JPH08129245A - 感光材料用支持体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シンジオタクチックポリスチレンの寸法安定
性を維持しつつ、巻ぐせカールが付きにくい性能を付与
すること。 【構成】 シンジオタクチックポリスチレンを主成分と
するフィルムの少なくとも片面に熱可塑性樹脂層が被覆
されている構造を有することを特徴とする感光材料用支
持体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、感光材料用支持体に関
し、詳しくは高度に寸法安定化された感光材料用支持体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】感光材料用支持体には、各種の合成樹脂
がこれまでに検討されている。この支持体に要求される
性能としては、光学的に透明であることはもとより、中
間層を介して感光層と接着すること、寸法安定性がある
ことなどが要求される。

【０００３】例えば、ハロゲン化銀写真感光材料である
場合には、疎水性支持体樹脂に対し、親水性である感光
性層が、中間層である下引層を介して接着しなければな
らないし、溶剤系で塗設される感光材料の場合には、感
光性層が熱転写性あるいは熱受像性を補助する中間層を
介して接着される。

【０００４】一般に写真用支持体としては、小径のコア
に巻かれ用いられる写真感光材料用には、現像処理によ
り巻ぐせの解消するセルローストリアセテート（TAC）
が、また大径のコアに巻かれたり、シート状で用いられ
る写真感光材料用には、ポリエチレンテレフタレート
（PET）が使用されている。

【０００５】また、非ハロゲン化銀感光材料としては、
耐水性、耐熱性があり寸法精度の良いPETが同じく用い
られる。

【０００６】更に、情報量が増し単位面積当たりの記録
密度をこれまで以上に増すことが要求されてきており、
これまで以上にハロゲン化銀写真感光材料の寸法安定性
が要求されてきている。これはハロゲン化銀感光材料
が、最終的な画像保存のために用いられる場合もある
が、最終的な画像を映し出すための、中間材料として用
いる場合があるためである。つまり、何種類かの中間材
料を順次焼き付けるがその間に寸法がずれることにより
明瞭な画像が得られなくなるという問題のためである。

【０００７】この寸法ずれは、ハロゲン化銀写真感光材
料の場合バインダーが親水性高分子であるゼラチンを主
成分としているために環境湿度により、伸縮するため
と、それをささえる支持体であるPET、TACが疎水性であ
るとはいえ分子内に、親水性の部分を有するために僅か
にではあるが、環境の湿度変化の影響を受けるためであ
る。

【０００８】ハロゲン化銀写真感光材料の場合この効果
は顕著であるが、非ハロゲン化銀感光材料の場合には、
更に支持体の熱による伸びを考えなければならない。

【０００９】支持体の吸水性を防止する方法としては、
防水層例えばポリ塩化ビニリデン等からなる層を支持体
に設層する方法が提案され実施されている。

【００１０】ところで、ポリ塩化ビニリデンを支持体に
設けた場合下記の様な問題点がある。

【００１１】長期間の保存により徐々に脱塩素化が進
みそのために画像が変色する、 製膜時に端部を回収して再利用する際に、同じく脱塩
素化して支持体自身が、変色してしまう、 廃棄の際には、焼却で塩素が発生するために環境に問
題が出てしまったり、脱塩酸装置などを取り付ける必要
がある、などである。

【００１２】さて、特開平3-131843号で提案されている
主鎖の主たる連鎖がラセモであるポリスチレン（いわゆ
るシンジオタクチックポリスチレン（SPS））は、従来
のポリスチレンの問題であった結晶性がないために熱に
対しての熱寸法安定性がない問題を解決した画期的なフ
ィルムであった。

【００１３】ところが、結晶性が高いために、易接着
性のための表面加工が施しにくい、カールがつきやす
いなどの問題があった。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、寸法
安定性の高いSPSの特徴を維持しつつ、巻ぐせカールが
付きにくい性能を付与させることにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者らが、鋭意検討
をしたところ、 １．シンジオタクチックポリスチレンを主成分とするフ
ィルムの少なくとも片面に熱可塑性樹脂層が被覆されて
いる構造を有することを特徴とする感光材料用支持体、 ２．該熱可塑性樹脂層が、シンジオタクチックポリスチ
レンを主成分とする組成物の両面に共押しだしした後に
２軸延伸熱固定されたものであるか、２軸延伸熱固定さ
れたシンジオタクチックポリスチレンフィルムの表層に
ラミネーションして得られたものであることを特徴とす
る前記１項記載の感光材料用支持体、 ３．前記熱可塑性樹脂層の膜厚が、片面当たり0.1μm以
上50μm以下であることを特徴とする前記１または２項
記載の感光材料用支持体、 ４．前記感光材料がハロゲン化銀写真感光材料であるこ
とを特徴とする前記１、２または３項記載の感光材料用
支持体、 ５．転写性もしくは被転写性感光材料であることを特徴
とする前記１、２、３または４項記載の感光材料用支持
体、により上記課題を解決出来ることが判った。

【００１６】つまり、本発明のSPSの少なくとも片面に
熱可塑性の樹脂層があるために、最表面の樹脂層がSPS
よりもゴム弾性があり、熱可塑性樹脂面を巻き外面に巻
いた場合にSPSにつくカールよりも、樹脂層が縮もうと
する力が、相対的に高くなるためにカールの付きにくい
支持体となるのである。

【００１７】さらに感光層との接着性は、最上層のオレ
フィンに、共重合により親水成分を有る程度含有させる
事が接着性を向上する事が判った。

【００１８】本発明において、シンジオタクチックポリ
スチレンを主成分とするフィルムとは、主鎖の主たる連
鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体あるいは、そ
れを含む組成物であり、スチレンの単独重合体であれ
ば、特開昭62-117708号記載の方法で重合することが可
能であり、またその他の重合体については、特開平1-46
912号、同1-178505号等に記載された方法により重合す
ることにより得ることができる。

【００１９】また、主鎖の連鎖に対しては、¹³C-NMRを
用いての、ベンゼン環の１位の炭素の測定によりペンタ
ッドタクチシティとして定量されることが一般的でかつ
精度に優れる。

【００２０】本発明において、ラセモ連鎖は、２連鎖で
85％以上、３連鎖で75％以上、５連鎖で50％以上である
ことが好ましい。

【００２１】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体は、具体的なモノマーとしてスチレ
ン、アルキルスチレン、ハロゲン化アルキルスチレン、
アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エステル等を主成
分とする重合体である。

【００２２】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを重
合用の触媒として、特開平5-320448号、４頁〜10頁に記
載の（イ）（ａ）遷移金属化合物及び（ｂ）アルミノキ
サンを主成分とするもの、又は（ロ）（ａ）遷移金属化
合物及び（ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性錯体
を形成しうる化合物を主成分とするものを用いて重合し
て製造することができる。

【００２３】上記（ａ）成分の遷移金属化合物としては
様々なものがあるが、好ましくは一般式（Ｉ） M¹R²
・・・R^K （Ｉ） 〔式中、Ｍ¹はTi，Zr，Cr，Ｖ，Nb，Ta又はHfを示し、
Ｒ²〜Ｒ^kは、それぞれ水素原子，酸素原子，ハロゲン原
子，炭素数１〜20のアルキル基，炭素数１〜20のアルコ
キシ基；炭素数６〜20のアリール基，アルキルアリール
基若しくはアリールアルキル基；炭素数１〜20のアシル
オキシ基、アリル基、置換アリル基，アセチルアセトナ
ート基，置換アセチルアセトナート基，ケイ素原子を含
む置換基、あるいはカルボニル，酸素分子，窒素分子，
ルイス塩基，鎖状不飽和炭化水素又は環状不飽和炭化水
素などの配位子、シクロペンタジエニル基，置換シクロ
ペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，
テトラヒドロインデニル基，置換テトラヒドロインデニ
ル基，フルオレニル基又は置換フルオレニル基を示す。
また、Ｋは金属の原子価を示し、通常２〜５の整数を示
す〕で表される化合物を挙げることができる。

【００２４】ここで、置換シクロペンタジエニル基とし
ては、例えば、メチルシクロペンタジエニル基，エチル
シクロペンタジエニル基，イソプロピルシクロペンタジ
エニル基，1,2-ジメチルシクロペンタジエニル基，テト
ラメチルシクロペンタジエニル基，1,3-ジメチルシクロ
ペンダジエニル基，1,2,3-トリメチルシクロペンタジエ
ニル基，1,2,4-トリメチルシクロペンタジエニル基，ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル基，トリメチルシリル
シクロペンタジエニル基などが挙げられる。また、Ｒ²
〜Ｒ^kの配位子は、配位子間で共有結合によって架橋体
を形成してもよい。ハロゲン原子の具体例としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子；炭素数１
〜20のアルキル基としては、メチル基，エチル基，n-プ
ロピル基，iso-プロピル基，n-ブチル基，オクチル基，
2-エチルヘキシル基など、炭素数１〜20のアルコキシ基
としては、メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブ
トキシ基，フェノキシ基など、炭素数６〜20のアリール
基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基と
しては、フェニル基，トリル基，キシリル基，ベンジル
基など、炭素数１〜20のアシルオキシ基としては、ヘプ
タデシルカルボニルオキシ基など、ケイ素原子を含む置
換基としては、トリメチルシリル基，(トリメチルシリ
ル)メチル基など、ルイス塩基としては、ジメチルエー
テル，ジエチルエーテル，テトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル
類，エチルベンゾエートなどのエステル類，ベンゾニト
リルなどのニトリル類，トリメチルアミン，トリエチル
アミン，トリブチルアミン；N,N-ジメチルアニリン，ピ
リジン；2,2′-ピピリジン，フェナントロリンなどのア
ミン類，トリエチルホスフィン，トリフェニルホスフィ
ンなどのホスフィン類など、鎖状不飽和炭化水素として
は、エチレン，ブタジエン，1-ペンテン，イソプレン，
ペンタジエン，1-ヘキセン及びこれらの誘導体など、環
状不飽和炭化水素としては、ベンゼン，トルエン，キシ
レン，シクロヘプタトリエン，シクロオクタジエン，シ
クロオクタトリエン，シクロオクタテトラエン及びこれ
らの誘導体などが挙げられる。共有結合による架橋とし
ては、例えば、メチル架橋，ジメチルメチレン架橋，エ
チレン架橋，ジメチルシリレン架橋，ジメチルスタニレ
ン架橋などが挙げられる。

【００２５】チタニウム化合物の具体例としては、テト
ラメトキシチタン，テトラエトキシチタン，四塩化チタ
ン，三塩化チタン，シクロペンタジエニルトリメチルチ
タン，シクロペンタジエニルトリエチルチタン，シクロ
ペンタジエニルトリプロピルチタン，1,2-ジメチルシク
ロペンタジエニルトリメチルチタン，ペンタメチルシク
ロペンタジエニルトリエチルチタン，ペンタメチルシク
ロペンタジエニルトリブチルチタン，シクロペンタジエ
ニルメチルチタンジクロリド，ペンタメチルシクロペン
タジエニルメチルチタンジクロリド，シクロペンタジエ
ニルジメチルチタンモノクロリド；シクロペンタジエニ
ルチタントリプロポキシド，シクロペンタジエニルチタ
ントリフェノキシド，ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリエトキシド，ペンタメチルシクロペンタジ
エニルチタントリフェノキシド，シクロペンタジエニル
チタントリクロリド，ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリクロリド，ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルメトキシチタンジクロリド，インデニルチタントリ
メトキシド，インデニルトリメチルチタンなどが挙げら
れる。

【００２６】また、一般式（Ｉ）で表される遷移金属化
合物のうち、Ｍ¹がジルコニウムであるジルコニウム化
合物の具体例としては、ジシクロペンタジエニルジルコ
ニウムジクロリド，テトラブトキシジルコニウム，四塩
化ジルコニウム，テトラフェニルジルコニウム，シクロ
ペンタジエニルジルコニウムトリメトキシド，ペンタメ
チルシクロペンタジエニルトリベンジルジルコニウム，
ビスインデニルジルコニウムジクロリド，ジルコニウム
ジベンジルジクロリド，トリブトキシジルコニウムクロ
リド，トリイソプロポキシジルコニウムクロリド，(ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル)トリメチルジルコニ
ウム，(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリフェニ
ルジルコニウム，(シクロペンタジエニル)トリクロロル
ジルコニウム，(メチルシクロペンタジエニル)トリクロ
ロジルコニウム，(メチルシクロペンタジエニル)ジメチ
ル(メトキシ)ジルコニウム，ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジフェニルジルコニウム，ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジメトキシジルコニウム，ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジヒドリドジルコニウム，ビス(メチルシクロペンタ
ジエニル)ジメチルジルコニウム，ビス(メチルシクロペ
ンタジエニル)ジクロロジルコニウム，ビス(ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム，ビス
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ヒドリドメチルジ
ルコニウム，エチレンビス(インデニル)ジメチルジルコ
ニウム，ジメチルシリレンビス(シクロペンタジエニル)
ジメチルジルコニウム，イソプロピル(シクロペンタジ
エニル)(9-フルオレニル)ジメチルジルコニウム，エチ
リデン(9-フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメチ
ルジルコニウム，シクロヘキシル(9-フルオレニル)(シ
クロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム，シクロブ
チル(9-フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメチル
ジルコニウム，ジメチルシリレンビス(2,3,5-トリメチ
ルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウムなどか
挙げられる。

【００２７】ハフニウム化合物の具体例としては、シク
ロペンタジエニルハフニウムトリメトキシイミド，ペン
タメチルシクロペンタジエニルハフニウムトリメトキシ
イシド，ペンタメチルシクロペンタジエニルトリベンジ
ルハフニウム，ハフニウムジベンジルジクロリド，四酸
化ハフニウム，ジシクロペンタジエニルハフニウムジク
ロリドなどが挙げられる。バナジウムの具体例として
は、バナジウムトリクロリド，バナジルトリクロリド，
バナジウムトリアセチルアセトナート，バナジウムテト
ラクロリド，バナジウムトリブトキシド，バナジルジク
ロリド，バナジルビスアセチルアセトナート，バナジル
トリアセチルアセトナート，ジベンゼンバナジウム，ジ
シクロペンタジエニルバナジウム，ジシクロペンタジエ
ニルバナジウムジクロリド，シクロペンタジエニルバナ
ジウムジクロリド，ジシクロペンタジエニルメチルバナ
ジウムなどが挙げられる。ニオブ化合物の具体例として
は、五塩化ニオブ，テトラクロロメチルニオブ，ジクロ
ロトリメチルニオブ，ジシクロペンタジエニルニオブジ
クロリド，ジシクロペンタジエニルニオブトリヒドリ
ド，ペンタブトキシニオブなどが挙げられる。タンタル
化合物の具体例としては、五塩化タンタル，ジクロルト
リメチルタンタル，ジシクロペンタジエニルタンタルト
リヒドリド，ペンタブトキシニオブなどが、クロム化合
物の具体例としては、三塩化クロム，テトラブトキシク
ロム，テトラメチルクロム，ジシクロペンタジエニルク
ロム，ジベンゼンクロムなどが挙げられる。

【００２８】さらに、その他の遷移金属化合物として、
上記遷移金属化合物をマグネシウム化合物やケイ素化合
物などの担体に担持したものを用いることができるし、
上記遷移化合物を電子供与性化合物で変性したものも用
いることができる。これらの遷移金属化合物の中でも特
に好ましいものは、チタニウム化合物及びジルコニウム
化合物である。該（イ）触媒には、上記（ａ）遷移金属
化合物とともに（ｂ）アルミノキサンが用いられる。こ
のアルミノキサンは、有機アルミニウム化合物と縮合剤
を接触させることにより得られるものであって、一般式
（II）

【００２９】

【化１】

【００３０】〔式中、Ｒ³は炭素数１〜20のアルキル
基，好ましくはメチル基を示し、ｐは０〜50、好ましく
は５〜30の数を示す。〕で表される鎖状アルミノキサン
や、一般式（III）

【００３１】

【化２】

【００３２】〔式中、Ｒ³は上記と同じであり、ｑは２
〜50、好ましくは５〜30の数を示す。〕で表される環状
アルミノキサンなどがある。該有機アルミニウム化合物
としては、例えばトリメチルアルミニウム，トリエチル
アルミニウム，トリイソブチルアルミニウムなどのトリ
アルキルアルミニウムなどが挙げられるが、これらの中
でトリメチルアルミニウムが好適である。また、縮合剤
としては、典型的なものとして水が挙げられるが、この
他にトリアルキルアルミニウムが縮合反応する任意のも
の、例えば硫酸銅５水塩，無機物や有機物への吸着水な
ど、各種のものが挙げられる。

【００３３】一般に、トリアルキルアルミニウムなどの
有機アルミニウム化合物と水との接触生成物は、上述の
鎖状アルキルアミノキサンや環状アルキルアルミノキサ
ンとともに、未反応のトリアルキルアルミニウム，各種
の縮合生成物の混合物、さらには、これらが複雑に会合
した分子であり、これらのトリアルキルアルミニウムと
縮合剤である水との接触条件によって様々な生成物とな
る。この際のアルキルアルミニウム化合物と水との接触
方法には特に限定はなく、公知の手法に準じて反応させ
ればよい。例えば、有機アルミニウム化合物を有機溶
剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、重合
時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水
を添加する方法、さらには金属塩などに含有されてい
る結晶水，無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウ
ム化合物と反応させる方法などがある。なお、上記の水
にはアンモニア，エチルアミンなどのアミン，硫化水素
などの硫黄化合物，亜燐酸エステルなどの燐化合物など
が20％程度まで含有されていてもよい。また、この反応
は無溶媒下でも進行するが、溶媒中で行うことが好まし
く、好適な溶媒としては、ヘキサン，ヘプタン，デカン
等の脂肪族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素を挙げることができる。

【００３４】このアルミノキサン（例えばアルキルアル
ミノキサン）は、上記の接触反応後、含水化合物などを
使用した場合には、固体残渣を濾別し、濾液を常圧下あ
るいは減圧下で30〜200℃の温度、好ましくは40〜150℃
の温度で、20分〜８時間、好ましくは30分〜５時間の範
囲で溶媒を留去しつつ熱処理したものが好ましい。この
熱処理にあたっては、温度は各種の状況によって適宜定
めればよいが、通常は、上記範囲で行う。一般に、30℃
未満の温度では、効果が発現せず、また200℃を越える
とアルキルアルミノキサン自体の熱分解が起こり、いず
れも好ましくない。そして、熱処理の処理条件により反
応生成物は、無色の固体又は溶液状態で得られる。この
ようにして得られた生成物を、必要に応じて炭化水素溶
媒で溶媒あるいは希釈して触媒溶液として使用すること
できる。

【００３５】このような触媒成分として用いる有機アル
ミニウム化合物と縮合剤との接触生成物であるアルミノ
キサン、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトルで観測されるアルミニウム
-メチル基（Al-CH₃）結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が50％以下のものである。
つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒中で
そのプロトン核磁場共鳴（¹H-NMR）スペクトルを観測す
ると、「Al-CH₃」に基づくメチルプロトンシグナルはテ
トラメチルシラン（TMS）基準において1.0〜−0.5ppmの
範囲に見られる。TMSのプロトンシグナル（０ppm）が
「Al-CH₃」に基づくメチルプロトン観測領域にあるた
め、この「Al-CH₃」に基づくメチルプロトンシグナル
を、TMS基準におけるトルエンのメチルプロトンシグナ
ル2.35ppmを基準に測定し高磁場成分（即ち、−0.1〜−
0.5ppm）と他の磁場成分（即ち、1.0〜−0.1ppm）とに
分けたときに、該高磁場成分が全体の50％以下、好まし
くは45〜５％のものが触媒成分として好適に使用でき
る。

【００３６】該（ロ）触媒には、上記（ａ）遷移金属化
合物とともに、（ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン
性錯体を形成しうる化合物が用いられる。この化合物に
ついては特に制限はないが、カチオンと複数の基が元素
に結合したアニオンとからなる化合物、すなわち化合物
（ｃ）が周期律表のIIIB族，VB族，VIB族，VIIB族，VII
I族，IA族，IB族，IIA族，IIB族，IVA族及びVIIA族から
選ばれる元素を含むカチオンと複数の基が周期律表のVB
族，VIB族，VIIB族，VIII族，IB族，IIB族，IIIA族，IV
A族及びVA族から選ばれる元素に結合したアニオンとか
らなる化合物、特にカチレンと複数の基が元素に結合し
たアニオンとからなる配位錯化合物を好適に用いること
ができる。例えば一般式（IV）又は（Ｖ） (〔L¹−R⁴〕^u+)_V(〔M²Z¹Z²・・・Z^e〕^(e-f)-)_W （IV） 又は (〔L²〕^u+)_V(〔M³Z¹Z²・・・Z^e〕^(e-f)-)_W （Ｖ） （但し、Ｌ²はＭ⁴，R⁵R⁶M⁵，R⁷ ₃C又はR⁸M⁵である） 〔式中、Ｌ¹はルイス塩基、Ｍ²及びＭ³はそれぞれ周期
律表のVB族，VIB族，VIIB族，VIII族，IB族，IIB族，II
IA族，IVA族及びＶ族から選ばれる元素、Ｍ⁴及びＭ⁵は
それぞれ周期律表のIIIB族，IV族，Ｖ族，VIB族，VIIB
族，VIII族，Ｉ族，IB族，IIA族，IIB族及びVIIA族から
選ばれる元素、Ｚ¹〜Ｚ^eはそれぞれ水素原子，ジアルキ
ルアミノ基，アルコキシ基，炭素数１〜20のアルコキシ
基，炭素数６〜20のアリールオキシ基，炭素数１〜20の
アルキル基，炭素数６〜20のアリール基，アルキルアリ
ール基，アリールアルキル基，炭素数１〜20のハロゲン
置換炭化水素基，炭素数１〜20のアシルオキシ基，有機
メタロイド基又はハロゲン原子を示し、Ｚ¹〜Ｚ^eはその
２以上が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ⁴
は水素原子，炭素数１〜20のアルキル基，炭素数６〜20
のアリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキ
ル基を示し、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれシクロペンタジエニ
ル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基又は
フルオレニル基，Ｒ⁷は炭素数１〜20のアルキル基，ア
リール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基
を示す。Ｒ⁸はテトラフェニルポルフィリン，フタロシ
アニンなどの大環状配位子を示す。ｆはＭ²，Ｍ³の原子
価で１〜７の整数、ｅは２〜８の整数、ｕは〔L¹−
R⁴〕，〔Ｌ²〕のイオン価数で１〜７の整数、ｖは１以
上の整数、ｗ＝（ｖ×ｕ）／（ｅ−ｆ）である。〕で表
される化合物である。

【００３７】ここで、上記Ｌ¹で示されるルイス塩基の
具体例としては、アンモニア，メチルアミン，アニリ
ン，ジメチルアミン，ジエチルアミン，ジフェニルアミ
ン，トリメチルアミン，トリエチルアミン，N,N-ジメチ
ルアニリン，フェナントロリンなどのアミン類、トリエ
チルフォスフィン，トリフェニルフォスフィン，ジフェ
ニルフォスフィンなどのフォスフィン類、ジメチルエー
テル，ジエチルエーテル，テトラヒドロフランジオキサ
ンなどのエーテル類、ジエチルチオエーテル，テトラヒ
ドロチオフェンなどのチオエーテル類、エチルベンゾエ
ートなどのエステル類、アセトニトリル，ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などが挙げられる。

【００３８】また、Ｍ²及びＭ³の具体例としては、Ｂ，
Al，Si，Ｐ，As，Sbなど、Ｍ⁴の具体例としては、Li，N
a，Ag，Cu，Br，Ｉ，Ｉ₃など、Ｍ⁵の具体例としては、M
n，Fe，Co，Ni，Znなどが挙げられる。Ｚ¹〜Ｚ^eの具体
例としては、例えば、ジアルキルアミノ基としてはジメ
チルアミノ基，ジエチルアミノ基；炭素数１〜20のアル
コキシ基としてメトキシ基，エトキシ基，n-ブトキシ
基，炭素数６〜20のアリールオキシ基としてフェノキシ
基，2,6-ジメチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基，炭
素数１〜20のアルキル基としてはメチル基，エチル基，
n-プロピル基，iso-プロピル基，n-ブチル基，n-オクチ
ル基，2-エチルヘキシル基、炭素数６〜20のアリール
基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基と
してフェニル基，p-トリル基，ベンジル基，ペンタフル
オロフェニル基，3,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニル
基，4-タ-シャリーブチルフェニル基，2,6-ジメチルフ
ェニル基，3,5-ジメチルフェニル基，2,4-ジメチルフェ
ニル基，2,3-ジメチルフェニル基，1,2-ジメチルフェニ
ル基、炭素数１〜20のハロゲン置換炭素水素基としてp-
フルオロフェニル基，3,5-ジフルオロフェニル基，ペン
タクロロフェニル基，3,4,5-トリフルオロフェニル基，
ペンタフルオロフェニル基，3,5-ジ(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、ハロゲン原子としてＦ，Ｃ，Ｉ，Br，
Ｉ；有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基が挙げられる。Ｒ⁴，Ｒ⁷の具体例としては先に
挙げたものと同様なものが挙げられる。Ｒ⁵及びＲ⁶の置
換シクロペンタジエニル基の具体例としては、メチルシ
クロペンタジエニル基，ブチルシクロペンタジエニル
基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基などのアルキ
ル基で置換されたものが挙げられる。ここで、アルキル
基は通常炭素数が１〜６であり、置換されたアルキル基
の数は１〜４の整数で選ぶことができる。

【００３９】上記一般式（IV），（Ｖ）の化合物の中で
は、Ｍ²，Ｍ³が硼素であるものが好ましい。一般式（I
V），（Ｖ）の化合物の中で、具体的には、下記のもの
を特に好適に使用できる。例えば、一般式（IV）の化合
物としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウ
ム，テトラフェニル硼酸トリ(n-ブチル)アンモニウム，
テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム，テトラフ
ェニル硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラフェニル
硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム，テトラフェニル
硼酸メチルトリフェニルアンモニウム，テトラフェニル
硼酸トリメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸メチ
ルピリジニウム，テトラフェニル硼酸ベンジルピリジニ
ウム，テトラフェニル硼酸トリメチルスルホニウム，テ
トラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフェニルアンモ
ニウム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸テトラエ
チルアンモニウム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼
酸メチルジフェニルアンモニウム，テトラ(ペンタフル
オロフェニル)硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム，
テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルアニリニ
ウム，テトラ(ペンタフルオロフェニルメチル)硼酸ジメ
チル(p-ブロモアニリニウム)，テトラ(ペンタフルオロ
フェニル)硼酸ピリジニウム，テトラ(ペンタフルオロフ
ェニル)硼酸(N-ベンジルピリジニウム)，テトラ(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸ベンジルジメチルスルホニウ
ム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸テトラフェル
ホスホニウム，テトラ(3,5-ジトリフルオロメチルフェ
ニル）硼酸ジメチルアニリニウム，ヘキサフルオロ砒素
酸トリエチルアンモニウムなどが挙げられる。

【００４０】一方、一般式（Ｖ）の化合物としては、テ
トラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラフェニル硼酸
銀，テトラフェニル硼酸トリチル，テトラ(ペンタフル
オロフェニル)硼酸デカメチルフェロセニウム，テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸ホルミルフェロセニウ
ム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム，テ
トラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ナトリウム，テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テトラフェニルポルフ
ィリン鉄クロライド)，テトラ(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸(テトラフェニルポルフィリン亜鉛)，テトラフ
ルオロ硼酸銀，ヘキサフルオロアンチモン酸銀などが挙
げられる。そして、一般式（IV），（Ｖ）以外の化合物
としては、例えば、トリ(ペンタフルオロフェニル)硼
酸，トリ〔3,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニル〕硼
酸，トリフェニル硼酸なども使用することができる。

【００４１】本発明においては、上記（イ）触媒又は
（ロ）触媒とともに、所望により（ｄ）成分としては有
機金属化合物を併用することができる。この所望により
併用される（ｄ）有機金属化合物としては、一般式（V
I） M⁶(R⁹)_r （VI） で表される化合物が用いられる。この一般式（VI）にお
いて、Ｒ⁹は、炭素数１〜20のアルキル基，炭素数２〜2
0のアルケニル基，炭素数３〜20のシクロアルキル基，
炭素数６〜20のアリール基あるいは炭素数７〜20のアラ
ルキル基を示す。具体的には、例えば、メチル基，エチ
ル基，n-プロピル基，i-プロピル基，n-ブチル基，i-ブ
チル基，ヘキシル基，2-エチルヘキシル基，フェニル基
などが挙げられる。そして、Ｍ⁶はリチウム，ナトリウ
ム，カリウム，マグネシウム，亜鉛，カドミニウム，ア
ルミニウム，ホウ素，ガリウム，ケイ素あるいはスズを
示す。また、ｒはＭ⁶の原子価を表す。一般式（VI）で
表される化合物としては、様々なものがある。具体的に
は、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウ
ム，ブチルリチウムなどのアルキルリチウム化合物、ジ
エチルマグネシウム，エチルブチルマグネシウム，ジノ
ルマルブチルマグネシウムなどのアルキルマグネシウム
化合物、ジメチル亜鉛，ジエチル亜鉛，ジプロピル亜
鉛，ジブチル亜鉛などのジアルキル亜鉛化合物、トリメ
チルガリウム，トリエチルガリウム，トリプロピルガリ
ウムなどのアルキルガリウム化合物，トリエチルホウ
素，トリプロピルホウ素，トリブチルホウ素などのアル
キルホウ素化合物、テトラエチルスズ，テトラプロピル
スズ，テトラフェニルスズなどのアルキルスズ化合物な
どが挙げられる。また、Ｍ⁶が、アルミニウムである場
合の化合物としては、様々なものがある。具体的には、
トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，ト
リイソプロピルアルミニウム，トリイソブチルアルミニ
ウム，トリn-ヘキシルアルミニウム，トリオクチルアル
ミニウムなどのトリアルキルアルミニウム化合物などが
挙げられる。

【００４２】前記触媒における各成分の使用割合につい
ては特に制限はないが、該（イ）触媒においては、
（ａ）成分と（ｂ）成分とのモル比が１：20〜１：1000
0、好ましくは１：100〜１：2000になるように両成分を
用いるのがよい。一方、（ロ）触媒においては、（ａ）
成分と（ｃ）成分とのモル比が１：0.01〜１：100、好
ましくは１：１〜１：10になるように両成分を用いるの
がよい。この割合、（ａ）成分と（ｃ）成分は予め接触
させ、接触処理物を分離，洗浄して用いてもよいし、重
合系内で接触させてもよい。また、（イ）触媒又は
（ロ）触媒において、所望に応じて用いられる（ｄ）成
分の使用量は、該（ａ）成分１モルに対して、通常０〜
100モルの範囲で選ばれる。この（ｄ）成分を用いるこ
とにより、重合活性の向上を図ることができるが、あま
り多く用いても添加量に相当する効果は発現しない。な
お、この（ｄ）成分は、（ａ）成分，（ｃ）成分あるい
は（ａ）成分と（ｃ）成分との接触処理物と接触させて
用いてもよい。この接触は、予め接触させてもよいし、
重合系内へ順次添加して接触させてもよい。また、スチ
レン系単量体と触媒との使用割合についてと特に制限は
ないが、通常スチレン系単量体／遷移金属化合物のモル
比が10〜10⁹、好ましくは10²〜10⁷の範囲にあるように
選ばれる。

【００４３】本発明のスチレン系重合体を製造するに
は、まず、前記スチレン系単量体を上記触媒のいずれか
の存在下に重合させる。この際、重合方法、重合条件
（重合温度，重合時間）、溶媒などは適宜選定すればよ
い。通常は−50〜200℃、好ましくは30〜100℃の温度に
おいて、１秒〜10時間、好ましくは１分〜６時間程度重
合が行われる。また、重合方法としては、スラリー重合
法，溶液重合法，塊状重合法，気相重合法など、いずれ
も用いることができるし、連続重合，非連続重合のいず
れであってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒
として、例えばベンゼン，トルエン，キシレン，エチル
ベンゼンなどの芳香族炭化水素，シクロペンタン，ヘキ
サン，ヘプタン，オクタンなどの脂肪族炭化水素などを
一種又は二種以上を組合わせて使用することができる。
この場合、単量体／溶媒（体積比）は任意に選択するこ
とができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、
通常用いられている方法によって行えばよい。分子量制
御は例えば水素，温度，モノマー濃度などで行うことが
できる。

【００４４】本発明のSPSフィルムの分子量には製膜さ
れる限りにおいては制限がないが、重量平均分子量で、
10000〜3000000であることが好ましく特には、30000〜1
500000のものが好ましい。またこの時の分子量分布（数
平均分子量／重量平均分子量）は、1.5〜８が好まし
い。この分子量分布については、異なる分子量のものを
混合することにより調整することも可能である。

【００４５】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。

【００４６】《重合例》特開平3-131843号に準じてSPS
ペレットを作成した。触媒の調整から重合反応までは、
全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積500mlのガラ
ス性容器に硫酸銅５水塩（CuSO₄・5H₂O）17.8ｇ（71mmo
l）精製ベンゼン200mlおよびトリメチルアルミニウム24
mlをいれ、40℃で８時間撹拌して触媒の調整を行った。
これをアルゴン気流下No.３ガラスフィルターで濾過し
て、ロ液を凍結乾燥させた。これを取り出し、２ｌのス
テンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアル
ミニウム、ペンタシクロペンタジエチルチタンメトキシ
ドを混合し90℃に加熱した。

【００４７】この中に、精製したスチレンを１ｌ入れこ
の温度中で、８時間重合反応を続けた。この後、室温ま
で冷却し１ｌの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20ｌのメタノール中に徐々に滴
下して更にガラスフィルターで濾過して３回メタノール
で洗浄した後、乾燥させた。これを押出機でペレット化
した後に、130℃で乾燥させた。

【００４８】本発明のSPSフィルムとしては、スチレン
から作られるSPS単独であることが好ましいが、さらにS
PSを含むフィルムとして、SPSに、主鎖がメソ連鎖であ
るアイソタクチック構造を有するスチレン系重合体（IP
S）を混合すること（いわゆるステレオコンプレックス
を形成させること）により結晶化速度のコントロールが
可能であり、より強固なフィルムとすることが可能であ
る。

【００４９】SPSとIPSとを混合する際には、その比はお
互いの立体規則性の高さに依存するが、30：70〜99：１
好ましくは、50：50〜98：２である。

【００５０】支持体中には、本発明の目的を妨げない範
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、色素等を含有させることが
可能である。

【００５１】本発明の支持体をハロゲン化銀写真感光材
料用に用いる場合、表層を構成する熱可塑性樹脂として
は、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、2-メチルペ
ンテン、さらには、α-置換オレフィンなどが挙げられ
るが、特に好ましくは、スチレン系共重合体である。ス
チレン系共重合体とは、スチレンと共重合可能な単量体
とスチレンとの共重合体である。このうちスチレンは、
70〜97重量％、好ましくは、75〜95重量％である。スチ
レンと共重合しうるモノマーとしては、α-メチルスチ
レンがありこの量としては、１〜39重量％である事が好
ましい。また共重合体として親水基を有するモノマーを
用いることが好ましく、例えばアクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸、スチレン共
重合体のスルホン化物、アミノ化物等が挙げられ、また
スチレンとの共重合単量体として、メタクリル酸等の
（メタ）アクリル酸、アクリル酸-2-ヒドロキシルエチ
ル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエステル、等を
挙げる事ができる。

【００５２】親水性の表層を有する場合には、しばしば
写真感光材料で問題となる写真乳剤層と支持体との接着
性が良好となるので、接着性付与のための下引層を必要
としない場合も有り得るために好ましい実施態様となり
うる。

【００５３】また親水性基を有するポリマーの場合は、
SPSとの相互作用が強いために、延伸できない場合があ
るが、その場合には、スチーム下で延伸したり、延伸助
剤としてポリグリセリンなどを添加することは好ましい
実施態様である。

【００５４】親水基を有するモノマーの中で好ましい物
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が上げられる。この含有量として
は、耐水性の点からみて、１〜10重量％が好ましく、更
に好ましくは１〜８重量％、より好ましくは、１〜６重
量％、最も好ましくは、１〜４重量％である。またこの
共重合体の第４成分としてその他の共重合可能な単量体
を０〜15重量％、好ましくは、０〜10重量％の範囲で必
要に応じて共重合させる事ができる。この例としては、
メチルスチレンなどのアルキル置換スチレン、クロロス
チレン、クロルメチルスチレンなどのハロゲン化スチレ
ン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合物、アク
リル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸t-ブチ
ル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル、等の脂環
族、アクリル酸ベンジル等の芳香族（メタ）アクリル酸
エステル化合物、さらには、ゴム変性化合物である、ブ
タジエン、イソプレン、等を挙げることができる。

【００５５】これらの共重合体の製法は、特に制限がな
く通常は、一般公知のラジカル開始剤を用いてラジカル
重合により得る事ができる。

【００５６】これらの単量体からなる、共重合体のGPC
法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均分
子量としては、15〜70万が好ましく、20〜50万であるこ
とが更に好ましい。

【００５７】一方、非ハロゲン化銀感光材料用支持体用
に用いる場合、以下のものが好ましい。

【００５８】熱可塑性樹脂層は、厚さが0.1μm以上50μ
m以下が好ましく、具体的には天然ゴム、アクリレート
ゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、イ
ソプレンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、ウレタンゴ
ム、シリコーンゴム、アクリルゴム、ネオプレンゴム、
エピクロルヒドリン、EPDM（エチレン・プロピレン・ジ
エンゴム）、ウレタンエラストマー等のエラストマー、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリ
ブテン、耐衝撃性ABS樹脂、ポリウレタン、ABS樹脂、セ
ルロースアセテート、アミド樹脂、ニトロセルロース、
ポリスチレン、エポキシ樹脂、フェノール-ホルムアル
デヒド樹脂、ポリエステル、耐衝撃性アクリル樹脂、エ
チレン-酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル-ブタジ
エン共重合体、ポリ酢酸ビニル、等が挙げられる。これ
らの樹脂は本発明の効果を損なわない範囲でブレンドす
ることもできる。

【００５９】このような熱可塑性樹脂層を、SPSに被覆
させるには、熱可塑性樹脂層とSPSとを、接着剤を介し
て張り合わせるドライラミネーションなどの方法もある
が、効率の良いものとしては、製膜時にＴ型ダイより、
積層して押し出す方法が好ましい。この積層フィルムを
作成する方法としては、例えば以下の方法により得るこ
とができる。

【００６０】芯層を構成するSPSと表層を構成する熱可
塑性樹脂をそれぞれ乾燥した後に公知の溶融積層用押出
機に供給し、スリット状のＴ型ダイからシート状に押出
し、キャスティングロール上で静電印加しながら冷却固
化させて未延伸フィルムを作成する。このとき、表層の
熱可塑性樹脂を押し出す押出機の溶融温度を５〜10℃低
くすることが有効である。

【００６１】次にこの未延伸フィルムを２軸延伸し、２
軸配向させる。延伸方法としては、逐次２軸延伸または
同時２軸延伸方法を用いることができる。

【００６２】但し最初に長手方向に次に幅手方向に延伸
を行う逐次２軸延伸方法が好ましくこの場合の縦横の延
伸倍率としては、2.5〜６倍で行うことが好ましい。

【００６３】長手方向の延伸温度としては、100〜130℃
が好ましく、幅手方向の延伸温度としては、長手方向よ
り若干高くして110〜160℃で行うことが好ましい。つぎ
に、この延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理
温度としては、170〜250℃が好ましい。

【００６４】この後にフィルムを、急冷して巻き取って
も良いが、100〜熱処理温度の間で0.1分〜1500時間かけ
て徐冷し大きな径のコアに巻取り60〜100℃の間でさら
に−0.01〜−20℃／分の間の平均冷却速度で冷却するこ
とは、支持体の巻ぐせを更に付けにくくする点で好まし
い。

【００６５】更に本発明の熱可塑性樹脂層の形成方法と
しては塗布加工によって形成するこができる。塗布加工
方法としては、前記樹脂材料を溶剤に溶解またはラテッ
クス状に分散したものを、プレートコータ、ロールコー
タ、バーコータ、カーテンコータ、グラビアコータ等の
塗布方法を用いることができる。

【００６６】シンジオタクチックポリスチレン樹脂層と
熱可塑性樹脂層の間には層間の接着性を向上するために
アンカー層を設けることも有効である。アンカー用樹脂
材料としては、酢ビ系ポリマー、ポリビニルポリマー、
ポリエステル系ポリマー、ポリウレタン系ポリマー、ポ
リビニルアルキルエーテル系ポリマー等が、また必要に
応じて架橋剤としてイソシアネート化合物、エポキシ化
合物を添加することもできる。

【００６７】ここで表層を構成する、熱可塑性樹脂層の
厚みは、積層フィルムの0.5／99.5〜50／50であること
は、カール防止性能の点から好ましく、さらに寸法安定
性、積層厚みの一定性、フィルムの平面性、フィルムの
透明性からみると1／99〜5／95で有ることが好ましい。

【００６８】またカール防止のためには、表層の熱可塑
性樹脂層の厚さを変える事が好ましい。表面と裏面の層
の比は、ロールフィルムの場合、巻き外面を厚くする必
要がある。

【００６９】本発明の熱可塑性樹脂層には、得られるフ
ィルムの滑り性を改良する意味で透明性を損なわない程
度に、炭酸カルシウム、酸化チタン、カオリン、二酸化
珪素等を配合させても構わない。

【００７０】つぎにハロゲン化銀写真感光材料用親水性
コロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いてのべる。

【００７１】下引層を塗設する際には、薬品処理、機械
的粗面化処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電、活性プラズマ処理、レー
ザー処理などを施すことが好ましい。これらの処理によ
り表面の表面張力を50dyne／cm以上にする事が好まし
い。

【００７２】下引層に付いては、当業界で用いられてい
るものはいずれを用いても構わない。

【００７３】また下引層は、単層の場合でも構わない
が、より機能性を求め接着力を高めるためには、重層法
であることが望ましい。

【００７４】以下重層法について説明する。

【００７５】重層法においては、下引第１層は、支持体
に良く接着することが好ましく、素材としては、メタク
リル酸、アクリル酸、等の不飽和カルボン酸もしくはそ
のエステル、スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、
等の単量体から得られる重合体もしくは、共重合体、水
分散系のポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレンイ
ミン、エポキシ樹脂などが挙げられる。

【００７６】この中で好ましいものは、水分散性ポリエ
ステルとスチレン系重合体を構成要素とする共重合体で
ある。この水分散性ポリエステルとスチレン系重合体を
構成要素とする共重合体または、組成物について説明す
る。

【００７７】水分散性ポリエステルとは、多塩基酸また
はそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそのエ
ステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質
的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成
分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、
無水フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、1,4-シク
ロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ト
リメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸などを例示
することができる。これら成分と共にマレイン酸、フマ
ール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やｐ-ヒドロ
キシ安息香酸、ｐ-（β-ヒドロキシエトキシ）安息香酸
などのヒドロキシカルボン酸を小割合用いることができ
る。

【００７８】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、1,4-ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコー
ル、1,6-ヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタ
ノール、キシリレングリコール、トリメチロールプロパ
ン、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テト
ラメチレンオキシド）グリコールなどを例示することが
できる。

【００７９】該水分散性ポリエステルに水分散性及び水
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分（スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び／
又はそのエステル形成性誘導体）を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して５〜15モル％含有す
ることが好ましい。

【００８０】本発明の下引層に用いられるスルホン酸塩
を有するジカルボン酸及び／又はそのエステル形成性誘
導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を有するも
のが特に好ましく、例えば4-スルホイソフタル酸、5-ス
ルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、4-スルホフタ
ル酸、4-スルホナフタレン-2，7-ジカルボン酸、5-（４
-スルホフェノキシ）イソフタル酸などのアルカリ金属
塩叉はそのエステル形成性誘導体が用いられるが、5-ス
ルホイソフタル酸ナトリウム塩又はそのエステル形成性
誘導体が特に好ましい。これらのスルホン酸塩を有する
ジカルボン酸及び／又はそのエステル形成性誘導体は、
水溶性及び耐水性の点から全ジカルボン酸成分に対し６
〜10モル％で用いられることが特に好ましい。

【００８１】本発明の下引層に用いるスチレン系重合体
のモノマーとしては、スチレン単独でかまわないし又共
重合する際には、例えばアルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレート（アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イ
ソブチル基、t-ブチル基、2-エチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル
基等）；2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリ
レート、2-ヒドロキシプロプルメタクリレート等のヒド
ロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N-メチルメタクリルアミド、N-メチルアクリルアミ
ド、N-メチロールメタクリルアミド、N-メチロールアク
リルアミド、N，N-ジメチロールアクリルアミド、N-メ
トキシメチルアクリルアミド等のアミド基含有モノマ
ー；N,N-ジエチルアミノエチルアクリレート、N，N-ジ
エチルアミノメタクリレートのアミノ基含有モノマー；
グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等
のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸
及びそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニ
ウム塩）等のカルボキシル基またはその塩を含有するモ
ノマー；スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそ
れらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩）等のスルホン酸基叉はその塩を含有するモノマー；
イタコン酸、マレイン酸、フマール酸及びそれらの塩
（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）等のカ
ルボキシル基またはその塩を含有するモノマー；無水マ
レイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物を含有するモノ
マー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アクリ
ロニトリル、塩化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン
等が挙げられる。上述のモノマーは、１種もしくは２種
以上を用いて共重合させることができる。

【００８２】水分散性ポリエステルをビニル系重合体に
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基も
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。

【００８３】また、重合開始剤には、過硫酸アンモニウ
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。

【００８４】更に、重合については、特に界面活性剤を
必要とせず、ソープフリーで反応可能である。しかし、
重合安定性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化
剤として用いることができ、一般のノニオン・アニオン
いずれの界面活性剤も使用できる。

【００８５】上記の水分散性ポリエステルとスチレン系
共重合体の変性する割合は、99／1〜5／95好ましくは97
／3〜50／50更に好ましくは95／5〜80／20がよい。

【００８６】下引第１層中には、硬膜剤を混合すること
ができる。

【００８７】このような硬膜剤としては、例えばホルム
アルデヒド、グルタルアルデヒドのようなアルデヒド化
合物、米国特許2,732,303号、同3,288,775号、英国特許
974,723号、同1,167,207号等に記載されている反応性ハ
ロゲンを有する化合物、ジアセチル、シクロペンタンジ
オンの如きケトン化合物、ビス（2-クロロエチル）尿
素、2-ヒドキシ-4,6-ジクロロ-1,3,5-トリアジン、ジビ
ニルスルホン、5-アセチル-1,3-ジアクリロイルヘキサ
ヒドロ-1,3,5-トリアジン、米国特許3,232,763号、同3,
635,718号、英国特許994,809号等に記載の反応性オレフ
ィンを有する化合物、米国特許3,539,644号、同3,642,4
86号、特公昭49-13568号、同53-47271号、同56-48860
号、特開昭53-57257号、同61-128240号、同62-4275号、
同63-53541号、同63-264572号等に記載のビニルスルホ
ン化合物、N-ヒドロキシメチルフタルイミド、米国特許
2,732,316号、同2,586,168号等に記載のN-メチロール化
合物、米国特許3,103,437号等に記載のイソシアネート
化合物、米国特許2,983,611号、同3,107,280号等に記載
のアジリジン化合物、米国特許2,725,294号、同2,725,2
95号等に記載の酸誘導体類、米国特許3,100,704号等に
記載のカルボジイミド系化合物、米国特許3,091,537号
等に記載のエポキシ系化合物、米国特許3,321,313号、
同3,543,292号等に記載のイソオキサゾール系化合物、
ムコクロル酸のようなハロゲノカルボキシアルデヒド
類、ジヒドロキシジオキサン、ジクロロジオキサン等の
ジオキサン誘導体等の有機硬膜剤及びクロムミョウバ
ン、硫酸ジルコニウム、三塩化クロム等の無機硬膜剤で
ある。またゼラチンに対して比較的硬膜作用が比較的速
い硬膜剤としては、特開昭50-38540号に記載のジヒドロ
キノリン骨格を有する化合物、特開昭51-59625号、同62
-262854号、同62-264044号、同63-184741号に記載のN-
カルバモイルピリジニウム塩類、特公昭55-38655号に記
載のアシルイミダゾール類、特公昭53-22089号に記載の
N-アシルオキシイミダゾール類、特公昭53-22089号に記
載のN-アシルオキシイミノ基を分子内に２個以上有する
化合物、特開昭52-93470号に記載のN-スルホニルオキシ
イミド基を有する化合物、特開昭58-113929号に記載の
リン−ハロゲン結合を有する化合物、特開昭60-225148
号、同61-240236号、同63-41580号に記載のクロロホル
ムアミジニウム化合物等を挙げることができる。

【００８８】この中には、塗布性を向上させるために活
性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化合物を
含有させることが好ましい。

【００８９】下引処理は、前記フィルム製膜の後に行っ
ても構わないが下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途である中縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。

【００９０】下引第２層は、写真乳剤層と良く接着する
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を、
構成するバインダーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導
体、ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポ
リビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
等の水溶性ポリマー類、ポリスリレンスルホン酸ソーダ
共重合体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げら
れるが、ゼラチンが好ましい。

【００９１】この層の中には、硬膜剤を用いて膜強度を
高めることが好ましく、このような硬膜剤としては、例
えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドのようなア
ルデヒド化合物、米国特許2,732,303号、同3,288,775
号、英国特許974,723号、同1,167,207号等に記載されて
いる反応性ハロゲンを有する化合物、ジアセチル、シク
ロペンタンジオンの如きケトン化合物、ビス（2-クロロ
エチル）尿素、2-ヒドキシ-4,6-ジクロロ-1,3,5-トリア
ジン、ジビニルスルホン、5-アセチル-1,3-ジアクリロ
イルヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン、米国特許3,232,7
63号、同3,635,718号、英国特許994,809号等に記載の反
応性オレフィンを有する化合物、米国特許3,539,644
号、同3,642,486号、特公昭49ー13568号、同53ー47271
号、同56ー48860号、特開昭53ー57257号、同61ー128240
号、同62-4275号、同63ー53541号、同63-264572号等に記
載のビニルスルホン化合物、N-ヒドロキシメチルフタル
イミド、米国特許2,732,316号、同2,586,168号等に記載
のN-メチロール化合物、米国特許3,103,437号等に記載
のイソシアネート化合物、米国特許2,983,611号、同3,1
07,280号等に記載のアジリジン化合物、米国特許2,725,
294号、同2,725,295号等に記載の酸誘導体類、米国特許
3,100,704号等に記載のカルボジイミド系化合物、米国
特許3,091,537号等に記載のエポキシ系化合物、米国特
許3,321,313号、同3,543,292号等に記載のイソオキサゾ
ール系化合物、ムコクロル酸のようなハロゲノカルボキ
シアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサン、ジクロロジ
オキサン等のジオキサン誘導体等の有機硬膜剤及びクロ
ムミョウバン、硫酸ジルコニウム、三塩化クロム等の無
機硬膜剤である。またゼラチンに対して比較的硬膜作用
が比較的速い硬膜剤としては、特開昭50-38540号に記載
のジヒドロキノリン骨格を有する化合物、特開昭51-596
25号、同62-262854号、同62-264044号、同63-184741号
に記載のN-カルバモイルピリジニウム塩類、特公昭55-3
8655号に記載のアシルイミダゾール類、特公昭53-22089
号に記載のN-アシルオキシイミダゾール類、特公昭53-2
2089号に記載のN-アシルオキシイミノ基を分子内に２個
以上有する化合物、特開昭52-93470号に記載のＮ−スル
ホニルオキシイミド基を有する化合物、特開昭58-11392
9号に記載のリン−ハロゲン結合を有する化合物、特開
昭60-225148号、同61-240236号、同63-41580号に記載の
クロロホルムアミジニウム化合物等が知られている。

【００９２】この下引第２層には、２酸化珪素、２酸化
チタン、等の無機微粒子やポリメタクリル酸メチル等の
有機系マット材（１〜10μm）を含有することが好まし
い。

【００９３】これ以外にも必要に応じて、各種の添加剤
例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染
料、顔料、塗布助剤を含有することができる。

【００９４】この中でも帯電防止剤を含有させることが
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および／もしくは半導体微粒子を挙げられる。

【００９５】本発明の下引層に用いられる非感光性の導
電体および／もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在
する電荷担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔
等によって導電性を示すもので、有機材料、無機材料あ
るいは両者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性
を示す化合物であり、有機材料であればポリアニリン、
ポリピロール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等が挙
げることができ、無機材料であれば酸素不足酸化物、金
属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の不
定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げられ
る。また電荷移動錯体もしくは有機ー無機複合材料であ
ればホスファゼン金属錯体等を挙げることができる。こ
の中で本発明の下引層に最も好ましい化合物は製造方法
などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒子
である。また、本発明の下引層に中における導電体は体
積固有抵抗が10³Ω・cm以下のものを、半導体について
は10¹²Ω・cm以下のものをそれぞれ導電体、半導体とし
て定義する。

【００９６】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。

【００９７】（半導体微粒子溶液の調整）塩化第二スズ
水和物65ｇを水／エタノール混合溶液2000ccに溶解し均
一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物を得た。生
成した沈澱物をデカンテーションにより取り出し、蒸留
水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中
に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認
後、蒸留水1000cc添加し全量を2000ccとする。さらに30
％アンモニア水を40cc加え、水浴中で加温し、コロイド
状ゲル分散液を得た。このコロイド状ゲル分散液を分散
液Ａ−１とする。

【００９８】（半導体微粒子粉末の調整）塩化第二スズ
水和物65ｇと三塩化アンチモン1.5ｇをエタノール1000
ｇに溶解し均一溶液を得た。この溶液に１Ｎ-水酸化ナ
トリウム水溶液を前記溶液のpＨが３になるまで滴下し
てコロイド状酸化第二スズと酸化アンチモンの共沈殿を
得た。得られた共沈澱を50℃に24時間放置し赤褐色のコ
ロイド状沈澱を得た。

【００９９】赤褐色のコロイド状沈澱を遠心分離により
分離した。過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を３回繰り返し過剰イ
オンを除去した。

【０１００】過剰イオンを除去したコロイド状沈澱100
ｇを平均粒径0.3μmの硫酸バリウム50ｇおよび水1000ｇ
に混合し900℃に加熱された焼成炉中に噴霧し青みがか
った平均粒径0.1μmの酸化第二スズと硫酸バリウムから
なる粉末混合物Ａ−２を得た。下引層組成物の塗布液濃
度は、通常20重量％以下であり、好ましくは15重量％以
下である。塗布量は、フィルム１m²あたり塗布液重量で
１〜30ｇさらには５〜20ｇであることが好ましい。

【０１０１】塗布方法としては、公知の種々の方法が適
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もしく
は組み合わせて適用することができる。

【０１０２】本発明に用いられる感光材料は、レントゲ
ン撮影用、印刷製版用、一般撮影用、直接鑑賞用等の各
種の用途に用いることができる。

【０１０３】本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光
材料のハロゲン化銀の晶形としては、14面体，８面体，
不定形板状，立方晶いずれでも良いが、高感度平板粒子
または高硬調立方晶粒子が好ましい。ハロゲン化銀組成
としては、AgBr，AgCl，AgClBr，AgClBrI，AgBrI，AgCl
BrI等任意に用いることができるが、高感度乳剤に対し
てはAgBrに富むAgBrIが好ましい。迅速処理に対してはA
gClに富み沃度の少ない塩沃臭化銀乳剤が好ましい。医
用感材として用いる場合のハロゲン化銀粒子径は、0.01
μm〜１μmが好ましく、0.05μm〜0.5μmが常用され
る。印刷感材用には、0.05μm〜0.2μmが多く使用され
る。

【０１０４】平板状粒子は、米国特許第4,439,520号、
同第4,425,425号、同第4,414,304号等に記載されてお
り、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。平板
状粒子は、特定表面部位に組成の異なるハロゲン化銀を
エピタキシャル成長させたり、シェリングさせたりする
ことができる。また感光核を制御するために、平板状粒
子の表面あるいは内部に転移線を持たせることが好まし
い。転移線を持たせるには沃化銀の微粒子を化学増感時
に存在させたり沃素イオンを添加して形成することがで
きる。

【０１０５】本発明に平板状粒子を用いる場合は、平板
状粒子が使用されている乳剤層の全粒子の投影面積の総
和の50％以上かアスペクト比２以上の平板状粒子である
ことが好ましい。特に平板状粒子の割合が60％〜70％、
さらに80％へと増大するほど好ましい。アスペクト比は
平板状粒子の投影面積と同一の面積を有する円の直径と
２つの平行平面間距離の比を表す。医用感材の場合には
アスペクト比が３以上20未満であることが好ましく、印
刷感材の場合にはアスペクト比が1.5〜８が好ましい。
塩化銀成分の多い平板粒子は米国特許第5,320,938号明
細書に記載されている方法を参考にすることができる。

【０１０６】ハロゲン化銀粒子の内部に0.001モル％以
上10％未満の高沃化銀部位が存在したり、銀核があるこ
とは、粒子の耐圧性を向上させるに好ましい。アスペク
ト比は大きい程平板になる。平板粒子の好ましい厚さは
0.01〜0.5μmになるがアスペクト比と平均体積粒子径の
設定により任意に選択することができる。また、平板粒
子径の分布は、しばしば使用される変動係数（投影面積
を円近似した場合の標準偏差Ｓを直径Ｄで割った値Ｓ／
Ｄの100倍）が30％以下、特に20％以下である単分散乳
剤であることが好ましい。また平板粒子と正常晶粒子を
２種以上混合することができる。粒子の調製は、酸性
法、中間法、アンモニア法等適宜選択する事ができる。
金属をドープする際には、特にpＨ２〜４の酸性下で粒
子形成をする事が好ましい。

【０１０７】平板粒子の形成時に粒子の成長を制御する
ためにハロゲン化銀溶剤として例えばアンモニア、チオ
エーテル、チオ尿素化合物、チオン化合物などを使用す
ることができる。チオエーテル化合物として、ドイツ特
許第1,147,845号明細書に記載の3,6,9,15,18,21-ヘキソ
キサ-12-チアトリコサン,3,9,15-トリオキサ-6,12-ジチ
アヘプタデカン；1,17-ジオキシ-3,9-15-トリオキサ-6,
12-ジチアヘプタデカン-4,14-ジオン；1,20-ジオキシ-
3,9,12,18-テトロキサ-6,15,-ジチアエイコサン-4,17-
ジオン；7,10-ジオキサ4,13-ジチアヘキサデカン-2,15-
ジカルボキサミド。特開昭56-94347号、特開平1-121847
号明細書に記載のオキサチオエーテル化合物、特開昭63
-259653号、同63-301939号に記載の環状オキサチオエー
テル化合物が挙げられる。特にチオ尿素としては特開昭
53-82408号明細書に記載されているものが有用である。
具体的には、テトラメチルチオ尿素，テトラエチルチオ
尿素，ジメチルピペリジノチオ尿素，ジモルホリノチオ
尿素；1,3-ジメチルイミダゾール-2-チオン；1,3-ジメ
チルイミダゾール-4-フェニル-2-チオン；テトラプロピ
ルチオ尿素などが挙げられる。

【０１０８】また、物理熟成時や化学熟成時に亜鉛、
鉛、タリウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オ
スミウム、パラジウム、プラチナ等の金属塩等を共存さ
せることができる。高照度特性を得るためにイリジウム
をハロゲン化銀１モル当たり10^-9〜10^-3モルドープする
こと、また、γ＝10以上の硬調乳剤を得るときにはロジ
ウムを同様にドープすることは、ハロゲン化銀乳剤にお
いて常用される。ルテニウム、オスミウム、レニウムド
ープは、ロジウムドープに代わって使用することができ
る。ルテニウム、オスミウム、レニウム化合物はハロゲ
ン化銀粒子形成中に添加することが好ましい。添加位置
としては粒子中に均一に分布させる方法、コア・シェル
構造にしてコア部にあるいはシェル部に多く局在させる
方法がある。シェル部に多く存在させるほうがしばしば
良い結果が得られる。また、不連続な層構成に局在させ
る以外に連続的に粒子の外側になるに従い、存在量を増
やす方法でもよい。添加量は、ハロゲン化銀１モル当た
り10^-9〜10^-3モルの範囲を適宜選択できる。

【０１０９】用いる化合物の具体例を下記に示すこれら
に限定されるものではない。

【０１１０】 〔Ru(NO)Cl₅〕^-2， 〔Ru(NO)Br₅〕^-2 〔Ru(NO)I₅〕^-2， 〔Ru(NO)F₅〕^-2 〔Ru(CN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(CN)Br₅〕^-2 〔Ru(CN)I₅〕^-2， 〔Ru(CN)F₅〕^-2 〔Ru(SCN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(SCN)Br₅〕^-2 〔Ru(SCN)I₅〕^-2， 〔Ru(SCN)F₅〕^-2 〔Ru(SeCN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(SeCN)Br₅〕^-2 〔Ru(SeCN)I₅〕^-2， 〔Ru(SeCN)F₅〕^-2 〔Ru(TeCN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(TeCN)Br₅〕^-2 〔Ru(TeCN)I₅〕^-2， 〔Ru(TeCN)F₅〕^-2 〔Ru(CO)Cl₅〕^-2， 〔Ru(CO)Br₅〕^-2 〔Ru(CO)I₅〕^-2， 〔Ru(CO)F₅〕^-2 〔Ru(NH₃)Cl₅〕^-2， 〔Ru(NH₃)Br₅〕^-2 〔Ru(NH₃)I₅〕^-2， 〔Ru(NH₃)F₅〕^-2 〔RuCl₆〕^-2， 〔RuBr₆〕^-2 〔RuI₆〕^-2， 〔RuF₆〕^-2 〔Ru(NO)Cl₂(H₂O)₂〕^-1， 〔Ru(NO)Br₂(H₂O)₂〕^-1 〔Ru(NO)F₂(H₂O)₂〕^-1， 〔Ru(NO)I₂(H₂O)₂〕^-1 〔Ru(NO)Cl₄(CN)〕^-2， 〔Ru(NO)Br₄(SCN)〕^-2 〔Ru(NO)Cl₄(SeCN)〕^-2， 〔Ru(NO)Br₄(SeCN) 〕^-2 〔Ru(NO)Cl₃(CN)₂〕^-2， 〔Ru(NO)Br₃(CN)₂〕^-2 〔Ru(NO)Cl₅〕^-4， 〔Ru(NO)Br₅〕^-4 〔Ru(NO)I₅〕^-4， 〔Ru(NO)F₅〕^-4 〔Ru(CN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(CN)Br₅〕^-4 〔Ru(CN)I₅〕^-4， 〔Ru(CN)F₅〕^-4 〔Ru(SCN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(SCN)Br₅〕^-4 〔Ru(SCN)I₅〕^-4， 〔Ru(SCN)F₅〕^-4 〔Ru(SeCN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(SeCN)Br₅〕^-4 〔Ru(SeCN)I₅〕^-4， 〔Ru(SeCN)F₅〕^-4 〔Ru(TeCN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(TeCN)Br₅〕^-4 〔Ru(TeCN)I₅〕^-4， 〔Ru(TeCN)F₅〕^-4 〔Ru(CO)Cl₅〕^-4， 〔Ru(CO)Br₅〕^-4 〔Ru(CO)I₅〕^-4， 〔Ru(CO)F₅〕^-4 〔Ru(NH₃)Cl₅〕^-4， 〔Ru(NH₃)Br₅〕^-4 〔Ru(NH₃)I₅〕^-4， 〔Ru(NH₃)F₅〕^-4 〔RuCl₆〕^-4， 〔RuBr₆〕^-4 〔RuI₆〕^-4， 〔RuF₆〕^-4 〔Ru(NO)Cl₄(CN)〕^-4， 〔Ru(NO)Cl₄(SCN)〕^-4 〔Ru(NO)Cl₄(SeCN)〕^-4， 〔Ru(NO)Br₄(SeCN)〕^-4 〔Ru(NO)Cl₃(CN)₂〕^-4， 〔Ru(NO)Br₃(CN)₂〕^-4 〔Ru(NH₃)₆〕Cl₃， 〔Ru(NH₃)₆〕Br₃ オスミウムやレニウム、更にロジウム、イリジウム、パ
ラジウム、白金など他の金属については、Ruの部分をOs
やRe，Rh，Ir，Pa，Ptに置き換えることによって表す事
が出来るので割愛するが、６座配位子遷移金属化合物は
特開平2-2082号、同2-20853号、同2-20854号、同2-2085
5号明細書を参考にすることができる。また、アルカリ
錯塩としては一般的なナトリウム塩とカリウム塩を選択
できるが、この他に第１，第２，第３級のアミン塩にし
てもよい。例えば、K₂[RuCl₆]，(NH₄)₂[RuCl₆]，K₄[Ru₂
Cl₁₀O]XH₂O，K₂[RuCl₅(H₂O)]等のように表すことができ
る。

【０１１１】ハロゲン化銀はイオウ化合物や金塩のごと
き貴金属塩で増感することができる。またセレン増感や
還元増感を施すこともできるし、またこれらの方法を組
み合わせて増感することができる。貴金属塩で増感する
ときに、後述の増感色素を存在させると増感効果を高め
ることができる。またこれらを乳剤に添加するときに
は、微粒子状にして分散して添加すると増感効果をより
高めることができる。またAgI微粒子を分散して化学増
感時に添加すると粒子表面にAgIが形成されて色素増感
の効果を高めることができる。平板粒子のAgI形成時に
は、０〜1000本に及ぶ転移線部分の寄与がしばしば利用
される。

【０１１２】増感色素としては、シアニン、カルボシア
ニン、メロシアニン、ヘミシアニンなど使用されるが、
メロシアニンとして特公平4-73860号のオキサゾール環
とチオヒダントイン環を有するものが好ましい。

【０１１３】上記ハロゲン化銀は親水性コロイド媒体
中、例えば、ゼラチンに分散させて塗設される。

【０１１４】ゼラチンあるいはカルボン酸、ヒドロキシ
基やアミノ基を持つポリマー等親水性コロイド媒体の架
橋は、グリオキザルやムコクロル酸などのアルデヒド
類、2,4,-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジンナトリ
ウム塩等の活性ハロゲン類、ビス（アジリジンアセトア
ミド）ヘキサンやビス（アジリジンアセトアミド）ブタ
ンなどのアジリジン類あるいは1,2-ビス（スルホニルア
セトアミド）エタン、1,3-ビス（ビニルスルホニル）-2
-プロパノールおよびビス（ビニルスルホニル）メチル
エーテルなどのビニルスルホン系硬膜剤等を用いて行う
ことができる。

【０１１５】特に好ましい硬膜剤は 一般式 R₁−N(R₂)−CO−ピリジニウム で示され、ピリジニウム環はＲ₃および／またはL−X−S
O₃Hで置換されている。

【０１１６】式中、Ｒ₁およびＲ₂はアルキル基、アリー
ル基を表し、Ｒ₁およびＲ₂で環を形成してもよい。Ｒ₃
は水素原子または置換基を表す。Ｌは単結合または２価
の連結基を表す。Ｌで示される２価の連結基としては、
例えばアルキレン基、アリーレン基等である。Ｘは単結
合または−O−，−N(R₄)-を表しＲ₄は水素原子またはア
ルキル基、アリール基を表す。

【０１１７】本発明の感光材料を印刷製版用に適用する
ときは、硬調化剤としてヒドラジン化合物、硬調化助剤
としてアミン化合物、あるいは酸化により現像抑制剤を
放出するレドックス化合物を使用することができる。

【０１１８】本発明の感光材料を印刷用感材に適用する
場合には、感度とセーフライト性をコントロールするた
めに減感色素を使用することができる。

【０１１９】本発明の感光材料は、支持体上に少なくと
も１層の感光性乳剤層を有する。感光性乳剤層の上に保
護層を設けることができる。乳剤層や保護層は更に２層
以上にわけることができる。また保護層や乳剤層の間に
中間層を配置し、添加剤の拡散や光の透過を制御した
り、隣接層の化学的あるいは物理的影響を抑えたりする
ことができる。保護層には、安全光を遮断するためにフ
ィルター染料を固定することができる。固定のためには
微粒子にしたり、アニオン-カチオンのイオン結合を利
用したり、酸化や還元により分解するレドックス反応を
利用することができる。ハレーション防止のために乳剤
層の下層や支持体の反対側に染料を固定することは画質
向上に良い。ハレーション防止層は乳剤層の下層に設け
ることが好ましい。乳剤を両面に配置するＸレイ用ハロ
ゲン化銀写真要素の場合は、横断光遮断層としてフィル
ター染料が固定される。２層以上の乳剤層を設ける場合
には、光感度や現像の高い乳剤を支持体側に近くする方
法と遠いところに設ける場合がある。支持体に近い側は
到達する光が少なくなることや現像液の浸透が遅れるこ
とから、感度が高く現像性の速い乳剤層を設けると画質
が向上するので医用や印刷感材に好ましく適用すること
ができる。現像後期は現像性の差が大きくなるので速度
調節するために現像抑制剤を放出するレドックス化合物
を使用することができる。レドックス化合物から放出さ
れる現像抑制剤の効果を高めるためにはレドックス化合
物が存在する層を中間層を介して乳剤層に隣接させるの
が好ましい。具体的層構成は支持体から／接着層／横断
光遮断層またはハレーション防止層／乳剤層／中間層／
レドックス含有層／保護層の順である。また、支持体か
ら／接着層／横断光遮断層またはハレーション防止層／
レドックス含有層／中間層／乳剤層／保護層の順にても
使用できる。これらの層に使用するゼラチンは、公知の
架橋剤で膨潤させることができるが層別に架橋させるに
は分子量を調節したり架橋促進剤を使用するのがよい。
通常使用される各層のゼラチン量は0.1ｇ〜2.0ｇ／m²で
ある。架橋剤はグラムゼラチン当たり0.01ミリモルから
１ミリモル使用するのが好ましい。各層にはゼラチンの
他にデキストリン類、澱粉、ブドウ等など親水性ポリマ
ーや疎水性のラテックス導入して膨潤度を調節すること
ができる。膨潤度としては120〜200位までが一般的であ
る。各層の乾燥は、水分の蒸発速度に応じて温度、時間
を調節する。温度として25℃〜200℃、時間として0.1秒
〜200秒位までが一般的に適用される。膨潤度は、水中
に浸して顕微鏡で測定したり、膨潤度計で求めることが
できる。膨潤度として、乾燥膜厚＝Ld（23℃50％の相対
湿度で24時間調湿後の膜厚）に対して23℃の水中での膨
潤した厚さLwの比（Lw／Ld）に100を掛けた値を指標と
することができる。

【０１２０】現像促進のために、親水性コロイド層の少
なくとも一層に現像液に使用される下記の現像主薬を含
有せしめることができる。また、防黴剤としてN-メチル
-イソチアゾール-3-オン、N-メチル-イソチアゾール-5-
クロロ-3-オン、N-メチル-イソチアゾール-4,5-ジクロ
ロ-3-オン、2-ニトロ-2-ブロム-3-ヒドロキシプロパノ
ール、2-メチル-4-クロロフェノールなどを使用するこ
とができる。

【０１２１】３層〜10層の複数の構成層を１分当たり30
〜1000メートルの高速で同時塗布するには米国特許第3,
636,374号、同3,508,947号明細書記載の公知のスライド
ホッパー式、あるいはカーテン塗布を使用することがで
きる。塗布時のムラを少なくするには、塗布液の表面張
力を下げることや、剪断力により粘度が低下するチキソ
トロピック性を付与できる親水性ポリマーを使用するこ
とが好ましい。

【０１２２】本発明のハロゲン化銀写真観光材料は、バ
ッキング層をつけることができる。バッキング層をつけ
るに際しては、支持体上に接着層／帯電防止層／染料含
有層／保護層を設けるのが一般的である。

【０１２３】バッキング層中には、コロイダルシリカな
どの寸法安定のための無機充填物や接着防止のシリカや
メタクリル酸メチルマット剤、搬送性の制御のためのシ
リコン系滑り剤あるいは剥離剤などを含有させることが
できる。バッキング染料としては、ベンジリデン染料や
オキソノール染料が使用される。これらアルカリ可溶性
あるいは分解性染料を微粒子にして固定しておくことも
できる。ハレーション防止のための濃度としては、各感
光性波長で0.1〜2.0までの濃度であることが好ましい。

【０１２４】本発明の感光材料はバインダー乾量に基づ
いて300％以下の水分量を25℃において50％以下の相対
湿度条件で乾燥させるのがよく、保存に際して25℃相対
湿度50％以下の水分量である雰囲気下であることが望ま
しい。

【０１２５】感光材料を現像する処理液は、現像主薬と
してハイドロキノン、ハイドロキノンスルホン酸ナトリ
ウム、クロルハイドロキノンなどのハイドロキノン類の
他に、1-フェニル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4,4-ジ
メチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-4-ヒド
ロキシメチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3
-ピラゾリドンなどのピラゾリドン類およびN-メチルパ
ラアミノフェノール硫酸塩などの超加成性現像主薬と併
用することができる。また、ハイドロキノンを使用しな
いでアスコルビン酸やイソアスコルビン酸を上記超加成
性現像主薬と併用することもできる。保恒剤として亜硫
酸ナトリウム塩や亜硫酸カリウム塩、緩衝剤として炭酸
ナトリウム塩や炭酸カリウム塩、キレート剤としてはED
TA，EDTA・2Na，EDTA・4Naなど、カブリ抑制剤あるいは
銀スラッジ防止剤として5-メチルベンゾトリアゾール、
2-メルカプトベンゾチアゾール、1-フェニル-5-メルカ
プトテトラゾール、6-ニトロベンズイミダゾール、1-(4
-カルボン酸フェニル)-5-メルカプトテトラゾール、1-
(4-スルホン酸フェニル)-5-メルカプトテトロラゾー
ル、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプト-5
-スルホン酸-ベンズイミダゾール、現像促進剤としてジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルア
ミノプロパンジオール等を含むことができる。尚、カブ
リ抑制剤は、乳剤層や乳剤保護層などの写真要素層に添
加してカブリ抑制ばかりでなく鮮鋭性や明ゴ再現性を向
上させることができる。現像液は水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ剤で現像液をpＨ９〜12の
範囲に調節することができる。pＨの調整は、一般的に
は、保存性が良い10±0.5の範囲で使用されるが、迅速
処理用としてpＨ11±0.5で使用することもできる。現像
処理は、20℃〜40℃、１秒〜90秒の処理条件内で実施す
ることがてきる。また現像促進剤や増感剤を使用して現
像液や定着液の補充量をそれぞれ１m²当たり５cc〜216c
cの範囲あるいはこれ以下にすることができる。補充量
低減は、乳剤その増感技術によりハロゲン化銀粒子の使
用量を低減することが特に効果的であり、上記現像促進
技術と併用して達成することができる。

【０１２６】本発明で得られた層構成は、非銀塩感光材
料としても利用することができる。例とえば、平版印刷
感光性材料、凸版印刷感光性材料、色校正感光性材料な
どが挙げられる。

【０１２７】これらは、いずれも光重合性化合物とバイ
ンダーを含む感光層やo-キノンジアジド化合物とバイン
ダーを含む感光層、さらには光電導性化合物とバインダ
ーを含む感光層、近赤外光吸収剤とバインダーを含む感
光層からなり、この感光層を本発明に積層することによ
り非銀塩感光材料として利用することができる。また、
これらの感光層の他に必要に応じてアルミ等の金属蒸着
層、親水化処理層、着色層、受像層、帯電防止層などを
積層して利用する場合が一般に知られている。

【０１２８】前記色校正材料は、感光層が近赤外光吸収
剤とバインダーを含む感光層または光重合性化合物とバ
インダー、o-キノンジアジド化合物とバインダーを含む
感光層が本発明の支持体およびそれに積層する樹脂層上
に積層することによりカラープルーフ材料として一般的
に印刷分野で広く利用されている。

【０１２９】近赤外線吸収剤とバインダーを含む感光層
からなる色校正材料としては、熱溶融性色材層または熱
昇華性色素を含有する色材層を支持体上に設けた記録材
料と受像材料とを対向させ、レーザー光を熱源とする熱
転写記録方式が一般的である（特開昭49-15437号、同49
-17743号、同57-87399号、同59-1439659号、同61-11266
5号等に提案）。

【０１３０】以下に、記録材料と受像材料について代表
的なものを説明する。

【０１３１】記録材料として本発明の樹脂層に積層する
インク層は色材と光熱変換剤とバインダーからなる転写
層であってもよく、色材とバンダーからなる転写層と、
光熱変換材とバインダーからなる非転写性の光熱変換層
の２層構成であってもよい。

【０１３２】まず、インク層が光熱変換可能な転写層で
ある場合について説明する。

【０１３３】上記色材としては、例えば無機顔料及び有
機顔料などの顔料ならびに染料を挙げることができる。

【０１３４】無機顔料としては、二酸化チタン、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩等が挙げられる。

【０１３５】有機顔料としては、アゾ系、チオインジゴ
系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェ
ンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシア
ニン顔料（例えば銅フタロシアニン）及びその誘導体、
キナクリドン顔料などが挙げられる。又、有機染料とし
ては、酸性染料、直接染料、分散染料、油溶性染料、含
金属油溶性染料又は昇華性色素等が挙げられる。

【０１３６】色材として例えばリオノールブルーFG-733
0、リオノールイエローNo.1206,No.1406G、リオノール
レッド6BFG-4219X（いずれも東洋インキ社製）等の顔料
を使用することができる。

【０１３７】インク層における色材の含有率は特に限定
されないが、通常５〜70重量％の範囲内にあり、好まし
くは10〜60重量％である。

【０１３８】光熱変換剤としては、従来公知のものをい
ずれも使用できる。本発明の好ましい態様では半導体レ
ーザー光照射により発熱させるため、カラー画像を形成
する場合は700〜3000nmの波長帯に吸収極大を示し、可
視域での吸収が無いか小さい近赤外光吸収剤が好まし
い。モノクロ画像を形成する場合は可視〜近赤外域まで
吸収を持つカーボンブラック等が好ましい。

【０１３９】近赤外光吸収剤としては、シアニン系、ポ
リメチン系、アズレニウム系、スクワリウム系、チオピ
リリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系色素等
の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド
系の有機金属錯体などが好適に用いられ、具体的には特
開昭63-139191号、同64-33547号、特開平1-160683号、
同1-280750号、同1-293342号、同2-2074号、同3-26593
号、同3-30991号、同3-34891号、同3-36093号、同3-360
94号、同3-36095号、同3-42281号、同3-97589号、同3-1
03476号等に記載の化合物が挙げられる。

【０１４０】これらは１種又は２種以上を組み合わせて
用いることができる。

【０１４１】インク層のバインダーとしては、熱溶融性
物質、熱軟化性物質、熱可塑性樹脂を挙げることができ
る。熱溶融性物質は、通常、柳本MJP-２型を用いて測定
した融点が40〜150℃の範囲内にある固体又は半固体の
物質である。具体的には、カルナバ蝋、木蝋、オウリキ
ュリー蝋、エスパル蝋等の植物蝋；蜜蝋、昆虫蝋、セラ
ック蝋、鯨蝋等の動物蝋；パラフィンワックス、マイク
ロクリスタルワックス、ポリエチレンワックス、エステ
ルワックス、酸ワックス等の石油蝋；並びにモンタン
蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱物蝋等のワックス類
を挙げることができ、更にこれらのワックス類などの他
に、パルミチン酸、ステアリン酸、マルガリン酸、ベヘ
ン酸等の高級脂肪酸；パルミチルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ベヘニルアルコール、マルガニルアルコ
ール、ミリシルアルコール、エイコサノール等の高級ア
ルコール；パルミチン酸セチル、パルミチン酸ミリシ
ル、ステアリン酸セチル、ステアリン酸ミリシル等の高
級脂肪酸エステル；アセトアミド、プロピオン酸アミ
ド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、アミド
ワックス等のアミド類；並びにステアリルアミン、ベヘ
ニルアミン、パルミチルアミン等の高級アミン類などが
挙げられる。

【０１４２】又、熱可塑性樹脂としては、エチレン系共
重合体、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセター
ル系樹脂、アイオノマー樹脂、石油系樹脂等の樹脂類；
天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、
クロロプレンゴム、ジエン系コポリマー等のエラストマ
ー類；エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフ
ェノール樹脂、水添ロジン等のロジン誘導体；並びにフ
ェノール樹脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹
脂、芳香族系炭化水素樹脂等の高分子化合物などを挙げ
ることができる。

【０１４３】上記熱溶融性物質及び熱可塑性物質を適宜
に選択することにより、所望の熱軟化点あるいは熱溶融
点を有する熱転写層を形成することができる。

【０１４４】次に、インク層が転写性色材層と光熱変換
層の２層構成を取る場合について説明する。色材層と光
熱変換層の２層構成とすることにより、可視域に吸収を
有する光熱変換剤を使用することができ、特にカラー画
像を作成する場合には色再現上有利である。

【０１４５】光熱変換層における光熱変換剤としては、
前記光熱変換可能なインク層で挙げたものを用いること
ができる。ただし、光熱変換層は700〜1000nmの近赤外
光域で光源の波長に対する吸収は少なくとも0.25以上で
あり、好ましくは0.5以上である。赤外線吸収色素を用
いると、カーボンブラックなどの顔料に比べ単位重量当
たりの吸収係数を有するので、光熱変換層の膜厚を薄く
することができ高感度化が可能となる。

【０１４６】光熱変換層におけるバインダーとしては、
ガラス転移点が高く熱伝導率の高い樹脂、例えばゼラチ
ン、ポリビニルピロリドン、ポリエステル、ポリパラバ
ン酸、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、エチルセルロース、ニトロセルロース、ポ
リビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、アラミド等の一般的な耐熱性樹脂を使
用することができる。

【０１４７】この光熱変換層の膜厚は0.1〜３μmが好ま
しく、光熱変換層における光熱転換材の含有量は、通
常、画像記録に用いる光源の波長での吸光度が0.3〜3.0
になるように決めることができる。

【０１４８】光熱変換層としては、この他にも蒸着膜と
して形成することも可能であり、カーボンブラック、特
開昭52-20842号に記載の金、銀、アルミニウム、クロ
ム、ニッケル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン
等のメタルブラックの蒸着層等を挙げることができる。
なお、光熱変換材はインク層の色材そのものでもよく、
又、上記のものに限定されず、様々な物質が使用でき
る。

【０１４９】次に、受像材料について述べる。

【０１５０】受像材料は、前記記録材料から像様に剥離
したインク層を受容して画像を形成する。通常、受像材
料は支持体と受像層とを有し、又、支持体のみから形成
されることもある。

【０１５１】受像層は、バインダーと必要に応じて添加
される各種添加剤やマット材からなる。又、場合によっ
てはバインダーのみで形成される。 受像性の良い受像
層バインダーとしては、ポリ酢酸ビニルエマルジョン系
接着剤、クロロプレン系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤
等の接着剤、天然ゴム、クロロプレンゴム系、ブチルゴ
ム系、ポリアクリル酸エステル系、ニトリルゴム系、ポ
リサルファイド系、シリコンゴム系、ロジン系、塩化ビ
ニル系、石油系樹脂及びアイオノマー樹脂などの粘着
材、再生ゴム、SBR、ポリイソプレン、ポリビニルエー
テル等を挙げることができる。

【０１５２】又、受像層上に形成された画像を、更に加
熱及び／又は加圧により他の被記録媒体に再転写する場
合は、受像層として極性の比較的小さい（SP値の小さ
い）樹脂が特に好ましい。例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、エチレン-塩化ビニル共重合体、ポリブタジ
エン樹脂、エチレン-アクリル共重合体、塩化ビニル系
樹脂、各種変性オレフィンなどである。

【０１５３】受像層の膜厚は通常、10〜100μmである
が、本発明の支持体を受像材料として用いる場合はこの
限りではない。クッション層としては記録材料で記載し
たクッション性の中間層が利用できる。又、他の被記録
媒体に再転写する場合の膜厚は30〜50μmが好ましい。
その他必要に応じて下引層、バックコート層、帯電防止
層などを設ける場合もある。

【０１５４】感光層としてo-キノンジアジド化合物を含
有する場合は、感光剤として機能し得るものであれば、
任意のものを使用できる。

【０１５５】具体的には例えば、1,2-ベンゾキノンジア
ジド-4-スルホニルクロライド、1,2-ナフトキノンジア
ジド-4-スルホニルクロライド、1,2-ナフトキノンジア
ジド-5-スルホニルクロライド、1,2-ナフトキノンジア
ジド-6-スルホニルクロライドと水酸基及び／またはア
ミノ基含有化合物を縮合させた化合物が好適に用いられ
る。好ましくは、４位にスルホニルクロライド基をもつ
化合物であり、1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホニ
ルクロライドとの縮合化合物である。

【０１５６】水酸基含有化合物としては、例えばトリヒ
ドロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシアントラキノ
ン、ビスフェノールＡ、フェノールノボラック樹脂、レ
ゾルシンベンズアルデヒド縮合樹脂、ピロガロールアセ
トン縮合樹脂等がある。また、アミノ基含有化合物とし
ては、例えばアニリン、p-アミノジフェニルアミン、p-
アミノベンゾフェノン、4,4′-ジアミノジフェニルアミ
ン、4,4′-ジアミノベンゾフェノン等がある。

【０１５７】ここに記したことを含めて、キノンジアジ
ド化合物に関しては、更にＪ．コザー（J.Kosar）著
「ライト・センシチブ・システム」（Light Sensitive
System）（ニューヨーク市、ジョンワイリーアンドサン
ズ社、、1965年発行）、及び永松、乾共著“感光性高分
子”（講談社、1977年発行）に記載のものに従うことが
できる。

【０１５８】また感光層中に光重合性化合物を含有する
場合、具体的には例えば、光重合性化合物としては、一
般に用いられているものを任意に用いることができる。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル
及びメタクリル酸エステルから成る化合物群から任意に
選ばれた少なくとも１種の化合物を用いることができ
る。例えば、エチレングリコールジアクリレート、グリ
セリントリアクリレート、ポリアクリレート、エチレン
グリコールジメタアクリレート等を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。

【０１５９】感光層には、光重合開始剤を含有させるこ
とができる。この場合の光重合開始剤は任意であるが、
可視部における吸収の少ないものがより好ましく、この
ようなものとしては例えば、次の化合物が挙げられる。
但しこれらに限定されるものではない。即ち、ベンゾフ
ェノン、ミヒラーケトン〔4′,4′-ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン〕、4,4′-ビス（ジエチルアミノ）
ベンゾフェノン、4-メトキシ-4′-ジメチルアミノベン
ゾフェノン、2-エチルアントラキノン、フェナントラキ
ノン、及びその他の芳香族ケトンのような芳香族ケトン
類、ベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチル
ベンゾイン及びその他のベンゾイン類、ならびに2-（o-
クロロフェニル）-4,5-ジフェニルイミダゾール二重
体、2-（o-クロロフェニル）-4,5-（m-メトキシフェニ
ル）イミダゾール二重体、2-（o-フルオロフェニル）-
4,5-ジフェニルイミダゾール二重体、2-（o-メトキシフ
ェニル）-4,5-ジフェニルイミダゾール二重体、2-（p-
メトキシフェニル）-4,5-ジフェニルイミダゾール二重
体、2,4-ジ（p-メトキシフェニル）-5-フェニルイミダ
ゾール二重体、2-（2,4-ジメトキシフェニル）-4,5-ジ
フェニルイミダゾール二重体、2-（p-メチルメルカプト
フェニル）-4,5-ジフェニルイミダゾール二重体、及び
米国特許3,479,185号、英国特許1,047,569号及び米国特
許3,784,557号の各明細書に記載の同様の二重体のよう
な2,4,5-トリアクリルイミダゾール二重体を挙げること
ができる。

【０１６０】その他の光重合性化合物として、2,4-ジエ
チルチオキサントンなどのチオキサントン類を用いるこ
ともできる。この場合、光重合促進剤として公知の化合
物、例えばp-ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステ
ル、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N-メチ
ルジエタノールアミン、ビスジエチルアミノベンゾフェ
ノン等を用いることができる。

【０１６１】バインダーとしては公知の高分子化合物、
合成樹脂を含有することができ、例えば下記一般式で示
されるカルボン酸ビニルエステル重合単位を分子構造中
に有する高分子化合物を含有することが好ましい。

【０１６２】

【化３】

【０１６３】式中、Ｒ¹⁰は置換基を有してもよいアルキ
ル基を表す。

【０１６４】上記のような構造の高分子化合物であれ
ば、任意に用いることができるが、上記一般式で示され
る重合単位を構成するためのカルボン酸ビニルエステル
モノマーは、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、
酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、バーサチック酸ビニル
（下記に示す）等が挙げられる。

【０１６５】

【化４】

【０１６６】Ｒ¹¹，Ｒ¹²はアルキル基で、その炭素数の
和は７である。即ちＲ¹¹＋Ｒ¹²＝Ｃ₇Ｈ₁₆の形になる。

【０１６７】高分子化合物は、カルボン酸ビニルエステ
ルの１種を重合させたポリマーでもよく、カルボン酸ビ
ニルエステルの２種以上を共重合させたポリマーでもよ
く、またカルボン酸ビニルエステルとこれと共重合し得
る他の単量体との任意の成分比でのコポリマーであって
もよい。

【０１６８】上記一般式で示される重合単位と組み合わ
せて用いることができる単量体単位としては、例えばエ
チレン、プロピレン等のエチレン系不飽和オレフィン
類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリ
ル酸類、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族
ジカルボン酸類、マレイン酸ジエチル等の不飽和ジカル
ボン酸のジエステル類、アクリル酸メチル等のα-メチ
レン脂肪族モノカルボン酸エステル類、アクリロニトリ
ル等のニトリル類、アクリルアミド等のアミド類、アク
リルアニリド等のアニリド類、メチルビニルエーテル等
のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライ
ド、ビニリデンシアナイド、例えば1-メチル-1-メトキ
シエチレン、1,1-ジメトキシエチレン、1,2-ジメトキシ
エチレン、1,1-ジメトキシカルボニルエチレン、1-メチ
ル-1-ニトロエチレン等のエチレン誘導体類、例えばN-
ビニルピロール、N-ビニルカルバゾール等のN-ビニル化
合物、等のビニル系単量体がある。これらの単量体単位
は不飽和二重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存
在する。

【０１６９】使用する高分子化合物として特に好ましい
のは、酢酸ビニル重合単位を分子構造中に有するもので
ある。その中でも、酢酸ビニル重合単位を40〜95重量％
有するもの、数平均分子量（MN）が、1,000〜60,000の
もの、重量平均分子量（MW）が500〜150,000のものが好
ましい。

【０１７０】更に好ましくは、酢酸ビニル重合単位（特
にこれが40〜95重量％のもの）及び酢酸ビニルより長鎖
のカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分子化
合物がよく、特に数平均分子量（MN）が2,000〜60,00
0、重量平均分子量（MW）が10,000〜150,000のものが好
ましい。

【０１７１】この場合、酢酸ビニルと共重合して酢酸ビ
ニル重合単位を有する高分子化合物を構成するモノマー
としては、共重合体を形成し得るものであれば任意であ
り、例えば酢酸ビニル-エチレン、酢酸ビニル-塩化ビニ
ル、酢酸ビニル-ステアリン酸ビニル、酢酸ビニル-バー
サチック酸ビニル、プロピオン酸ビニル-バーサチック
酸ビニル等の上記の単量体の中から任意に選ぶことがで
きる。

【０１７２】感光層中には着色剤として染料および／ま
たは顔料が添加される。特に、色校正に使用する場合、
そこに要求される常色、即ち、イエロー、マゼンタ、シ
アン、ブラックと一致した色調の顔料、染料が必要とな
るが、その他金属粉、白色顔料、螢光顔料なども使われ
る。

【０１７３】着色剤を用いる場合、着色感光層の着色剤
／着色剤以外の成分の比率は、目標とする光学濃度と着
色感光層の現像液に対する除去性を考慮して同業者に公
知の方法により定めることができる。例えば、染料の場
合、好ましくはその含有量は重量で５％〜75％、顔料の
場合、好ましくはその含有量は重量で５％〜90％が適当
である。

【０１７４】また、着色感光層の膜厚は目標とする光学
濃度、着色感光層に用いられる着色剤の種類（染料、顔
料、カーボンブラック）およびその含有率により同業者
に公知の方法により定めることができるが、許容範囲内
であれば着色感光層の膜厚はできるだけ薄い方が解像力
は高くなり、画像品質は良好である。従って、該膜厚
は、好ましくは0.1ｇ／m²〜５ｇ／m²の範囲で使用され
るのが通常である。

【０１７５】その他、転写材料及び受像材料の層構成物
には必要に応じてさらに可塑性、塗布性向上剤等を添加
することもできる。

【０１７６】可塑剤としては各種低分子化合物類、例え
ばフタル酸エステル類、トリフェニルホスフェート類、
マレイン酸エステル類、塗布性向上剤としては界面活性
剤、例えばフッ素系界面活性剤、エチルセルロースポリ
アルキレンエーテル等に代表されるノニオン活性剤等を
挙げることができる。

【０１７７】感光層は着色剤と結合剤よりなる着色層
と、感光性組成物よりなる感光層との２層に分割するこ
ともできる。この場合は、どちらの層が支持体側に配置
されていてもかまわない。

【０１７８】必要に応じて用いられる保護層としては公
知のいずれでもよいが、そのガス透過性は、用いる感光
性組成物の種類に応じて適宜選択されることが好まし
い。すなわち、o-キノンジアジド等の露光時にガスを発
生する感光性組成物である場合にはガス透過性の高い保
護層を付与することが好ましく、光重合型の感光性組成
物を用いる場合にはガス透過性の低い保護層を付与する
ことが好ましい。更に、現像に際して現像液に溶けるも
の、特にポリビニルアルコール、セルロース類の如き水
溶性高分子で厚み0.01〜５μm程度、特に0.03〜１μm程
度のものが好ましい。

【０１７９】これらの感光層及びその他の層構成に用い
られた材料はカラープルーフ材料だけではなく、平版印
刷感光性材料や凸版印刷感光性材料にもバインダーをノ
ボラック樹脂やフェノール性水酸基をもつビニル系重合
体に変えたりすることにより巾広く利用することもでき
る。

【０１８０】また、光重合化合物とバインダー、o-キノ
ンジアジド化合物とバインダーを含む色校正材料として
はカラーシートを用いて多色転写画像を形成する方法が
あり、例えば、特開昭47-41830号記載の着色画像を直接
最終受像紙に転写する直接方式や同昭59-97140号、同61
-189535号、特開平3-107852号に記載の着色画像を一
時、仮の受像シート上に転写する間接転写方式、また、
同昭56-50127号記載の着色感光層を受像紙に転写した後
に画像を形成する工程を繰り返す方法等が一般的であ
る。以下に、その転写材料および受像材料について代表
的なものを説明する。

【０１８１】

【実施例】

実施例１ 〈支持体の作成〉本発明の芯層を構成するSPSは、重量
平均分子量40万、Mw/Mn＝2.15、ペンタッドシンジオタ
クチシティが、98.2％のものを用いた。

【０１８２】〈SPSシートの作成〉押出機で310℃で上記
SPSペレットを溶融押出した。この溶融ポリマーをパイ
プを通じて押出しダイに押し出した。そしてダイスリッ
トより冷却したキャスチングドラムに静電印可させなが
ら押し出して冷却することにより膜厚1000μmのSPS未延
伸シートを得た。これをシート１とする。

【０１８３】〈熱可塑性樹脂層ラミネートシートの作
製〉シート１の両面にコロナ放電を施した後に、重量平
均分子量100,000、密度0.925のポリエチレンシートをそ
れぞれ厚さが10μmと２μmとなるように両面に押出コー
ティング法により溶融押出した。これをシート２とす
る。

【０１８４】〈熱可塑性樹脂層共押出シートの作成〉表
面層熱可塑性樹脂の組成を表１に示す。

【０１８５】

【表１】

【０１８６】一つの押出機で300℃で、上記SPSペレット
を溶融押出した。また、もう一方の押出機により樹脂Ｓ
−１を280℃で溶融押出してこれを２方向に分割した。
これらの溶融ポリマーをパイプを通じて３層より成る押
出しダイより押し出した。つまりＳ−１／SPS／Ｓ−１
＝0.6／9.3／0.1の３層構造となるように押し出し、ダ
イの中で合流積層させ、ダイスリットより冷却したキャ
スチングドラムに静電印加させながら押し出して冷却す
ることにより膜厚1000μmの積層未延伸シートを得た。
これをシート３とする。

【０１８７】熱可塑性樹脂Ｓ−１をそれぞれＳ−２〜４
に変えそれぞれシート４〜６とした。

【０１８８】得られたそれぞれのシート１〜６を110℃
で予熱した後に縦方向に3.3倍に延伸し、さらにステン
ター内で130℃に予熱して横方向に3.3倍延伸した。更に
３％横方向に緩和させながら230℃で熱固定した後に、1
70℃で約５分間ヒートリラックスさせてさらに、80℃で
約10分間熱処理した。

【０１８９】それぞれのシートより得られたフィルムを
それぞれフィルムNo.１〜６とする。

【０１９０】また、通常の方法で作製した100μm２軸延
伸ポリエチレンテレフタレート（固有粘度0.62）フィル
ムをフィルム７とする。

【０１９１】得られた各々のフィルム上に、特開平3-13
1843号に従って下記下引処理を施した。

【０１９２】 ゼラチン水溶液（５wt％） ７重量部 ホルマリン水溶液（４wt％） １重量部 純水で100重量部に仕上げる。

【０１９３】これを、フィルムNo.１〜７の両面にコロ
ナ放電を施した後に乾燥膜厚がそれぞれ0.7μmとなるよ
うに塗設した後に100℃で３分間乾燥させた。

【０１９４】この上に、下記乳剤層を熱可塑性樹脂層の
厚い面に、バック層を薄い面にそれぞれ設層した。

【０１９５】《感光材料の作成》乳剤としては、塩化銀
含有率が60モル％の塩臭化銀からなり、粒子内部にイリ
ジウム及びロジウムを銀1モル当たり10^-6モルドーピン
グした平板粒子からなるものを用い、銀１モル当たりチ
オ硫酸ナトリウム５水塩8.2mg、チオシアン酸カリウム1
63mg、塩化金酸5.4mg、ジフェニルペンタフロロフェニ
ルセレナイド2.0mgを用いて増感した。高感度乳剤層の
乳剤は平均粒径0.13μmでアスペクト比＝1.5、低感度乳
剤層の乳剤は平均粒径0.14μmでアスペクト比＝２、高
感度乳剤と低感度乳剤の感度差は32％であった。

【０１９６】 《写真構成層》 第１層 反射光吸収層（500nmにおける吸光度＝0.36） ゼラチン 0.3ｇ／m² マット剤（平均粒径２μm） 0.02ｇ／m² 固体分散染料Ｂ（平均粒径0.06μm） 0.03ｇ／m²

【０１９７】

【化５】

【０１９８】 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² 第２層 高感度乳剤層 ハロゲン化銀（銀換算） 1.5ｇ／m² ゼラチン 1.0ｇ／m² ポリ(エチルメタクリレート-ブチルアクリレート) 共重合体ラテックス 0.5ｇ／m² 固体分散硬調化剤（平均粒径0.12μm）〜1-ホルミル-2- {4-〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ)ブチルアミド〕 フェニル}ヒドラジン 0.02ｇ／銀１モル 増感色素〜5-〔3-(4-スルホブチル)-5-クロロ-2- オキサゾリジデン〕-1-ヒドロキシエチル-3-(2-ピリジル) -2-チオヒダントインカリウム塩 １×10^-3モル／銀１モル 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² 第３層 中間層 ゼラチン 0.3ｇ／m² 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² 第４層 低感度乳剤層 ハロゲン化銀（銀換算） 1.5ｇ／m² ゼラチン 1.0ｇ／m² ポリ(エチルメタクリレート-ブチルアクリレート) 共重合体ラテックス 0.5ｇ／m² 固体分散硬調化剤（平均粒径0.12μm）〜1-ホルミル-2-{4- 〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ)ブチルアミド〕 フェニル}ヒドラジン 0.02ｇ／銀１モル 固体分散レドックス化合物（平均粒径0.12μm）〜1-(5-ニトロ インダゾール-1-イル)-2-{4-〔2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ) ブチルアミド〕フェニル}ヒドラジン 0.02ｇ／銀１モル 硬調化助剤〜ビス(1-ピペリジノトリエチレンオキササイド) チオエーテル 0.2ｇ／銀１モル ノニルフェノキシドコサエチレンオキサイドスルホネート ・ナトリウム塩 0.2ｇ／銀１モル カブリ防止剤 ハイドロキノンモノスルホネート 12mg／銀１モル ハイドロキノンアルドキシム 12mg／銀１モル 1-(p-カルボキシフェニル)-5-メルカプトテトラゾール 12mg／銀１モル ベンゾトリアゾール 12mg／銀１モル 1-ブタンスルホン酸-2,3-ジチアシクロヘキサン 12mg／銀１モル アデニン 12mg／銀１モル 没食子酸ブチル 12mg／銀１モル 増感色素〜5-〔3-(4-スルホブチル)-5-クロロ-2- オキサゾリジデン〕-1-ヒドロキシエチル-3-(2-ピリジル) -2-チオヒダントインカリウム塩 １×10^-3モル／銀１モル 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² 第５層 保護層下層 ゼラチン 0.5ｇ／m² 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² エチルメタクリレート-ブチルアクリレート共重合体ラテックス 0.2ｇ／m² マット剤〜二酸化ケイ素（平均粒径４μm） 0.03ｇ／m² 固体分散セーフライト染料（平均粒径0.06μm） 4,4′-ビス〔1-(4-カルボキシフェニル)-3-カルボキシエチル ピラゾール-5-オン〕ヘプタメチン 60mg／m² アルカリ可溶性固体分散現像抑制剤（平均粒径0.07μm） 4-ニトロインダゾール 60mg／m² 第６層 保護層上層 ゼラチン 0.5ｇ／m² 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² エチルメタクリレート-ブチルアクリレート共重合体ラテックス 0.2ｇ／m² マット剤〜二酸化ケイ素（平均粒径４μm） 0.03ｇ／m² 固体分散セーフライト染料（平均粒径0.06μm） 4,4′-ビス〔1-(4-カルボキシフェニル)-3-カルボキシエチル ピラゾール-5-オン〕ヘプタメチン 60mg／m² アルカリ可溶性固体分散現像抑制剤（平均粒径0.07μm） 4-ニトロインダゾール 60mg／m² 尚、反射光吸収層に硬膜剤のピロリジノカルバモイルピ
リジンエタンスルホン酸を全層のゼラチンに対して0.3
ミリモル／ｇゼラチンとなるように添加して塗布した。

【０１９９】《バッキング層》下記により調製したバッ
キング層用塗布液（バッキング層塗布液BC−１）、バッ
キング保護膜層用塗布液をそれぞれゼラチンの付き量と
して1.8ｇ／m²、0.5ｇ／m²になるように積層塗布した。

【０２００】〔バッキング層用塗布液の調製〕下記添加
剤を添加混合後、総量が895mlになるよう純水で調整して
バッキング層塗布液BC−１を調製した。

【０２０１】 ゼラチン 32.4ｇ 純水 696ml 染料Ｃの６％(W/V)水溶液 64ml 染料Ｄのサポニン33％(W/V)水溶液 6.6ml ポリマーラテックス20％(W/V)エマルジョン液 33.6ml (平均粒径0.10μmのシクロヘキシル-メタクリレート、 イソノニルアクリレート、グリシジル-アクリレートとスチレン -イソプレンスルホン酸のコポリマー) 酸化亜鉛の10％(W/V)固体微粒子分散液(平均粒径0.15μm) 10ml 化合物Ｎの固体微粒子16％(W/V)分散液(平均粒径0.1μm) 10ml クエン酸７％(W/V)水溶液 3.8ml スチレンスルフォン酸ナトリウム４％(W/V)水溶液 23ml 〔バッキング保護膜層用塗布液の調整〕下記添加剤を添
加混合後、総量が711mlになるよう純水で調整してバッキ
ング保護層用塗布液を調製した。

【０２０２】 ゼラチン 24.9ｇ 純水 605ml メタクリル酸メチル(平均粒径７μ)の２％(W/V)分散液 72ml 1-デシル-2-(3-イソペンチル)サクシネート-2-スルホン酸ナトリウム ４％(W/V)水溶液 11ml グリオキザール４％(W/V)水溶液 4ml 〔バッキング層インライン添加用硬膜剤液の調製〕 純水 27.22ml メタノール 1.5ml 硬膜剤 Ｈ１ 1.28ml NaCl 0.005ｇ （尚、上記添加剤を混合して調製したバッキング層イン
ライン添加用硬膜剤液は、保護層塗布液に塗布直前にイ
ンラインで添加混合した。）

【０２０３】

【化６】

【０２０４】作製した感光材料試料を線画原稿をカメラ
撮影し、自動現像機、下記の現像液、定着液を用いて現
像、定着、水洗乾燥を行った。現像は温度28℃６秒、定
着温度28℃６秒、水洗25℃６秒、乾燥温度60℃６秒に設
定した。

【０２０５】 〈現像液の組成〉 1-フェニル-3-ピラゾリドン 1.5ｇ ハイドロキノン 30ｇ 5-ニトロインダゾール 0.250ｇ 5-メチルベンゾトリアゾール 0.06ｇ 臭化カリウム 3.0ｇ 亜硫酸ナトリウム 50ｇ 水酸化カリウム 30ｇ 硼酸 10ｇ 水を加えて１リットルとし、pＨは10.20に調節した。

【０２０６】 〈定着液の組成〉 チオ硫酸アンモニウム（72.5％W/V）水溶液 240ml 亜流酸ナトリウム 17ｇ 酢酸ナトリウム・３水塩 6.5ｇ 硼酸 6.0ｇ クエン酸ナトリウム・２水塩 2.0ｇ 酢酸（90％W/V水溶液） 13.6ml 硫酸（50％W/V水溶液） 4.7ｇ 硫酸アルミニウム（Al₂0₃換算含量が8.1％W/Vの水溶液） 26.5ｇ 水を加えて１リットルとし、pＨを5.0に調節した。

【０２０７】評価は、下記のようにして行った。

【０２０８】〈寸法安定性の評価〉ガラス板上に、560m
mの間隔でトンボを入れる。写真感光材料を、55％RHに
調湿した後に、上記ガラス板を原稿としてプリンターで
露光焼き付けした後に、現像処理を行い、55％RHの部屋
で１日調湿する。これと上記ガラス乾板との寸法のズレ
を測定した後に、65％RHの部屋で１日調湿してさらに上
記ガラス乾板との寸法のズレを測定する。このズレの差
を寸法安定性とした。

【０２０９】〈接着性の評価〉 （生膜付き及びドライ膜付き）現像処理前、または現像
処理後乾燥を終了した試料のハロゲン化銀乳剤層の表面
にカミソリで格子状に90゜の角度でフィルムにまで達す
る傷をつけ、セロテープを圧着し、急激に引き剥しハロ
ゲン化銀乳剤層の剥離面積を５段階評価した。

【０２１０】評価基準 １．接着力は非常に弱く、完全に100％以上の面積が剥
離する ２．50％以上100％未満の面積が剥離する ３．20％以上50％未満の面積が剥離する ４．接着力は強く、５％以上20％未満の面積が剥離する ５．接着力は非常に強く、剥離面積は５％未満で全く剥
離されない 評価４以上ならば実用上十分に膜付きが強いとみなせ
る。

【０２１１】〈巻ぐせカール度の測定〉フィルムサンプ
ルを温度23℃、湿度55％に温調された部屋に24時間以上
放置した後に、120mm×35mmのサイズ（MD方向に120mm，
TD方向に35mm）に断裁し、樹脂製の外径３インチのコアに
乳剤層が巻外になるようにして巻き付け、フィルムの最
外端部を接着テープで固定し、温度55℃湿度55％に温調
された恒温層に４時間放置した後に、温度23℃、湿度55
％に温調された部屋で巻を解放し、20分後にカール度を
測定した。

【０２１２】評価結果を表２に示す。

【０２１３】

【表２】

【０２１４】上記のように、熱可塑性樹脂層を被覆した
フィルム２は、PET単体よりも寸法安定性が高く、SPS単
体よりも接着性が向上し巻きぐせが付き難くなってい
る。又熱可塑性樹脂に親水基を含有させたものは、さら
に接着性が向上している。

【０２１５】実施例２ SPS（重量平均分子量45万、Mw/Mn＝2.35、ペンタッドシ
ンジオタクチシティが、98.2％）を押出機で310℃で溶
融押出しして、パイプを通じて押出しダイに押し出し
た。そしてダイスリットより冷却したキャスチングドラ
ムに静電印可させながら押し出して冷却することにより
膜厚1000μmのSPS未延伸シートを得た。

【０２１６】得られたシートを110℃で予熱した後に縦
方向に3.3倍に延伸し、さらにステンター内で130℃に予
熱して横方向に3.3倍延伸した。更に３％横方向に緩和
させながら230℃で熱固定した後に、170℃で約５分間ヒ
ートリラックスさせてさらに、80℃で約10分間熱処理し
厚さ75μmのSPSフィルムを得た。

【０２１７】同様にして、硬膜75μmの２軸延伸ポリエ
チレンテレフタレート（PET）（固有粘度0.60）フィル
ムを作成した。

【０２１８】これらのフィルム表面にコロナ放電を施し
た後下記組成熱可塑性樹脂層を設けたものを作成し、夫
々に感光層を設けた。

【０２１９】厚さ75μmのSPSフィルムおよびPETフィル
ム上に厚さ25μmのエチレン-酢酸ビニル共重合樹脂層
（三井デュポンポリケミカル社製EVAFLEX P-1405，酢酸
ビニル含有量14重量％、VICAT軟化点68℃））をアンカ
ー剤（ウレタンオリゴマー、イソシアネート化合物）を
塗布しながら、押し出しラミネート法にて塗布を行っ
た。いづれにも、下記処方の帯電防止層を片側に塗布し
た。

【０２２０】 （帯電防止塗布液） Ｐ−ビニルベンゼンスルホン酸ソーダとマレイン酸共重合体 （８／２、MW＝20000） ；10ｇ 弗素系界面活性剤（エフトトップEF-102「三菱金属社製」 ；２ｇ 水 ；1000ｇ 次に示す処方の感光液を上に塗布乾燥を行った。

【０２２１】 （感光液Ａ） P-クレゾール・ホルマリンノボラック樹脂（重合平均分子量＝2000）のo-ナフ トキノンジアジド-4-スルホン酸エステル ；600ｇ 酢酸ビニル・バーサチック酸ビニル共重合体の50％メタノール溶液（仕込み重 量比＝70：30、重量平均分子量；45000） ；8784ｇ カーボンブラックMA-100 ；990ｇ グルタル酸 ；20ｇ 弗素系界面活性剤（FC-430＜３Ｍ社製＞） ；10ｇ MEK 続いて、下記処方のオーバーコート液を感光層上面に塗
布を行った。

【０２２２】 （オーバーコート液） セルロース誘導体（カルボキシメチルセルロース） ；100ｇ 水 ；3000ｇ 以上の層構成の感光性転写材料にＡ−２サイズの網分解
ポジフィルム（４隅にドンボの入った原稿）をピンバー
を用いて重ね合わせ紫外線露光し、下記現像液にて現像
処理を行った。

【０２２３】 （現像液） 珪酸カリ ；40ｇ ペレックスNBL（花王アトラス社製） ；80ｇ 水 ；2000ｇ 次に、現像され画像が形成されている転写材料の感光層
側とアート紙（三菱製紙社製 特菱アート）が密着する
ようにして、ピンバーを用いて重ね合わせ、加熱された
ラミネータ（温度100℃、ニップ圧３kg、送り速度45mm
／分）を通すことによって形成された画像を紙に転写す
る作業を行った。

【０２２４】ここで露光時に用いた網分解ポジフィルム
と紙に転写された画像のトンボ位置をピンバーを用いて
重ね合わせ、それぞれ測定し、寸法安定性（トンボず
れ）を測定した（試料No.８および12）。

【０２２５】また、前記フィルム上に下記感光液Ｂを前
と同様にして塗布を行い、転写材料を得た。

【０２２６】 （感光液Ｂ） ジアリルイソフタレートプレポリマー （大阪曹達製 ダイソーイソダップ） ；3000ｇ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ；1000ｇ ベンゾフェノン ；50ｇ 4,4-ビス-ジエチルアミノベンゾフェノン ；17ｇ ハイドロキノン ；0.1ｇ カーボンブラックMA-100 ；400ｇ MEK 次に、前と同様に網分解フィルムとピンバーを用いて重
ね合わせて紫外線露光し、同様に加圧されたラミネータ
ーを通すことによりアート紙上に画像を形成させ、寸度
安定性（トンボずれ）の測定を行った（試料No.９およ
び13）。

【０２２７】上記転写材料を同様に紙に画像転写を行う
際、ラミネーターのローラー温度を130度に上げて処理
し、寸度安定性（トンボずれ）の測定を行った（試料N
o.10，11，14および15）。

【０２２８】又、得られた感光性転写材料を実施例１と
同様の処理を行い巻ぐせカール度の測定を行った。

【０２２９】以上の評価結果を表３に下記に示す。なお
表中Ａ〜Ｄはそれぞれ４隅のトンボの入った部分であ
る。

【０２３０】

【表３】

【０２３１】何れの測定位置でもPETに比べSPSは寸法の
ずれが小さくなっている。またSPSフィルムの場合熱可
塑性樹脂層を設けることにより、巻ぐせ値を小さくする
ことができた。

【０２３２】

【発明の効果】SPSフィルムの少なくとも片面に熱可塑
性樹脂層を被覆した感光材料用支持体とすることによ
り、寸度安定性が高く、巻ぐせカールの少ない、接着性
の良好な感光材料用支持体を得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＴ Ｇ Ｇ０３Ｃ 1/81 // Ｂ２９Ｋ 25:00 Ｂ２９Ｌ 9:00

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シンジオタクチックポリスチレンを主成
   分とするフィルムの少なくとも片面に熱可塑性樹脂層が
   被覆されている構造を有することを特徴とする感光材料
   用支持体。
2. 【請求項２】 前記熱可塑性樹脂層が、シンジオタクチ
   ックポリスチレンを主成分とする組成物の両面に共押し
   だしした後に２軸延伸熱固定されたものであるか、２軸
   延伸熱固定されたシンジオタクチックポリスチレンフィ
   ルムの表層にラミネーションして得られたものであるこ
   とを特徴とする請求項１記載の感光材料用支持体。
3. 【請求項３】 前記熱可塑性樹脂層の膜厚が、片面当た
   り0.1μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項
   １または２記載の感光材料用支持体。
4. 【請求項４】 前記感光材料がハロゲン化銀写真感光材
   料であることを特徴とする請求項１、２または３記載の
   感光材料用支持体。
5. 【請求項５】 転写性もしくは被転写性感光材料である
   ことを特徴とする請求項１、２、３または４記載の感光
   材料用支持体。