JPH0796333B2 - 情報記録媒体の製造法 - Google Patents

情報記録媒体の製造法

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JPH0796333B2
JPH0796333B2 JP61307374A JP30737486A JPH0796333B2 JP H0796333 B2 JPH0796333 B2 JP H0796333B2 JP 61307374 A JP61307374 A JP 61307374A JP 30737486 A JP30737486 A JP 30737486A JP H0796333 B2 JPH0796333 B2 JP H0796333B2
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Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されてい
る。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、
オーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量
静止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メ
モリー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超
マイクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植
字用原版などに応用されている。
情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては、Bi、Sn、In、Te等の金
属または半金属；およびシアニン系、金属錯体系、キノ
ン系等の色素が知られている。
情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリンク状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることがない。
記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。
シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解性が低
く、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の
高い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどの
塩素化炭化水素が使用されている。
しかしながら、これらの塩素化炭化水素系溶剤に対して
プラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布した
場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられている
トラッキング用グルーブなどの凹凸が消失したり、基板
材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下する
などの問題がある。このような問題を解決するために、
たとえば特開昭59−217241号公報には、予めプラスチッ
ク基板にハロゲン（塩素）化炭化水素溶剤に対する不溶
化処理を施すことが記載されている。
［発明の要旨］ 本発明は、新規な溶剤を用いて情報記録媒体を製造する
方法を提供することをその目的とするものである。
また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して基板を
溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を形成
する方法を提供することもその目的とするものである。
さらに本発明は、情報記録媒体を簡易に製造する方法を
提供することもその目的とするものである。
上記の目的は、基板上に、レーザーによる情報の書き込
みおよび／または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素含有化
合物を含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、
該塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録層を形
成することを特徴とする本発明の情報記録媒体の製造法
により達成することができる。
すなわち、本発明は、色素を記録材料とする記録層形成
のための塗布液調製用の溶剤として弗素含有化合物を用
いることにより、塗布液の調製を容易にし、かつ塗布液
により基板が溶解するのを防止するものである。
本発明において、溶剤として用いられる弗素含有化合物
はシアニン系色素などの色素に対する溶解度が高いた
め、記録層形成のための塗布液を容易に調製することが
できる。また、この化合物はポリカーボネートなどのプ
ラスチック物質からなる基板に対して不溶性であるた
め、塗布過程で基板が溶解することがない。
従って、本発明によれば、従来より問題となっていた基
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
［発明の構成］ 情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタク
リレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のアク
リル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩
化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；およびポリカーボネー
ト樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル；
ソーダ石灰ガラス等のガラス；およびセラミックスを挙
げることができる。
本発明の方法は基板材料がプラスチック物質である場合
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモリファス
ポリオレフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また、寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステ
ルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができ
る。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられてもよい。下塗層の材料としてはたとえ
ば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリ
ル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポ
リビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、
スチレン・スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルトル
エン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロ
セルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、
ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物
質；シランカップリング剤などの有機物質；および無機
酸化物（SiO2、Al2O3等）、無機弗化物（MgF2）などの
無機物質を挙げることができる。
ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親水性基および／または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられるのが望まし
い。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ート、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20μｍの
範囲にあり、好ましくは0.01〜10μｍの範囲である。
また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に0.05〜100μｍの範囲にあり、好ましくは0.1
〜50μｍの範囲である。基板材料がプラスチックの場合
は、射出成形あるいは押出成形などにより直接基板にグ
ルーブが設けられてもよい。
なお、本発明において溶剤として用いられる弗素含有化
合物はプラスチック基板に対して不溶性であるのみなら
ず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不溶性であ
るから、基板上に記録層を直接に設ける場合のみなら
ず、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも同様の
効果が得られるものである。
基板（またはプレグルーブ層等）上には記録層が設けら
れる。
記録層は、実質的に色素のみからなる層であるか、ある
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層であ
る。
本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの金属
錯塩系色素、ナフトキノン系、アントラキノン系色素、
インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アル
ミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合
物を挙げることができる。
これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収率が高い
色素が好ましい。
その例としては、 ｉ）シアニン系色素： ［１］ （CH3）2N−（CH＝CH）５−CH ＝+N（CH3）1ClO4 - （ただし、ｎは２または３である） （ただし、Ｒは水素原子またはＮ（CH3）２である） ［４］ Ａ−（CH＝CH）ｎ−CH＝Ｂ （ただし、Ａは または であり、 Ｂは であり、Ｒはアルキル基であり、Ｘは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原
子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在
していてもよく、ｎは０〜３の整数である） （ただし、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子で
ある） （ただし、Ｒは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Ｘは水素
原子またはハロゲン原子であり、Ｙはハロゲン、パーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレ
ートであり、ｎは０〜３の整数である） （ただし、R1、R2およびR3はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基であって、互いに同じか異なっていてもよ
く、X-は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオ
ンまたはアルキル硫酸イオンであり、ｎは０〜３の整数
であり、そしてインドレニン酸の４位、５位、６位およ
び７位のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在
し、場合により他の位置にさらにハロゲン原子が存在し
ていてもよく、さらに場合によりベンゼン環はアルキル
基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリ
ル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよ
い） （ただし、A1およびA2はそれぞれ水素原子または置換基
であり、Ｚは五員複素環を形成するのに必要な原子団で
あり、R1〜R4はそれぞれ水素原子または置換基であり、
R5は置換基であるかまたはＺと共に六員複素環を形成し
てもよく、X-は陰イオンであり、ｎは０〜２の整数であ
る） ［11］ Φ−Ｌ＝Ψ（X-）ｍ （ただし、ΦおよびΨはそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドール環残基、チアゾール環残基、オキサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Ｌはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、X-は
陰イオンであり、ｍは０または１である） ii）スクワリリウム系色素： iii）アズレニウム系色素： （ただし、R1とR2、R2とR3、R3とR4、R4とR5、R5とR6お
よびR6とR7の組合せのうち少なくとも一つの組合せで置
換もしくは未置換の複素環または脂肪族環による環を形
成し、該環を形成しないときのR1、R2、R3、R4、R5、R6
およびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価
の有機残基であり、あるいはR1とR2、R3とR4、R4とR5、
R5とR6およびR6とR7の組合せのうち少なくとも一つの組
合せで置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよ
く、Ａは二重結合によって結合した二価の有機残基であ
り、Z-はアニオン残基である。なお、アズレン環を構成
する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置き換えら
れてアザアズレン環となっていてもよい。） iv）インドフェノール系色素： （ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子、アルキル
基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子
であり、R1、R2およびR3はそれぞれ水素原子、C1〜C20
の置換または未置換のアルキル基、アリール基、複素環
またはシクロヘキシル基であり、Ａは−NHCO−または−
CONH−である） Ｖ）金属錯塩系色素： （ただし、R1〜R4はそれぞれアルキル基またはアリール
基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基またはハロ
ゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、R1およびR2はそれぞれ置換または未置換のア
ルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル基、ハ
ロゲン原子または （ここで、R4およびR5はそれぞれ置換または未置換のア
ルキル基またはアリール基である）であり、Ｍは遷移金
属原子であり、ｎは０〜３の整数である） （ただし、［Cat］は錯塩を中性ならしめるために必要
な陽イオンであり、ＭはNi、Cu、Co、PdまたはPtであ
り、ｎは１または２である） （ただし、［Cat］は錯塩を中性ならしめるために必要
な陽イオンであり、ＭはNi、Cu、Co、PdまたはPtであ
り、ｎは１または２である） （ただし、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａは第四級ア
ンモニウム基である） （ただし、X1およびX2はそれぞれニトロ基および／また
はハロゲン原子であり、n1およびn2はそれぞれ１〜３の
整数であり、R1およびR2はそれぞれアミノ基、モノアル
キルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ基を含
む）であり、X1とX2、n1とn2およびR1とR2はそれぞれ互
いに同じであっても異なっていてもよく、ＭはCrまたは
Co原子であり、Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、アン
モニウム、脂肪族アンモニウム（環換脂肪族アンモニウ
ムを含む）または脂環族アンモニウムである） vi）ナフトキノン系、アントラキノン系色素： （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である） （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ミノ基または置換アミノ基である） （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である） （ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０〜10の整数
である） （ただし、Ｘはハロゲン原子である） などを挙げることができる。
これらの色素のうちで、本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる場合
に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモ
ニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いてもよ
い。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤には、
弗素を含有する化合物が用いられる。本発明に用いられ
る弗素含有化合物の例としては、弗素化アルコール、弗
素置換ケトン、弗素置換エステル、弗素化カルボン酸、
弗素置換アミド、弗素置換ベンゼン、弗素化アルカンお
よび弗素化エーテルを挙げることができる。
１）弗素化アルコールとしてはたとえば、 一般式（Ｉ）： Ａ−CH2OH （Ｉ） （ただし、ＡはCF3またはＨ（CF2・CF2）ｎであり、ｎ
は１〜３の整数である） で表わされる化合物を挙げることができ、その具体例と
しては下記化合物が挙げられる。
Ｈ−CF2CF2−CH2OH、Ｈ−CF2−CF2−CF2−CF2−CH2OH、
CF3−CH2OH ２）弗素置換ケトンおよびエステルとしては、たとえば
一般式（II）： （ただし、ＡおよびＢはそれぞれ置換または無置換のア
ルキル基、フェニル基、アルコキシ基またはフェノキシ
基であり、かつＡおよびＢのうち少なくとも一方は少な
くとも一つの弗素原子で置換されている） で表わされる化合物を挙げることができる。上記一般式
（II）において、ＡもしくはＢ上の置換基としては塩素
原子、臭素原子、ニトロ基、水酸基、置換または無置換
のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノキシ
基、カルボアルコキシ基、カルボフェノキシ基、アルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基が挙げられ
る。ＡおよびＢはそれぞれ好ましくは、−CF3、CF3−
（CF2CF2）ｈ−、Ｈ−（CF2CH2）ｉ−、Ｈ−（CF2CF2）
ｊ−CH2−、−OCF3、CF3−（CF2CF2）ｈ−Ｏ−、Ｈ−
（CF2CF2）ｉ−Ｏ−またはＨ−（CF2CF2）ｊ−CH2O−で
あり、ここでｈ、ｉおよびｊはそれぞれ１〜３の整数で
ある。また、該化合物の分子量は400以下であるのが好
ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
CF3COCF3、CF3COOCH3、CF3COOC2H5、 CF3COCH2COCF3、CF3COCH2COCH3、 CH3COOCH2CF3、CF3COOCH2CF3、 CH3COOCH2CF2CF2H、 HCF2CF2CH2OCOOCH2CF2CF2H、 CF3CF2CF2CF2COOC2H5、CF3（CF2）4COOCH3、 ３）弗素置換ベンゼンとしてはたとえば、 一般式（III）： （ただし、R1は弗素原子であり、R2〜R6はそれぞれ水素
原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、水酸
基、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、フェニ
ル基、アルコキシ基、フェノキシ基、アシル基またはア
シルオキシ基である） で表わされる化合物を挙げることができる。上記一般式
（III）において、R2〜R6は好ましくは水素原子、弗素
原子、塩素原子またはシアノ基である。また、該化合物
の分子量は400以下であるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
４）弗素化アルカンおよびエーテルとしては、炭素数１
〜８のアルカンおよびエーテルであって、かつ少なくと
も一つの弗素原子で置換されている化合物を挙げること
ができる。これらの化合物には直鎖状、環状および分枝
状のものが含まれる。また、該化合物は弗素原子の他に
さらに、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、置
換または無置換のアルコキシ基、アルキルスルホニル
基、アルキルスルフィニル基で置換されていてもよい。
置換基は好ましくは塩素原子、炭素数１〜４の置換また
は無置換のアルコキシ基である。また、該化合物の分子
量は400以下であるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
CCl2F2、CCl3F、ClF2C−CClF2、 F2CHCH3、CHCl2CF2OCH3、Ｈ（CF2）4OCH3、 CF3CH2OC2H5、CF2H−CClF−OCH3 ５）弗素化カルボン酸としてはたとえば、 一般式（IV）： CF3（CF2）nCOOH （IV） （ただし、ｎは２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることができる。
６）弗素化カルボンアミドとしてはたとえば、 一般式（Ｖ）： CF3（CF2）nCONH2 （Ｖ） （ただし、ｎは２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることができる。
ただし、本発明に用いられる弗素含有化合物は上記化合
物に限定されるものではなく、一分子中に少なくとも一
つの弗素原子を含む有機化合物であって、色素に対して
溶剤として機能しうる限り任意の化合物を用いることが
できる。
本発明において、上記弗素含有化合物は単独で溶剤とし
て用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用することに
より混合溶剤として用いてもよい。
そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブ
タノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げることがで
きる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑
剤、滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができ
る。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99％（重量比）の範囲
にあり、好ましくは1.0〜95％（重量比）の範囲にあ
る。また、溶剤が弗素含有溶剤と他の溶剤との混合系で
ある場合には、その組合せ、色素および基板の種類によ
っても異なるが、一般には弗素含有溶剤は溶剤全体の５
〜95％（重量比）の範囲で使用され、好ましくは30〜90
％（重量比）の範囲にある。このようにして調製される
塗布液の濃度は一般に0.01〜10％（重量比）の範囲にあ
り、好ましくは0.1〜５％（重量比）の範囲にある。
記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に0.
01〜10μｍの範囲にあり、好ましくは0.02〜１μｍの範
囲にある。また、記録層は基板の片面のみならず両面に
設けられていてもよい。
さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるS/N比
の向上および記録時における感度の向上の目的で、反射
層が設けられてもよい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、
Ｙ、Ti、Zr、Hf、Ｖ、Nb、Ta、Cr、Mo、Ｗ、Mn、Re、F
e、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、C
d、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金
属および半金属を挙げることができる。これらのうちで
好ましいものはAl、CrおよびNiである。これらの物質は
単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでま
たは合金として用いてもよい。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンプレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。反射層の層厚は一般に
は100〜3000Åの範囲にある。
なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよ
く、この場合には情報の記録再生は記録層側（基板とは
反対の側）から行なわれる。
また、記録層（または反射層）の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい。この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
保護層に用いられる材料の例としては、SiO、SiO2、MgF
2、SnO2等の無機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、U
V硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（または銀塩層あるい
は反射層）上および／または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適
当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を
塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても形成
することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防
止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応
じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.1〜100μｍの範囲にある。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各例は本発明を制限するものではない。
［実施例１］ シアニン系色素（上記構造式［６］： 2gを、2,2,3,3−テトラフロロプロピルアルコール（構
造式:HCF2CF2CH2OH）100ccに溶解して塗布液（濃度:2重
量％）を調製した。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径:130mm、内径:15mm、厚さ:1.2mm、トラ
ックピッチ:1.6μｍ、グルーブの深さ:800Å）上に、塗
布液をスピンコート法により回転数2000rpmの速度で塗
布した後、70℃の温度で10分間乾燥して膜厚が0.06μｍ
の記録層を形成した。
このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
［比較例１］ 実施例１において、溶剤としてジクロロエタンを用いる
こと以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
得られた各情報記録媒体について、記録再生特性試験を
行なった、その結果、弗素含有溶剤を用いる本発明の方
法により製造された記録媒体（実施例１）は、基板表面
のグルーブに沿って記録再生特性を測定することができ
たが、一方従来の方法により製造された記録媒体（比較
例１）は、基板表面の溶解によってグルーブが消失した
ために記録再生特性を測定することができなかった。
［実施例２］ 実施例１において、塗布液にさらにクエンチャーとして
ニッケル錯塩系色素（上記構造式［21］： をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことによ
り、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
［実施例３］ 実施例１において、塗布液にさらにクエンチャーとして
ジインモニウム系色素（構造式： をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことによ
り、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
［実施例４］ 実施例１において、色素としてシアニン系色素（上記構
造式［９］： を用いること以外は実施例１の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
［実施例５］ 実施例１において、色素としてシアニン系色素（上記構
造式［10］： を用いること以外は実施例１の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
［実施例６］ 実施例１において、色素としてスクワリリウム系色素
（上記構造式［13］： を用いること以外は実施例１の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
実施例２〜６の各情報記録媒体について記録再生特性試
験を行なったところ、いずれも基板表面のグルーブが消
失せずに残っており、このグルーブに沿って記録再生特
性を測定することができた。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基板上に、レーザーによる情報の書き込み
    および／または読み取りが可能な記録層が設けられてな
    る情報記録媒体を製造する方法において、弗素含有化合
    物を含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、該
    塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録層を形成
    することを特徴とする情報記録媒体の製造法。
  2. 【請求項２】上記弗素含有化合物が、弗素化アルコー
    ル、弗素置換ケトン、弗素置換エステル、弗素置換アミ
    ド、弗素置換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化エ
    ーテルからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物
    であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情
    報記録媒体の製造法。
  3. 【請求項３】上記弗素化アルコールが、一般式（Ｉ）： Ａ−CH2OH （Ｉ） ［ただし、ＡはCF3またはＨ（CF2・CF2）ｎであり、ｎ
    は１乃至３の整数である］ で表わされる化合物であることを特徴とする特許請求の
    範囲第２項記載の情報記録媒体の製造法。
  4. 【請求項４】上記溶剤が弗素含有化合物のみからなるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒
    体の製造法。
  5. 【請求項５】上記色素が、シアニン系色素、フタロシア
    ニン系色素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スク
    ワリリウム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノ
    ール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタ
    ン系色素、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム
    系色素および金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少
    なくとも一種の色素であることを特徴とする特許請求の
    範囲第１項記載の情報記録媒体の製造法。
  6. 【請求項６】上記色素が、シアニン系色素もしくはシア
    ニン系色素と他の色素との混合物であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第５項記載の情報記録媒体の製造法。
  7. 【請求項７】上記基板がプラスチック物質からなること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体
    の製造法。
  8. 【請求項８】上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチ
    ルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオ
    レフィン、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる
    群より選ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴
    とする特許請求の範囲第７項記載の情報記録媒体の製造
    法。
  9. 【請求項９】上記基板がポリカーボネートからなること
    を特徴とする特許請求の範囲第８項記載の情報記録媒体
    の製造法。
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