JPH08129247A - ハロゲン化銀写真感光材料用支持体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、高度に寸法安定性に優れ、
感光層等への接着性を有しているハロゲン化銀写真感光
材料のための写真用支持体を提供することにある。 【構成】 シンジオタクチックポリスチレンを主成分と
するフィルムの両面にポリエステル樹脂層が積層されて
いる構造を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料用支持体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料用支持体に関し、詳しくは寸法安定性に優れたハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる写真用支持体はその目的によりいろいろなものが
使いわけられている。

【０００３】例えばロール状のカラー写真フィルムの写
真用支持体には、セルローストリアセテート（以下ＴＡ
Ｃと略す）フィルムが用いられている。ハロゲン化銀写
真感光材料（以下写真フィルムと略す場合がある）がロ
ール状に巻かれると時間と共に巻きぐせが付き易くな
る。ＴＡＣフィルムには現像処理等の水中に浸漬される
と、巻きぐせが解消されるという性質があるため、カラ
ー写真フィルムのようなロール写真フィルムの写真用支
持体としてＴＡＣフィルムが一般に用いられている。

【０００４】一方印刷用写真フィルムは、湿度変化に対
して高度な寸法安定性が要求されるため、この写真用支
持体としては湿度膨張係数が少なくかつ、比較的弾性率
の大きなポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略
す）フィルムが用いられている。

【０００５】また、医療用写真フィルムには、医師が診
断時写真フィルムをシャーカステンに挟み込むため、写
真フィルムに剛性が要求され、厚手のＰＥＴフィルムが
写真用支持体として使用されている。

【０００６】これらの写真フィルムの中でも印刷用写真
フィルムは外界の条件変化（例えば温度、湿度、水中
等）に対して寸法変化がないことが厳しく要求され、そ
の設計に様々な工夫がなされている。また、昨今の技術
進歩により更なるシビアな寸法安定性が求められてい
る。

【０００７】このような状況の中でＰＥＴフィルムが写
真用支持体として用いられている印刷用写真フィルムも
市場の要求に応えられない場合が生じ、更なる寸法変化
の少ない材料が求められるようになって来た。

【０００８】例えば、特開平1-180537号には吸水、吸湿
性の少ないＰＥＴフィルムを更に、吸水、吸湿性を少な
くするために、ＰＥＴフィルムの両面に塩化ビニリデン
系のポリマー層を、極く薄く塗設して防水、防湿効果を
高め、寸法安定性を更に良くする方法が提案されてい
る。

【０００９】また特開平3-131843号明細書には延伸され
たシンジオタクチック構造を有するスチレン系ポリマー
（以下ＳＰＳと略すこともある）フィルム及び感光層か
らなる写真フィルムが提案されている。この明細書には
ＳＰＳフィルムは軽量で、力学的に強く、しかも湿度膨
張係数も小さく、ＰＥＴよりも優れた写真用支持体であ
ることが記載されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】前述の写真フィルムに
特開平1-180537号に記載の塩化ビニリデン系ポリマーの
薄膜をＰＥＴフィルムに塗設した写真用支持体を用いる
場合には、防水、防湿効果はかなりあるものの下記の如
き、 （１）写真フィルムの長期間の保存中に塩化ビニリデン
ポリマーが徐々に脱塩素化が進みそのため写真画像が変
色する。

【００１１】（２）ＰＥＴ写真用支持体を回収する際、
塩化ビニリデンポリマーをＰＥＴフィルムから落としに
くく、ＰＥＴが汚染されて、回収品の品質が低下する。

【００１２】（３）このＰＥＴフィルムがそのまま回収
出来ず、そのまま焼却する場合、塩素ガス等、有害物質
が発生するため、環境問題を惹き起こす。

【００１３】等の問題点から、このような写真用支持体
は、使用しにくい。

【００１４】一方、特開平3-131848号のＳＰＳフィルム
は、湿度膨張係数が小さく、それを用いた写真フィルム
は寸法安定性が優れているものの、感光層あるいはバッ
ク層が支持体と強固に接着しにくいという欠点を有して
いる。ＳＰＳフィルムは寸法安定性を高めるために高度
な結晶化が必要であり、そのため適度な下引層を選択し
にくいという欠点がある。また下引層をまず強固に接着
させるためには、ポリスチレンに対する良溶媒を使用す
る場合もあり、このような場合には、フィルムの平面性
が損なわれてしまう。

【００１５】本発明の目的は上記の如き欠点を排除し、
しかも高度に寸法安定性に優れ、感光層等の接着性を有
しているハロゲン化銀写真感光材料のための写真用支持
体を提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、このシンジ
オタクチックポリスチレンを主成分とするフィルムの下
引方法を種々検討を行ったが、写真性能が劣化したり、
透明度が劣化したり、平面性が劣化したりして良いもの
が得られなかった。本発明者は寸法安定性を維持し、上
記性能を満足させるシンジオタクチックポリスチレンを
主成分とするフィルムを写真用支持体として使用するこ
とを鋭意検討した結果、下記の如き写真用支持体を得る
ことが出来た。

【００１７】すなわち （１） シンジオタクチックポリスチレンを主成分とす
るフィルムの両面にポリエステル樹脂層が積層されてい
る構造を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料用支持体。

【００１８】（２） 前記ポリエステル樹脂層がポリエ
チレンテレフタレート樹脂層であることを特徴とする
（１）記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。

【００１９】（３） 前記ポリエステル樹脂層がポリエ
チレンナフタレート樹脂層であることを特徴とする
（１）記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。

【００２０】（４） 前記ポリエステル樹脂層が変性ポ
リエステル樹脂層であることを特徴とする（１）記載の
ハロゲン化銀写真感光材料用支持体。

【００２１】（５） 前記変性ポリエステル樹脂層がテ
レフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、5-ナトリウムス
ルホイソフタル酸から選ばれる少なくとも一種と、エチ
レングリコール、ポリエチレングリコールから選ばれる
少なくとも一種との縮合よりなるものであることを特徴
とする（４）記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持
体。

【００２２】本発明の写真用支持体の特徴はシンジオタ
クチックポリスチレンを主成分とするフィルムの物性を
ほとんどそこなうことなく、感光層等との強固な接着性
を保持することの出来る構造を有していることである。

【００２３】以下、本発明を具体的に説明する。

【００２４】本発明において、シンジオタクチックポリ
スチレンを主成分とするフィルムとは、主鎖の主たる連
鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体あるいは、そ
れを含む組成物であり、スチレンの単独重合体であれ
ば、特開昭62-117708号記載の方法で重合することが可
能であり、またその他の重合体については、特開平1-46
912号、同1-178505号等に記載された方法により重合す
ることにより得ることができる。

【００２５】また、主鎖の連鎖に対しては、¹³Ｃ-ＮＭ
Ｒを用いての、ベンゼン環の１位の炭素の測定によりペ
ンタッドタクチシティとして定量されることが一般的で
かつ精度に優れる。

【００２６】本発明において、ラセモ連鎖は、２連鎖で
85％以上、３連鎖で75％以上、５連鎖で50％以上である
ことが好ましい。

【００２７】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体は、具体的なモノマーとしてスチレ
ン、アルキルスチレン、ハロゲン化アルキルスチレン、
アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エステル等を主成
分とする重合体である。

【００２８】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを重
合用の触媒として、特開平5-320448号、４頁〜10頁に記
載の（イ）（ａ）遷移金属化合物及び（ｂ）アルミノキ
サンを主成分とするもの、又は（ロ）（ａ）遷移金属化
合物及び（ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性錯体
を形成しうる化合物を主成分とするものを用いて重合し
て製造することができる。

【００２９】上記（ａ）成分の遷移金属化合物としては
様々なものがあるが、好ましくは一般式（III） M¹R
²・・・R^K （III） 〔式中、Ｍ¹はTi，Zr，Cr，Ｖ，Nb，Ta又はHfを示し、
Ｒ²〜Ｒ^kは、それぞれ水素原子，酸素原子，ハロゲン原
子，炭素数１〜20のアルキル基，炭素数１〜20のアルコ
キシ基；炭素数６〜20のアリール基，アルキルアリール
基若しくはアリールアルキル基；炭素数１〜20のアシル
オキシ基、アリル基、置換アリル基，アセチルアセトナ
ート基，置換アセチルアセトナート基，ケイ素原子を含
む置換基、あるいはカルボニル，酸素分子，窒素分子，
ルイス塩基，鎖状不飽和炭化水素又は環状不飽和炭化水
素などの配位子、シクロペンタジエニル基，置換シクロ
ペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，
テトラヒドロインデニル基，置換テトラヒドロインデニ
ル基，フルオレニル基又は置換フルオレニル基を示す。
また、Ｋは金属の原子価を示し、通常２〜５の整数を示
す〕で表される化合物を挙げることができる。

【００３０】ここで、置換シクロペンタジエニル基とし
ては、例えば、メチルシクロペンタジエニル基，エチル
シクロペンタジエニル基，イソプロピルシクロペンタジ
エニル基，1,2-ジメチルシクロペンタジエニル基，テト
ラメチルシクロペンタジエニル基，1,3-ジメチルシクロ
ペンダジエニル基，1,2,3-トリメチルシクロペンタジエ
ニル基，1,2,4-トリメチルシクロペンタジエニル基，ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル基，トリメチルシリル
シクロペンタジエニル基などが挙げられる。また、Ｒ²
〜Ｒ^kの配位子は、配位子間で共有結合によって架橋体
を形成してもよい。ハロゲン原子の具体例としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子；炭素数１
〜20のアルキル基としては、メチル基，エチル基，n-プ
ロピル基，iso-プロピル基，n-ブチル基，オクチル基，
2-エチルヘキシル基など、炭素数１〜20のアルコキシ基
としては、メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブ
トキシ基，フェノキシ基など、炭素数６〜20のアリール
基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基と
しては、フェニル基，トリル基，キシリル基，ベンジル
基など、炭素数１〜20のアシルオキシ基としては、ヘプ
タデシルカルボニルオキシ基など、ケイ素原子を含む置
換基としては、トリメチルシリル基，(トリメチルシリ
ル)メチル基など、ルイス塩基としては、ジメチルエー
テル，ジエチルエーテル，テトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル
類，エチルベンゾエートなどのエステル類，ベンゾニト
リルなどのニトリル類，トリメチルアミン，トリエチル
アミン，トリブチルアミン；N,N-ジメチルアニリン，ピ
リジン；2,2′-ピピリジン，フェナントロリンなどのア
ミン類，トリエチルホスフィン，トリフェニルホスフィ
ンなどのホスフィン類など、鎖状不飽和炭化水素として
は、エチレン，ブタジエン，1-ペンテン，イソプレン，
ペンタジエン，1-ヘキセン及びこれらの誘導体など、環
状不飽和炭化水素としては、ベンゼン，トルエン，キシ
レン，シクロヘプタトリエン，シクロオクタジエン，シ
クロオクタトリエン，シクロオクタテトラエン及びこれ
らの誘導体などが挙げられる。共有結合による架橋とし
ては、例えば、メチル架橋，ジメチルメチレン架橋，エ
チレン架橋，ジメチルシリレン架橋，ジメチルスタニレ
ン架橋などが挙げられる。

【００３１】チタニウム化合物の具体例としては、テト
ラメトキシチタン，テトラエトキシチタン，四塩化チタ
ン，三塩化チタン，シクロペンタジエニルトリメチルチ
タン，シクロペンタジエニルトリエチルチタン，シクロ
ペンタジエニルトリプロピルチタン，1,2-ジメチルシク
ロペンタジエニルトリメチルチタン，ペンタメチルシク
ロペンタジエニルトリエチルチタン，ペンタメチルシク
ロペンタジエニルトリブチルチタン，シクロペンタジエ
ニルメチルチタンジクロリド，ペンタメチルシクロペン
タジエニルメチルチタンジクロリド，シクロペンタジエ
ニルジメチルチタンモノクロリド；シクロペンタジエニ
ルチタントリプロポキシド，シクロペンタジエニルチタ
ントリフェノキシド，ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリエトキシド，ペンタメチルシクロペンタジ
エニルチタントリフェノキシド，シクロペンタジエニル
チタントリクロリド，ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリクロリド，ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルメトキシチタンジクロリド，インデニルチタントリ
メトキシド，インデニルトリメチルチタンなどが挙げら
れる。

【００３２】また、一般式（III）で表される遷移金属
化合物のうち、Ｍ¹がジルコニウムであるジルコニウム
化合物の具体例としては、ジシクロペンタジエニルジル
コニウムジクロリド，テトラブトキシジルコニウム，四
塩化ジルコニウム，テトラフェニルジルコニウム，シク
ロペンタジエニルジルコニウムトリメトキシド，ペンタ
メチルシクロペンタジエニルトリベンジルジルコニウ
ム，ビスインデニルジルコニウムジクロリド，ジルコニ
ウムジベンジルジクロリド，トリブトキシジルコニウム
クロリド，トリイソプロポキシジルコニウムクロリド，
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリメチルジルコ
ニウム，(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリフェ
ニルジルコニウム，(シクロペンタジエニル)トリクロロ
ルジルコニウム，(メチルシクロペンタジエニル)トリク
ロロジルコニウム，(メチルシクロペンタジエニル)ジメ
チル(メトキシ)ジルコニウム，ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジフェニルジルコニウム，ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジメトキシジルコニウム，ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジヒドリドジルコニウム，ビス(メチルシクロペン
タジエニル)ジメチルジルコニウム，ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジクロロジルコニウム，ビス(ペンタメ
チルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム，ビ
ス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ヒドリドメチル
ジルコニウム，エチレンビス(インデニル)ジメチルジル
コニウム，ジメチルシリレンビス(シクロペンタジエニ
ル)ジメチルジルコニウム，イソプロピル(シクロペンタ
ジエニル)(9-フルオレニル)ジメチルジルコニウム，エ
チリデン(9-フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメ
チルジルコニウム，シクロヘキシル(9-フルオレニル)
(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム，シクロ
ブチル(9-フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメチ
ルジルコニウム，ジメチルシリレンビス(2,3,5-トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウムなど
か挙げられる。

【００３３】ハフニウム化合物の具体例としては、シク
ロペンタジエニルハフニウムトリメトキシイミド，ペン
タメチルシクロペンタジエニルハフニウムトリメトキシ
イシド，ペンタメチルシクロペンタジエニルトリベンジ
ルハフニウム，ハフニウムジベンジルジクロリド，四酸
化ハフニウム，ジシクロペンタジエニルハフニウムジク
ロリドなどが挙げられる。バナジウムの具体例として
は、バナジウムトリクロリド，バナジルトリクロリド，
バナジウムトリアセチルアセトナート，バナジウムテト
ラクロリド，バナジウムトリブトキシド，バナジルジク
ロリド，バナジルビスアセチルアセトナート，バナジル
トリアセチルアセトナート，ジベンゼンバナジウム，ジ
シクロペンタジエニルバナジウム，ジシクロペンタジエ
ニルバナジウムジクロリド，シクロペンタジエニルバナ
ジウムジクロリド，ジシクロペンタジエニルメチルバナ
ジウムなどが挙げられる。ニオブ化合物の具体例として
は、五塩化ニオブ，テトラクロロメチルニオブ，ジクロ
ロトリメチルニオブ，ジシクロペンタジエニルニオブジ
クロリド，ジシクロペンタジエニルニオブトリヒドリ
ド，ペンタブトキシニオブなどが挙げられる。タンタル
化合物の具体例としては、五塩化タンタル，ジクロルト
リメチルタンタル，ジシクロペンタジエニルタンタルト
リヒドリド，ペンタブトキシニオブなどが、クロム化合
物の具体例としては、三塩化クロム，テトラブトキシク
ロム，テトラメチルクロム，ジシクロペンタジエニルク
ロム，ジベンゼンクロムなどが挙げられる。

【００３４】さらに、その他の遷移金属化合物として、
上記遷移金属化合物をマグネシウム化合物やケイ素化合
物などの担体に担持したものを用いることができるし、
上記遷移化合物を電子供与性化合物で変性したものも用
いることができる。これらの遷移金属化合物の中でも特
に好ましいものは、チタニウム化合物及びジルコニウム
化合物である。該（イ）触媒には、上記（ａ）遷移金属
化合物とともに（ｂ）アルミノキサンが用いられる。こ
のアルミノキサンは、有機アルミニウム化合物と縮合剤
を接触させることにより得られるものであって、一般式
（IV）

【００３５】

【化１】

【００３６】〔式中、Ｒ³は炭素数１〜20のアルキル
基，好ましくはメチル基を示し、ｐは０〜50、好ましく
は５〜30の数を示す。〕で表される鎖状アルミノキサン
や、一般式（Ｖ）

【００３７】

【化２】

【００３８】〔式中、Ｒ³は上記と同じであり、ｑは２
〜50、好ましくは５〜30の数を示す。〕で表される環状
アルミノキサンなどがある。該有機アルミニウム化合物
としては、例えばトリメチルアルミニウム，トリエチル
アルミニウム，トリイソブチルアルミニウムなどのトリ
アルキルアルミニウムなどが挙げられるが、これらの中
でトリメチルアルミニウムが好適である。また、縮合剤
としては、典型的なものとして水が挙げられるが、この
他にトリアルキルアルミニウムが縮合反応する任意のも
の、例えば硫酸銅５水塩，無機物や有機物への吸着水な
ど、各種のものが挙げられる。

【００３９】一般に、トリアルキルアルミニウムなどの
有機アルミニウム化合物と水との接触生成物は、上述の
鎖状アルキルアミノキサンや環状アルキルアルミノキサ
ンとともに、未反応のトリアルキルアルミニウム，各種
の縮合生成物の混合物、さらには、これらが複雑に会合
した分子であり、これらのトリアルキルアルミニウムと
縮合剤である水との接触条件によって様々な生成物とな
る。この際のアルキルアルミニウム化合物と水との接触
方法には特に限定はなく、公知の手法に準じて反応させ
ればよい。例えば、有機アルミニウム化合物を有機溶
剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、重合
時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水
を添加する方法、さらには金属塩などに含有されてい
る結晶水，無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウ
ム化合物と反応させる方法などがある。なお、上記の水
にはアンモニア，エチルアミンなどのアミン，硫化水素
などの硫黄化合物，亜燐酸エステルなどの燐化合物など
が20％程度まで含有されていてもよい。また、この反応
は無溶媒下でも進行するが、溶媒中で行うことが好まし
く、好適な溶媒としては、ヘキサン，ヘプタン，デカン
等の脂肪族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素を挙げることができる。

【００４０】このアルミノキサン（例えばアルキルアル
ミノキサン）は、上記の接触反応後、含水化合物などを
使用した場合には、固体残渣を濾別し、濾液を常圧下あ
るいは減圧下で30〜200℃の温度、好ましくは40〜150℃
の温度で、20分〜８時間、好ましくは30分〜５時間の範
囲で溶媒を留去しつつ熱処理したものが好ましい。この
熱処理にあたっては、温度は各種の状況によって適宜定
めればよいが、通常は、上記範囲で行う。一般に、30℃
未満の温度では、効果が発現せず、また200℃を越える
とアルキルアルミノキサン自体の熱分解が起こり、いず
れも好ましくない。そして、熱処理の処理条件により反
応生成物は、無色の固体又は溶液状態で得られる。この
ようにして得られた生成物を、必要に応じて炭化水素溶
媒で溶媒あるいは希釈して触媒溶液として使用すること
できる。

【００４１】このような触媒成分として用いる有機アル
ミニウム化合物と縮合剤との接触生成物であるアルミノ
キサン、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトルで観測されるアルミニウム
-メチル基（Al-CH₃）結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が50％以下のものである。
つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒中で
そのプロトン核磁場共鳴（¹H-NMR）スペクトルを観測す
ると、「Al-CH₃」に基づくメチルプロトンシグナルはテ
トラメチルシラン（ＴＭＳ）基準において1.0〜−0.5pp
mの範囲に見られる。ＴＭＳのプロトンシグナル（０pp
m）が「Al-CH₃」に基づくメチルプロトン観測領域にあ
るため、この「Al-CH₃」に基づくメチルプロトンシグナ
ルを、ＴＭＳ基準におけるトルエンのメチルプロトンシ
グナル2.35ppmを基準に測定し高磁場成分（即ち、−0.1
〜−0.5ppm）と他の磁場成分（即ち、1.0〜−0.1ppm）
とに分けたときに、該高磁場成分が全体の50％以下、好
ましくは45〜５％のものが触媒成分として好適に使用で
きる。

【００４２】該（ロ）触媒には、上記（ａ）遷移金属化
合物とともに、（ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン
性錯体を形成しうる化合物が用いられる。この化合物に
ついては特に制限はないが、カチオンと複数の基が元素
に結合したアニオンとからなる化合物、すなわち化合物
（ｃ）が周期律表のIIIB族，VB族，VIB族，VIIB族，VII
I族，IA族，IB族，IIA族，IIB族，IVA族及びVIIA族から
選ばれる元素を含むカチオンと複数の基が周期律表のVB
族，VIB族，VIIB族，VIII族，IB族，IIB族，IIIA族，IV
A族及びVA族から選ばれる元素に結合したアニオンとか
らなる化合物、特にカチオンと複数の基が元素に結合し
たアニオンとからなる配位錯化合物を好適に用いること
ができる。例えば一般式（VI）又は（VII） (〔L¹−R⁴〕^u+)_V(〔M²Z¹Z²・・・Z^e〕^(e-f)-)_W （VI） 又は (〔L²〕^u+)_V(〔M³Z¹Z²・・・Z^e〕^(e-f)-)_W （VII） （但し、Ｌ²はＭ⁴，R⁵R⁶M⁵，R⁷ ₃M⁵又はR⁸M⁵である） 〔式中、Ｌ¹はルイス塩基、Ｍ²及びＭ³はそれぞれ周期
律表のVB族，VIB族，VIIB族，VIII族，IB族，IIB族，II
IA族，IVA族及びＶ族から選ばれる元素、Ｍ⁴及びＭ⁵は
それぞれ周期律表のIIIB族，IV族，Ｖ族，VIB族，VIIB
族，VIII族，Ｉ族，IB族，IIA族，IIB族及びVIIA族から
選ばれる元素、Ｚ¹〜Ｚ^eはそれぞれ水素原子，ジアルキ
ルアミノ基，アルコキシ基，炭素数１〜20のアルコキシ
基，炭素数６〜20のアリールオキシ基，炭素数１〜20の
アルキル基，炭素数６〜20のアリール基，アルキルアリ
ール基，アリールアルキル基，炭素数１〜20のハロゲン
置換炭化水素基，炭素数１〜20のアシルオキシ基，有機
メタロイド基又はハロゲン原子を示し、Ｚ¹〜Ｚ^eはその
２以上が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ⁴
は水素原子，炭素数１〜20のアルキル基，炭素数６〜20
のアリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキ
ル基を示し、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれシクロペンタジエニ
ル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基又は
フルオレニル基，Ｒ⁷は炭素数１〜20のアルキル基，ア
リール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基
を示す。Ｒ⁸はテトラフェニルポルフィリン，フタロシ
アニンなどの大環状配位子を示す。ｆはＭ²，Ｍ³の原子
価で１〜７の整数、ｅは２〜８の整数、ｕは〔L¹−
R⁴〕，〔Ｌ²〕のイオン価数で１〜７の整数、ｖは１以
上の整数、ｗ＝（ｖ×ｕ）／（ｅ−ｆ）である。〕で表
される化合物である。

【００４３】ここで、上記Ｌ¹で示されるルイス塩基の
具体例としては、アンモニア，メチルアミン，アニリ
ン，ジメチルアミン，ジエチルアミン，ジフェニルアミ
ン，トリメチルアミン，トリエチルアミン，N,N-ジメチ
ルアニリン，フェナントロリンなどのアミン類、トリエ
チルフォスフィン，トリフェニルフォスフィン，ジフェ
ニルフォスフィンなどのフォスフィン類、ジメチルエー
テル，ジエチルエーテル，テトラヒドロフランジオキサ
ンなどのエーテル類、ジエチルチオエーテル，テトラヒ
ドロチオフェンなどのチオエーテル類、エチルベンゾエ
ートなどのエステル類、アセトニトリル，ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などが挙げられる。

【００４４】また、Ｍ²及びＭ³の具体例としては、Ｂ，
Al，Si，Ｐ，As，Sbなど、Ｍ⁴の具体例としては、Li，N
a，Ag，Cu，Br，Ｉ，Ｉ₃など、Ｍ⁵の具体例としては、M
n，Fe，Co，Ni，Znなどが挙げられる。Ｚ¹〜Ｚ^eの具体
例としては、例えば、ジアルキルアミノ基としてはジメ
チルアミノ基，ジエチルアミノ基；炭素数１〜20のアル
コキシ基としてメトキシ基，エトキシ基，n-ブトキシ
基，炭素数６〜20のアリールオキシ基としてフェノキシ
基，2,6-ジメチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基，炭
素数１〜20のアルキル基としてはメチル基，エチル基，
n-プロピル基，iso-プロピル基，n-ブチル基，n-オクチ
ル基，2-エチルヘキシル基、炭素数６〜20のアリール
基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基と
してフェニル基，p-トリル基，ベンジル基，ペンタフル
オロフェニル基，3,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニル
基，4-タ-シャリーブチルフェニル基，2,6-ジメチルフ
ェニル基，3,5-ジメチルフェニル基，2,4-ジメチルフェ
ニル基，2,3-ジメチルフェニル基，1,2-ジメチルフェニ
ル基、炭素数１〜20のハロゲン置換炭素水素基としてp-
フルオロフェニル基，3,5-ジフルオロフェニル基，ペン
タクロロフェニル基，3,4,5-トリフルオロフェニル基，
ペンタフルオロフェニル基，3,5-ジ(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、ハロゲン原子としてＦ，Ｃ，Ｉ，Br，
Ｉ；有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基が挙げられる。Ｒ⁴，Ｒ⁷の具体例としては先に
挙げたものと同様なものが挙げられる。Ｒ⁵及びＲ⁶の置
換シクロペンタジエニル基の具体例としては、メチルシ
クロペンタジエニル基，ブチルシクロペンタジエニル
基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基などのアルキ
ル基で置換されたものが挙げられる。ここで、アルキル
基は通常炭素数が１〜６であり、置換されたアルキル基
の数は１〜４の整数で選ぶことができる。

【００４５】上記一般式（VI），（VII）の化合物の中
では、Ｍ²，Ｍ³が硼素であるものが好ましい。一般式
（VI），（VII）の化合物の中で、具体的には、下記の
ものを特に好適に使用できる。例えば、一般式（VI）の
化合物としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモ
ニウム，テトラフェニル硼酸トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム，テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム，テト
ラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラフェ
ニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム，テトラフェ
ニル硼酸メチルトリフェニルアンモニウム，テトラフェ
ニル硼酸トリメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸
メチルピリジニウム，テトラフェニル硼酸ベンジルピリ
ジニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルスルホニウ
ム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフェニル
アンモニウム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸テ
トラエチルアンモニウム，テトラ(ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウム，テトラ（ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルジフェニルアンモ
ニウム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチル
アニリニウム，テトラ(ペンタフルオロフェニルメチル)
硼酸ジメチル(p-ブロモアニリニウム)，テトラ(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸ピリジニウム，テトラ(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸(N-ベンジルピリジニウム)，テト
ラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジルジメチルスル
ホニウム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸テトラ
フェルホスホニウム，テトラ(3,5-ジトリフルオロメチ
ルフェニル）硼酸ジメチルアニリニウム，ヘキサフルオ
ロ砒素酸トリエチルアンモニウムなどが挙げられる。

【００４６】一方、一般式（VII）の化合物としては、
テトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラフェニル硼
酸銀，テトラフェニル硼酸トリチル，テトラ(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸デカメチルフェロセニウム，テト
ラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ホルミルフェロセニウ
ム，テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム，テ
トラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ナトリウム，テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テトラフェニルポルフ
ィリン鉄クロライド)，テトラ(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸(テトラフェニルポルフィリン亜鉛)，テトラフ
ルオロ硼酸銀，ヘキサフルオロアンチモン酸銀などが挙
げられる。そして、一般式（VI），（VII）以外の化合
物としては、例えば、トリ(ペンタフルオロフェニル)硼
酸，トリ〔3,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニル〕硼
酸，トリフェニル硼酸なども使用することができる。

【００４７】本発明においては、上記（イ）触媒又は
（ロ）触媒とともに、所望により（ｄ）成分としては有
機金属化合物を併用することができる。この所望により
併用される（ｄ）有機金属化合物としては、一般式（VI
II） M⁶(R⁹)_r （VIII） で表される化合物が用いられる。この一般式（VIII）に
おいて、Ｒ⁹は、炭素数１〜20のアルキル基，炭素数２
〜20のアルケニル基，炭素数３〜20のシクロアルキル
基，炭素数６〜20のアリール基あるいは炭素数７〜20の
アラルキル基を示す。具体的には、例えば、メチル基，
エチル基，n-プロピル基，i-プロピル基，n-ブチル基，
i-ブチル基，ヘキシル基，2-エチルヘキシル基，フェニ
ル基などが挙げられる。そして、Ｍ⁶はリチウム，ナト
リウム，カリウム，マグネシウム，亜鉛，カドミニウ
ム，アルミニウム，ホウ素，ガリウム，ケイ素あるいは
スズを示す。また、ｒはＭ⁶の原子価を表す。一般式（V
III）で表される化合物としては、様々なものがある。
具体的には、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピ
ルリチウム，ブチルリチウムなどのアルキルリチウム化
合物、ジエチルマグネシウム，エチルブチルマグネシウ
ム，ジノルマルブチルマグネシウムなどのアルキルマグ
ネシウム化合物、ジメチル亜鉛，ジエチル亜鉛，ジプロ
ピル亜鉛，ジブチル亜鉛などのジアルキル亜鉛化合物、
トリメチルガリウム，トリエチルガリウム，トリプロピ
ルガリウムなどのアルキルガリウム化合物，トリエチル
ホウ素，トリプロピルホウ素，トリブチルホウ素などの
アルキルホウ素化合物、テトラエチルスズ，テトラプロ
ピルスズ，テトラフェニルスズなどのアルキルスズ化合
物などが挙げられる。また、Ｍ⁶が、アルミニウムであ
る場合の化合物としては、様々なものがある。具体的に
は、トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウ
ム，トリイソプロピルアルミニウム，トリイソブチルア
ルミニウム，トリn-ヘキシルアルミニウム，トリオクチ
ルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム化合物
などが挙げられる。

【００４８】前記触媒における各成分の使用割合につい
ては特に制限はないが、該（イ）触媒においては、
（ａ）成分と（ｂ）成分とのモル比が１：20〜１：1000
0、好ましくは１：100〜１：2000になるように両成分を
用いるのがよい。一方、（ロ）触媒においては、（ａ）
成分と（ｃ）成分とのモル比が１：0.01〜１：100、好
ましくは１：１〜１：10になるように両成分を用いるの
がよい。この割合、（ａ）成分と（ｃ）成分は予め接触
させ、接触処理物を分離，洗浄して用いてもよいし、重
合系内で接触させてもよい。また、（イ）触媒又は
（ロ）触媒において、所望に応じて用いられる（ｄ）成
分の使用量は、該（ａ）成分１モルに対して、通常０〜
100モルの範囲で選ばれる。この（ｄ）成分を用いるこ
とにより、重合活性の向上を図ることができるが、あま
り多く用いても添加量に相当する効果は発現しない。な
お、この（ｄ）成分は、（ａ）成分，（ｃ）成分あるい
は（ａ）成分と（ｃ）成分との接触処理物と接触させて
用いてもよい。この接触は、予め接触させてもよいし、
重合系内へ順次添加して接触させてもよい。また、スチ
レン系単量体と触媒との使用割合についてと特に制限は
ないが、通常スチレン系単量体／遷移金属化合物のモル
比が10〜10⁹、好ましくは10²〜10⁷の範囲にあるように
選ばれる。

【００４９】本発明のスチレン系重合体を製造するに
は、まず、前記スチレン系単量体を上記触媒のいずれか
の存在下に重合させる。この際、重合方法、重合条件
（重合温度，重合時間）、溶媒などは適宜選定すればよ
い。通常は−50〜200℃、好ましくは30〜100℃の温度に
おいて、１秒〜10時間、好ましくは１分〜６時間程度重
合が行われる。また、重合方法としては、スラリー重合
法，溶液重合法，塊状重合法，気相重合法など、いずれ
も用いることができるし、連続重合，非連続重合のいず
れであってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒
として、例えばベンゼン，トルエン，キシレン，エチル
ベンゼンなどの芳香族炭化水素，シクロペンタン，ヘキ
サン，ヘプタン，オクタンなどの脂肪族炭化水素などを
一種又は二種以上を組合わせて使用することができる。
この場合、単量体／溶媒（体積比）は任意に選択するこ
とができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、
通常用いられている方法によって行えばよい。分子量制
御は例えば水素，温度，モノマー濃度などで行うことが
できる。

【００５０】本発明のＳＰＳフィルムの分子量には製膜
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10000〜3000000であることが好ましく特には、3000
0〜1500000のものが好ましい。またこの時の分子量分布
（数平均分子量／重量平均分子量）は、1.5〜８が好ま
しい。この分子量分布については、異なる分子量のもの
を混合することにより調整することも可能である。

【００５１】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。

【００５２】《重合例》特開平3-131843号に準じてＳＰ
Ｓペレットを作成した。触媒の調整から重合反応まで
は、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積500mlの
ガラス性容器に硫酸銅５水塩（CuSO₄・5H₂O）17.8ｇ（71
mmol）精製ベンゼン200mlおよびトリメチルアルミニウ
ム24mlをいれ、40℃で８時間撹拌して触媒の調整を行っ
た。これをアルゴン気流下Ｎo.３ガラスフィルターで濾
過して、ロ液を凍結乾燥させた。これを取り出し、２l
のステンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチル
アルミニウム、ペンタシクロペンタジエチルチタンメト
キシドを混合し90℃に加熱した。

【００５３】この中に、精製したスチレンを１l入れこ
の温度中で、８時間重合反応を続けた。この後、室温ま
で冷却し１lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に滴
下して更にガラスフィルターで濾過して３回メタノール
で洗浄した後、乾燥させた。これを押出機でペレット化
した後に、130℃で乾燥させた。

【００５４】本発明のＳＰＳフィルムとしては、スチレ
ンから作られるＳＰＳ単独であることが好ましいが、さ
らにＳＰＳを含むフィルムとして、ＳＰＳに、主鎖がメ
ソ連鎖であるアイソタクチック構造を有するスチレン系
重合体（ＩＰＳ）を混合すること（いわゆるステレオコ
ンプレックスを形成させること）により結晶化速度のコ
ントロールが可能であり、より強固なフィルムとするこ
とが可能である。

【００５５】ＳＰＳとＩＰＳとを混合する際には、その
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30：70〜
99：１好ましくは、50：50〜98：２である。

【００５６】フィルム中には、本発明の目的を妨げない
範囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防
止剤、ＵＶ吸収剤、帯電防止剤、色素等を含有させるこ
とが可能である。

【００５７】本発明のＳＰＳフィルムの両面に積層され
ているポリエステル樹脂としては、ジカルボン酸とグリ
コールとが縮合されたものであれば使用し得る。

【００５８】本発明に係わるポリエステル樹脂のジカル
ボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ナ
フタレンジカルボン酸（例えばナフタレン-2,6-ジカル
ボン酸、ナフタレン-1,5-ジカルボン酸、ナフタレン-2,
7-ジカルボン酸等）、スルホイソフタル酸（例えば5-ス
ルホイソフタル酸、4-スルホイソフタル酸等）、1,1′-
ジフェニルエタン-4,4′-ジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテル-4,4-ジカルボン酸、1,1′-ジフェニルスルホン-
4,4′-ジカルボン酸、1,1′-ジフェニルケトン-4,4′-
ジカルボン酸、アジピン酸、セバチン酸、マレイン酸、
フマル酸、1,4-シクロヘキシルジカルボン酸等を挙げる
ことが出来るが、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、スルホイソフタル酸が好ましい。

【００５９】本発明に係わるポリエステル樹脂のグリコ
ール成分としては、エチレングリコール、プロピレング
リコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール
（例えば重合度４〜6,000）、ポリプロピレンゴリコー
ル（例えば重合度２〜5,000）、シクロヘキサンジメタ
ノール、ハイドロキノン、レゾルシン、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシフェニル)プロパン、1,4-ジヒドロキシメチル
ベンゼン等を挙げることが出来るが、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエ
チレングリコール、ポリエチレングリコールが好まし
い。

【００６０】これらのジカルボン酸とグリコールとから
得られるポリエステル樹脂は、ガラス転移点が低いもの
（例えば−20〜40℃）もあれば、高いもの（例えば40〜
120℃）もあり、高いものの方が好ましい。ガラス転移
点が低いポリエステル樹脂をＳＰＳと積層する場合に
は、ポリエステル樹脂層の膜厚は薄い方が良く、0.5〜1
0μmが適当であり、好ましくは１〜５μmである。ガラ
ス転移点が高い場合には、ポリエステル樹脂層の膜厚は
１〜50μmが適当であり、好ましくは５〜20μmである。

【００６１】これらのポリエステル樹脂の水に対する性
質、例えば親水性の度合いもいろいろと異なる。より親
水性のポリエステル樹脂は、膜厚を薄くし、0.5〜10μm
が適当であり、好ましくは１〜５μmである。より疎水
性のポリエステル樹脂の場合には１〜50μmが適当であ
り、好ましくは５〜20μmである。

【００６２】本発明のＳＰＳとの積層構造を構成するポ
リエステル樹脂は、ガラス転移点がより高く（好ましく
は50℃以上）疎水性で吸水性が低く（水蒸気透過率が好
ましくは30ｇ／m^-2(24ｈ／0.1mm)以下）、引張弾性率が
大きい（好ましくはフィルムとして400kg／mm²以上）も
のが特に好ましい。この理由は積層することによって、
ＳＰＳフィルムの持っている性質をそこなわないためで
ある。このような観点から積層を構成するポリエステル
樹脂としては、ＰＥＴあるいはポリエチレンナフタレー
ト、中でもポリエチレン-2,6-ナフタレート（以下ＰＥ
Ｎと略す）がより好ましい。ＰＥＴ樹脂及びＰＥＮ樹脂
は市販のものが使用できるが、写真グレードの樹脂が好
ましく使用できる。

【００６３】本発明に係わるポリエチレンナフタレート
樹脂（ＰＥＮ）としては、ジカルボン酸成分としてのナ
フタレンポリカルボン酸とグリコール成分とが縮合され
たものである。ナフタレン成分としてはカルボキシル基
を２固有するナフタレンが好ましく、なかでも、例えば
ナフタレン-2,6-ジカルボン酸、ナフタレン-1,5-ジカル
ボン酸、ナフタレン-2,7-ジカルボン酸等が好ましい。
又、グリコール成分としては、上記のものが好ましい。

【００６４】本発明のＳＰＳ樹脂との積層構造を構成す
るポリエステル樹脂のうちで、親水性のものとしてガラ
ス転移点が50℃以上で、引張弾性率がフィルムとして30
0kg／mm²以上ものが好ましく、テレフタル酸、ナフタレ
ン-2,6-ジカルボン酸、5-ナトリウムスルホイソフタル
酸、アジピン酸とエチレングリコール、ポリエチレング
リコール（重合度５〜3,000）から選ばれるジカルボン
酸とグリコールからなる変性ポリエステルが適してい
る。特にテレフタル酸、5-ナトリウムスルホイソフタル
酸、エチレングリコール、ポリエチレングリコールから
なる変性ポリエステルが好ましい。

【００６５】本発明のＳＰＳとポリエステル積層方法に
ついて説明する。好ましい例としてＳＰＳ樹脂とＰＥＴ
樹脂との積層法について述べる。

【００６６】本発明に係わる積層法は、ＰＥＴ樹脂と、
ＳＰＳ樹脂を二つの別々の真空乾燥機で乾燥し、三つの
別々の押出機に二つにはＰＥＴ樹脂を、一つにはＳＰＳ
樹脂を投入し、溶融、押出した後、一つの導管にそれぞ
れの溶融樹脂を上、中、下、三層になるように導き、導
管内で三層の溶融樹脂が層流をなして一つのスリットを
持つダイの押出口金から冷却ドラム上に押出されて一つ
の未延伸シートを形成させるか、または、他の方法とし
て一つのダイに３つの溶融ポリマーを導入し、三つの別
々のスリットを持つ押出口金から、あるいはダイ内で三
つのスリットが一つのスリットに結合されるようになっ
ている押出口金から、層流状になった３層を冷却ドラム
上に押出して一つのシートを形成させ、そして冷却ドラ
ム上で冷却固化して、末延伸フィルムを得た後に縦延伸
機で縦方向に延伸し、続いて横方向に横延伸機で延伸
し、更に続いて同機内で熱固定ゾーンで熱固定し二軸延
伸されたフィルムを得る溶融状態で積層する方法であ
り、本発明に有用な方法である。また別の方法として
は、３種の溶融ポリマーを別々に冷却ドラム上に押出し
冷却固化させる別位置製膜法も本発明に有用である。こ
れらを共押出法とも呼ぶ。

【００６７】この他に別々に製膜したＳＰＳフィルムと
２枚のＰＥＴフィルムとをラミネーションして積層する
方法がある。すなわち、ＳＰＳとＰＥＴを別々に未延伸
フィルムを、あるいは一軸延伸フィルムを作り、それら
にアンカー剤、接着剤等をコーティングした後、これら
のフィルムをラミネートして積層し、次いで二軸延伸
し、熱固定する方法である。しかし、この方法は工程が
複雑で設備費がかかり過ぎるのと品質の面から実用的で
はなく、簡易性から共押出法が好ましい。

【００６８】共押出法におけるＳＰＳ樹脂と、ポリエス
テル樹脂（例えばＰＥＴ）を押出機で溶融する温度は26
0〜340℃の範囲が用いられる。好ましくは280〜330℃で
芯のＳＰＳ樹脂と外層のＰＥＴ樹脂とは同じ温度で溶融
するのが好ましい。

【００６９】本発明に係わる積層フィルムの延伸条件は
特に限定されないが、一般的にはガラス転移温度（Tg）
の高い樹脂のTgからTg＋100℃の温度範囲で二軸方向に
延伸する。このときポリエチレンテレフタレート層の延
伸方法と同様に下記Ａ、Ｂ、Ｃの方法を採ることができ
る。延伸倍率は面積比で４〜16倍の範囲で行われること
が好ましい。また熱固定は150〜250℃の温度範囲で行う
ことができる。

【００７０】（Ａ）未延伸シートをまず縦方向に延伸
し、次いで横方向に延伸する方法 （Ｂ）未延伸シートをまず横方向に延伸し、次いで縦方
向に延伸する方法 （Ｃ）未延伸シートを１段または多段で縦方向に延伸し
た後、再度縦方向に延伸し、次いで横方向に延伸する方
法。

【００７１】なお、ここでポリエステル層なる層とは、
支持体となる樹脂の、ある厚さを持っているフィルムを
いい、下引層、帯電防止層、乳剤層、バック層等の層と
は区別される。

【００７２】本発明に係わる積層構造フィルムの厚みの
総和は特に限定されず、用途に応じて任意に定めること
ができるが、通常40〜250μm、特に65〜180μmが好まし
い。

【００７３】本発明のポリエステル層には得られるフィ
ルムの滑り性を改良する意味で透明性を損なわない程度
に、炭酸カルシウム、酸化チタン、二酸化珪素、カオリ
ン等を配合させてもよい。

【００７４】本発明の特徴である積層構造はＳＰＳフィ
ルムと同程度の高度の寸法安定性を有し、かつ写真感光
層を接着させる下引層を容易に設けることが出来るポリ
エステル層を写真用支持体の表面層に有することであ
る。従って、本発明の写真用支持体にはポリエステル特
にＰＥＴフィルム用の下引技術を全て適用することが出
来る。

【００７５】ＰＥＴへの下引は製膜中延伸前、一軸延伸
後、二軸延伸後熱固定前、あるいは二軸延伸熱固定後の
いずれかのプロセスにおいて行うことができる。ＰＥＴ
は二軸延伸後熱固定された後には配向結晶化が完了し、
乳剤層等の上物が比較的に接着しにくくなる。従って、
配向結晶完了前に下引剤を施すのが一般的である。熱固
定を行う前に下引剤を塗設するには下記の如き公知の下
引剤及び下引方法が使用できる。例えば、米国特許第2,
852,378号、同第358,608号、同第3,630,741号、同2,62
7,088号、同2,698,235号、特開昭51-135991号、特公昭5
2-48312号、ベルギー特許第721,469号、同742,769号等
に記載のビニルハロゲノエステル含有コポリマーまたは
ビニルハロゲノエステル含有コポリマーと塩化ビニルお
よび／または塩化ビニリデン含有コポリマー、特公昭58
-58661、特公昭58-55497、特開昭52-108114等に記載の
ジオレフィン類を単量体として含むコポリマー、特開昭
61-204242、特開昭61-204241等に記載のアクリル系ポリ
マー、特公昭57-971、特開昭61-204240、特開昭60-2482
31、特開平3-265624等に記載のポリエステル系ポリマー
等が挙げられる。

【００７６】二軸延伸熱固定後の下引には、有機溶媒系
下引塗布や、ＰＥＴをエッチングして下引材料を投錨効
果によって接着させるいわゆるエッチング溶剤（例えば
フェノール、クレゾール、レゾルシン、抱水クロラー
ル、クロロフェノール等）を含む有機溶媒系あるいは水
系の下引液を塗布する方法もある。これはＰＥＴが接着
しにくい規則正しい構造を有しているからであって、こ
の表面構造をルーズなもの、あるいは化学的に変化させ
るものである。このためには、機械的処理、コロナ放電
処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電
処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オ
ゾン処理等の表面活性化処理を施すのがよい。上記処理
後に、直接写真乳剤を塗布しても良好な接着力が得られ
るが、更に接着力を強めるために、更に別の下引層を設
け、この上に写真乳剤層を設層してもよい膜付きが得ら
れる。水系の下引剤でも、上記種々の処理を前処理とし
て活用すれば、容易に接着性を向上させることができ
る。例えば、特開昭55-67745号、特開昭59-19941号等に
記載の方法のn-ブチルメタクリレート：t-ブチルメタク
リレート、スチレン及び2-ヒドロキシエチルメタクリレ
ートからなる４元共重合体ラテックス、界面活性剤、硬
化剤からなる水系下引液を塗布し乾燥し、続いて再びコ
ロナ放電処理をし、次に写真乳剤層側にはハレーション
防止層や乳剤層のようなゼラチン水溶液を施すことによ
って接着性のよい感光材料を得ることができる。また反
対面の帯電防止層側には上記同様な処理あるいは下引層
を施した後、直接帯電防止組成物を、またセルロースジ
アセテートのような帯電防止層のバインダーを予め塗布
した後に帯電防止組成物を有機溶媒系液として塗布する
ことによって、所望の写真感光材料を仕上げることがで
きる。

【００７７】下引層の上に第２層下引層と呼ばれる親水
性バインダー層を設けることにより、感光層等の接着を
より強固にするために好ましい。

【００７８】下引第２層は、写真乳剤層と良くくっつく
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導
体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポ
リビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
等の水溶性ポリマー類、ポリスリレンスルホン酸ソーダ
共重合体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げら
れるが、ゼラチンが好ましい。

【００７９】この層の中には、硬膜剤を用いて膜強度を
高めることが好ましく、このような硬膜剤としては、ア
ルデヒド系、アジリジン系、イソオキサゾール系、エポ
キシ系、ビニルスルホン系、アクリロイル系、カルボジ
イミド系、トリアジン系、高分子型、その他マレイミド
系、アセチレン系、メタンスルホン酸エステル系の各硬
膜剤を単独もしくは組み合わせて使用することができ
る。

【００８０】この下引第２層には、２酸化珪素、２酸化
チタン、等の無機微粒子やポリメタクリル酸メチル等の
有機系マット材（１〜10μm）を含有することが好まし
い。これ以外にも必要に応じて、各種の添加剤例えば、
帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染料、顔料、
塗布助剤を含有することができる。

【００８１】この中でも帯電防止剤を含有させることが
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および／もしくは半導体微粒子を挙げられる。

【００８２】本発明に用いられる非感光性の導電体およ
び／もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在する電荷
担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔等によっ
て導電性を示すもので、有機材料、無機材料あるいは両
者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性を示す化
合物であり、有機材料であればポリアニリン、ポリピロ
ール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等が挙げること
ができ、無機材料であれば酸素不足酸化物、金属過剰酸
化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の不定比化合
物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げられる。また
電荷移動錯体もしくは有機-無機複合材料であればホス
ファゼン金属錯体等を挙げることができる。この中で本
発明に最も好ましい化合物は製造方法などが多様な方式
をとることが可能な金属酸化物微粒子である。また、本
発明中における導電体は体積固有抵抗が10³Ω・cm以下
のものを、半導体については10¹²Ω・cm以下のものをそ
れぞれ導電体、半導体として定義する。

【００８３】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。

【００８４】（半導体微粒子溶液の調製）塩化第二スズ
水和物65ｇを水／エタノール混合溶液2000ccに溶解し均
一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物を得た。生
成した沈澱物をデカンテーションにより取り出し、蒸留
水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中
に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認
後、蒸留水1000ccwo添加し全量を2000ccとする。さらに
30％アンモニア水を40cc加え、水浴中で加温し、コロイ
ド状ゲル分散液を得た。このコロイド状ゲル分散液を分
散液Ａ−１とする。

【００８５】下引層組成物の塗布液濃度は、通常20重量
％以下であり、好ましくは15重量％以下である。塗布量
は、フィルム１m²あたり塗布液重量で１〜30ｇ、さらに
は５〜20ｇであることが好ましい。

【００８６】塗布方法としては、公知の種々の方法が適
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もしく
は組み合わせて適用することができる。

【００８７】本発明の積層フィルムにおいて、前記下引
層の上方に少なくとも１層の感光性親水性コロイド層を
設け、各種感光材料を製造することができ、例えば少な
くとも一層のハロゲン化銀乳剤層を設けた写真感光材料
が挙げられる。

【００８８】本発明の感光材料は、レントゲン撮影用、
印刷製版用、一般撮影用、直接鑑賞用等の各種の用途に
用いることができる。

【００８９】本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀の
晶形としては、14面体，８面体，不定形板状，立方晶い
ずれでも良いが、高感度平板粒子または高硬調立方晶粒
子が好ましい。ハロゲン化銀組成としては、AgBr，AgC
l，AgClBr，AgClBrI，AgBrI，AgClBrI等任意に用いるこ
とができるが、高感度乳剤に対してはAgBrに富むAgBrI
が好ましい。迅速処理に対してはAgClに富み沃度の少な
い塩沃臭化銀乳剤が好ましい。医用感材として用いる場
合のハロゲン化銀粒子径は、0.01μ〜１μが好ましく、
0.05μ〜0.5μが常用される。印刷感材用には、0.05μ
〜0.2μが多く使用される。

【００９０】平板状粒子は、米国特許第4,439,520号、
同第4,425,425号、同第4,414,304号等に記載されてお
り、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。平板
状粒子は、特定表面部位に組成の異なるハロゲン化銀を
エピタキシャル成長させたり、シェリングさせたりする
ことができる。また感光核を制御するために、平板状粒
子の表面あるいは内部に転移線を持たせることが好まし
い。転移線を持たせるには沃化銀の微粒子を化学増感時
に存在させたり沃素イオンを添加して形成することがで
きる。

【００９１】本発明に平板状粒子を用いる場合は、平板
状粒子が使用されている乳剤層の全粒子の投影面積の総
和の50％以上かアスペクト比２以上の平板状粒子である
ことが好ましい。特に平板状粒子の割合が60％〜70％、
さらに80％へと増大するほど好ましい。アスペクト比は
平板状粒子の投影面積と同一の面積を有する円の直径と
２つの平行平面間距離の比を表す。医用感材の場合には
アスペクト比が３以上20未満であることが好ましく、印
刷感材の場合にはアスペクト比が1.5〜８が好ましい。
塩化銀成分の多い平板粒子は米国特許第5,320,938号明
細書に記載されている方法を参考にすることができる。

【００９２】ハロゲン化銀粒子の内部に0.001モル％以
上10％未満の高沃化銀部位が存在したり、銀核があるこ
とは、粒子の耐圧性を向上させるに好ましい。アスペク
ト比は大きい程平板になる。平板粒子の好ましい厚さは
0.01〜0.5μになるがアスペクト比と平均体積粒子径の
設定により任意に選択することができる。また、平板粒
子径の分布は、しばしば使用される変動係数（投影面積
を円近似した場合の標準偏差Ｓを直径Ｄで割った値Ｓ／
Ｄの100倍）が30％以下、特に20％以下である単分散乳
剤であることが好ましい。また平板粒子と正常晶粒子を
２種以上混合することができる。粒子の調製は、酸性
法、中間法、アンモニア法等適宜選択する事ができる。
金属をドープする際には、特にpＨ２〜４の酸性下で粒
子形成をする事が好ましい。

【００９３】平板粒子の形成時に粒子の成長を制御する
ためにハロゲン化銀溶剤として例えばアンモニア、チオ
エーテル、チオ尿素化合物、チオン化合物などを使用す
ることができる。チオエーテル化合物として、ドイツ特
許第1,147,845号明細書に記載の3,6,9,15,18,21-ヘキソ
キサ-12-チアトリコサン,3,9,15-トリオキサ-6,12-シ゛チアヘ
フ゜タテ゛カン;1,17-ジオキシ-3,9-15-トリオキサ-6,12-ジチア
ヘプタデカン-4,14-ジオン；1,20-ジオキシ-3,9,12,18-
テトロキサ-6,15,-ジチアエイコサン-4,17-ジオン；7,1
0-ジオキサ4,13-ジチアヘキサデカン-2,15-ジカルボキ
サミド。特開昭56-94347号、特開平1-121847号明細書に
記載のオキサチオエーテル化合物、特開昭63-259653
号、同63-301939号に記載の環状オキサチオエーテル化
合物が挙げられる。特にチオ尿素としては特開昭53-824
08号明細書に記載されているものが有用である。具体的
には、テトラメチルチオ尿素，テトラエチルチオ尿素，
ジメチルピペリジノチオ尿素，ジモルホリノチオ尿素；
1,3-ジメチルイミダゾール-2-チオン；1,3-ジメチルイ
ミダゾール-4-フェニル-2-チオン；テトラプロピルチオ
尿素などが挙げられる。

【００９４】また、物理熟成時や化学熟成時に亜鉛、
鉛、タリウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オ
スミウム、パラジウム、プラチナ等の金属塩等を共存さ
せることができる。高照度特性を得るためにイリジウム
をハロゲン化銀１モル当たり10^-9〜10^-3モルドープする
こと、また、γ＝10以上の硬調乳剤を得るときにはロジ
ウムを同様にドープすることは、ハロゲン化銀乳剤にお
いて常用される。ルテニウム、オスミウム、レニウムド
ープは、ロジウムドープに代わって使用することができ
る。ルテニウム、オスミウム、レニウム化合物はハロゲ
ン化銀粒子形成中に添加することが好ましい。添加位置
としては粒子中に均一に分布させる方法、コア・シェル
構造にしてコア部にあるいはシェル部に多く局在させる
方法がある。シェル部に多く存在させるほうがしばしば
良い結果が得られる。また、不連続な層構成に局在させ
る以外に連続的に粒子の外側になるに従い、存在量を増
やす方法でもよい。添加量は、ハロゲン化銀１モル当た
り10^-9〜10^-3モルの範囲を適宜選択できる。

【００９５】用いる化合物の具体例を下記に示すが、こ
れらに限定されるものではない。

【００９６】 〔Ru(NO)Cl₅〕^-2， 〔Ru(NO)Br₅〕^-2 〔Ru(NO)I₅〕^-2， 〔Ru(NO)F₅〕^-2 〔Ru(CN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(CN)Br₅〕^-2 〔Ru(CN)I₅〕^-2， 〔Ru(CN)F₅〕^-2 〔Ru(SCN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(SCN)Br₅〕^-2 〔Ru(SCN)I₅〕^-2， 〔Ru(SCN)F₅〕^-2 〔Ru(SeCN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(SeCN)Br₅〕^-2 〔Ru(SeCN)I₅〕^-2， 〔Ru(SeCN)F₅〕^-2 〔Ru(TeCN)Cl₅〕^-2， 〔Ru(TeCN)Br₅〕^-2 〔Ru(TeCN)I₅〕^-2， 〔Ru(TeCN)F₅〕^-2 〔Ru(CO)Cl₅〕^-2， 〔Ru(CO)Br₅〕^-2 〔Ru(CO)I₅〕^-2， 〔Ru(CO)F₅〕^-2 〔Ru(NH₃)Cl₅〕^-2， 〔Ru(NH₃)Br₅〕^-2 〔Ru(NH₃)I₅〕^-2， 〔Ru(NH₃)F₅〕^-2 〔RuCl₆〕^-2， 〔RuBr₆〕^-2 〔RuI₆〕^-2， 〔RuF₆〕^-2 〔Ru(NO)Cl₂(H₂O)₂〕^-1， 〔Ru(NO)Br₂(H₂O)₂〕^-1 〔Ru(NO)F₂(H₂O)₂〕^-1， 〔Ru(NO)I₂(H₂O)₂〕^-1 〔Ru(NO)Cl₄(CN)〕^-2， 〔Ru(NO)Br₄(SCN)〕^-2 〔Ru(NO)Cl₄(SeCN)〕^-2， 〔Ru(NO)Br₄(SeCN) 〕^-2 〔Ru(NO)Cl₃(CN)₂〕^-2， 〔Ru(NO)Br₃(CN)₂〕^-2 〔Ru(NO)Cl₅〕^-4， 〔Ru(NO)Br₅〕^-4 〔Ru(NO)I₅〕^-4， 〔Ru(NO)F₅〕^-4 〔Ru(CN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(CN)Br₅〕^-4 〔Ru(CN)I₅〕^-4， 〔Ru(CN)F₅〕^-4 〔Ru(SCN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(SCN)Br₅〕^-4 〔Ru(SCN)I₅〕^-4， 〔Ru(SCN)F₅〕^-4 〔Ru(SeCN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(SeCN)Br₅〕^-4 〔Ru(SeCN)I₅〕^-4， 〔Ru(SeCN)F₅〕^-4 〔Ru(TeCN)Cl₅〕^-4， 〔Ru(TeCN)Br₅〕^-4 〔Ru(TeCN)I₅〕^-4， 〔Ru(TeCN)F₅〕^-4 〔Ru(CO)Cl₅〕^-4， 〔Ru(CO)Br₅〕^-4 〔Ru(CO)I₅〕^-4， 〔Ru(CO)F₅〕^-4 〔Ru(NH₃)Cl₅〕^-4， 〔Ru(NH₃)Br₅〕^-4 〔Ru(NH₃)I₅〕^-4， 〔Ru(NH₃)F₅〕^-4 〔RuCl₆〕^-4， 〔RuBr₆〕^-4 〔RuI₆〕^-4， 〔RuF₆〕^-4 〔Ru(NO)Cl₄(CN)〕^-4， 〔Ru(NO)Cl₄(SCN)〕^-4 〔Ru(NO)Cl₄(SeCN)〕^-4， 〔Ru(NO)Br₄(SeCN)〕^-4 〔Ru(NO)Cl₃(CN)₂〕^-4， 〔Ru(NO)Br₃(CN)₂〕^-4 〔Ru(NH₃)₆〕Cl₃， 〔Ru(NH₃)₆〕Br₃ オスミウムやレニウム、更にロジウム、イリジウム、パ
ラジウム、白金など他の金属については、Ruの部分をOs
やRe，Rh，Ir，Pa，Ptに置き換えることによって表す事
が出来るので割愛するが、６座配位子遷移金属化合物は
特開平2-2082号、同2-20853号、同2-20854号、同2-2085
5号明細書を参考にすることができる。また、アルカリ
錯塩としては一般的なナトリウム塩とカリウム塩を選択
できるが、この他に第１，第２，第３級のアミン塩にし
てもよい。例えば、K₂[RuCl₆]，(NH₄)₂[RuCl₆]，K₄[Ru₂
Cl₁₀O]XH₂O，K₂[RuCl₅(H₂O)]等のように表すことができ
る。

【００９７】ハロゲン化銀はイオウ化合物や金塩のごと
き貴金属塩で増感することができる。またセレン増感や
還元増感を施すこともできるし、またこれらの方法を組
み合わせて増感することができる。貴金属塩で増感する
ときに、後述の増感色素を存在させると増感効果を高め
ることができる。またこれらを乳剤に添加するときに
は、微粒子状にして分散して添加すると増感効果をより
高めることができる。またAgI微粒子を分散して化学増
感時に添加すると粒子表面にAgIが形成されて色素増感
の効果を高めることができる。平板粒子のAgI形成時に
は、０〜1000本に及ぶ転移線部分の寄与がしばしば利用
される。

【００９８】増感色素としては、シアニン、カルボシア
ニン、メロシアニン、ヘミシアニンなど使用されるが、
メロシアニンとして特公平4-73860号のオキサゾール環
とチオヒダントイン環を有するものが好ましい。

【００９９】上記ハロゲン化銀は親水性コロイド媒体
中、例えば、ゼラチンに分散させて塗設される。

【０１００】ゼラチンあるいはカルボン酸、ヒドロキシ
基やアミノ基を持つポリマー等親水性コロイド媒体の架
橋は、グリオキザルやムコクロル酸などのアルデヒド
類、2,4,-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン酸ナト
リウム塩などのシアヌル酸クロライド類、ビス（アジリ
ジンアセトアミド）ヘキサンやビス（アジリジンアセト
アミド）ブタンなどのアジリジンあるいは1,2-ビス（ス
ルホニルアセトアミド）エタン、1,3-ビス（ビニルスル
ホニル）-2-プロパノールエタンおよびビス（ビニルス
ルホニル）メチルエーテルなどのビニルスルホン系硬膜
在等を用いて行うことができる。

【０１０１】特に好ましい硬膜剤は 一般式 R₁−N(R₂)−CO−ピリジニウム で示され、ピリジニウム環はＲ₃および／またはL−X−S
O₃Hで置換されている。

【０１０２】式中、Ｒ₁およびＲ₂はアルキル基、アリー
ル基を表し、Ｒ₁およびＲ₂で環を形成してもよい。Ｒ₃
は水素原子または置換基を表す。Ｌは単結晶または２基
を表す。Ｘは単結合または２価の基を表す。Ｘは単結合
または−O−，−N(R₄)-を表しＲ₄は水素原子またはアル
キル基、アリール基を表す。

【０１０３】本発明の感光材料を印刷製版用に適用する
ときは、硬調化剤としてヒドラジン化合物、硬調化助剤
としてアミン化合物、あるいは酸化により現像抑制剤を
放出するレドックス化合物を使用することができる。

【０１０４】本発明の感光材料を印刷用感材に適用する
場合には、感度とセーフライト性をコントロールするた
めに減感色素を使用することができる。

【０１０５】本発明の感光材料は、支持体上に少なくと
も１層の感光性乳剤層を有する。感光性乳剤層の上に保
護層を設けることができる。乳剤層や保護層は更に２層
以上にわけることができる。また保護層や乳剤層の間に
中間層を配置し、添加剤の拡散や光の透過を制御した
り、隣接層の化学的あるいは物理的影響を抑えたりする
ことができる。保護層には、安全光を遮断するためにフ
ィルター染料を固定することができる。固定のためには
微粒子にしたり、アニオン-カチオンのイオン結合を利
用したり、酸化や還元により分解するレドックス反応を
利用することができる。ハレーション防止のために乳剤
層の下層や支持体の反対側に染料を固定することは画質
向上に良い。ハレーション防止層は乳剤層の下層に設け
ることが好ましい。乳剤を両面に配置するＸレイ用ハロ
ゲン化銀写真要素の場合は、横断光遮断層としてフィル
ター染料が固定される。２層以上の乳剤層を設ける場合
には、光感度や現像の高い乳剤を支持体側に近くする方
法と遠いところに設ける場合がある。支持体に近い側は
到達する光が少なくなることや現像液の浸透が遅れるこ
とから、感度が高く現像性の速い乳剤層を設けると画質
が向上するので医用や印刷感材に好ましく適用すること
ができる。現像後期は現像性の差が大きくなるので速度
調節するために現像抑制剤を放出するレドックス化合物
を使用することができる。レドックス化合物から放出さ
れる現像抑制剤の効果を高めるためにはレドックス化合
物が存在する層を中間層を介して乳剤層に隣接させるの
が好ましい。具体的層構成は支持体から／接着層／横断
光遮断層またはハレーション防止層／乳剤層／中間層／
レドックス含有層／保護層の順である。また、支持体か
ら／接着層／横断光遮断層またはハレーション防止層／
レドックス含有層／中間層／乳剤層／保護層の順にても
使用できる。これらの層に使用するゼラチンは、公知の
架橋剤で膨潤させることができるが層別に架橋させるに
は分子量を調節したり架橋促進剤を使用するのがよい。
通常使用される各層のゼラチン量は0.1ｇ〜2.0ｇ／m²で
ある。架橋剤はグラムゼラチン当たり0.01ミリモルから
１ミリモル使用するのが好ましい。各層にはゼラチンの
他にデキストリン類、澱粉、ブドウ等など親水性ポリマ
ーや疎水性のラテックス導入して膨潤度を調節すること
ができる。膨潤度としては120〜200位までが一般的であ
る。各層の乾燥は、水分の蒸発速度に応じて温度、時間
を調節する。温度として25℃〜200℃、時間として0.1秒
〜200秒位までが一般的に適用される。膨潤度は、水中
に浸して顕微鏡で測定したり、膨潤度計で求めることが
できる。膨潤度として、乾燥膜厚＝Ｌｄ（23℃50％の相
対湿度で24時間調湿後の膜厚）に対して23℃の水中での
膨潤した厚さＬｗの比（Ｌｗ／Ｌｄ）に100を掛けた値
を指標とすることができる。

【０１０６】現像促進のために、親水性コロイド層の少
なくとも一層に現像液に使用される下記の現像主薬を含
有せしめることができる。また、防黴剤としてN-メチル
-イソチアゾール-3-オン、N-メチル-イソチアゾール-5-
クロロ-3-オン、N-メチル-イソチアゾール-4,5-ジクロ
ロ-3-オン、2-ニトロ-2-ブロム-3-ヒドロキシプロパノ
ール、2-メチル-4-クロロフェノールなどを使用するこ
とができる。

【０１０７】３層〜10層の複数の構成層を１分当たり30
〜1000メートルの高速で同時塗布するには米国特許第3,
636,374号、同3,508,947号明細書記載の公知のスライド
ホッパー式、あるいはカーテン塗布を使用することがで
きる。塗布時のムラを少なくするには、塗布液の表面張
力を下げることや、剪断力により粘度が低下するチキソ
トロピック性を付与できる親水性ポリマーを使用するこ
とが好ましい。

【０１０８】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、バ
ッキング層をつけることができる。バッキング層をつけ
るに際しては、支持体上に接着層／帯電防止層／染料含
有層／保護層を設けるのが一般的である。

【０１０９】バッキング層中には、コロイダルシリカな
どの寸法安定のための無機充填物や接着防止のシリカや
メタクリル酸メチルマット剤、搬送性の制御のためのシ
リコン系滑り剤あるいは剥離剤などを含有させることが
できる。バッキング染料としては、ベンジリデン染料や
オキソノール染料が使用される。これらアルカリ可溶性
あるいは分解性染料を微粒子にして固定しておくことも
できる。ハレーション防止のための濃度としては、各感
光性波長で0.1〜2.0までの濃度であることが好ましい。

【０１１０】本発明の感光材料はバインダー乾量に基づ
いて300％以下の水分量を25℃において50％以下の相対
湿度条件で乾燥させるのがよく、保存に際して25℃相対
湿度50％以下の水分量である雰囲気下であることが望ま
しい。

【０１１１】感光材料を現像する処理液は、現像主薬と
してハイドロキノン、ハイドロキノンスルホン酸ナトリ
ウム、クロルハイドロキノンなどのハイドロキノン類の
他に、1-フェニル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4,4-ジ
メチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-4-ヒド
ロキシメチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3
-ピラゾリドンなどのピラゾリドン類およびN-メチルパ
ラアミノフェノール硫酸塩などの超加成性現像主薬と併
用することができる。また、ハイドロキノンを使用しな
いでアスコルビン酸やイソアスコルビン酸を上記超加成
性現像主薬と併用することもできる。保恒剤として亜硫
酸ナトリウム塩や亜硫酸カリウム塩、緩衝剤として炭酸
ナトリウム塩や炭酸カリウム塩、キレート剤としてはED
TA，EDTA・2Na，EDTA・4Naなど、カブリ抑制剤あるいは
銀スラッジ防止剤として5-メチルベンゾトリアゾール、
2-メルカプトベンゾチアゾール、1-フェニル-5-メルカ
プトテトラゾール、6-ニトロベンズイミダゾール、1-(4
-カルボン酸フェニル)-5-メルカプトテトラゾール、1-
(4-スルホン酸フェニル)-5-メルカプトテトロラゾー
ル、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプト-5
-スルホン酸-ベンズイミダゾール、現像促進剤としてジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルア
ミノプロパンジオール等を含むことができる。尚、カブ
リ抑制剤は、乳剤層や乳剤保護層などの写真要素層に添
加してカブリ抑制ばかりでなく鮮鋭性や明ゴ再現性を向
上させることができる。現像液は水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ剤で現像液をpＨ９〜12し
の範囲に調節することができる。pＨの調整は、一般的
には、保存性が良い10±0.5の範囲で使用されるが、迅
速処理用としてpＨ11±0.5で使用することもできる。現
像処理は、20℃〜40℃、１秒〜90秒の処理条件内で実施
することがてきる。また現像促進剤や増感剤を使用して
現像液や定着液の補充量をそれぞれ１m²当たり５cc〜21
6ccの範囲あるいはこれ以下にすることができる。補充
量低減は、乳剤その増感技術によりハロゲン化銀粒子の
使用量を低減することが特に効果的であり、上記現像促
進技術と併用して達成することができる。

【０１１２】

【実施例】

実施例１ 《比較用下引済支持体Ｄ−２の作成》 〈ＳＰＳフィルムの作成〉押出機で320℃で重合例によ
り得られたＳＰＳペレットを溶融押出した。この溶融ポ
リマーをパイプを通じて押出しダイに押し出した。そし
てダイスリットより冷却したキャスチングドラムに静電
印可させながら押し出して冷却することにより膜厚1000
μmのＳＰＳ未延伸シートを得た。

【０１１３】得られたシートを110℃で予熱した後に縦
方向に3.3倍に延伸し、さらにステンター内で130℃に予
熱して横方向に3.3倍延伸した。更にやや横方向に緩和
させながら230℃で熱固定した後に、170℃で約５分間ヒ
ートリラックスさせて100℃まで冷却して、80℃で約10
分間熱処理して支持体Ｄ−１を作成した。

【０１１４】この上に、下記下引加工液を乾燥膜厚が0.
7μmとなるように塗布して100℃で５分間乾燥させるこ
とにより比較用下引済支持体Ｄ−２を作成した。

【０１１５】 〈下引加工液の調製〉 特開平3-131843号にしたがった ゼラチン水溶液（５wt％） ７重量部 ホルマリン水溶液（４wt％） １重量部 純水で100重量部に仕上げる。

【０１１６】《本発明の下引済支持体Ａ，Ｂ，Ｃの作
成》 〈積層未延シートの作成〉一つの押出機で330℃で、重
合例により得られたＳＰＳペレットを溶融押出した。ま
た、もう一方の押出機により固有粘度0.62のポリエチレ
ンテレフタレートを310℃で溶融押出してこれを２方向
に分割した。これらの溶融ポリマーをパイプを通じて３
層より成る押出しダイより押し出した。つまりＰＥＴ／
ＳＰＳ／ＰＥＴ＝１／８／１の３層構造となるように押
し出し、ダイの中で合流積層させ、ダイスリットより冷
却したキャスチングドラムに静電印可させながら押し出
して冷却することにより膜厚1000μmの積層未延シート
を得た。

【０１１７】 〈第１下引加工液１の調製〉 スチレン-ブタジエンラテックス （ニッポールＬx432 日本ゼオン社製） 25重量部 メチルセルロース（10wt水溶液） 10重量部 シリカ系マット剤（平均粒径3.0μm） 0.5重量部 硬膜剤（2.4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-S-トリアジンナトリウム） 0.5重量部 純水で100重量部に仕上げる。

【０１１８】 〈第１下引加工液２の調製〉 アクリル系ラテックス（固形分30％）（ブチルアクリレート／ スチレン／ヒドロキシエチルメタクリレート＝2/1/1重量比） 12.3重量部 アニオン系界面活性剤(C₉H₁₉−C₆H₆−O(CH₂CH₂O)₁₂SO₃Na) 1.8重量部 硬膜剤(ヘキサメチレン-1、6-ビス（エチレンウレア）) 1.2重量部 純水で100重量部に仕上げる。

【０１１９】 〈第１下引加工液３の調製〉 水分散性ポリエステル （ＷＤサイズ：イーストマンコダック社製） 12.3重量部 アニオン系界面活性剤(C₉H₁₉−C₆H₄−O(CH₂CH₂O)₁₂SO₃Na) 1.8重量部 硬膜剤(ヘキサメチレン-1、6-ビス（エチレンウレア）) 1.2重量部 純水で100重量部に仕上げる。

【０１２０】 〈第２下引加工液１の調製〉 ゼラチン水溶液（10wt％） 20重量部 硫酸アンモニウム 0.5重量部 半導体微粒子Ａ−１ 40重量部 純水で100重量部にしあげサンドグラインダーでジルコニアビーズを用いて約 ８時間分散した。更に塗布直前に 硬化剤(ムコクロム酸) 1.2重量部 をくわえた。

【０１２１】 〈第２下引加工液２の調製〉 ゼラチン水溶液（10wt％） 20重量部 硬化剤(ムコクロム酸) 1.2重量部 アニオン系界面活性剤(C₉H₁₉−C₆H₄−O(CH₂CH₂O)₁₂SO₃Na) 1.8重量部 純水で100重量部に仕上げる。

【０１２２】《下引済支持体Ａ−２の作成》積層未延シ
ートを115℃で予熱した後に縦方向に3.3倍延伸しさらに
ステンター内で130℃に予熱して横方向に3.3倍延伸し
た。更にやや横方向に緩和させながら225℃で熱固定し
た後に、170℃で約５分間ヒートリラックスさせて100℃
まで冷却して、80℃で約10分間熱処理して支持体Ａ−１
を作成した。

【０１２３】このフィルム片面ずつ、コロナ放電を施し
た後に第１下引加工液１を140℃で乾燥させ両面とも0.5
μmとなるように塗設した。

【０１２４】この支持体に、バッキング層面側に第２下
引加工液１を、写真乳剤層面側に、第２下引加工液２を
それぞれ乾燥膜厚が0.1μmとなるように、コロナ放電を
施した後に140℃で乾燥させて順次積層して下引済支持
体Ａ−２を作成した。

【０１２５】《下引済支持体Ｂ−２の作成》第１下引加
工液１を第１下引加工液２に変えた以外は下引済支持体
Ａ−２と同様にして下引済支持体Ｂ−２を作成した。

【０１２６】《下引済支持体Ｃ−２の作成》積層未延シ
ートを115℃で予熱した後に縦方向に3.3倍延伸した。こ
の両面にコロナ放電と施した後に、両面に第１下引加工
液３を押し出しコーターで塗布してステンター内で100
℃で予熱する間に乾燥させさらに130℃で横方向に3.3倍
延伸した。更にやや横方向に緩和させながら225℃で熱
固定した後に、170℃で約５分間ヒートリラックスさせ
て100℃まで冷却して、80℃で約10分間熱処理して支持
体Ｃ−１を作成した。

【０１２７】この支持体に、バッキング層面側に第２下
引加工液１を、写真乳剤層面側に第２下引加工液２をそ
れぞれ乾燥膜厚が0.1μmとなるようにコロナ放電を施し
た後に、140℃で乾燥させて順次積層して下引支持体Ｃ
−２を作成した。

【０１２８】《感光材料の作成》得られた各支持体に帯
電防止層及びハレーション防止層を施した後、以下の構
成の写真構成層とバッキング層をカーテンコーターにて
形成し感光材料を作成した。ここに、乳剤としては、塩
化銀含有率が60モル％の塩臭化銀からなり、粒子内部に
イリジウム及びロジウムを銀1モル当たり10^-6モルドー
ピングした平板粒子からなるものを用い、銀１モル当た
りチオ硫酸ナトリウム５水塩8.2mg、チオシアン酸カリ
ウム163mg、塩化金酸5.4mg、ジフェニルペンタフロロフ
ェニルセレナイド2.0mgを用いて増感した。高感度乳剤
層の乳剤は平均粒径0.13μmでアスペクト比＝1.5、低感
度乳剤層の乳剤は平均粒径0.14μmでアスペクト比＝
２、高感度乳剤と低感度乳剤の感度差は32％であった。

【０１２９】《写真構成層》 第１層 反射光吸収層（500nmにおける吸光度＝0.36） ゼラチン 0.3ｇ／m² マット剤（平均粒径２μm） 0.02ｇ／m² 固体分散染料Ｂ（平均粒径0.06μm） 0.03ｇ／m²

【０１３０】

【化３】

【０１３１】 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² 第２層 高感度乳剤層 ハロゲン化銀（銀換算） 1.5ｇ／m² ゼラチン 1.0ｇ／m² ポリ(エチルメタクリレート-ブチルアクリレート) 共重合体ラテックス 0.5ｇ／m² 固体分散硬調化剤（平均粒径0.12μm）〜1-ホルミル-2- {4-〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ)ブチルアミド〕 フェニル}ヒドラジン 0.02ｇ／銀１モル 増感色素〜5-〔3-(4-スルホブチル)-5-クロロ-2- オキサゾリジデン〕-1-ヒドロキシエチル-3-(2-ピリジル) -2-チオヒダントインカリウム塩 １×10^-3モル／銀１モル 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² 第３層 中間層 ゼラチン 0.3ｇ／m² 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² 第４層 低感度乳剤層 ハロゲン化銀（銀換算） 1.5ｇ／m² ゼラチン 1.0ｇ／m² ポリ(エチルメタクリレート-ブチルアクリレート) 共重合体ラテックス 0.5ｇ／m² 固体分散硬調化剤（平均粒径0.12μm）〜1-ホルミル-2-{4- 〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ)ブチルアミド〕 フェニル}ヒドラジン 0.02ｇ／銀１モル 固体分散レドックス化合物（平均粒径0.12μm）〜1-(5-ニトロ インダゾール-1-イル)-2-{4-〔2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ) ブチルアミド〕フェニル}ヒドラジン 0.02ｇ／銀１モル 硬調化助剤〜ビス(1-ピペリジノトリエチレンオキササイド) チオエーテル 0.2ｇ／銀１モル ノニルフェノキシドコサエチレンオキサイドスルホネート ・ナトリウム塩 0.2ｇ／銀１モル カブリ防止剤 ハイドロキノンモノスルホネート 12mg／銀１モル ハイドロキノンアルドキシム 12mg／銀１モル 1-(p-カルボキシフェニル)-5-メルカプトテトラゾール 12mg／銀１モル ベンゾトリアゾール 12mg／銀１モル 1-ブタンスルホン酸-2,3-ジチアシクロヘキサン 12mg／銀１モル アデニン 12mg／銀１モル 没食子酸ブチル 12mg／銀１モル 増感色素〜5-〔3-(4-スルホブチル)-5-クロロ-2- オキサゾリジデン〕-1-ヒドロキシエチル-3-(2-ピリジル) -2-チオヒダントインカリウム塩 １×10^-3モル／銀１モル 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² 第５層 保護層下層 ゼラチン 0.5ｇ／m² 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² エチルメタクリレート-ブチルアクリレート共重合体ラテックス 0.2ｇ／m² マット剤〜二酸化ケイ素（平均粒径４μm） 0.03ｇ／m² 固体分散セーフライト染料（平均粒径0.06μm） 4,4′-ビス〔1-(4-カルボキシフェニル)-3-カルボキシエチル ピラゾール-5-オン〕ヘプタメチン 60mg／m² アルカリ可溶性固体分散現像抑制剤（平均粒径0.07μm） 4-ニトロインダゾール 60mg／m² 第６層 保護層上層 ゼラチン 0.5ｇ／m² 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸（M.W.＝500,000） 0.1ｇ／m² スチレン-マレイン酸共重合体 0.1ｇ／m² ポリビニルピロリドン 0.1ｇ／m² エチルメタクリレート-ブチルアクリレート共重合体ラテックス 0.2ｇ／m² マット剤〜二酸化ケイ素（平均粒径４μm） 0.03ｇ／m² 固体分散セーフライト染料（平均粒径0.06μm） 4,4′-ビス〔1-(4-カルボキシフェニル)-3-カルボキシエチル ピラゾール-5-オン〕ヘプタメチン 60mg／m² アルカリ可溶性固体分散現像抑制剤（平均粒径0.07μm） 4-ニトロインダゾール 60mg／m² 尚、反射光吸収層に硬膜剤のピロリジノカルバモイルピ
リジンエタンスルホン酸を全層のゼラチンに対して0.3
ミリモル／ｇゼラチンとなるように添加して塗布した。

【０１３２】《バッキング層》下記により調製したバッ
キング層用塗布液（バッキング層塗布液ＢＣ−１）、バ
ッキング保護膜層用塗布液をそれぞれゼラチンの付き量
として1.8ｇ／m²、0.5ｇ／m²になるように積層塗布し
た。

【０１３３】［バッキング層用塗布液の調製］下記添加
剤を添加混合後、総量が895mlになるよう純水で調整して
バッキング層塗布液ＢＣ−１を調製した。

【０１３４】 ゼラチン 32.4ｇ 純水 696ml 染料Ｃの６％(W/V)水溶液 64ml 染料Ｄのサポニン33％(W/V)水溶液 6.6ml ポリマーラテックス20％(W/V)エマルジョン液 33.6ml (平均粒径0.10μmのシクロヘキシル-メタクリレート、 イソノニルアクリレート、グリシジル-アクリレートとスチレン -イソプレンスルホン酸のコポリマー) 酸化亜鉛の10％(W/V)固体微粒子分散液(平均粒径0.15μm) 10ml 化合物Ｎの固体微粒子16％(W/V)分散液(平均粒径0.1μm) 10ml クエン酸７％(W/V)水溶液 3.8ml スチレンスルフォン酸ナトリウム４％(W/V)水溶液 23ml ［バッキング保護膜層用塗布液の調整］下記添加剤を添
加混合後、総量が711mlになるよう純水で調整してバッキ
ング保護層用塗布液を調製した。

【０１３５】 ゼラチン 24.9ｇ 純水 605ml メタクリル酸メチル(平均粒径７μ)の２％(W/V)分散液 72ml 1-デシル-2-(3-イソペンチル)サクシネート-2-スルホン酸ナトリウム ４％(W/V)水溶液 11ml グリオキザール４％(W/V)水溶液 4ml ［バッキング層インライン添加用硬膜剤液の調製］ 純水 27.22ml メタノール 1.5ml 硬膜剤 Ｈ１ 1.28ml NaCl 0.005ｇ （尚、上記添加剤を混合して調製したバッキング層イン
ライン添加用硬膜剤液は、保護層塗布液に塗布直前にイ
ンラインで添加混合した。）

【０１３６】

【化４】

【０１３７】《性能評価》作製した感光材料試料を線画
原稿をカメラ撮影し、自動現像機、下記の現像液、定着
液を用いて現像、定着、水洗乾燥を行った。現像は温度
28℃６秒、定着温度28℃６秒、水洗25℃６秒、乾燥温度
60℃６秒に設定した。

【０１３８】接着性は、現像後のＡ−３サイズフィルム
当たりの乳剤層のピックオフ数を数えた。

【０１３９】抜き文字品質の評価は、張り込ベースの上
に１インチ当たり175線で撮網した原稿の上に７ポイン
トの明朝文字を線画撮影した原稿をのせ、更に本発明の
ハロゲン化銀感光材料の乳剤面側を密着させて返しを行
い、50％網点上の線画文字の再現性を10倍ルーペで目視
観察５段階評価した。文字の黒化画像部と非画像部の境
がシャープで且つ銀濃度が充分に出ている場合を５ラン
クとし、文字画像がぼけて濃度が1.0以下の低いレベル
を１ランクとした。

【０１４０】保存性は、23℃相対湿度50％で24時間調湿
した後、55℃で72時間経時放置した後の抜き文字品質を
評価した。結果を表１に示す。

【０１４１】 〈現像液の組成〉 1-フェニル-3-ピラゾリドン 1.5ｇ ハイドロキノン 30ｇ 5-ニトロインダゾール 0.250ｇ 5-メチルベンゾトリアゾール 0.06ｇ 臭化カリウム 3.0ｇ 亜硫酸ナトリウム 50ｇ 水酸化カリウム 30ｇ 硼酸 10ｇ 水を加えて１リットルとし、pＨは10.20に調節した。

【０１４２】 〈定着液の組成〉 チオ硫酸アンモニウム（72.5％W/V）水溶液 240ml 亜流酸ナトリウム 17ｇ 酢酸ナトリウム・３水塩 6.5ｇ 硼酸 6.0ｇ クエン酸ナトリウム・２水塩 2.0ｇ 酢酸（90％W/V水溶液） 13.6ml 硫酸（50％W/V水溶液） 4.7ｇ 硫酸アルミニウム（Al₂0₃換算含量が8.1％W/Vの水溶液） 26.5ｇ 水を加えて１リットルとし、pＨを5.0に調節した。

【０１４３】

【表１】

【０１４４】表１から明らかなように、本発明の支持体
を用いることにより、ＳＰＳ単体では得られなかった写
真性能、接着性能に優れた写真感光材料が得られること
がわかる。

【０１４５】尚、これらの感光材料を、全面露光した後
に、上記現像液に30秒間つけゴム手袋で擦ったところ試
料No.１〜３（支持体Ａ〜Ｃ）は問題なかったが、試料N
o.４（支持体Ｄ）のサンプルは触ったところが全て塗布
膜が剥がれてしまった。

【０１４６】実施例２ 感光材料１−１の作成 実施例１の感光材料１−１（支持体はＰＥＴ／ＳＰＳ／
ＰＥＴ＝１／８／１の積層）と同じものである。

【０１４７】感光材料２−２の作成 ＰＥＴ（固有粘度0.62）の代わりにＰＥＮ（固有粘度0.
68、下記の如くして作成）を用いた他は感光材料１−１
と同様にして、感光材料２−２（支持体はＰＥＮ／ＳＰ
Ｓ／ＰＥＮ＝１／８／１の積層）を作成した。

【０１４８】〈ＰＥＮの作成〉2,6-ナフタレンジカルボ
ン酸ジメチル100重量部、エチレングリコール56重量部
にエステル交換触媒として酢酸カルシウム１水和物0.1
重量部を添加し、定法によりエステル交換反応を行っ
た。その後、得られた生成物に、三酸化アンチモン0.04
重量部、リン酸トリメチルエステル0.1重量部を添加
し、次いで徐々に昇温と減圧を行い、285℃、0.5mmHgの
条件下で重合を行い、固有粘度0.68のＰＥＮチップを得
た。

【０１４９】感光材料２−３の作成 ＰＥＴ（固有粘度0.62）の代わりに、Ｍ−ＰＥＴ（変性
ポリエステル、固有粘度0.57、下記の如くして作成）を
使用（若干減量、下記又は表２に記載）した他は感光材
料１−１と同様にして、感光材料２−３（支持体はＭ−
ＰＥＴ／ＳＰＳ／Ｍ−ＰＥＴ＝0.5／９／0.5の積層）を
作成した。

【０１５０】〈Ｍ−ＰＥＴ（変性ポリエステル）の作
成〉テレフタル酸100重量部、エチレングリコール64重
量部に酢酸カルシウム水和物0.1重量部を添加し、常法
によりエステル化反応を行った。得られた生成物に5-ナ
トリウムスルホジ（β-ヒドロキシエチル）イソフタル
酸のエチレングリコール溶液（濃度35重量％）28重量部
（５モル％／全酸性分）、ポリエチレングリコール（数
平均分子量3000）8.1重量部（７重量％／ポリマー）、
三酸化アンチモン0.05重量部、リン酸トリメチルエステ
ル0.13重量部を添加した。次いで徐々に昇温、減圧し、
280℃、0.5mmHgで重合を行い固有粘度0.57を有するＭ−
ＰＥＴ（変性ポリエステル）を得た。

【０１５１】感光材料２−４の作成 ＳＰＳ単層支持体（支持体Ｄ−１と同様、膜厚100μm）
を用いた他は感光材料１−１と同様にして、感光材料２
−４（支持体はＳＰＳ単層）を作成した。

【０１５２】感光材料２−５の作成 ＰＥＴ単層支持体（固有粘度0.62、膜厚100μm）を用い
た他は感光材料１−１と同様にして感光材料２−５（支
持体はＰＥＴ単層）を作成した。

【０１５３】これら試料について、支持体の湿度膨張係
数（JIS K 705により測定）、又湿度が55％RH、65％RH
に変化したときの感光材料の寸法変化（寸法安定性）を
測定・評価した。

【０１５４】〈寸法安定性の測定・評価方法〉ガラス乾
板上に、560mmの間隔でトンボを入れる。写真感光材料
を、55％RHに調湿した後に、上記ガラス乾板を原稿とし
てプリンターで密着露光焼き付けした後に、現像処理を
行った。この試料を55％RHの部屋で１日調湿したところ
でこれと上記ガラス乾板との寸法のズレ（μm）を測定
した。つぎに、65％RHの部屋で１日調湿してさらに上記
ガラス乾板との寸法のズレ（μm）を測定した。ガラス
乾板の560mmの間隔に対するこれらのズレ（μm）を寸法
安定性として表示した。以上の結果を表２に示す。

【０１５５】

【表２】

【０１５６】表２から明らかなように、本発明の支持体
（フィルム）は、従来のＰＥＴ支持体（Ｆ−１）よりも
湿度膨張係数がはるかに小さく改良されており、さら
に、感光材料としても、寸法安定性が非常に優れている
ことがわかる。

【０１５７】

【発明の効果】本発明により、高度に寸法安定性に優
れ、感光層等への接着性を有しているハロゲン化銀写真
感光材料のための写真用支持体を提供することができ
た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 67/03 ＬＰＤ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シンジオタクチックポリスチレンを主成
   分とするフィルムの両面にポリエステル樹脂層が積層さ
   れている構造を有することを特徴とするハロゲン化銀写
   真感光材料用支持体。
2. 【請求項２】 前記ポリエステル樹脂層がポリエチレン
   テレフタレート樹脂層であることを特徴とする請求項１
   記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
3. 【請求項３】 前記ポリエステル樹脂層がポリエチレン
   ナフタレート樹脂層であることを特徴とする請求項１記
   載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。
4. 【請求項４】 前記ポリエステル樹脂層が変性ポリエス
   テル樹脂層であることを特徴とする請求項１記載のハロ
   ゲン化銀写真感光材料用支持体。
5. 【請求項５】 前記変性ポリエステル樹脂層がテレフタ
   ル酸、ナフタレンジカルボン酸、5-ナトリウムスルホイ
   ソフタル酸から選ばれる少なくとも一種と、エチレング
   リコール、ポリエチレングリコールから選ばれる少なく
   とも一種との縮合よりなるものであることを特徴とする
   請求項４記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。