JPH08103648A - 充填塔式気液接触装置 - Google Patents
充填塔式気液接触装置Info
- Publication number
- JPH08103648A JPH08103648A JP6259685A JP25968594A JPH08103648A JP H08103648 A JPH08103648 A JP H08103648A JP 6259685 A JP6259685 A JP 6259685A JP 25968594 A JP25968594 A JP 25968594A JP H08103648 A JPH08103648 A JP H08103648A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- gas
- treated
- support plate
- tower
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 運転再開時のたち上がり時間が短く、被処理
液、ガスの無駄が少ない充填塔式気液接触装置を提供す
る。 【構成】 処理塔１内に、ダウンカマー３を取付けた支
持板２を上下方向に複数段固定し、各支持板上に充填層
５を設け、塔内で被処理液を下向流させると共に、ガス
を上向流させ、被処理液とガスを各段の充填層中で向流
接触させる充填塔式気液接触装置において、支持板２に
被処理液の残溜防止用の小穴１２を開設する。
液、ガスの無駄が少ない充填塔式気液接触装置を提供す
る。 【構成】 処理塔１内に、ダウンカマー３を取付けた支
持板２を上下方向に複数段固定し、各支持板上に充填層
５を設け、塔内で被処理液を下向流させると共に、ガス
を上向流させ、被処理液とガスを各段の充填層中で向流
接触させる充填塔式気液接触装置において、支持板２に
被処理液の残溜防止用の小穴１２を開設する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、純水や、超純水を製
造する際に、水中の溶存酸素を窒素ガスなどの脱気用ガ
スで放散、除去する脱気塔や、ガス中のアンモニアを水
中に吸収、除去する吸収塔に使用できる充填塔式気液接
触装置に関する。
造する際に、水中の溶存酸素を窒素ガスなどの脱気用ガ
スで放散、除去する脱気塔や、ガス中のアンモニアを水
中に吸収、除去する吸収塔に使用できる充填塔式気液接
触装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３に示す脱気塔を例にとって説明する
と、処理塔１内に、ダウンカマー３、ガスライザ４を取
付けた支持板２を上下方向に複数段固定し、各支持板上
にラシヒリングによる充填層５を設け、給水管６、散水
装置７で最上段の充填層上に被処理液を散水して被処理
液を各段の支持板のダウンカマーを通じ下向流させると
共に、最下段の充填層の支持板の下方に送気管８で窒素
ガスなどの脱気用ガスを供給し、各段の支持板のガスラ
イザを通じ脱気用ガスを上向流させ、各段の充填層中で
被処理液と脱気用ガスを向流接触させて被処理液中の溶
存酸素を脱気用ガスで放散除去する脱気塔は従来から公
知であり、塔内上部に上昇したガスは塔頂の排気口９か
ら外に放出し、脱気処理水は塔下部の水槽１０に集め、
ポンプＰ、送水管１１で送水する。
と、処理塔１内に、ダウンカマー３、ガスライザ４を取
付けた支持板２を上下方向に複数段固定し、各支持板上
にラシヒリングによる充填層５を設け、給水管６、散水
装置７で最上段の充填層上に被処理液を散水して被処理
液を各段の支持板のダウンカマーを通じ下向流させると
共に、最下段の充填層の支持板の下方に送気管８で窒素
ガスなどの脱気用ガスを供給し、各段の支持板のガスラ
イザを通じ脱気用ガスを上向流させ、各段の充填層中で
被処理液と脱気用ガスを向流接触させて被処理液中の溶
存酸素を脱気用ガスで放散除去する脱気塔は従来から公
知であり、塔内上部に上昇したガスは塔頂の排気口９か
ら外に放出し、脱気処理水は塔下部の水槽１０に集め、
ポンプＰ、送水管１１で送水する。
【０００３】脱気運転中、上の段の充填層から下の段の
充填層に被処理液を均一に流下させ、充填層中を被処理
液が偏流するのを防止するため、図４に示すように各段
の支持板に取付けた上端に斜めの開口を有するダウンカ
マーの液流入口３´は支持板の上面から一定量の高さを
とって上に位置させてある。従って、支持板上に被処理
液が溜り、その水位ｈがダウンカマーの上端の液流入口
の位置よりも上がろうとすると、溜った被処理液は全部
のダウンカマーの液流入口に溢入し、その内部を通って
一斉に下の段の充填層に流れ落ちる。
充填層に被処理液を均一に流下させ、充填層中を被処理
液が偏流するのを防止するため、図４に示すように各段
の支持板に取付けた上端に斜めの開口を有するダウンカ
マーの液流入口３´は支持板の上面から一定量の高さを
とって上に位置させてある。従って、支持板上に被処理
液が溜り、その水位ｈがダウンカマーの上端の液流入口
の位置よりも上がろうとすると、溜った被処理液は全部
のダウンカマーの液流入口に溢入し、その内部を通って
一斉に下の段の充填層に流れ落ちる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようにダウンカマ
ーの液流入口３´の位置を支持板の上面よりも高くして
あるので、運転を停止すると各段の支持板上には液流入
口３´の位置よりも水位を下にした被処理液が残溜し、
残溜した被処理液の水質は、塔内雰囲気により悪化す
る。特に、超純水製造用に使用するときには、超純水の
要求水質レベルであるｐｐｂのオーダーでは、この水質
の悪化は非常に問題になる。従って、運転を再開した当
初は残溜被処理液が脱気されて塔下部の水槽１０に流下
するので、これは捨て、運転を再開して供給した被処理
液が処理水になって水槽に溜るまで処理水の送水を待た
ねばならず、運転再開後の起ち上がりに長い時間（通常
は９０分程度）を要し、運転効率が低下する。又、その
間、被処理液、脱気用ガスの供給を行わねばならないの
で、これらが無駄になり、ロスとなる。
ーの液流入口３´の位置を支持板の上面よりも高くして
あるので、運転を停止すると各段の支持板上には液流入
口３´の位置よりも水位を下にした被処理液が残溜し、
残溜した被処理液の水質は、塔内雰囲気により悪化す
る。特に、超純水製造用に使用するときには、超純水の
要求水質レベルであるｐｐｂのオーダーでは、この水質
の悪化は非常に問題になる。従って、運転を再開した当
初は残溜被処理液が脱気されて塔下部の水槽１０に流下
するので、これは捨て、運転を再開して供給した被処理
液が処理水になって水槽に溜るまで処理水の送水を待た
ねばならず、運転再開後の起ち上がりに長い時間（通常
は９０分程度）を要し、運転効率が低下する。又、その
間、被処理液、脱気用ガスの供給を行わねばならないの
で、これらが無駄になり、ロスとなる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解消するため、各段の支持板に被処理液の残溜防止用の
小穴を開設したことを特徴とする。
解消するため、各段の支持板に被処理液の残溜防止用の
小穴を開設したことを特徴とする。
【０００６】
【実施例】図１，２は本発明による各段の支持板で、ダ
ウンカマー３、ガスライザ４を取付けたほか１ケ所、又
は複数個所に被処理液の残溜防止用の小孔１２が開設し
てある。小孔１２の直径は５〜１０ｍｍ程度であり、小
孔の開口率はダウンカマーの全開口面積の１０％以下、
好ましくは０．１〜５％にする。そして、上の段の支持
板の小孔と、下の段の小孔の位置は喰違わせ、脱気運転
中に上の段の支持板の小孔から流下する被処理液が下の
段の充填層を通り、下の段の支持板の小孔から流下し、
脱気が不充分になる短絡流が起こらないようにする。
ウンカマー３、ガスライザ４を取付けたほか１ケ所、又
は複数個所に被処理液の残溜防止用の小孔１２が開設し
てある。小孔１２の直径は５〜１０ｍｍ程度であり、小
孔の開口率はダウンカマーの全開口面積の１０％以下、
好ましくは０．１〜５％にする。そして、上の段の支持
板の小孔と、下の段の小孔の位置は喰違わせ、脱気運転
中に上の段の支持板の小孔から流下する被処理液が下の
段の充填層を通り、下の段の支持板の小孔から流下し、
脱気が不充分になる短絡流が起こらないようにする。
【０００７】このように各段の支持板に小孔１２を開設
すると、脱気運転を停止した際、各段の支持板上に溜っ
た被処理液は小孔を通って下の段の充填層に流れ落ち、
最終的には最下段の支持板の小孔から水槽１０に落ち、
運転の中断時間の長さにもよるが、例えば２４時間脱気
運転し、２４時間運転を停め、それから運転を再開する
場合、各段の支持板上には前回運転の際の被処理液は殆
どない。
すると、脱気運転を停止した際、各段の支持板上に溜っ
た被処理液は小孔を通って下の段の充填層に流れ落ち、
最終的には最下段の支持板の小孔から水槽１０に落ち、
運転の中断時間の長さにもよるが、例えば２４時間脱気
運転し、２４時間運転を停め、それから運転を再開する
場合、各段の支持板上には前回運転の際の被処理液は殆
どない。
【０００８】従って、運転を再開する際は水槽１０に溜
っている前回の被処理液を排出して捨て、脱気塔の内部
が完全に脱気用ガスで満たされるのに必要な約２０分間
程度の立ち上がり時間で脱気処理水を得ることができ
る。
っている前回の被処理液を排出して捨て、脱気塔の内部
が完全に脱気用ガスで満たされるのに必要な約２０分間
程度の立ち上がり時間で脱気処理水を得ることができ
る。
【０００９】尚、ダウンカマー、ガスライザは図示の構
造のものに限定されない。又、処理塔は脱気塔に限ら
ず、吸収塔でもよい。
造のものに限定されない。又、処理塔は脱気塔に限ら
ず、吸収塔でもよい。
【００１０】
【発明の効果】以上で明らかなように、本発明によれば
運転再開後の立ち上がり時間が著しく短縮する充填塔式
気液接触装置が得られる。従って、運転効率は高まると
共に、無駄になる被処理液やガスの量も少ない。更に、
支持板に小孔を開設すればよいので、既設の塔を容易に
改造して実施できる。
運転再開後の立ち上がり時間が著しく短縮する充填塔式
気液接触装置が得られる。従って、運転効率は高まると
共に、無駄になる被処理液やガスの量も少ない。更に、
支持板に小孔を開設すればよいので、既設の塔を容易に
改造して実施できる。
【図１】この発明の脱気塔の要部の一部を拡大した断面
図である。
図である。
【図２】図１の一半の平面図である。
【図３】脱気塔の全体の断面図である。
【図４】従来の脱気塔の支持板の一部を拡大した断面図
である。
である。
【図５】図４の一半の平面図である。
１ 処理塔 ２ 支持板 ３ ダウンカマー ３´ ダウンカマーの液流入口 ４ ガスライザ ５ 充填層 ６ 給水管 ７ 散水装置 ８ 送気管 ９ 排気管 １０ 水槽 １１ 送水管 １２ 小孔
Claims (1)
- 【請求項１】 処理塔内に、ダウンカマーを取付けた支
持板を上下方向に複数段固定し、各支持板上に充填層を
設け、塔内で被処理液を下向流させると共に、ガスを上
向流させ、被処理液とガスを各段の充填層中で向流接触
させる充填塔式気液接触装置において、支持板に被処理
液の残溜防止用の小穴を開設したことを特徴とする充填
塔式気液接触装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6259685A JPH08103648A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 充填塔式気液接触装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6259685A JPH08103648A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 充填塔式気液接触装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08103648A true JPH08103648A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17337499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6259685A Pending JPH08103648A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 充填塔式気液接触装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08103648A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001120982A (ja) * | 1999-10-25 | 2001-05-08 | Nittetu Chemical Engineering Ltd | 塔方式の気液接触装置 |
| JP2011516107A (ja) * | 2008-02-28 | 2011-05-26 | メガイア リミテッド | 空気の処理及び清浄化のための装置及び方法 |
-
1994
- 1994-09-30 JP JP6259685A patent/JPH08103648A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001120982A (ja) * | 1999-10-25 | 2001-05-08 | Nittetu Chemical Engineering Ltd | 塔方式の気液接触装置 |
| JP2011516107A (ja) * | 2008-02-28 | 2011-05-26 | メガイア リミテッド | 空気の処理及び清浄化のための装置及び方法 |
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