が低級ア
ルキル基のときはＲ2 は水素原子である。］で表わされ
る新規セフェム化合物およびその医薬として許容される
塩。 【効果】 抗菌剤として有用である。
2 は水素原子または低級アルキル基、Ｒ3 はカルボキシ
基または保護されたカルボキシ基、Ｒ4 はハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルキルチオ基、シアノ基、
低級アルコキシカルボニル基、Ｒ5 は水素原子または低
級アルキル基をそれぞれ示す。但し、Ｒ4 がハロゲン原
子のときはＲ5 は低級アルキル基であり、Ｒ4 が低級ア
ルキル基のときはＲ2 は水素原子である。］で表わされ
る新規セフェム化合物およびその医薬として許容される
塩。 【効果】 抗菌剤として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高い抗菌活性を有す
る新規なセフェム化合物に関するものであり、医療の分
野で利用される。
る新規なセフェム化合物に関するものであり、医療の分
野で利用される。
【０００２】
【従来の技術】セフェム化合物は数多く知られている
が、この発明の下記一般式（Ｉ）で示されるセフェム化
合物は知られていない。
が、この発明の下記一般式（Ｉ）で示されるセフェム化
合物は知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】抗菌活性を有し、医薬
として有用なセフェム化合物は数多く知られているが、
この発明はさらに優れた医薬品の開発を意図してなされ
たものである。
として有用なセフェム化合物は数多く知られているが、
この発明はさらに優れた医薬品の開発を意図してなされ
たものである。
【０００４】
【発明の構成】目的化合物であるセフェム化合物は新規
であり、下記の一般式（Ｉ）で表わされる。
であり、下記の一般式（Ｉ）で表わされる。
【化３】 ［式中、Ｒ1 はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ
2 は水素原子または低級アルキル基、Ｒ3 はカルボキシ
基または保護されたカルボキシ基、Ｒ4 はハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルキルチオ基、シアノ基、
低級アルコキシカルボニル基、Ｒ5 は水素原子または低
級アルキル基をそれぞれ示す。但し、Ｒ4 がハロゲン原
子のときはＲ5 は低級アルキル基であり、Ｒ4 が低級ア
ルキル基のときはＲ2 は水素原子である。］ 目的化合物であるセフェム化合物（Ｉ）は下記の諸方法
によって製造することができる。
2 は水素原子または低級アルキル基、Ｒ3 はカルボキシ
基または保護されたカルボキシ基、Ｒ4 はハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルキルチオ基、シアノ基、
低級アルコキシカルボニル基、Ｒ5 は水素原子または低
級アルキル基をそれぞれ示す。但し、Ｒ4 がハロゲン原
子のときはＲ5 は低級アルキル基であり、Ｒ4 が低級ア
ルキル基のときはＲ2 は水素原子である。］ 目的化合物であるセフェム化合物（Ｉ）は下記の諸方法
によって製造することができる。
【０００５】製造法（１）
【化４】
【０００６】製造法（２）
【化５】
【０００７】［上記各式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5
はそれぞれ前記定義の通りであり、Ｒ3 aは保護されたカ
ルボキシ基を示す。］ 原料として使用された化合物（ＩＩａ）も、また、新規
化合物であり、以下に示すような諸方法で製造すること
ができ、中間体として有用である。以下に、化合物（Ｉ
Ｉａ）の製造法を示す。
はそれぞれ前記定義の通りであり、Ｒ3 aは保護されたカ
ルボキシ基を示す。］ 原料として使用された化合物（ＩＩａ）も、また、新規
化合物であり、以下に示すような諸方法で製造すること
ができ、中間体として有用である。以下に、化合物（Ｉ
Ｉａ）の製造法を示す。
【０００８】製造法（Ａ）
【化６】
【０００９】製造法（Ｂ）
【化７】 ［上記各式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ前記定義の通
りであり、Ｒ6 はアミノ基または保護されたアミノ基、
Ｒ6 aは保護されたアミノ基、Ｒ7 は低級アルキル基また
はアリール基、Ｘ1 は脱離基をそれぞれ示す。］ 尚、化合物（Ｉ）、（Ｉａ）〜（Ｉｂ）および（ＩＩ
Ｉ）については、シン異性体（Ｚ）、アンチ異性体
（Ｅ）ならびにそれらの混合物がそれぞれ含まれる。
りであり、Ｒ6 はアミノ基または保護されたアミノ基、
Ｒ6 aは保護されたアミノ基、Ｒ7 は低級アルキル基また
はアリール基、Ｘ1 は脱離基をそれぞれ示す。］ 尚、化合物（Ｉ）、（Ｉａ）〜（Ｉｂ）および（ＩＩ
Ｉ）については、シン異性体（Ｚ）、アンチ異性体
（Ｅ）ならびにそれらの混合物がそれぞれ含まれる。
【００１０】目的化合物（Ｉ）を例にとると、シン異性
体（Ｚ）とは以下の式
体（Ｚ）とは以下の式
【化８】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ前記定義の通りである）
で表わされる部分構造をもつ幾何異性体を意味し、アン
チ異性体（Ｅ）とは以下の式
で表わされる部分構造をもつ幾何異性体を意味し、アン
チ異性体（Ｅ）とは以下の式
【化９】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ前記定義の通りである）
で表わされる部分構造をもつ幾何異性体を意味し、この
ような幾何異性体ならびにそれらの混合物もまたすべて
本発明の範囲に包含される。
で表わされる部分構造をもつ幾何異性体を意味し、この
ような幾何異性体ならびにそれらの混合物もまたすべて
本発明の範囲に包含される。
【００１１】本明細書および特許請求の範囲中、これら
の幾何異性体およびそれらの混合物の部分構造は便宜
上、下記の式
の幾何異性体およびそれらの混合物の部分構造は便宜
上、下記の式
【化１０】 (式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ前記定義の通りである）
で表わす。
で表わす。
【００１２】目的化合物（Ｉ）の好適な医薬として許容
される塩は慣用の無毒性の塩であって、無機塩基との
塩、たとえばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、
カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえばカル
シウム塩、マグネシウム塩など）、アンモニウム塩；有
機塩基との塩、たとえば有機アミン塩（たとえばトリエ
チルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩な
ど）など；無機酸付加塩（たとえば塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩、燐酸塩など）；有機カルボン酸またはスル
ホン酸付加塩（たとえば蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ
酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩な
ど）；塩基性または酸性アミノ酸（たとえばアルギニ
ン、アスパラギン酸、グルタミン酸など）との塩などの
ごとき塩基との塩または酸付加塩を包含しうる。
される塩は慣用の無毒性の塩であって、無機塩基との
塩、たとえばアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、
カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえばカル
シウム塩、マグネシウム塩など）、アンモニウム塩；有
機塩基との塩、たとえば有機アミン塩（たとえばトリエ
チルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩な
ど）など；無機酸付加塩（たとえば塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩、燐酸塩など）；有機カルボン酸またはスル
ホン酸付加塩（たとえば蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ
酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩な
ど）；塩基性または酸性アミノ酸（たとえばアルギニ
ン、アスパラギン酸、グルタミン酸など）との塩などの
ごとき塩基との塩または酸付加塩を包含しうる。
【００１３】本明細書の以上および以下の記載におい
て、本発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な例
および実例を以下に詳細に説明する。
て、本発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な例
および実例を以下に詳細に説明する。
【００１４】「低級」とは、特記ない限り、炭素原子１
ないし６個、好ましくは１ないし４個をもつ基を意味す
る。好適な「低級アルキル基」としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ
−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシルのような
直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数１ないし６のアルカン
の残基を意味し、その好ましい例としては炭素数１ない
し４個のアルキル基が挙げられる。さらに好ましくはメ
チル基、エチル基である。好適な「アリール基」として
は、フェニル、ナフチルなどを挙げることができ、なか
でもより好ましいのはフェニルである。好適な「保護さ
れたアミノ基」としては、アシルアミノ基または適当な
置換基を有していてもよいアル（低級）アルキル（たと
えばベンジル、トリチルなど）などの慣用の保護基で置
換されたアミノ基などを挙げることができる。
ないし６個、好ましくは１ないし４個をもつ基を意味す
る。好適な「低級アルキル基」としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ
−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシルのような
直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数１ないし６のアルカン
の残基を意味し、その好ましい例としては炭素数１ない
し４個のアルキル基が挙げられる。さらに好ましくはメ
チル基、エチル基である。好適な「アリール基」として
は、フェニル、ナフチルなどを挙げることができ、なか
でもより好ましいのはフェニルである。好適な「保護さ
れたアミノ基」としては、アシルアミノ基または適当な
置換基を有していてもよいアル（低級）アルキル（たと
えばベンジル、トリチルなど）などの慣用の保護基で置
換されたアミノ基などを挙げることができる。
【００１５】「アシルアミノ基」における好適な「アシ
ル部分」としては、カルバモイル、脂肪族アシル基およ
び芳香環または複素環を有するアシル基を挙げることが
できる。前記アシルの好適な例としては、低級アルカノ
イル（たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキ
サリル、スクシニル、ピバロイルなど）；低級アルコキ
シカルボニル（たとえばメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、プロポキシカルボニル、１−シクロプロピ
ルエトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）；
低級アルキルスルホニル（たとえばメシル、エチルスル
ホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニ
ル、ブチルスルホニルなど）；アリールスルホニル（た
とえばフェニルスルホニル、トシルなど）；アロイル
（たとえばベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフ
トイル、フタロイル、インダンカルボニルなど）；アル
（低級）アルカノイル（たとえばフェニルアセチル、フ
ェニルプロピオニルなど）；アル（低級）アルコキシカ
ルボニル（たとえばベンジルオキシカルボニル、フェネ
チルオキシカルボニルなど）などを挙げることができ
る。
ル部分」としては、カルバモイル、脂肪族アシル基およ
び芳香環または複素環を有するアシル基を挙げることが
できる。前記アシルの好適な例としては、低級アルカノ
イル（たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキ
サリル、スクシニル、ピバロイルなど）；低級アルコキ
シカルボニル（たとえばメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、プロポキシカルボニル、１−シクロプロピ
ルエトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）；
低級アルキルスルホニル（たとえばメシル、エチルスル
ホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニ
ル、ブチルスルホニルなど）；アリールスルホニル（た
とえばフェニルスルホニル、トシルなど）；アロイル
（たとえばベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフ
トイル、フタロイル、インダンカルボニルなど）；アル
（低級）アルカノイル（たとえばフェニルアセチル、フ
ェニルプロピオニルなど）；アル（低級）アルコキシカ
ルボニル（たとえばベンジルオキシカルボニル、フェネ
チルオキシカルボニルなど）などを挙げることができ
る。
【００１６】好適な「保護されたカルボキシ基」として
は、エステル化されたカルボキシなどを挙げることがで
きる。前記エステル部分の好適な例としては、低級アル
キルエステル（たとえばメチルエステル、エチルエステ
ル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチル
エステル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、
ペンチルエステル、ｔ−ペンチルエステル、ヘキシルエ
ステル、１−シクロプロピルエチルエステルなど）；低
級アルケニルエステル（たとえばビニルエステル、アリ
ルエステルなど）；低級アルキニルエステル（たとえば
エチニルエステル、プロピニルエステルなど）；低級ア
ルコキシアルキルエステル（たとえばメトキシメチルエ
ステル、エトキシメチルエステル、イソプロポキシメチ
ルエステル、１−メトキシエチルエステル、１−エトキ
シエチルエステルなど）；低級アルキルチオアルキルエ
ステル（たとえばメチルチオメチルエステル、エチルチ
オメチルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプ
ロピルチオメチルエステルなど）；モノ（またはジまた
はトリ）ハロ（低級）アルキルエステル（たとえば２−
ヨードエチルエステル、２，２，２−トリクロロエチル
エステルなど）；低級アルカノイルオキシ（低級）アル
キルエステル（たとえばアセトキシメチルエステル、プ
ロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、２−アセトキシエチルエステル、２−プロピオ
ニルオキシエチルエステルなど）；
は、エステル化されたカルボキシなどを挙げることがで
きる。前記エステル部分の好適な例としては、低級アル
キルエステル（たとえばメチルエステル、エチルエステ
ル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチル
エステル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、
ペンチルエステル、ｔ−ペンチルエステル、ヘキシルエ
ステル、１−シクロプロピルエチルエステルなど）；低
級アルケニルエステル（たとえばビニルエステル、アリ
ルエステルなど）；低級アルキニルエステル（たとえば
エチニルエステル、プロピニルエステルなど）；低級ア
ルコキシアルキルエステル（たとえばメトキシメチルエ
ステル、エトキシメチルエステル、イソプロポキシメチ
ルエステル、１−メトキシエチルエステル、１−エトキ
シエチルエステルなど）；低級アルキルチオアルキルエ
ステル（たとえばメチルチオメチルエステル、エチルチ
オメチルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプ
ロピルチオメチルエステルなど）；モノ（またはジまた
はトリ）ハロ（低級）アルキルエステル（たとえば２−
ヨードエチルエステル、２，２，２−トリクロロエチル
エステルなど）；低級アルカノイルオキシ（低級）アル
キルエステル（たとえばアセトキシメチルエステル、プ
ロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、２−アセトキシエチルエステル、２−プロピオ
ニルオキシエチルエステルなど）；
【００１７】低級アルキルスルホニル（低級）アルキル
エステル（たとえばメシルメチルエステル、２−メシル
エチルエステルなど）；アル（低級）アルキルエステ
ル、たとえば１またはそれ以上の適当な置換基を有して
いてもよいフェニル（低級）アルキルエステル（たとえ
ばベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステル、
４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル、ト
リチルエステル、ジフェニルメチルエステル、ビス（メ
トキシフェニル）メチルエステル、３，４−ジメトキシ
ベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−
ブチルベンジルエステルなど）；１またはそれ以上の適
当な置換基を有していてもよいアリールエステル、たと
えば置換または非置換フェニルエステル（たとえばフェ
ニルエステル、トリルエステル、ｔ−ブチルフェニルエ
ステル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニ
ルエステル、４−クロロフェニルエステル、４−メトキ
シフェニルエステルなど）；トリ（低級）アルキルシリ
ルエステル；低級アルキルチオエステル（たとえばメチ
ルチオエステル、エチルチオエステルなど）などを挙げ
ることができる。
エステル（たとえばメシルメチルエステル、２−メシル
エチルエステルなど）；アル（低級）アルキルエステ
ル、たとえば１またはそれ以上の適当な置換基を有して
いてもよいフェニル（低級）アルキルエステル（たとえ
ばベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステル、
４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル、ト
リチルエステル、ジフェニルメチルエステル、ビス（メ
トキシフェニル）メチルエステル、３，４−ジメトキシ
ベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−
ブチルベンジルエステルなど）；１またはそれ以上の適
当な置換基を有していてもよいアリールエステル、たと
えば置換または非置換フェニルエステル（たとえばフェ
ニルエステル、トリルエステル、ｔ−ブチルフェニルエ
ステル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニ
ルエステル、４−クロロフェニルエステル、４−メトキ
シフェニルエステルなど）；トリ（低級）アルキルシリ
ルエステル；低級アルキルチオエステル（たとえばメチ
ルチオエステル、エチルチオエステルなど）などを挙げ
ることができる。
【００１８】好適な「脱離基」としては酸残基などを挙
げることができ、その「酸残基」の好適な例としてはハ
ロゲン（たとえば塩素、臭素、ヨウ素など）、スルホニ
ルオキシ［たとえば低級アルキルスルホニルオキシ（た
とえばメチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキ
シなど）、モノ（あるいはジあるいはトリ）ハロ（低
級）アルキルスルホニルオキシ（たとえばトリフルオロ
メタンスルホニルオキシなど）、アリールスルホニルオ
キシ（たとえばフェニルスルホニルオキシ、トリルスル
ホニルオキシなど）など］などを挙げることができる。
好適な「低級アルキルチオ基」の好適な「低級アルキ
ル」部分としては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなどが挙げられる。好適な「ハロゲン原
子」としては塩素、臭素、フッ素およびヨウ素が挙げら
れる。
げることができ、その「酸残基」の好適な例としてはハ
ロゲン（たとえば塩素、臭素、ヨウ素など）、スルホニ
ルオキシ［たとえば低級アルキルスルホニルオキシ（た
とえばメチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキ
シなど）、モノ（あるいはジあるいはトリ）ハロ（低
級）アルキルスルホニルオキシ（たとえばトリフルオロ
メタンスルホニルオキシなど）、アリールスルホニルオ
キシ（たとえばフェニルスルホニルオキシ、トリルスル
ホニルオキシなど）など］などを挙げることができる。
好適な「低級アルキルチオ基」の好適な「低級アルキ
ル」部分としては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなどが挙げられる。好適な「ハロゲン原
子」としては塩素、臭素、フッ素およびヨウ素が挙げら
れる。
【００１９】「低級アルコキシカルボニル基」における
「低級アルコキシ部分」の好適な例としては、直鎖また
は分枝アルコキシ、たとえばメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第三級ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどが挙げられ、それ
らの中でもより好ましいのはＣ1 −Ｃ4 アルコキシであ
る。本発明の目的化合物および原料化合物の製造法を次
に詳細に説明する。
「低級アルコキシ部分」の好適な例としては、直鎖また
は分枝アルコキシ、たとえばメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第三級ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどが挙げられ、それ
らの中でもより好ましいのはＣ1 −Ｃ4 アルコキシであ
る。本発明の目的化合物および原料化合物の製造法を次
に詳細に説明する。
【００２０】製造法（１） 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩａ）または
アミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を化合
物（ＩＩＩ）またはカルボキシ基におけるその反応性誘
導体またはその塩と反応させることによって製造するこ
とができる。化合物（ＩＩａ）のアミノ基における反応
性誘導体の好適な例としては、化合物（ＩＩａ）とアル
デヒドやケトンなどのカルボニル化合物との反応によっ
て得られるシッフ塩基型のイミノ化合物またはその互変
異性エナミン型の異性体、化合物（ＩＩａ）とビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド、モノ（トリメチルシリ
ル）アセトアミド［たとえばＮ−（トリメチルシリル）
アセトアミド］、ビス（トリメチルシリル）尿素などの
シリル化合物との反応によって得られるシリル誘導体、
化合物（ＩＩａ）と三塩化燐やホスゲンとの反応によっ
て得られる誘導体、その他を挙げることができる。
アミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を化合
物（ＩＩＩ）またはカルボキシ基におけるその反応性誘
導体またはその塩と反応させることによって製造するこ
とができる。化合物（ＩＩａ）のアミノ基における反応
性誘導体の好適な例としては、化合物（ＩＩａ）とアル
デヒドやケトンなどのカルボニル化合物との反応によっ
て得られるシッフ塩基型のイミノ化合物またはその互変
異性エナミン型の異性体、化合物（ＩＩａ）とビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド、モノ（トリメチルシリ
ル）アセトアミド［たとえばＮ−（トリメチルシリル）
アセトアミド］、ビス（トリメチルシリル）尿素などの
シリル化合物との反応によって得られるシリル誘導体、
化合物（ＩＩａ）と三塩化燐やホスゲンとの反応によっ
て得られる誘導体、その他を挙げることができる。
【００２１】化合物（ＩＩＩ）のカルボキシ基における
反応性誘導体の好適な例としては、酸ハロゲン化物、酸
無水物、活性アミド、活性エステルなどを挙げることが
できる。その好適な例としては、酸塩化物；酸アジド；
置換燐酸（たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジ
フェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸な
ど）、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、ス
ルホン酸（たとえばメタンスルホン酸など）、脂肪族カ
ルボン酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪
酸、ピバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、
トリクロロ酢酸など）または芳香族カルボン酸（たとえ
ば安息香酸など）などの酸との混合酸無水物；対称酸無
水物；イミダゾール、４−置換イミダゾール、１−ヒド
ロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性アミド；
または活性エステル（たとえばシアノメチルエステル、
メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル［（Ｃ
Ｈ3）2Ｎ+＝ＣＨ−］エステル、ビニルエステル、プロ
パルギルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，
４−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエ
ステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニ
ルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニル
チオエステル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−
クレシルチオエステル、カルボキシメチルチオエステ
ル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジル
エステル、８−キノリルチオエステルなど）またはＮ−
ヒドロキシ化合物［たとえばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキ
シルアミン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリド
ン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミド、１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾー
ルなど］とのエステルなどを挙げることができる。これ
らの反応性誘導体は、使用する化合物（ＩＩＩ）の種類
に応じて適宜選択すればよい。
反応性誘導体の好適な例としては、酸ハロゲン化物、酸
無水物、活性アミド、活性エステルなどを挙げることが
できる。その好適な例としては、酸塩化物；酸アジド；
置換燐酸（たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジ
フェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸な
ど）、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、ス
ルホン酸（たとえばメタンスルホン酸など）、脂肪族カ
ルボン酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪
酸、ピバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、
トリクロロ酢酸など）または芳香族カルボン酸（たとえ
ば安息香酸など）などの酸との混合酸無水物；対称酸無
水物；イミダゾール、４−置換イミダゾール、１−ヒド
ロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性アミド；
または活性エステル（たとえばシアノメチルエステル、
メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル［（Ｃ
Ｈ3）2Ｎ+＝ＣＨ−］エステル、ビニルエステル、プロ
パルギルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，
４−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエ
ステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニ
ルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニル
チオエステル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−
クレシルチオエステル、カルボキシメチルチオエステ
ル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジル
エステル、８−キノリルチオエステルなど）またはＮ−
ヒドロキシ化合物［たとえばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキ
シルアミン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリド
ン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミド、１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾー
ルなど］とのエステルなどを挙げることができる。これ
らの反応性誘導体は、使用する化合物（ＩＩＩ）の種類
に応じて適宜選択すればよい。
【００２２】本反応は、通常、水、アルコール（たとえ
ばメタノール、エタノールなど）、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ピリジンなどの慣用の溶媒、
その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中
で行われる。これらの慣用の溶媒は、水との混合物とし
て使用することもできる。
ばメタノール、エタノールなど）、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ピリジンなどの慣用の溶媒、
その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中
で行われる。これらの慣用の溶媒は、水との混合物とし
て使用することもできる。
【００２３】本反応において、化合物（ＩＩＩ）を遊離
酸の形またはその塩の形で用いる場合、反応は、慣用の
縮合剤、たとえばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−モルホリノエチル
カルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−（４−ジ
エチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド；Ｎ，
Ｎ’−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロ
ピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチ
ルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ’−カルボ
ニルビス−（２−メチルイミダゾール）；ペンタメチレ
ンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェニルケテ
ン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシアセチレン；
１−アルコキシ−１−クロロエチレン；トリアルキルホ
スファイト；ポリ燐酸エチル、ポリ燐酸イソプロピル、
オキシ塩化燐（塩化ホスホリル）；三塩化燐；塩化チオ
ニル；塩化オキサリル；ハロ蟻酸低級アルキル（たとえ
ばクロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソプロピルなど）；
トリフェニルホスフィン；２−エチル−７−ヒドロキシ
ベンゾイソオキサゾリウム塩；水酸化２−エチル−５−
（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリウム分子内塩；
１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−ク
ロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリ
クロロメチル、オキシ塩化燐などと反応させて調製され
るいわゆるビルスマイヤー試薬などの存在下で行うこと
が好ましい。本反応は、アルカリ金属重炭酸塩、トリ
（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）アル
キルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジル
アミンなどの無機または有機塩基の存在下で行うことも
できる。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし
加温下で反応は行われる。
酸の形またはその塩の形で用いる場合、反応は、慣用の
縮合剤、たとえばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−モルホリノエチル
カルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−（４−ジ
エチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド；Ｎ，
Ｎ’−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロ
ピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチ
ルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ’−カルボ
ニルビス−（２−メチルイミダゾール）；ペンタメチレ
ンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェニルケテ
ン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシアセチレン；
１−アルコキシ−１−クロロエチレン；トリアルキルホ
スファイト；ポリ燐酸エチル、ポリ燐酸イソプロピル、
オキシ塩化燐（塩化ホスホリル）；三塩化燐；塩化チオ
ニル；塩化オキサリル；ハロ蟻酸低級アルキル（たとえ
ばクロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソプロピルなど）；
トリフェニルホスフィン；２−エチル−７−ヒドロキシ
ベンゾイソオキサゾリウム塩；水酸化２−エチル−５−
（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリウム分子内塩；
１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−ク
ロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリ
クロロメチル、オキシ塩化燐などと反応させて調製され
るいわゆるビルスマイヤー試薬などの存在下で行うこと
が好ましい。本反応は、アルカリ金属重炭酸塩、トリ
（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）アル
キルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジル
アミンなどの無機または有機塩基の存在下で行うことも
できる。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし
加温下で反応は行われる。
【００２４】製造法（２） 化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（Ｉａ）または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことによっ
て製造することができる。本反応は、加水分解、還元な
どの慣用の方法に従って行われる。本加水分解は、塩基
またはルイス酸を含む酸の存在下で有利に行われる。好
適な塩基としては、アルカリ金属（たとえばナトリウ
ム、カリウムなど）、アルカリ土類金属（たとえばマグ
ネシウム、カルシウムなど）、それらの水酸化物または
炭酸塩または重炭酸塩、トリアルキルアミン（たとえば
トリメチルアミン、トリエチルアミンなど）、ピコリ
ン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−
５、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７
などの無機塩基または有機塩基を挙げることができる。
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことによっ
て製造することができる。本反応は、加水分解、還元な
どの慣用の方法に従って行われる。本加水分解は、塩基
またはルイス酸を含む酸の存在下で有利に行われる。好
適な塩基としては、アルカリ金属（たとえばナトリウ
ム、カリウムなど）、アルカリ土類金属（たとえばマグ
ネシウム、カルシウムなど）、それらの水酸化物または
炭酸塩または重炭酸塩、トリアルキルアミン（たとえば
トリメチルアミン、トリエチルアミンなど）、ピコリ
ン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−
５、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７
などの無機塩基または有機塩基を挙げることができる。
【００２５】好適な酸としては、有機酸（たとえば蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸など）および無機酸
（たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水
素、塩化アンモニウムなど）を挙げることができる。ト
リハロ酢酸（たとえばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸など）などのルイス酸を用いる脱離は、カチオン捕捉
剤（たとえばアニソール、フェノールなど）の存在下で
有利に行われる。反応は、通常、水、アルコール（たと
えばメタノール、エタノールなど）、塩化メチレン、テ
トラヒドロフラン、それらの混合物、その他反応に悪影
響を及ぼさない溶媒などの溶媒中で行われる。液状の塩
基または酸は、溶媒として使用することもできる。反応
温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温下で反応
は行われる。
酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸など）および無機酸
（たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水
素、塩化アンモニウムなど）を挙げることができる。ト
リハロ酢酸（たとえばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸など）などのルイス酸を用いる脱離は、カチオン捕捉
剤（たとえばアニソール、フェノールなど）の存在下で
有利に行われる。反応は、通常、水、アルコール（たと
えばメタノール、エタノールなど）、塩化メチレン、テ
トラヒドロフラン、それらの混合物、その他反応に悪影
響を及ぼさない溶媒などの溶媒中で行われる。液状の塩
基または酸は、溶媒として使用することもできる。反応
温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温下で反応
は行われる。
【００２６】本脱離反応に適用される還元方法としては
化学還元および接触還元を挙げることができる。化学還
元に用いる好適な還元剤としては、金属（たとえば錫、
亜鉛、鉄など）または金属化合物（たとえば塩化クロ
ム、酢酸クロムなど）と有機または無機の酸（たとえば
蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など）の組合せを
挙げることができる。接触還元に用いる好適な触媒とし
ては、白金触媒（例えば白金板、白金海綿、白金黒、コ
ロイド白金、酸化白金、白金線など）、パラジウム触媒
（たとえばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジ
ウム、パラジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウムなど）、ニ
ッケル触媒（たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラ
ネーニッケルなど）、コバルト触媒（たとえば還元コバ
ルト、ラネーコバルトなど）、鉄触媒（還元鉄、ラネー
鉄など）、銅触媒（たとえば還元銅、ラネー銅、ウルマ
ン銅など）などを挙げることができる。還元は、通常、
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえば水、メ
タノール、エタノール、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、それらの混合物などの溶媒中で行われ
る。また、化学還元に用いる前記酸が液状の場合、これ
らは溶媒として使用することもできる。触媒還元に用い
る好適な溶媒としては、前記溶媒、その他の慣用の溶
媒、たとえばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどあるいはそれらの混合物を挙げることが
できる。本還元の反応温度は特に限定されず、通常、冷
却ないし加温下で反応は行われる。
化学還元および接触還元を挙げることができる。化学還
元に用いる好適な還元剤としては、金属（たとえば錫、
亜鉛、鉄など）または金属化合物（たとえば塩化クロ
ム、酢酸クロムなど）と有機または無機の酸（たとえば
蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など）の組合せを
挙げることができる。接触還元に用いる好適な触媒とし
ては、白金触媒（例えば白金板、白金海綿、白金黒、コ
ロイド白金、酸化白金、白金線など）、パラジウム触媒
（たとえばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジ
ウム、パラジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウムなど）、ニ
ッケル触媒（たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラ
ネーニッケルなど）、コバルト触媒（たとえば還元コバ
ルト、ラネーコバルトなど）、鉄触媒（還元鉄、ラネー
鉄など）、銅触媒（たとえば還元銅、ラネー銅、ウルマ
ン銅など）などを挙げることができる。還元は、通常、
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえば水、メ
タノール、エタノール、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、それらの混合物などの溶媒中で行われ
る。また、化学還元に用いる前記酸が液状の場合、これ
らは溶媒として使用することもできる。触媒還元に用い
る好適な溶媒としては、前記溶媒、その他の慣用の溶
媒、たとえばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどあるいはそれらの混合物を挙げることが
できる。本還元の反応温度は特に限定されず、通常、冷
却ないし加温下で反応は行われる。
【００２７】製造法（Ａ） 化合物（ＩＩ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）または
その塩を化合物（Ｖ）またはその塩と反応させることに
よって製造することができる。本反応は、特開平１−３
１３４８３号に記載されているように、パラジウム化合
物［たとえばビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウ
ムなど］、ホスフィン化合物［たとえばトリフェニルホ
スフィン、トリ−（２−フリル）ホスフィンなど］およ
び金属ハロゲン化物（塩化亜鉛、臭化亜鉛など）の存在
下で行われる。反応溶媒、反応温度などは、上記特開平
１−３１３４８３号に記載の方法もしくはそれと均等な
方法を適宜選択することにより行うことができる。より
好適には、この反応は、アルゴン気流下、化合物（Ｉ
Ｖ）またはその塩と化合物（Ｖ）またはその塩とを、Ｎ
−メチル−２−ピロリドンのような溶媒中で、ホスフィ
ン化合物、金属ハロゲン化物およびパラジウム化合物の
存在下で加温下に行うことができる。
その塩を化合物（Ｖ）またはその塩と反応させることに
よって製造することができる。本反応は、特開平１−３
１３４８３号に記載されているように、パラジウム化合
物［たとえばビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウ
ムなど］、ホスフィン化合物［たとえばトリフェニルホ
スフィン、トリ−（２−フリル）ホスフィンなど］およ
び金属ハロゲン化物（塩化亜鉛、臭化亜鉛など）の存在
下で行われる。反応溶媒、反応温度などは、上記特開平
１−３１３４８３号に記載の方法もしくはそれと均等な
方法を適宜選択することにより行うことができる。より
好適には、この反応は、アルゴン気流下、化合物（Ｉ
Ｖ）またはその塩と化合物（Ｖ）またはその塩とを、Ｎ
−メチル−２−ピロリドンのような溶媒中で、ホスフィ
ン化合物、金属ハロゲン化物およびパラジウム化合物の
存在下で加温下に行うことができる。
【００２８】製造法（Ｂ） 化合物（ＩＩａ）またはその塩は、化合物（ＩＩｂ）ま
たはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことによっ
て製造することができる。本反応は、前記製造法（２）
と同様にして行われるので、用いる試薬および反応条件
（たとえば溶媒、反応温度など）としては、製造法
（２）で説明したものをそのまま挙げることができる。
たはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことによっ
て製造することができる。本反応は、前記製造法（２）
と同様にして行われるので、用いる試薬および反応条件
（たとえば溶媒、反応温度など）としては、製造法
（２）で説明したものをそのまま挙げることができる。
【００２９】製造法（１）〜（２）および（Ａ）〜
（Ｂ）における目的化合物および原料化合物およびそれ
らの反応性誘導体の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で
例示したものと同じものを挙げることができる。目的化
合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩は新規で
あり、かつ高い抗菌活性を有し、グラム陽性菌ならびに
グラム陰性菌を含む広範囲の病原菌の生育を阻止し、抗
菌剤として有用である。いま、目的化合物（Ｉ）の有用
性を示すために、化合物（Ｉ）に属する代表的な化合物
の最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）試験データを以下に示
す。
（Ｂ）における目的化合物および原料化合物およびそれ
らの反応性誘導体の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で
例示したものと同じものを挙げることができる。目的化
合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩は新規で
あり、かつ高い抗菌活性を有し、グラム陽性菌ならびに
グラム陰性菌を含む広範囲の病原菌の生育を阻止し、抗
菌剤として有用である。いま、目的化合物（Ｉ）の有用
性を示すために、化合物（Ｉ）に属する代表的な化合物
の最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）試験データを以下に示
す。
【００３０】試験法 試験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法により測定
した。各試験菌株をトリプトケース−ソイ−ブロス中一
夜培養してその１白金耳（生菌数108 個／ｍｌ）を、各
濃度段階の代表的試験化合物を含むハートインフュージ
ョン寒天（ＨＩ−寒天）に接種し、３７℃で２０時間イ
ンキュベートした後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）をμ
ｇ／ｍｌで表わした。
した。各試験菌株をトリプトケース−ソイ−ブロス中一
夜培養してその１白金耳（生菌数108 個／ｍｌ）を、各
濃度段階の代表的試験化合物を含むハートインフュージ
ョン寒天（ＨＩ−寒天）に接種し、３７℃で２０時間イ
ンキュベートした後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）をμ
ｇ／ｍｌで表わした。
【００３１】試験化合物 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３
−セフェム−４−カルボン酸
−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３
−セフェム−４−カルボン酸
【００３２】試験結果
【表１】 本発明の目的化合物（Ｉ）およびその医薬として許容さ
れる塩を治療目的に使用する場合、当該化合物を活性成
分として、経口投与、非経口投与ないしは外用に適した
有機または無機の固形または液状の賦形剤などの医薬と
して許容される担体と配合した通常の製剤として投与す
る。これらの製剤は錠剤、顆粒剤、粉末剤、カプセル剤
などの固形の投与形態であってもよく、あるいは溶液、
懸濁液、シロップ、乳剤、レモネードなどの液状の投与
形態であってもよい。必要に応じ、上記の製剤には各種
助剤、安定剤、湿潤剤、その他一般に使用される添加
剤、たとえば乳糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、
ステアリン酸マグネシウム、白陶土、蔗糖、コーンスタ
ーチ、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、
オリーブ油、カカオバター、エチレングリコールなどを
添加することができる。化合物（Ｉ）の投与量は、年令
その他の患者の条件、疾病の種類、使用化合物の種類な
どによって異なるが、一般に各患者について１日当り約
１ｍｇから約４，０００ｍｇ、あるいはそれ以上を投与
することができる。病原菌による感染症の治療には目的
化合物（Ｉ）を平均一回当り投与量として約５０ｍｇ、
１００ｍｇ、２５０ｍｇ、５００ｍｇ、１，０００ｍｇ
あるいは２，０００ｍｇを投与することができる。以下
の製造例および実施例に従って、本発明をさらに詳細に
説明する。
れる塩を治療目的に使用する場合、当該化合物を活性成
分として、経口投与、非経口投与ないしは外用に適した
有機または無機の固形または液状の賦形剤などの医薬と
して許容される担体と配合した通常の製剤として投与す
る。これらの製剤は錠剤、顆粒剤、粉末剤、カプセル剤
などの固形の投与形態であってもよく、あるいは溶液、
懸濁液、シロップ、乳剤、レモネードなどの液状の投与
形態であってもよい。必要に応じ、上記の製剤には各種
助剤、安定剤、湿潤剤、その他一般に使用される添加
剤、たとえば乳糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、
ステアリン酸マグネシウム、白陶土、蔗糖、コーンスタ
ーチ、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、
オリーブ油、カカオバター、エチレングリコールなどを
添加することができる。化合物（Ｉ）の投与量は、年令
その他の患者の条件、疾病の種類、使用化合物の種類な
どによって異なるが、一般に各患者について１日当り約
１ｍｇから約４，０００ｍｇ、あるいはそれ以上を投与
することができる。病原菌による感染症の治療には目的
化合物（Ｉ）を平均一回当り投与量として約５０ｍｇ、
１００ｍｇ、２５０ｍｇ、５００ｍｇ、１，０００ｍｇ
あるいは２，０００ｍｇを投与することができる。以下
の製造例および実施例に従って、本発明をさらに詳細に
説明する。
【００３３】製造例１ （１）ｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍヘキサン溶液）
（３１．３ｍｌ）を減圧濃縮し、残渣を窒素存在下で−
７２℃に冷却し、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）を滴
下したのち、−２５℃に昇温する。得られた溶液を再び
−７２℃に冷却後、１−ペンチン（３．４１ｇ）を滴下
したのち、−２５℃で２０分間撹拌し、Ｎ−クロロスク
シンイミド（７．３４ｇ）を加える。懸濁液を−２５℃
で２時間撹拌したのち、５℃に加温する。混合物を、３
Ｎ塩酸（２４ｍｌ）に注ぎ、有機層を分取し、水および
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、１−クロ
ロ−１−ペンチンを含有するテトラヒドロフラン溶液を
得る。 （２）（１）で得られた１−クロロ−１−ペンチン（約
３０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（７０ｍｌ）溶液
に室温でビス（トリフェニルホスフィン）塩化パラジウ
ム（４２１ｍｇ）を加えたのち、水素化トリブチル錫
（６．９９ｇ）を滴下し、混合物を室温で１．６時間撹
拌後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製して、トリブチル（１−クロロ−１−
（Ｚ）−ペンテン−１−イル）錫（３．８６ｇ）を黄色
油状物として得る。 IR（フィルム）: 2960, 2930, 2870, 1595, 1460 cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.8-1.6 (32H,m), 2.28 (2H,m), 5.7
7 (1H,t,J=6.6Hz)
（３１．３ｍｌ）を減圧濃縮し、残渣を窒素存在下で−
７２℃に冷却し、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）を滴
下したのち、−２５℃に昇温する。得られた溶液を再び
−７２℃に冷却後、１−ペンチン（３．４１ｇ）を滴下
したのち、−２５℃で２０分間撹拌し、Ｎ−クロロスク
シンイミド（７．３４ｇ）を加える。懸濁液を−２５℃
で２時間撹拌したのち、５℃に加温する。混合物を、３
Ｎ塩酸（２４ｍｌ）に注ぎ、有機層を分取し、水および
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、１−クロ
ロ−１−ペンチンを含有するテトラヒドロフラン溶液を
得る。 （２）（１）で得られた１−クロロ−１−ペンチン（約
３０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（７０ｍｌ）溶液
に室温でビス（トリフェニルホスフィン）塩化パラジウ
ム（４２１ｍｇ）を加えたのち、水素化トリブチル錫
（６．９９ｇ）を滴下し、混合物を室温で１．６時間撹
拌後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製して、トリブチル（１−クロロ−１−
（Ｚ）−ペンテン−１−イル）錫（３．８６ｇ）を黄色
油状物として得る。 IR（フィルム）: 2960, 2930, 2870, 1595, 1460 cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.8-1.6 (32H,m), 2.28 (2H,m), 5.7
7 (1H,t,J=6.6Hz)
【００３４】製造例２ （１）プロピオルアミド（３．４５ｇ）のテトラヒドロ
フラン（３５ｍｌ）溶液に室温でビス（トリフェニルホ
スフィン）塩化パラジウム（７０２ｍｇ）を加えたの
ち、水素化トリブチル錫（１１．６４ｇ）を５０分間か
けて滴下する。さらに室温で２．２時間撹拌後、減圧濃
縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製して、トリブチル（１−カルバモイルビニル）錫
（５．７０ｇ）を油状物として得る。 IR（フィルム）: 3310, 3160, 1625, 1600, 1575 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.8-1.6 (27H,m), 5.67 (1H,d,J=
1.6Hz), 6.37 (1H,d,J=1.6Hz), 6.83 (1H,br), 7.34 (1
H,br) （２）トリブチル（１−カルバモイルビニル）錫（１
４．４１ｇ）のジクロロメタン（３０ｍｌ）溶液に、室
温でトリフルオロ酢酸無水物（１６．８０ｇ）を加えた
のち、１．８時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
トリブチル（１−シアノビニル）錫（１１．８９ｇ）を
得る。 IR（フィルム）: 2960, 2920, 2860, 2200, 1705, 1460
cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.8-1.6 (27H,m), 6.08 (1H,d,J=2.7
Hz), 6.73 (1H,d,J=2.7Hz)
フラン（３５ｍｌ）溶液に室温でビス（トリフェニルホ
スフィン）塩化パラジウム（７０２ｍｇ）を加えたの
ち、水素化トリブチル錫（１１．６４ｇ）を５０分間か
けて滴下する。さらに室温で２．２時間撹拌後、減圧濃
縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製して、トリブチル（１−カルバモイルビニル）錫
（５．７０ｇ）を油状物として得る。 IR（フィルム）: 3310, 3160, 1625, 1600, 1575 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.8-1.6 (27H,m), 5.67 (1H,d,J=
1.6Hz), 6.37 (1H,d,J=1.6Hz), 6.83 (1H,br), 7.34 (1
H,br) （２）トリブチル（１−カルバモイルビニル）錫（１
４．４１ｇ）のジクロロメタン（３０ｍｌ）溶液に、室
温でトリフルオロ酢酸無水物（１６．８０ｇ）を加えた
のち、１．８時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
トリブチル（１−シアノビニル）錫（１１．８９ｇ）を
得る。 IR（フィルム）: 2960, 2920, 2860, 2200, 1705, 1460
cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.8-1.6 (27H,m), 6.08 (1H,d,J=2.7
Hz), 6.73 (1H,d,J=2.7Hz)
【００３５】製造例３ ｎ−ブチルリチウム（１．６０Ｍヘキサン溶液）（７
２．４ｍｌ）とＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチ
レンジアミン（１３．４８ｇ）の混合液に−３０℃でテ
トラヒドロフラン（１００ｍｌ）を加える。混合物に２
−（メチルチオ）エチル メチル エーテル（５．５９
ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液を−３０℃
で４０分間かけて滴下し、さらに−３０℃で１．５時間
撹拌する。混合物に−３０℃でトリブチル塩化錫（２
０．５５ｇ）を滴下し、−３０℃で２時間、さらに、０
℃で３時間撹拌する。混合物に飽和塩化アンモニウム水
溶液を加えて反応を止め、ｐＨ６でエーテル抽出する。
有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣を減圧下で蒸留精
製したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、トリブチル［１−（メチルチオ）ビニル］錫
（１６．４１ｇ）を得る。 IR（フィルム）: 2960, 2920, 1580, 1555, 1460 cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.8-1.6 (27H,m), 2.24 (3H,s), 5.4
1 (1H,s), 5.69(1H,s)
２．４ｍｌ）とＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチ
レンジアミン（１３．４８ｇ）の混合液に−３０℃でテ
トラヒドロフラン（１００ｍｌ）を加える。混合物に２
−（メチルチオ）エチル メチル エーテル（５．５９
ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液を−３０℃
で４０分間かけて滴下し、さらに−３０℃で１．５時間
撹拌する。混合物に−３０℃でトリブチル塩化錫（２
０．５５ｇ）を滴下し、−３０℃で２時間、さらに、０
℃で３時間撹拌する。混合物に飽和塩化アンモニウム水
溶液を加えて反応を止め、ｐＨ６でエーテル抽出する。
有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣を減圧下で蒸留精
製したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、トリブチル［１−（メチルチオ）ビニル］錫
（１６．４１ｇ）を得る。 IR（フィルム）: 2960, 2920, 1580, 1555, 1460 cm-1 NMR (CDCl3,δ) : 0.8-1.6 (27H,m), 2.24 (3H,s), 5.4
1 (1H,s), 5.69(1H,s)
【００３６】製造例４ （１）ジメチルスルホキシド（３９．０７ｇ）のジクロ
ロメタン（４００ｍｌ）溶液に、トリフルオロ酢酸無水
物（７８．７６ｇ）を−５０℃で２５分間かけて滴下
し、混合物を−５０℃で２０分間撹拌する。混合物にジ
フェニルメチル ７β−ホルムアミド−３β−ヒドロキ
シセファム−４α−カルボキシラート（１０３．１ｇ）
のジクロロメタン（１．０３ｌ）溶液を−５０℃で１時
間かけて滴下し、さらに−５０℃で２．２時間撹拌す
る。反応混合物にＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン
（６４．６３ｇ）を−５０℃で滴下後、徐々に１０℃に
昇温し、氷水（２ｌ）に注ぐ。有機層を分取し、水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、ジ
フェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−ヒドロキシ
−３−セフェム−４−カルボキシラート（５１．２０
ｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3300, 1750, 1650, 1510 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.2-3.6 (2H,m), 5.22 (1H,d,J=4.
3Hz), 5.61 (1H,dd,J=9.5 and 4.3Hz), 6.90 (1H,s),
7.2-7.6 (10H,m), 8.21 (1H,s), 9.06(1H,d,J=9.5Hz) （２）ジフェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−ヒ
ドロキシ−３−セフェム−４−カルボキシラート（４
８．２ｇ）のジクロロメタン（６００ｍｌ）溶液に、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１５．１８ｇ）
を−７２℃で滴下したのち、トリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物（３６．３１ｇ）を同温で滴下する。混合物
を−７２℃で２時間撹拌して氷水に注ぐ。有機層を分取
し、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、ジフェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−
トリフルオロメタンスルホニルオキシ−３−セフェム−
４−カルボキシラート（１３．１６ｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 1780, 1730, 1680 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.93 and 4.08 (2H,ABq,J=18.0H
z), 5.37 (1H,d,J=5.2Hz), 6.02 (1H,dd,J=8.8 and 5.2
Hz), 6.96 (1H,s), 7.2-7.6 (10H,m), 8.16 (1H,s), 9.
23 (1H,d,J=8.8Hz) （３）ジフェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−ト
リフルオロメタンスルホニルオキシ−３−セフェム−４
−カルボキシラート（１３．２１ｇ）のメタノール（６
５ｍｌ）懸濁液に濃塩酸（１０．１ｍｌ）を５℃で滴下
し、混合物を室温で３．３時間撹拌する。反応混合物を
酢酸エチル（６００ｍｌ）−氷水（３００ｍｌ）混液に
注ぎ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ６．５に調整
する。有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して、ジフェニルメ
チル７β−アミノ−３−トリフルオロメタンスルホニル
オキシ−３−セフェム−４−カルボキシラート（６．７
８ｇ）を得る。 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.3-3.6 (2H,m), 4.97 (1H,d,J=5H
z), 5.02 (1H,d,J=5Hz), 6.70 (1H,s), 7.2-7.6 (10H,
m) （４）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−３−セフェム−４−カル
ボキシラート（２．０６ｇ）のジクロロメタン（１５ｍ
ｌ）溶液にビス（トリメチルシリル）アセタミド（１．
６３ｇ）を加え室温で１０分間撹拌する。冷却後、反応
混合物に塩酸２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセチルクロライド
（１．２３ｇ）を加え、５℃で１．２時間撹拌する。反
応混合物を酢酸エチル−テトラヒドロフラン−水混液に
注ぎ、有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して、ジフェニルメ
チル ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］
−３−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−３−セフ
ェム−４−カルボキシラート（１．０３ｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3310, 1780, 1735, 1670, 1610, 15
25 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.8-4.2 (2H,m), 3.85 (3H,s), 5.
40 (1H,d,J=5.0Hz),6.03 (1H,dd,J=8.4 and 5.0Hz), 6.
55 (1H,s), 6.96 (1H,s), 7.2-7.6(12H,m), 9.75 (1H,
d,J=8.4Hz)
ロメタン（４００ｍｌ）溶液に、トリフルオロ酢酸無水
物（７８．７６ｇ）を−５０℃で２５分間かけて滴下
し、混合物を−５０℃で２０分間撹拌する。混合物にジ
フェニルメチル ７β−ホルムアミド−３β−ヒドロキ
シセファム−４α−カルボキシラート（１０３．１ｇ）
のジクロロメタン（１．０３ｌ）溶液を−５０℃で１時
間かけて滴下し、さらに−５０℃で２．２時間撹拌す
る。反応混合物にＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン
（６４．６３ｇ）を−５０℃で滴下後、徐々に１０℃に
昇温し、氷水（２ｌ）に注ぐ。有機層を分取し、水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、ジ
フェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−ヒドロキシ
−３−セフェム−４−カルボキシラート（５１．２０
ｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3300, 1750, 1650, 1510 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.2-3.6 (2H,m), 5.22 (1H,d,J=4.
3Hz), 5.61 (1H,dd,J=9.5 and 4.3Hz), 6.90 (1H,s),
7.2-7.6 (10H,m), 8.21 (1H,s), 9.06(1H,d,J=9.5Hz) （２）ジフェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−ヒ
ドロキシ−３−セフェム−４−カルボキシラート（４
８．２ｇ）のジクロロメタン（６００ｍｌ）溶液に、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１５．１８ｇ）
を−７２℃で滴下したのち、トリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物（３６．３１ｇ）を同温で滴下する。混合物
を−７２℃で２時間撹拌して氷水に注ぐ。有機層を分取
し、水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、ジフェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−
トリフルオロメタンスルホニルオキシ−３−セフェム−
４−カルボキシラート（１３．１６ｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 1780, 1730, 1680 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.93 and 4.08 (2H,ABq,J=18.0H
z), 5.37 (1H,d,J=5.2Hz), 6.02 (1H,dd,J=8.8 and 5.2
Hz), 6.96 (1H,s), 7.2-7.6 (10H,m), 8.16 (1H,s), 9.
23 (1H,d,J=8.8Hz) （３）ジフェニルメチル ７β−ホルムアミド−３−ト
リフルオロメタンスルホニルオキシ−３−セフェム−４
−カルボキシラート（１３．２１ｇ）のメタノール（６
５ｍｌ）懸濁液に濃塩酸（１０．１ｍｌ）を５℃で滴下
し、混合物を室温で３．３時間撹拌する。反応混合物を
酢酸エチル（６００ｍｌ）−氷水（３００ｍｌ）混液に
注ぎ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ６．５に調整
する。有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して、ジフェニルメ
チル７β−アミノ−３−トリフルオロメタンスルホニル
オキシ−３−セフェム−４−カルボキシラート（６．７
８ｇ）を得る。 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.3-3.6 (2H,m), 4.97 (1H,d,J=5H
z), 5.02 (1H,d,J=5Hz), 6.70 (1H,s), 7.2-7.6 (10H,
m) （４）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−３−セフェム−４−カル
ボキシラート（２．０６ｇ）のジクロロメタン（１５ｍ
ｌ）溶液にビス（トリメチルシリル）アセタミド（１．
６３ｇ）を加え室温で１０分間撹拌する。冷却後、反応
混合物に塩酸２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセチルクロライド
（１．２３ｇ）を加え、５℃で１．２時間撹拌する。反
応混合物を酢酸エチル−テトラヒドロフラン−水混液に
注ぎ、有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製して、ジフェニルメ
チル ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］
−３−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−３−セフ
ェム−４−カルボキシラート（１．０３ｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3310, 1780, 1735, 1670, 1610, 15
25 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.8-4.2 (2H,m), 3.85 (3H,s), 5.
40 (1H,d,J=5.0Hz),6.03 (1H,dd,J=8.4 and 5.0Hz), 6.
55 (1H,s), 6.96 (1H,s), 7.2-7.6(12H,m), 9.75 (1H,
d,J=8.4Hz)
【００３７】実施例１ （１）ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−
３−セフェム−４−カルボキシラート（１．２６ｇ）の
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（２５ｍｌ）溶液に、室温
でトリブチル（プロペン−２−イル）錫（６７８ｍｇ）
を加えたのち、トリ−（２−フリル）ホスフィン（１９
ｍｇ）と塩化亜鉛（５８７ｍｇ）を加える。混合物をア
ルゴンでガス置換し、ビス（ジベンジリデンアセトン）
パラジウム（２４ｍｇ）を加える。混合物を４５℃で
３．５時間アルゴン気流下で撹拌する。反応混合物を酢
酸エチル−水混液に注ぎ、有機層を分取し、水および食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−（プロペン−２−イル）−３−セフェム
−４−カルボキシラート（４１８ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3290, 1780, 1710, 1620, 1495 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.40 (9H,s), 1.73 (3H,s), 3.48
and 3.65 (2H,ABq,J=18.3Hz), 4.63 (1H,s), 4.67 (1H,
s), 5.12 (1H,d,J=4.8Hz), 5.55(1H,dd,J=8.8 and 4.8H
z), 6.86 (1H,s), 7.2-7.4 (10H,m), 8.02 (1H,d,J=8.8
Hz) （２）ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−（プロペン−２−イル）−３−セフェム
−４−カルボキシラート（４１０ｍｇ）のジクロロメタ
ン（２．２ｍｌ）−アニソール（０．４１ｍｌ）混合液
にトリフルオロ酢酸（０．８２ｍｌ）を５℃で加え、室
温で２時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジイソ
プロピルエーテルで粉末化して７β−アミノ−３−（プ
ロペン−２−イル）−３−セフェム−４−カルボン酸ト
リフルオロ酢酸塩（１９３ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3140, 1780, 1610, 1520 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.88 (3H,s), 3.45 and 3.60 (2H,
ABq,J=18.1Hz), 4.78(1H,s), 4.92 (1H,s), 4.81 (1H,
d,J=5.0Hz), 5.02 (1H,d,J=5.0Hz) （３）７β−アミノ−３−（プロペン−２−イル）−３
−セフェム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩（１８
９ｍｇ）とモノ（トリメチルシリル）アセトアミド（７
００ｍｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）溶液に、
５℃で２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−アセトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩（１
４３ｍｇ）を加え、混合物を室温で１２時間撹拌する。
反応混合物を減圧下５ｍｌに濃縮し、濃縮液を酢酸エチ
ル（１５ｍｌ）−氷水（２０ｍｌ）混液に注ぎ、混合物
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整する。
水層を分取したのち、メタノール（１０ｍｌ）と塩化ア
ンモニウム（８６ｍｇ）を加え、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液でｐＨを８に維持しながら室温で１．５時間撹
拌する。混合物を６Ｎ塩酸でｐＨ５に調整し、減圧下１
０ｍｌに濃縮し、５℃に冷却する。混合物を６Ｎ塩酸で
ｐＨ１．４に調整する。得られた沈殿物を濾取し、水で
洗浄後、真空下乾燥して、７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（ヒドロキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（プロペン−２−イル）−３
−セフェム−４−カルボン酸（１０６ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 1770, 1615, 1525 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.88 (3H,s), 3.44 and 3.62 (2H,
ABq,J=18.2Hz), 4.76(1H,s), 4.94 (1H,s), 5.15 (1H,
d,J=4.8Hz), 5.77 (1H,dd,J=8.1 and4.8Hz), 6.65 (1H,
s), 7.12 (2H,brs), 9.44 (1H,d,J=8.1Hz), 11.29(1H,
s)
ルアミノ−３−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−
３−セフェム−４−カルボキシラート（１．２６ｇ）の
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（２５ｍｌ）溶液に、室温
でトリブチル（プロペン−２−イル）錫（６７８ｍｇ）
を加えたのち、トリ−（２−フリル）ホスフィン（１９
ｍｇ）と塩化亜鉛（５８７ｍｇ）を加える。混合物をア
ルゴンでガス置換し、ビス（ジベンジリデンアセトン）
パラジウム（２４ｍｇ）を加える。混合物を４５℃で
３．５時間アルゴン気流下で撹拌する。反応混合物を酢
酸エチル−水混液に注ぎ、有機層を分取し、水および食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−（プロペン−２−イル）−３−セフェム
−４−カルボキシラート（４１８ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3290, 1780, 1710, 1620, 1495 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.40 (9H,s), 1.73 (3H,s), 3.48
and 3.65 (2H,ABq,J=18.3Hz), 4.63 (1H,s), 4.67 (1H,
s), 5.12 (1H,d,J=4.8Hz), 5.55(1H,dd,J=8.8 and 4.8H
z), 6.86 (1H,s), 7.2-7.4 (10H,m), 8.02 (1H,d,J=8.8
Hz) （２）ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−（プロペン−２−イル）−３−セフェム
−４−カルボキシラート（４１０ｍｇ）のジクロロメタ
ン（２．２ｍｌ）−アニソール（０．４１ｍｌ）混合液
にトリフルオロ酢酸（０．８２ｍｌ）を５℃で加え、室
温で２時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジイソ
プロピルエーテルで粉末化して７β−アミノ−３−（プ
ロペン−２−イル）−３−セフェム−４−カルボン酸ト
リフルオロ酢酸塩（１９３ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3140, 1780, 1610, 1520 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.88 (3H,s), 3.45 and 3.60 (2H,
ABq,J=18.1Hz), 4.78(1H,s), 4.92 (1H,s), 4.81 (1H,
d,J=5.0Hz), 5.02 (1H,d,J=5.0Hz) （３）７β−アミノ−３−（プロペン−２−イル）−３
−セフェム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩（１８
９ｍｇ）とモノ（トリメチルシリル）アセトアミド（７
００ｍｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）溶液に、
５℃で２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−アセトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩（１
４３ｍｇ）を加え、混合物を室温で１２時間撹拌する。
反応混合物を減圧下５ｍｌに濃縮し、濃縮液を酢酸エチ
ル（１５ｍｌ）−氷水（２０ｍｌ）混液に注ぎ、混合物
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整する。
水層を分取したのち、メタノール（１０ｍｌ）と塩化ア
ンモニウム（８６ｍｇ）を加え、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液でｐＨを８に維持しながら室温で１．５時間撹
拌する。混合物を６Ｎ塩酸でｐＨ５に調整し、減圧下１
０ｍｌに濃縮し、５℃に冷却する。混合物を６Ｎ塩酸で
ｐＨ１．４に調整する。得られた沈殿物を濾取し、水で
洗浄後、真空下乾燥して、７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（ヒドロキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（プロペン−２−イル）−３
−セフェム−４−カルボン酸（１０６ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 1770, 1615, 1525 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.88 (3H,s), 3.44 and 3.62 (2H,
ABq,J=18.2Hz), 4.76(1H,s), 4.94 (1H,s), 5.15 (1H,
d,J=4.8Hz), 5.77 (1H,dd,J=8.1 and4.8Hz), 6.65 (1H,
s), 7.12 (2H,brs), 9.44 (1H,d,J=8.1Hz), 11.29(1H,
s)
【００３８】実施例２ 実施例１−（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （１）トリブチル（プロペン−２−イル）錫の代りに、
トリブチル（１−メトキシカルボニルビニル）錫を使用
して、ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシラートを得る（収率３
９．７％）。 IR（ヌジョール）: 3310, 1785, 1720, 1620, 1500 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.41 (9H,s), 3.50 (3H,s), 3.85-
3.90 (2H,m), 5.14(1H,d,J=4.9Hz), 5.64 (1H,dd,J=9.0
and 4.9Hz), 5.74 (1H,s), 6.10(1H,s), 6.80 (1H,s),
7.3-7.6 (10H,m), 8.08 (1H,d,J=9.0Hz) （２）トリブチル（プロペン−２−イル）錫の代りに、
トリブチル（１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−
イル）錫を使用して、ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ−３−［１−クロロ−１−
（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３−セフェム−４−カ
ルボキシラートを得る（収率２７．４％）。 IR（ヌジョール）: 3340, 1785, 1735, 1690, 1620, 15
10 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.71 (3H,t,J=6.9Hz), 1.03 (2H,
m), 1.4-2.0 (2H,m),3.58 and 3.72 (2H,ABq,J=18.1H
z), 5.16 (1H,d,J=5.0Hz), 5.53 (1H,d,J=7.2Hz), 5.55
(1H,dd,J=8.8 and 5.0Hz), 6.93 (1H,s), 7.3-7.5 (10
H,m), 8.08 (1H,d,J=8.8Hz) （３）トリブチル（プロペン−２−イル）錫の代りに、
トリブチル（１−シアノビニル）錫を使用して、ジフェ
ニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３
−（１−シアノビニル）−３−セフェム−４−カルボキ
シラートを得る（収率６７．２％）。 IR（ヌジョール）: 3270, 1780, 1710, 1615, 1495 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.41 (9H,s), 3.67 and 3.80 (2H,
ABq,J=18.6Hz), 5.15(1H,d,J=5.0Hz), 5.65 (1H,dd,J=
8.9 and 5.0Hz), 6.11 (1H,s), 6.14(1H,s), 6.91 (1H,
s), 7.3-7.6 (10H,m), 8.11 (1H,d,J=8.9Hz) （４）ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ−３−セフェム−４−カルボキシラートとトリ
ブチル［１−（メチルチオ）ビニル］錫とを反応させ
て、ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）
アセトアミド］−３−（１−（メチルチオ）ビニル）−
３−セフェム−４−カルボキシラートを得る（収率４
８．１％）。 IR（ヌジョール）: 1770, 1720, 1660, 1610, 1515 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 2.03 (3H,s), 3.7-3.8 (2H,m), 3.
84 (3H,s), 4.72(1H,s), 5.01 (1H,s), 5.27 (1H,d,J=
4.9Hz), 5.88 (1H,dd,J=8.2 and4.9Hz), 6.56 (1H,s),
6.91 (1H,s), 7.0-7.5 (10H,m), 9.68 (1H,d,J=8.2Hz)
トリブチル（１−メトキシカルボニルビニル）錫を使用
して、ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシラートを得る（収率３
９．７％）。 IR（ヌジョール）: 3310, 1785, 1720, 1620, 1500 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.41 (9H,s), 3.50 (3H,s), 3.85-
3.90 (2H,m), 5.14(1H,d,J=4.9Hz), 5.64 (1H,dd,J=9.0
and 4.9Hz), 5.74 (1H,s), 6.10(1H,s), 6.80 (1H,s),
7.3-7.6 (10H,m), 8.08 (1H,d,J=9.0Hz) （２）トリブチル（プロペン−２−イル）錫の代りに、
トリブチル（１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−
イル）錫を使用して、ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ−３−［１−クロロ−１−
（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３−セフェム−４−カ
ルボキシラートを得る（収率２７．４％）。 IR（ヌジョール）: 3340, 1785, 1735, 1690, 1620, 15
10 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.71 (3H,t,J=6.9Hz), 1.03 (2H,
m), 1.4-2.0 (2H,m),3.58 and 3.72 (2H,ABq,J=18.1H
z), 5.16 (1H,d,J=5.0Hz), 5.53 (1H,d,J=7.2Hz), 5.55
(1H,dd,J=8.8 and 5.0Hz), 6.93 (1H,s), 7.3-7.5 (10
H,m), 8.08 (1H,d,J=8.8Hz) （３）トリブチル（プロペン−２−イル）錫の代りに、
トリブチル（１−シアノビニル）錫を使用して、ジフェ
ニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３
−（１−シアノビニル）−３−セフェム−４−カルボキ
シラートを得る（収率６７．２％）。 IR（ヌジョール）: 3270, 1780, 1710, 1615, 1495 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 1.41 (9H,s), 3.67 and 3.80 (2H,
ABq,J=18.6Hz), 5.15(1H,d,J=5.0Hz), 5.65 (1H,dd,J=
8.9 and 5.0Hz), 6.11 (1H,s), 6.14(1H,s), 6.91 (1H,
s), 7.3-7.6 (10H,m), 8.11 (1H,d,J=8.9Hz) （４）ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ−３−セフェム−４−カルボキシラートとトリ
ブチル［１−（メチルチオ）ビニル］錫とを反応させ
て、ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）
アセトアミド］−３−（１−（メチルチオ）ビニル）−
３−セフェム−４−カルボキシラートを得る（収率４
８．１％）。 IR（ヌジョール）: 1770, 1720, 1660, 1610, 1515 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 2.03 (3H,s), 3.7-3.8 (2H,m), 3.
84 (3H,s), 4.72(1H,s), 5.01 (1H,s), 5.27 (1H,d,J=
4.9Hz), 5.88 (1H,dd,J=8.2 and4.9Hz), 6.56 (1H,s),
6.91 (1H,s), 7.0-7.5 (10H,m), 9.68 (1H,d,J=8.2Hz)
【００３９】実施例３ （１）ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−
１−イル］−３−セフェム−４−カルボキシラートを実
施例１−（２）と同様に反応させて、７β−アミノ−３
−［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−
３−セフェム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩を得
る（収率７３．７％）。 IR（ヌジョール）: 1790, 1610, 1520 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.88 (3H,t,J=7.2Hz), 1.3-1.5 (2
H,m), 2.1-2.25 (2H,m), 3.55 and 3.68 (2H,ABq,J=17.
9Hz), 4.92 (1H,d,J=5.1Hz), 5.10(1H,d,J=5.1Hz), 5.7
6 (1H,t,J=7.1Hz) （２）実施例１−（３）と同様にして、実施例３−
（１）で得られた化合物から、７β−［２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（ヒドロキシ
イミノ）アセトアミド］−３−［１−クロロ−１−
（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３−セフェム−４−カ
ルボン酸を得る（収率６８．９％）。 IR（ヌジョール）: 3230, 1765, 1640, 1530 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.88 (3H,t,J=7.2Hz), 1.3-1.5 (2
H,m), 2.1-2.25 (2H,m), 3.55 and 3.67 (2H,ABq,J=18.
0Hz), 5.19 (1H,d,J=4.9Hz), 5.77(1H,d,J=7.2Hz), 5.8
3 (1H,d,J=8.2 and 4.9Hz), 6.65 (1H,s), 7.13(2H,br
s), 9.49 (1H,d,J=8.2Hz), 11.31 (1H,s)
ルアミノ−３−［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−
１−イル］−３−セフェム−４−カルボキシラートを実
施例１−（２）と同様に反応させて、７β−アミノ−３
−［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−
３−セフェム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩を得
る（収率７３．７％）。 IR（ヌジョール）: 1790, 1610, 1520 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.88 (3H,t,J=7.2Hz), 1.3-1.5 (2
H,m), 2.1-2.25 (2H,m), 3.55 and 3.68 (2H,ABq,J=17.
9Hz), 4.92 (1H,d,J=5.1Hz), 5.10(1H,d,J=5.1Hz), 5.7
6 (1H,t,J=7.1Hz) （２）実施例１−（３）と同様にして、実施例３−
（１）で得られた化合物から、７β−［２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（ヒドロキシ
イミノ）アセトアミド］−３−［１−クロロ−１−
（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３−セフェム−４−カ
ルボン酸を得る（収率６８．９％）。 IR（ヌジョール）: 3230, 1765, 1640, 1530 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.88 (3H,t,J=7.2Hz), 1.3-1.5 (2
H,m), 2.1-2.25 (2H,m), 3.55 and 3.67 (2H,ABq,J=18.
0Hz), 5.19 (1H,d,J=4.9Hz), 5.77(1H,d,J=7.2Hz), 5.8
3 (1H,d,J=8.2 and 4.9Hz), 6.65 (1H,s), 7.13(2H,br
s), 9.49 (1H,d,J=8.2Hz), 11.31 (1H,s)
【００４０】実施例４ （１）ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシラート（３０６ｍｇ）
のアセトニトリル（３ｍｌ）溶液に、ｐ−トルエンスル
ホン酸一水和物（１０６ｍｇ）を加え、３５℃で３．５
時間撹拌する。反応混合物を冷却し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して、ジフェニルメチル ７
β−アミノ−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニ
ル］−３−セフェム−カルボキシラート（２１２ｍｇ）
を得る。 IR（ヌジョール）: 1780, 1720, 1600 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.49 (3H,s), 3.5-3.6 (2H,m), 4.
89 (1H,d,J=5.1Hz),5.05 (1H,d,J=5.1Hz), 5.72 (1H,
s), 6.07 (1H,s), 6.55 (1H,s), 7.2-7.5 (10H,m) （２）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−［１−
（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−
カルボキシラート（２１０ｍｇ）のジクロロメタン（５
ｍｌ）溶液にビス（トリメチルシリル）アセトアミド
（２８４ｍｇ）を加え、混合物を室温で１０分間撹拌す
る。冷却後、反応混合物に２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチ
ルクロリド塩酸塩（１４３ｍｇ）を加え、５℃で３５分
間撹拌する。反応混合物を酢酸エチル−水混液に注ぎ、
有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、ジフェニルメチル ７
β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−［１
−（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４
−カルボキシラート（１８３ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 1780, 1720, 1660, 1530, 1510 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.50 (3H,s), 3.4-3.8 (2H,m), 3.
87 (3H,s), 5.24 (1H,d,J=4.9Hz), 5.75 (1H,s), 5.95
(1H,dd,J=8.2 and 4.9Hz), 6.11 (1H,s), 6.78 (1H,s),
6.81 (1H,s), 7.2-7.6 (12H,m), 9.71 (1H,d,J=8.2Hz) （３）ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−［１−（メトキシカルボニ
ル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシラート
（３８０ｍｇ）のジクロロメタン（２ｍｌ）−アニソー
ル（０．２ｍｌ）混液に、塩化ジエチルアルミニウム
（１．０Ｍヘキサン溶液）（１．２ｍｌ）を−１５℃で
加え、混合液を−１５℃で２０分間撹拌後、さらに−１
０℃で１．８時間撹拌する。反応混合物をジイソプロピ
ルエーテル（１００ｍｌ）に注ぎ、沈殿物を濾取し、ジ
イソプロピルエステルで洗浄後、真空乾燥する。粉末を
ｐＨ３．５で水（５０ｍｌ）に溶解し、ダイヤイオンＨ
Ｐ−２０（商標：三菱化成工業（株））（３０ｍｌ）を
用いるカラムクロマトグラフィーに付し、１０％イソプ
ロピルアルコール水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥
して、７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］
−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セ
フェム−４−カルボン酸（８５ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3300, 1780, 1730, 1665, 1620, 15
30 cm-1 NMR (D2O,δ) : 3.60 and 3.70 (2H,ABq,J=18.2Hz), 3.
77 (3H,s), 4.01 (3H,s), 5.26 (1H,d,J=4.7Hz), 5.86
(1H,s), 5.87 (1H,d,J=4.7Hz), 6.34(1H,s), 6.81 (1H,
s)
ルアミノ−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシラート（３０６ｍｇ）
のアセトニトリル（３ｍｌ）溶液に、ｐ−トルエンスル
ホン酸一水和物（１０６ｍｇ）を加え、３５℃で３．５
時間撹拌する。反応混合物を冷却し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して、ジフェニルメチル ７
β−アミノ−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニ
ル］−３−セフェム−カルボキシラート（２１２ｍｇ）
を得る。 IR（ヌジョール）: 1780, 1720, 1600 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.49 (3H,s), 3.5-3.6 (2H,m), 4.
89 (1H,d,J=5.1Hz),5.05 (1H,d,J=5.1Hz), 5.72 (1H,
s), 6.07 (1H,s), 6.55 (1H,s), 7.2-7.5 (10H,m) （２）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−［１−
（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−
カルボキシラート（２１０ｍｇ）のジクロロメタン（５
ｍｌ）溶液にビス（トリメチルシリル）アセトアミド
（２８４ｍｇ）を加え、混合物を室温で１０分間撹拌す
る。冷却後、反応混合物に２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチ
ルクロリド塩酸塩（１４３ｍｇ）を加え、５℃で３５分
間撹拌する。反応混合物を酢酸エチル−水混液に注ぎ、
有機層を分取し、水および食塩水で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、ジフェニルメチル ７
β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−［１
−（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４
−カルボキシラート（１８３ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 1780, 1720, 1660, 1530, 1510 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.50 (3H,s), 3.4-3.8 (2H,m), 3.
87 (3H,s), 5.24 (1H,d,J=4.9Hz), 5.75 (1H,s), 5.95
(1H,dd,J=8.2 and 4.9Hz), 6.11 (1H,s), 6.78 (1H,s),
6.81 (1H,s), 7.2-7.6 (12H,m), 9.71 (1H,d,J=8.2Hz) （３）ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−［１−（メトキシカルボニ
ル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシラート
（３８０ｍｇ）のジクロロメタン（２ｍｌ）−アニソー
ル（０．２ｍｌ）混液に、塩化ジエチルアルミニウム
（１．０Ｍヘキサン溶液）（１．２ｍｌ）を−１５℃で
加え、混合液を−１５℃で２０分間撹拌後、さらに−１
０℃で１．８時間撹拌する。反応混合物をジイソプロピ
ルエーテル（１００ｍｌ）に注ぎ、沈殿物を濾取し、ジ
イソプロピルエステルで洗浄後、真空乾燥する。粉末を
ｐＨ３．５で水（５０ｍｌ）に溶解し、ダイヤイオンＨ
Ｐ−２０（商標：三菱化成工業（株））（３０ｍｌ）を
用いるカラムクロマトグラフィーに付し、１０％イソプ
ロピルアルコール水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥
して、７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］
−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セ
フェム−４−カルボン酸（８５ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3300, 1780, 1730, 1665, 1620, 15
30 cm-1 NMR (D2O,δ) : 3.60 and 3.70 (2H,ABq,J=18.2Hz), 3.
77 (3H,s), 4.01 (3H,s), 5.26 (1H,d,J=4.7Hz), 5.86
(1H,s), 5.87 (1H,d,J=4.7Hz), 6.34(1H,s), 6.81 (1H,
s)
【００４１】実施例５ ジフェニルメチル ７β−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−（１−シアノビニル）−３−セフェム−４−カ
ルボキシラートを実施例４−（１）と同様に処理して、
ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−（１−シアノビ
ニル）−３−セフェム−４−カルボキシラートを得る
（収率８１．６％）。 IR（ヌジョール）: 3320, 1770, 1740, 1630 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.74 and 3.87 (2H,ABq,J=14.0H
z), 5.16 (1H,d,J=5.2Hz), 5.20 (1H,d,J=5.2Hz), 6.13
(1H,s), 6.16 (1H,s), 6.93(1H,s), 7.2-7.6 (12H,m)
ノ−３−（１−シアノビニル）−３−セフェム−４−カ
ルボキシラートを実施例４−（１）と同様に処理して、
ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−（１−シアノビ
ニル）−３−セフェム−４−カルボキシラートを得る
（収率８１．６％）。 IR（ヌジョール）: 3320, 1770, 1740, 1630 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.74 and 3.87 (2H,ABq,J=14.0H
z), 5.16 (1H,d,J=5.2Hz), 5.20 (1H,d,J=5.2Hz), 6.13
(1H,s), 6.16 (1H,s), 6.93(1H,s), 7.2-7.6 (12H,m)
【００４２】実施例６ 実施例４−（２）と同様にして下記の化合物を得る。 （１）２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチルクロリド塩酸塩の
代りに、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−（アセトキシイミノ）アセチルクロリド塩酸
塩を使用して、ジフェニルメチル ７β−［２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（アセト
キシイミノ）アセトアミド］−３−［１−（メトキシカ
ルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシラ
ートを得る（収率５８．５％）。 IR（ヌジョール）: 3300, 1780, 1720, 1660, 1515 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 2.19 (3H,s), 3.49 (3H,s), 3.65
(2H,s), 5.23 (1H,d,J=4.9Hz), 5.75 (1H,s), 5.95 (1
H,dd,J=8.2 and 4.9Hz), 6.11 (1H,s),6.67 (1H,s), 6.
80 (1H,s), 7.13 (2H,brs), 7.25-7.5 (10H,m), 9.53(1
H,d,J=8.2Hz) （２）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−［１−
（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−
カルボキシラートの代りに、７β−アミノ−３−［１−
クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３−セフ
ェム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩を使用して、
７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３
−セフェム−４−カルボン酸を得る（収率７２．６
％）。 IR（ヌジョール）: 3250, 1765, 1660, 1620, 1530 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.88 (3H,t,J=7.2Hz), 1.3-1.5 (2
H,m), 2.13 (1H,td,J=7.1 and 7.2Hz), 3.55 and 3.68
(2H,ABq,J=18.0Hz), 3.84 (3H,s),5.20 (1H,d,J=4.9H
z), 5.77 (1H,d,J=7.2Hz), 5.82 (1H,dd,J=8.2 and4.9H
z), 6.74 (1H,s), 7.23 (2H,brs), 9.64 (1H,d,J=8.2H
z) （３）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−［１−
（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−
カルボキシラートの代りに、ジフェニルメチル ７β−
アミノ−３−（１−シアノビニル）−３−セフェム−４
−カルボキシラートを使用して、ジフェニルメチル ７
β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１
−シアノビニル）−３−セフェム−４−カルボキシラー
トを得る（収率５９．４％）。 IR（ヌジョール）: 3310, 1780, 1740, 1660, 1620, 15
25 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.8-3.9 (2H,m), 3.85 (3H,s), 5.
25 (1H,d,J=4.9Hz),5.98 (1H,dd,J=8.2 and 4.9Hz), 6.
13 (1H,s), 6.16 (1H,s), 6.76(1H,s), 6.92 (1H,s),
7.2-7.6 (12H,m), 9.69 (1H,d,J=8.2Hz)
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセチルクロリド塩酸塩の
代りに、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−（アセトキシイミノ）アセチルクロリド塩酸
塩を使用して、ジフェニルメチル ７β−［２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−（アセト
キシイミノ）アセトアミド］−３−［１−（メトキシカ
ルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシラ
ートを得る（収率５８．５％）。 IR（ヌジョール）: 3300, 1780, 1720, 1660, 1515 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 2.19 (3H,s), 3.49 (3H,s), 3.65
(2H,s), 5.23 (1H,d,J=4.9Hz), 5.75 (1H,s), 5.95 (1
H,dd,J=8.2 and 4.9Hz), 6.11 (1H,s),6.67 (1H,s), 6.
80 (1H,s), 7.13 (2H,brs), 7.25-7.5 (10H,m), 9.53(1
H,d,J=8.2Hz) （２）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−［１−
（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−
カルボキシラートの代りに、７β−アミノ−３−［１−
クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３−セフ
ェム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩を使用して、
７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−クロロ−１−（Ｚ）−ペンテン−１−イル］−３
−セフェム−４−カルボン酸を得る（収率７２．６
％）。 IR（ヌジョール）: 3250, 1765, 1660, 1620, 1530 cm
-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 0.88 (3H,t,J=7.2Hz), 1.3-1.5 (2
H,m), 2.13 (1H,td,J=7.1 and 7.2Hz), 3.55 and 3.68
(2H,ABq,J=18.0Hz), 3.84 (3H,s),5.20 (1H,d,J=4.9H
z), 5.77 (1H,d,J=7.2Hz), 5.82 (1H,dd,J=8.2 and4.9H
z), 6.74 (1H,s), 7.23 (2H,brs), 9.64 (1H,d,J=8.2H
z) （３）ジフェニルメチル ７β−アミノ−３−［１−
（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム−４−
カルボキシラートの代りに、ジフェニルメチル ７β−
アミノ−３−（１−シアノビニル）−３−セフェム−４
−カルボキシラートを使用して、ジフェニルメチル ７
β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１
−シアノビニル）−３−セフェム−４−カルボキシラー
トを得る（収率５９．４％）。 IR（ヌジョール）: 3310, 1780, 1740, 1660, 1620, 15
25 cm-1 NMR (DMSO-d6,δ) : 3.8-3.9 (2H,m), 3.85 (3H,s), 5.
25 (1H,d,J=4.9Hz),5.98 (1H,dd,J=8.2 and 4.9Hz), 6.
13 (1H,s), 6.16 (1H,s), 6.76(1H,s), 6.92 (1H,s),
7.2-7.6 (12H,m), 9.69 (1H,d,J=8.2Hz)
【００４３】実施例７ 実施例４−（３）と同様にして、実施例２−（４）の目
的化合物から、下記の化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−（メチルチオ）ビニル］−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 IR（ヌジョール）: 1765, 1660, 1520 cm-1 NMR (D2O,δ) : 2.26 (3H,s), 3.64 and 3.74 (2H,ABq,
J=16Hz), 3.99 (3H,s), 5.08 (1H,s), 5.25 (1H,d,J=4.
7Hz), 5.27 (1H,s), 5.81 (1H,d,J=4.7Hz), 7.02 (1H,
s)
的化合物から、下記の化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−（メチルチオ）ビニル］−３−セフェム−４−カ
ルボン酸 IR（ヌジョール）: 1765, 1660, 1520 cm-1 NMR (D2O,δ) : 2.26 (3H,s), 3.64 and 3.74 (2H,ABq,
J=16Hz), 3.99 (3H,s), 5.08 (1H,s), 5.25 (1H,d,J=4.
7Hz), 5.27 (1H,s), 5.81 (1H,d,J=4.7Hz), 7.02 (1H,
s)
【００４４】実施例８ ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２−（Ｚ）−（アセトキシイミノ）ア
セトアミド］−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニ
ル］−３−セフェム−４−カルボキシラート（２７８ｍ
ｇ）のジクロロメタン（１．５ｍｌ）−アニソール
（０．３ｍｌ）混液にトリフルオロ酢酸（０．６ｍｌ）
を５℃で加え、同温で１．６時間撹拌する。反応混合物
をジイソプロピルエーテル（５０ｍｌ）に注ぎ、沈殿物
を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、真空乾燥
する。粉末を水（５０ｍｌ）に溶解し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液でｐＨ７．５に調整する。室温で１時間
撹拌したのち、混合物を１Ｎ塩酸でｐＨ２．８に調整
し、ダイヤイオンＨＰ−２０（３０ｍｌ）を用いるカラ
ムクロマトグラフィーに付し、１５％イソプロピルアル
コール水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥して、７β
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（ヒドロキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム
−４−カルボン酸（８６ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3290, 1770, 1720, 1655, 1600, 15
20 cm-1 NMR (D2O,δ) : 3.57 and 3.69 (2H,ABq,J=18.3Hz), 3.
76 (3H,s), 5.25(1H,d,J=4.8Hz), 5.85 (1H,s), 5.89
(1H,d,J=4.8Hz), 6.33 (1H,s),6.95 (1H,s)
ル−４−イル）−２−（Ｚ）−（アセトキシイミノ）ア
セトアミド］−３−［１−（メトキシカルボニル）ビニ
ル］−３−セフェム−４−カルボキシラート（２７８ｍ
ｇ）のジクロロメタン（１．５ｍｌ）−アニソール
（０．３ｍｌ）混液にトリフルオロ酢酸（０．６ｍｌ）
を５℃で加え、同温で１．６時間撹拌する。反応混合物
をジイソプロピルエーテル（５０ｍｌ）に注ぎ、沈殿物
を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、真空乾燥
する。粉末を水（５０ｍｌ）に溶解し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液でｐＨ７．５に調整する。室温で１時間
撹拌したのち、混合物を１Ｎ塩酸でｐＨ２．８に調整
し、ダイヤイオンＨＰ−２０（３０ｍｌ）を用いるカラ
ムクロマトグラフィーに付し、１５％イソプロピルアル
コール水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥して、７β
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（ヒドロキシイミノ）アセトアミド］−３−
［１−（メトキシカルボニル）ビニル］−３−セフェム
−４−カルボン酸（８６ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3290, 1770, 1720, 1655, 1600, 15
20 cm-1 NMR (D2O,δ) : 3.57 and 3.69 (2H,ABq,J=18.3Hz), 3.
76 (3H,s), 5.25(1H,d,J=4.8Hz), 5.85 (1H,s), 5.89
(1H,d,J=4.8Hz), 6.33 (1H,s),6.95 (1H,s)
【００４５】実施例９ ジフェニルメチル ７β−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（１−シアノビニル）−３−セフェム
−４−カルボキシラート（５２０ｍｇ）のジクロロメタ
ン（２．５ｍｌ）−アニソール（０．５ｍｌ）混液に、
トリフルオロ酢酸（１ｍｌ）を５℃で加え、同温で１．
２時間撹拌する。反応混合物をジイソプロピルエーテル
（１００ｍｌ）に注ぎ、沈殿物を濾取し、ジイソプロピ
ルエーテルで洗浄後、真空乾燥する。粉末をｐＨ７で水
（６０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ塩酸でｐＨ５．２に調整
後、ダイヤイオンＨＰ−２０（４０ｍｌ）を用いるカラ
ムクロマトグラフィーに付し、１０％イソプロピルアル
コール水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥して、７β
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１
−シアノビニル）−３−セフェム−４−カルボン酸（７
９ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3300, 1770, 1650, 1525 cm-1 NMR (D2O,δ) : 3.66 (2H,brs), 3.99 (3H,s), 5.26 (1
H,d,J=5.0Hz), 5.85(1H,d,J=5.0Hz), 6.18 (1H,s), 6.2
4 (1H,s), 7.01 (1H,s)
ル−４−イル）−２−（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（１−シアノビニル）−３−セフェム
−４−カルボキシラート（５２０ｍｇ）のジクロロメタ
ン（２．５ｍｌ）−アニソール（０．５ｍｌ）混液に、
トリフルオロ酢酸（１ｍｌ）を５℃で加え、同温で１．
２時間撹拌する。反応混合物をジイソプロピルエーテル
（１００ｍｌ）に注ぎ、沈殿物を濾取し、ジイソプロピ
ルエーテルで洗浄後、真空乾燥する。粉末をｐＨ７で水
（６０ｍｌ）に溶解し、１Ｎ塩酸でｐＨ５．２に調整
後、ダイヤイオンＨＰ−２０（４０ｍｌ）を用いるカラ
ムクロマトグラフィーに付し、１０％イソプロピルアル
コール水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥して、７β
−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（Ｚ）−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１
−シアノビニル）−３−セフェム−４−カルボン酸（７
９ｍｇ）を得る。 IR（ヌジョール）: 3300, 1770, 1650, 1525 cm-1 NMR (D2O,δ) : 3.66 (2H,brs), 3.99 (3H,s), 5.26 (1
H,d,J=5.0Hz), 5.85(1H,d,J=5.0Hz), 6.18 (1H,s), 6.2
4 (1H,s), 7.01 (1H,s)
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 ［式中、Ｒ1 はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ
2 は水素原子または低級アルキル基、Ｒ3 はカルボキシ
基または保護されたカルボキシ基、Ｒ4 はハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルキルチオ基、シアノ基、
低級アルコキシカルボニル基、Ｒ5 は水素原子または低
級アルキル基をそれぞれ示す。但し、Ｒ4 がハロゲン原
子のときはＲ5 は低級アルキル基であり、Ｒ4 が低級ア
ルキル基のときはＲ2 は水素原子である。］で表わされ
る新規セフェム化合物およびその医薬として許容される
塩。 - 【請求項２】 一般式： 【化２】 ［式中、Ｒ3 はカルボキシ基または保護されたカルボキ
シ基、Ｒ4 はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
キルチオ基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、
Ｒ5 は水素原子または低級アルキル基、Ｒ6 はアミノ基
または保護されたアミノ基をそれぞれ示す。但し、Ｒ4
がハロゲン原子のときはＲ5 は低級アルキル基であ
る。］で表わされる化合物およびその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23771393A JPH0789968A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | 新規セフェム化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23771393A JPH0789968A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | 新規セフェム化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0789968A true JPH0789968A (ja) | 1995-04-04 |
Family
ID=17019400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23771393A Withdrawn JPH0789968A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | 新規セフェム化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0789968A (ja) |
-
1993
- 1993-09-24 JP JP23771393A patent/JPH0789968A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001128 |