JPH0797261A - 非磁性セラミックス - Google Patents
非磁性セラミックスInfo
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- JPH0797261A JPH0797261A JP5244402A JP24440293A JPH0797261A JP H0797261 A JPH0797261 A JP H0797261A JP 5244402 A JP5244402 A JP 5244402A JP 24440293 A JP24440293 A JP 24440293A JP H0797261 A JPH0797261 A JP H0797261A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】センダスト，アモルファス，Ｍｎ−Ｚｎフェラ
イトなどの磁性材料の熱膨張係数と一致するように、非
磁性セラミックスの熱膨張係数を制御することができる
とともに、ポア平均径を小さくすることができ、ビッカ
ース硬度をＭｎＯよりも高くＭｎ−Ｚｎフェライトより
も低くすることができ、これにより鏡面加工性に優れた
非磁性セラミックスを提供する。 【構成】ＭｎＯを９１〜９９モル％、ＣａＴｉＯ3 を１
〜９モル％の割合で含有するとともに、ＣａＴｉＯ3 の
平均結晶粒径が２μｍ以下であることを特徴とする非磁
性セラミックスで、例えば、薄膜磁気ヘッド用セラミッ
ク基板，各種磁気ヘッド用スライダー，磁気ヘッドのス
ペーサ等に好適に使用される。
イトなどの磁性材料の熱膨張係数と一致するように、非
磁性セラミックスの熱膨張係数を制御することができる
とともに、ポア平均径を小さくすることができ、ビッカ
ース硬度をＭｎＯよりも高くＭｎ−Ｚｎフェライトより
も低くすることができ、これにより鏡面加工性に優れた
非磁性セラミックスを提供する。 【構成】ＭｎＯを９１〜９９モル％、ＣａＴｉＯ3 を１
〜９モル％の割合で含有するとともに、ＣａＴｉＯ3 の
平均結晶粒径が２μｍ以下であることを特徴とする非磁
性セラミックスで、例えば、薄膜磁気ヘッド用セラミッ
ク基板，各種磁気ヘッド用スライダー，磁気ヘッドのス
ペーサ等に好適に使用される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、薄膜磁気ヘッ
ド用セラミック基板，各種磁気ヘッド用スライダー，磁
気ヘッドのスペーサ等に使用される非磁性セラミックス
に関するものである。
ド用セラミック基板，各種磁気ヘッド用スライダー，磁
気ヘッドのスペーサ等に使用される非磁性セラミックス
に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来、磁気記録媒体の高密度化は急速な進
歩を遂げているが、この高記録密度化に伴い、８ｍｍＶ
ＴＲ，電子スチルカメラ，ビデオフロッピーやデジタル
オーディオ等の高保磁力媒体の記録再生用磁気ヘッドと
して、従来のフェライト等を使用した磁気ヘッドに代わ
って、磁性薄膜を使用した磁気記録の高密度化に好適な
薄膜磁気ヘッドが注目されている。
歩を遂げているが、この高記録密度化に伴い、８ｍｍＶ
ＴＲ，電子スチルカメラ，ビデオフロッピーやデジタル
オーディオ等の高保磁力媒体の記録再生用磁気ヘッドと
して、従来のフェライト等を使用した磁気ヘッドに代わ
って、磁性薄膜を使用した磁気記録の高密度化に好適な
薄膜磁気ヘッドが注目されている。
【０００３】このような磁性薄膜を利用した薄膜磁気ヘ
ッドは、例えば、以下のようにして作成される。即ち、
チタン酸バリウム，チタン酸カルシウム，アルミナ系複
合物等を非磁性セラミック基板材料として用い、これら
の材料により形成された基板を鏡面加工し、次いで、ト
リクレンやアセトン等の有機溶剤で洗浄した後、基板上
にＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等
の金属磁性薄膜やアモルファス磁性膜を、真空蒸着法，
スパッタリング法，イオンプレーティング法等の公知の
物理的蒸着法により数μｍ〜数十μｍ被着形成すること
により得られる（特開平１−１０８７１１号公報参
照）。
ッドは、例えば、以下のようにして作成される。即ち、
チタン酸バリウム，チタン酸カルシウム，アルミナ系複
合物等を非磁性セラミック基板材料として用い、これら
の材料により形成された基板を鏡面加工し、次いで、ト
リクレンやアセトン等の有機溶剤で洗浄した後、基板上
にＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等
の金属磁性薄膜やアモルファス磁性膜を、真空蒸着法，
スパッタリング法，イオンプレーティング法等の公知の
物理的蒸着法により数μｍ〜数十μｍ被着形成すること
により得られる（特開平１−１０８７１１号公報参
照）。
【０００４】尚、従来のフェライト等を使用した磁気ヘ
ッドとしては、Ｍｎ−ＺｎフェライトやＮｉ−Ｚｎフェ
ライトの磁性材料から成るコア部品を使用したものが知
られており、このコア部品が、フロッピーディスクやハ
ードディスク等の各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘ
ッドに使用されるスペーサ等の非磁性材料から成る構造
部品にガラス溶着されて使用される（特公昭６１−５８
４２９号公報参照）。
ッドとしては、Ｍｎ−ＺｎフェライトやＮｉ−Ｚｎフェ
ライトの磁性材料から成るコア部品を使用したものが知
られており、このコア部品が、フロッピーディスクやハ
ードディスク等の各種磁気ヘッド用スライダーや磁気ヘ
ッドに使用されるスペーサ等の非磁性材料から成る構造
部品にガラス溶着されて使用される（特公昭６１−５８
４２９号公報参照）。
【０００５】スライダーやスペーサ等の非磁性材料とし
ては、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3 ）やチタン酸カ
ルシウム（ＣａＴｉＯ3 ）が使用される。
ては、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3 ）やチタン酸カ
ルシウム（ＣａＴｉＯ3 ）が使用される。
【０００６】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、従来
の磁性薄膜を利用した薄膜磁気ヘッドでは、非磁性セラ
ミック基板上に金属磁性膜を被着した後、この金属磁性
膜の歪を除去し、磁気特性を回復させるために熱処理を
施しているが、上記のようなチタン酸バリウムやチタン
酸カルシウム等を使用した非磁性セラミック基板材料は
１００〜７００℃における熱膨張係数が１００〜１２０
×１０-7／℃であり、また、ＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−
Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等の金属磁性薄膜やアモルファ
ス磁性膜の１００〜７００℃における熱膨張係数が１４
０〜１５０×１０-7／℃であり、非磁性セラミック基板
の熱膨張係数が、金属磁性膜やアモルファス磁性膜の熱
膨張係数より小さいため、熱処理により金属磁性膜やア
モルファス磁性膜が非磁性セラミック基板から剥離して
しまうという欠点があった。
の磁性薄膜を利用した薄膜磁気ヘッドでは、非磁性セラ
ミック基板上に金属磁性膜を被着した後、この金属磁性
膜の歪を除去し、磁気特性を回復させるために熱処理を
施しているが、上記のようなチタン酸バリウムやチタン
酸カルシウム等を使用した非磁性セラミック基板材料は
１００〜７００℃における熱膨張係数が１００〜１２０
×１０-7／℃であり、また、ＦｅーＮｉ，ＦｅーＡｌ−
Ｓｉ，Ｃｏ−ＮｂーＺｒ等の金属磁性薄膜やアモルファ
ス磁性膜の１００〜７００℃における熱膨張係数が１４
０〜１５０×１０-7／℃であり、非磁性セラミック基板
の熱膨張係数が、金属磁性膜やアモルファス磁性膜の熱
膨張係数より小さいため、熱処理により金属磁性膜やア
モルファス磁性膜が非磁性セラミック基板から剥離して
しまうという欠点があった。
【０００７】一方、コア材料として、磁気記録の高密度
化の要求に応えるためＮｉーＺｎフェライトに代えて、
透磁率の高いＭｎ−Ｚｎフェライトが使用されている
が、このＭｎ−Ｚｎフェライトはその熱膨張係数が一般
に１２５〜１３５×１０-7／℃と大であり、チタン酸バ
リウムやチタン酸カルシウムを使用した非磁性セラミッ
クスにより構成されたスライダーやスペーサ等の構造部
品の熱膨張係数( １００〜１２０×１０-7／℃）と大き
く異なるという問題があった。このため、ガラス溶着す
る際の熱処理によりフェライトコアに応力がかかり、磁
気特性の劣化を引き起こすのみならず、コアにクラック
を生じたり、剥離を生じる等、磁気ヘッドの組立上問題
があった。
化の要求に応えるためＮｉーＺｎフェライトに代えて、
透磁率の高いＭｎ−Ｚｎフェライトが使用されている
が、このＭｎ−Ｚｎフェライトはその熱膨張係数が一般
に１２５〜１３５×１０-7／℃と大であり、チタン酸バ
リウムやチタン酸カルシウムを使用した非磁性セラミッ
クスにより構成されたスライダーやスペーサ等の構造部
品の熱膨張係数( １００〜１２０×１０-7／℃）と大き
く異なるという問題があった。このため、ガラス溶着す
る際の熱処理によりフェライトコアに応力がかかり、磁
気特性の劣化を引き起こすのみならず、コアにクラック
を生じたり、剥離を生じる等、磁気ヘッドの組立上問題
があった。
【０００８】さらに、チタン酸バリウムやチタン酸カル
シウムを使用した非磁性セラミックスには、直径３μｍ
を越えるポアが存在し易く、摺動性や鏡面加工性が悪い
という問題もあった。
シウムを使用した非磁性セラミックスには、直径３μｍ
を越えるポアが存在し易く、摺動性や鏡面加工性が悪い
という問題もあった。
【０００９】また、チタン酸バリウムやチタン酸カルシ
ウムのビッカース硬度は７００〜８００ｋｇ／ｍｍ2 と
大きく、チタン酸バリウムやチタン酸カルシウムからな
る非磁性セラミックスにＭｎ−Ｚｎフェライトを溶着し
たヘッドの摺動面を鏡面加工すると、Ｍｎ−Ｚｎフェラ
イト部にあるギャップ部が凹になり、データの読み書き
出力の低下を生じるという問題があった。そこで、従来
からＭｎ−Ｚｎフェライトよりも硬度が低く、鏡面加工
後にＭｎ−Ｚｎフェライト部のギャップ部が凸となる非
磁性セラミックス材料が要求されていた。
ウムのビッカース硬度は７００〜８００ｋｇ／ｍｍ2 と
大きく、チタン酸バリウムやチタン酸カルシウムからな
る非磁性セラミックスにＭｎ−Ｚｎフェライトを溶着し
たヘッドの摺動面を鏡面加工すると、Ｍｎ−Ｚｎフェラ
イト部にあるギャップ部が凹になり、データの読み書き
出力の低下を生じるという問題があった。そこで、従来
からＭｎ−Ｚｎフェライトよりも硬度が低く、鏡面加工
後にＭｎ−Ｚｎフェライト部のギャップ部が凸となる非
磁性セラミックス材料が要求されていた。
【００１０】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は、上記の
問題点に対して検討を重ねた結果、ＭｎＯとＣａＴｉＯ
3 を含有する組成で、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径を２
μｍ以下とすることにより、センダスト，アモルファ
ス，Ｍｎ−Ｚｎフェライトなどの磁性材料の熱膨張係数
と一致するように、非磁性セラミックスの熱膨張係数を
制御することができるとともに、ポアの平均径を小さく
でき、適度なビッカース硬度が得られ、これにより良好
な鏡面加工性を有することができ、薄膜磁気ヘッド用セ
ラミック基板及び各種磁気ヘッド用スライダーやスペー
サ等に好適な非磁性セラミックスを得ることができるこ
とを見出し、本発明に至った。
問題点に対して検討を重ねた結果、ＭｎＯとＣａＴｉＯ
3 を含有する組成で、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径を２
μｍ以下とすることにより、センダスト，アモルファ
ス，Ｍｎ−Ｚｎフェライトなどの磁性材料の熱膨張係数
と一致するように、非磁性セラミックスの熱膨張係数を
制御することができるとともに、ポアの平均径を小さく
でき、適度なビッカース硬度が得られ、これにより良好
な鏡面加工性を有することができ、薄膜磁気ヘッド用セ
ラミック基板及び各種磁気ヘッド用スライダーやスペー
サ等に好適な非磁性セラミックスを得ることができるこ
とを見出し、本発明に至った。
【００１１】即ち、本発明の非磁性セラミックスは、Ｍ
ｎＯを９１〜９９モル％、ＣａＴｉＯ3 を１〜９モル％
の割合で含有するとともに、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒
径が２μｍ以下であるものである。
ｎＯを９１〜９９モル％、ＣａＴｉＯ3 を１〜９モル％
の割合で含有するとともに、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒
径が２μｍ以下であるものである。
【００１２】本発明において、ＭｎＯを９１〜９９モル
％としたのは、ＭｎＯが９１モル％よりも少ない（Ｃａ
ＴｉＯ3 が９モル％よりも多い）とポア発生率が高くな
り、また、熱膨張係数が１４０×１０-7／℃以下とな
り、金属磁性膜やアモルファス磁性膜の熱膨張係数と一
致させることができなくなるからである。一方、ＭｎＯ
が９９モル％を越える（ＣａＴｉＯ3 が１モル％よりも
少ない）とビッカース硬度が４００ｋｇ／ｍｍ2 以下と
なり、ポア平均径が大きくなり鏡面加工性が劣るように
なるとともに、焼結性が悪く、高密度な非磁性セラミッ
ク組成物が得られないためである。ＭｎＯは特に９１〜
９５モル％含有することが望ましい。本発明の非磁性セ
ラミックスには、さらに一種又は２種以上の、例えば、
ＭｇＯ，ＺｎＯ等の不純物が混入することもある。
％としたのは、ＭｎＯが９１モル％よりも少ない（Ｃａ
ＴｉＯ3 が９モル％よりも多い）とポア発生率が高くな
り、また、熱膨張係数が１４０×１０-7／℃以下とな
り、金属磁性膜やアモルファス磁性膜の熱膨張係数と一
致させることができなくなるからである。一方、ＭｎＯ
が９９モル％を越える（ＣａＴｉＯ3 が１モル％よりも
少ない）とビッカース硬度が４００ｋｇ／ｍｍ2 以下と
なり、ポア平均径が大きくなり鏡面加工性が劣るように
なるとともに、焼結性が悪く、高密度な非磁性セラミッ
ク組成物が得られないためである。ＭｎＯは特に９１〜
９５モル％含有することが望ましい。本発明の非磁性セ
ラミックスには、さらに一種又は２種以上の、例えば、
ＭｇＯ，ＺｎＯ等の不純物が混入することもある。
【００１３】また、本発明の非磁性セラミックスは、Ｍ
ｎＯとＣａＴｉＯ3 の結晶からなるものである。そし
て、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径を２μｍ以下としたの
は、平均結晶粒径が２μｍより大きいと、ポア平均径が
大きくなり、焼結体のビッカース硬度が低下し、これに
より鏡面加工性が悪化するからである。このようにＣａ
ＴｉＯ3 の平均結晶粒径を２μｍ以下とするためには、
原料粒径を小さくしたり、焼成温度を１３５０℃以下で
焼成すると良い。一方、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径を
２μｍ以下とすると、ポア平均径を小さくでき、ビッカ
ース硬度をＭｎＯ単独よりも高くＭｎ−Ｚｎフェライト
よりも低くでき、これにより鏡面加工性を向上できるか
らである。ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径は、望ましくは
０．８〜２．０μｍ、特に望ましくは１．３〜１．６μ
ｍとすると良い。
ｎＯとＣａＴｉＯ3 の結晶からなるものである。そし
て、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径を２μｍ以下としたの
は、平均結晶粒径が２μｍより大きいと、ポア平均径が
大きくなり、焼結体のビッカース硬度が低下し、これに
より鏡面加工性が悪化するからである。このようにＣａ
ＴｉＯ3 の平均結晶粒径を２μｍ以下とするためには、
原料粒径を小さくしたり、焼成温度を１３５０℃以下で
焼成すると良い。一方、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径を
２μｍ以下とすると、ポア平均径を小さくでき、ビッカ
ース硬度をＭｎＯ単独よりも高くＭｎ−Ｚｎフェライト
よりも低くでき、これにより鏡面加工性を向上できるか
らである。ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径は、望ましくは
０．８〜２．０μｍ、特に望ましくは１．３〜１．６μ
ｍとすると良い。
【００１４】本発明の非磁性セラミックスの結晶相はＸ
線回折測定からＭｎＯ相とＣａＴｉＯ3 相が主であり、
ＭｎＯに対するＣａＴｉＯ3 の結晶相の第一ピークの強
度比は０．０１〜０．１である。これは、ＣａＴｉＯ3
の熱膨張係数はＭｎＯの熱膨張係数より小さく、０．１
を越えると焼結体の熱膨張係数が低下するからである。
線回折測定からＭｎＯ相とＣａＴｉＯ3 相が主であり、
ＭｎＯに対するＣａＴｉＯ3 の結晶相の第一ピークの強
度比は０．０１〜０．１である。これは、ＣａＴｉＯ3
の熱膨張係数はＭｎＯの熱膨張係数より小さく、０．１
を越えると焼結体の熱膨張係数が低下するからである。
【００１５】また、ＣａＴｉＯ3 を１〜９モル％含有さ
せたのは、熱膨張係数を１４０〜１５０×１０-7／℃の
範囲において適宜設定できるからである。
せたのは、熱膨張係数を１４０〜１５０×１０-7／℃の
範囲において適宜設定できるからである。
【００１６】本発明の非磁性セラミックスは、例えば、
ＭｎＯとＣａＴｉＯ3 を秤量混合し、乾燥する。その
後、８００〜１２００℃で２〜１０時間仮焼しても良
い。これにバインダーを添加して造粒し、例えば、０．
８〜２ton/cm2 の圧力で成形し、この成形体を窒素雰囲
気中で１２００〜１４００℃で焼成することにより作成
される。そして、焼成後、更に、焼結体の緻密化を図る
ため、１３５０〜１５００℃の温度範囲で、１０００〜
２０００気圧のアルゴン雰囲気中で熱間静水圧加圧処理
を行なうことが望ましい。また、焼結体の緻密化を図る
ため、成形法として、プレス成形、押し出し成形、射出
成形、ドクターブレード法を用いることが好ましい。
ＭｎＯとＣａＴｉＯ3 を秤量混合し、乾燥する。その
後、８００〜１２００℃で２〜１０時間仮焼しても良
い。これにバインダーを添加して造粒し、例えば、０．
８〜２ton/cm2 の圧力で成形し、この成形体を窒素雰囲
気中で１２００〜１４００℃で焼成することにより作成
される。そして、焼成後、更に、焼結体の緻密化を図る
ため、１３５０〜１５００℃の温度範囲で、１０００〜
２０００気圧のアルゴン雰囲気中で熱間静水圧加圧処理
を行なうことが望ましい。また、焼結体の緻密化を図る
ため、成形法として、プレス成形、押し出し成形、射出
成形、ドクターブレード法を用いることが好ましい。
【００１７】
【作用】本発明の非磁性セラミックスでは、１４５×１
０-7／℃と高い熱膨張係数を有するＭｎＯに、熱膨張係
数の低い添加物ＣａＴｉＯ2 を所定の割合で添加するこ
とにより、センダスト，アモルファス磁性膜の熱膨張係
数にほぼ一致する１４０〜１４５×１０-7／℃の範囲に
制御することが可能となる。
０-7／℃と高い熱膨張係数を有するＭｎＯに、熱膨張係
数の低い添加物ＣａＴｉＯ2 を所定の割合で添加するこ
とにより、センダスト，アモルファス磁性膜の熱膨張係
数にほぼ一致する１４０〜１４５×１０-7／℃の範囲に
制御することが可能となる。
【００１８】また、ＭｎＯの結晶粒子間にＣａＴｉＯ2
の結晶粒子を分散させるとともに、ＣａＴｉＯ2 の平均
結晶粒径を２μｍ以下とすることにより、ポア平均径を
小さくでき、ビッカース硬度をＭｎＯよりも高くＭｎ−
Ｚｎフェライトよりも低く設定でき、これにより鏡面加
工性に優れた材料を得ることができる。
の結晶粒子を分散させるとともに、ＣａＴｉＯ2 の平均
結晶粒径を２μｍ以下とすることにより、ポア平均径を
小さくでき、ビッカース硬度をＭｎＯよりも高くＭｎ−
Ｚｎフェライトよりも低く設定でき、これにより鏡面加
工性に優れた材料を得ることができる。
【００１９】
【実施例】市販されている純度９９％以上のＭｎＯ（不
純物としてＭｇＯ，ＺｎＯ，Ｎｂ2 Ｏ5 ，ＢａＯ，Ｓｉ
Ｏ2 ，ＳｒＯを含む）を使い、チタン酸カルシウム（Ｃ
ａＴｉＯ3 ）源として塩化カルシウム（ＣａＣｌ2 ）、
炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3 ）、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2 ）などを使い、表１に示す組成比となるように秤量
し、ボールミルを用いて湿式混合した。
純物としてＭｇＯ，ＺｎＯ，Ｎｂ2 Ｏ5 ，ＢａＯ，Ｓｉ
Ｏ2 ，ＳｒＯを含む）を使い、チタン酸カルシウム（Ｃ
ａＴｉＯ3 ）源として塩化カルシウム（ＣａＣｌ2 ）、
炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3 ）、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2 ）などを使い、表１に示す組成比となるように秤量
し、ボールミルを用いて湿式混合した。
【００２０】
【表１】
【００２１】これを乾燥させ、乾燥後の原料を１０００
℃で２時間仮焼を行なった。仮焼後の原料をジルコニア
ボールを使い、マイクロトラック法による平均粒径が１
μｍ以下となるよう微粉砕した。この粉砕によりＺｒＯ
2 が１重量％以下混入することがある。これにバインダ
ーを加えて造粒を行なった後、２ｔｏｎ／ｃｍ2 の圧力
で成形した。その後窒素雰囲気中において表１に示す温
度で２時間焼成し、さらに、アルゴン雰囲気中１２４０
℃で熱間静水圧加圧処理（ＨＩＰ）を１時間行い、各試
料を得た。尚、試料Ｎo.４〜９は仮焼後の原料粉末のマ
イクロトラック法による平均粒径が１．４μｍのもの
を、試料Ｎo.１０，１１は仮焼後の原料粉末のマイクロ
トラック法による平均粒径が０．８μｍのものを使用し
た。
℃で２時間仮焼を行なった。仮焼後の原料をジルコニア
ボールを使い、マイクロトラック法による平均粒径が１
μｍ以下となるよう微粉砕した。この粉砕によりＺｒＯ
2 が１重量％以下混入することがある。これにバインダ
ーを加えて造粒を行なった後、２ｔｏｎ／ｃｍ2 の圧力
で成形した。その後窒素雰囲気中において表１に示す温
度で２時間焼成し、さらに、アルゴン雰囲気中１２４０
℃で熱間静水圧加圧処理（ＨＩＰ）を１時間行い、各試
料を得た。尚、試料Ｎo.４〜９は仮焼後の原料粉末のマ
イクロトラック法による平均粒径が１．４μｍのもの
を、試料Ｎo.１０，１１は仮焼後の原料粉末のマイクロ
トラック法による平均粒径が０．８μｍのものを使用し
た。
【００２２】得られた試料について熱膨張係数, ＣａＴ
ｉＯ3 の平均結晶粒径，ポアの評価, １ｋｇｆ荷重のビ
ッカース硬度, ＭｎＯ相に対するＣａＴｉＯ3 相のピー
ク強度比，耐摩耗性について調べ、表１に記した。熱膨
張係数は商品名ＴＡＳ−２００（理学電機製）を用い、
窒素雰囲気中で１００〜６００℃の平均熱膨張係数を測
定した。ポアの評価は、１μｍのダイヤモンド砥粒によ
り最終ラップ面に占めるポア径を測定し、ポア平均径が
１μｍ以下を●印、１〜３μｍを○印、３μｍより大を
×印で示した。また、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径は、
鏡面加工した面のＣａＴｉＯ3 の結晶粒径をＬｕｚｅｘ
画像処理装置を用いて測定した。さらに、Ｘ線回折測定
によりＭｎＯ相の（２００）ピークに対するＣａＴｉＯ
3 相の（００２）ピークのピーク強度比を測定した。
ｉＯ3 の平均結晶粒径，ポアの評価, １ｋｇｆ荷重のビ
ッカース硬度, ＭｎＯ相に対するＣａＴｉＯ3 相のピー
ク強度比，耐摩耗性について調べ、表１に記した。熱膨
張係数は商品名ＴＡＳ−２００（理学電機製）を用い、
窒素雰囲気中で１００〜６００℃の平均熱膨張係数を測
定した。ポアの評価は、１μｍのダイヤモンド砥粒によ
り最終ラップ面に占めるポア径を測定し、ポア平均径が
１μｍ以下を●印、１〜３μｍを○印、３μｍより大を
×印で示した。また、ＣａＴｉＯ3 の平均結晶粒径は、
鏡面加工した面のＣａＴｉＯ3 の結晶粒径をＬｕｚｅｘ
画像処理装置を用いて測定した。さらに、Ｘ線回折測定
によりＭｎＯ相の（２００）ピークに対するＣａＴｉＯ
3 相の（００２）ピークのピーク強度比を測定した。
【００２３】鏡面加工性については、♯２７０のダイヤ
モンド砥石で研削し、１μｍのダイヤ砥粒を用い研磨
し、鏡面が現出するまでの研磨代を測定した。鏡面が現
出するまでの研磨代が１５μｍ以下である場合を鏡面加
工性が優、１５〜２５μｍの場合を良、２５μｍよりも
多い場合を否とした。
モンド砥石で研削し、１μｍのダイヤ砥粒を用い研磨
し、鏡面が現出するまでの研磨代を測定した。鏡面が現
出するまでの研磨代が１５μｍ以下である場合を鏡面加
工性が優、１５〜２５μｍの場合を良、２５μｍよりも
多い場合を否とした。
【００２４】尚、多結晶フェライトをＨＩＰ処理して製
造したＭｎ−Ｚｎフェライト多結晶と、フェライトとセ
ラミックを溶着させる結晶化ガラスを上記と同様に研削
した結果、本発明では研削面が滑らかで（表面粗さＲｚ
＝２〜３μm ）、かつ、鏡面加工性が優または良である
ことが判った。一方、Ｍｎ−Ｚｎフェライト多結晶では
研削面が表面粗さＲｚ＝５〜６μm 、鏡面加工性も悪
く、結晶化ガラスでも同様に表面粗さＲｚ＝４〜６μm
であり鏡面加工性も悪かった。
造したＭｎ−Ｚｎフェライト多結晶と、フェライトとセ
ラミックを溶着させる結晶化ガラスを上記と同様に研削
した結果、本発明では研削面が滑らかで（表面粗さＲｚ
＝２〜３μm ）、かつ、鏡面加工性が優または良である
ことが判った。一方、Ｍｎ−Ｚｎフェライト多結晶では
研削面が表面粗さＲｚ＝５〜６μm 、鏡面加工性も悪
く、結晶化ガラスでも同様に表面粗さＲｚ＝４〜６μm
であり鏡面加工性も悪かった。
【００２５】表１により、本発明の範囲内にある試料
は、熱膨張係数が１４０〜１４８×１０-7／℃で、ポア
平均径が３μｍ以下、１ｋｇｆ荷重のビッカース硬度が
Ｈｖ＝４０５〜５００ｋｇ／ｍｍ2 であり、鏡面加工性
に優れた特性を有していることが判った。
は、熱膨張係数が１４０〜１４８×１０-7／℃で、ポア
平均径が３μｍ以下、１ｋｇｆ荷重のビッカース硬度が
Ｈｖ＝４０５〜５００ｋｇ／ｍｍ2 であり、鏡面加工性
に優れた特性を有していることが判った。
【００２６】
【発明の効果】以上、詳述した通り、本発明によれば、
高い熱膨張係数を有するＭｎＯに、熱膨張係数の低い添
加物ＣａＴｉＯ2 を所定の割合で添加するとともに、Ｃ
ａＴｉＯ2 の平均結晶粒径を２μｍ以下とすることによ
り、磁性膜，センダスト，アモルファス磁性膜の熱膨張
係数にほぼ一致する熱膨張係数を得ることができる。ま
た、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの硬度よりも小さく、かつ、
Ｍｎ−Ｚｎフェライトの熱膨張係数に近づけることがで
きるとともに、加工性に優れた緻密な非磁性セラミック
スを得ることができる。本発明の非磁性セラミックスの
ビッカース硬度がＭｎ−Ｚｎフェライトの硬度よりも小
さくなるため、本発明の非磁性セラミックスにＭｎ−Ｚ
ｎフェライトを溶着したヘッドの摺動面を鏡面加工する
と、Ｍｎ−Ｚｎフェライト部にあるギャップ部が凸にな
り、データの読み書き出力の低下を防止することができ
る。
高い熱膨張係数を有するＭｎＯに、熱膨張係数の低い添
加物ＣａＴｉＯ2 を所定の割合で添加するとともに、Ｃ
ａＴｉＯ2 の平均結晶粒径を２μｍ以下とすることによ
り、磁性膜，センダスト，アモルファス磁性膜の熱膨張
係数にほぼ一致する熱膨張係数を得ることができる。ま
た、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの硬度よりも小さく、かつ、
Ｍｎ−Ｚｎフェライトの熱膨張係数に近づけることがで
きるとともに、加工性に優れた緻密な非磁性セラミック
スを得ることができる。本発明の非磁性セラミックスの
ビッカース硬度がＭｎ−Ｚｎフェライトの硬度よりも小
さくなるため、本発明の非磁性セラミックスにＭｎ−Ｚ
ｎフェライトを溶着したヘッドの摺動面を鏡面加工する
と、Ｍｎ−Ｚｎフェライト部にあるギャップ部が凸にな
り、データの読み書き出力の低下を防止することができ
る。
【００２７】さらに、ＭｎＯの結晶粒子間にＣａＴｉＯ
2 の結晶粒子を分散させるとともに、ＣａＴｉＯ2 の平
均結晶粒径を２μｍ以下とすることにより、ポア平均径
を小さくすることができるとともに、ＭｎＯ単独よりも
ビッカース硬度を高くすることができ、これにより鏡面
加工性に優れた材料を得ることができる。
2 の結晶粒子を分散させるとともに、ＣａＴｉＯ2 の平
均結晶粒径を２μｍ以下とすることにより、ポア平均径
を小さくすることができるとともに、ＭｎＯ単独よりも
ビッカース硬度を高くすることができ、これにより鏡面
加工性に優れた材料を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 21/21 １０１ Ｋ 9197−5Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】ＭｎＯを９１〜９９モル％、ＣａＴｉＯ3
を１〜９モル％の割合で含有するとともに、ＣａＴｉＯ
3 の平均結晶粒径が２μｍ以下であることを特徴とする
非磁性セラミックス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05244402A JP3085619B2 (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 非磁性セラミックス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05244402A JP3085619B2 (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 非磁性セラミックス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0797261A true JPH0797261A (ja) | 1995-04-11 |
| JP3085619B2 JP3085619B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=17118140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05244402A Expired - Fee Related JP3085619B2 (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 非磁性セラミックス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3085619B2 (ja) |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP05244402A patent/JP3085619B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3085619B2 (ja) | 2000-09-11 |
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