JPH081699B2 - 磁気ディスク用Ａ▲ｌ▼合金鏡面基板の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用Ａ▲ｌ▼合金鏡面基板の製造方法Info
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- JPH081699B2 JPH081699B2 JP63272324A JP27232488A JPH081699B2 JP H081699 B2 JPH081699 B2 JP H081699B2 JP 63272324 A JP63272324 A JP 63272324A JP 27232488 A JP27232488 A JP 27232488A JP H081699 B2 JPH081699 B2 JP H081699B2
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 claims description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 7
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 21
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、磁気ディスク用Al合金鏡面基板の製造方法
に係り、特に高記録密度磁気ディスク用のAl合金鏡面基
板の製造に適している。
に係り、特に高記録密度磁気ディスク用のAl合金鏡面基
板の製造に適している。
（従来の技術） 磁気ディスク用基板の素材としては、非磁性、軽量、
強度の点からAl合金が適し、この中でも、Al−Mg系合金
が強度が高く、精密加工性も良好なため、5086合金を基
本組成とするAl−Mg系合金が一般に使用されている。
強度の点からAl合金が適し、この中でも、Al−Mg系合金
が強度が高く、精密加工性も良好なため、5086合金を基
本組成とするAl−Mg系合金が一般に使用されている。
ところで、磁気ディスク用Al合金鏡面基板は、常法に
て溶解、圧延により製造された板より、一般に内抜き
（ドーナツ形円板）、歪矯正及び軟質化焼鈍、精密切削
或いは精密研磨による鏡面加工の順序に加工されて製造
される。磁気ディスクは、このようにして製造されたAl
合金鏡面基板上に磁性媒体を成膜して製造される。
て溶解、圧延により製造された板より、一般に内抜き
（ドーナツ形円板）、歪矯正及び軟質化焼鈍、精密切削
或いは精密研磨による鏡面加工の順序に加工されて製造
される。磁気ディスクは、このようにして製造されたAl
合金鏡面基板上に磁性媒体を成膜して製造される。
近年、コンピュータの小型化、大容量化が著しく、磁
気ディスクの高記録密度化が進展した結果、１ビット当
りの磁化記録領域はますます微小化されると共に、磁性
膜の薄膜化及び磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔の狭
少化が必要となり、したがって、Al合金鏡面基板の平坦
度、表面の微小な突起や凹みなどの表面精度に対する要
求が極めて高度化してきている。
気ディスクの高記録密度化が進展した結果、１ビット当
りの磁化記録領域はますます微小化されると共に、磁性
膜の薄膜化及び磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔の狭
少化が必要となり、したがって、Al合金鏡面基板の平坦
度、表面の微小な突起や凹みなどの表面精度に対する要
求が極めて高度化してきている。
そのために、表面精度の優れた磁気ディスク用Al合金
基板の製造法が提案されている（例、特公昭60−4263
号）。
基板の製造法が提案されている（例、特公昭60−4263
号）。
（発明が解決しようとする課題） しかし、従来からの留意点である基板全体の平坦度、
金属間化合物等については全く問題のない鏡面仕上面で
あっても、磁性膜形成後、エラーが多発するという新た
な問題が生じてきている。そして、この問題については
未だ原因はもとより、有効な対策が開発されていないの
が現状である。
金属間化合物等については全く問題のない鏡面仕上面で
あっても、磁性膜形成後、エラーが多発するという新た
な問題が生じてきている。そして、この問題については
未だ原因はもとより、有効な対策が開発されていないの
が現状である。
本発明は、かゝる事情に鑑みてなされたものであり、
磁性膜形成後、エラーの発生のない磁気ディスク用Al合
金鏡面基板を製造する方法を提供することを目的とする
ものである。
磁性膜形成後、エラーの発生のない磁気ディスク用Al合
金鏡面基板を製造する方法を提供することを目的とする
ものである。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは、まず、磁性膜形成後にエラーが発生する
現象の原因の究明に努め、種々調査した結果、磁性膜表
面に微小な突起が存在することが新たに問題となり、こ
の突起はAl合金鏡面基板自体の表面に突起が存在してい
るため、生成したものと判明した。
現象の原因の究明に努め、種々調査した結果、磁性膜表
面に微小な突起が存在することが新たに問題となり、こ
の突起はAl合金鏡面基板自体の表面に突起が存在してい
るため、生成したものと判明した。
そして、この生成原因を突明した結果、磁性膜成膜工
程における加熱（200〜300℃加熱）の際、Al合金鏡面も
同時に加熱される結果、加熱前には存在していなかった
突起が生成することが明らかとなった。
程における加熱（200〜300℃加熱）の際、Al合金鏡面も
同時に加熱される結果、加熱前には存在していなかった
突起が生成することが明らかとなった。
そこで、本発明者らは、上記の如く、Al合金鏡面基板
表面に加熱後、微小な突起が発生する原因について更に
研究した結果、驚くべきことに、鏡面基板表面に局所的
に圧縮応力が残存していると、加熱によりこの部分がふ
くれ、微小な突起を生成することを見出した。この調査
結果を、以下に実験例を引用して示す。
表面に加熱後、微小な突起が発生する原因について更に
研究した結果、驚くべきことに、鏡面基板表面に局所的
に圧縮応力が残存していると、加熱によりこの部分がふ
くれ、微小な突起を生成することを見出した。この調査
結果を、以下に実験例を引用して示す。
実験例１ 5086合金Ｏ材につき、以下の手順で微小突起の形成原
因をテストした。本テストは、ビッカース硬度計で圧痕
を入れることにより、圧縮の応力が残留することを利用
した。
因をテストした。本テストは、ビッカース硬度計で圧痕
を入れることにより、圧縮の応力が残留することを利用
した。
ブランク→粗切削→焼鈍（340℃×2hr）→ミクロビッ
カース硬度計MHv（500g）で圧痕を入れる（圧痕深さ約2
0μｍ）→ダイヤモンド切削により圧痕深さ以上まで切
削し、鏡面とする→焼鈍（320℃×30min）。なお、ダイ
ヤモンド切削の条件、回数により、切削条件変更材（粗
度大）、通常切削条件材（１回仕上、２回仕上）を得
た。
カース硬度計MHv（500g）で圧痕を入れる（圧痕深さ約2
0μｍ）→ダイヤモンド切削により圧痕深さ以上まで切
削し、鏡面とする→焼鈍（320℃×30min）。なお、ダイ
ヤモンド切削の条件、回数により、切削条件変更材（粗
度大）、通常切削条件材（１回仕上、２回仕上）を得
た。
上記の最終工程の焼純後、鏡面を観察したところ、微
小突起が検知され、その部分を表面粗度計で測定した結
果、第１表に示すとおり、明らかに局部的残留応力の大
きさに対応して突起が形成されることが推定される。
小突起が検知され、その部分を表面粗度計で測定した結
果、第１表に示すとおり、明らかに局部的残留応力の大
きさに対応して突起が形成されることが推定される。
実験例２ 実験例１の結果に基づき、更に確認のため、以下のテ
ストを行った。
ストを行った。
ブランク→粗切削→焼鈍（360℃×4hr）→ミクロビッ
カース硬度計を用いてMHv（500g）で約20μｍ深さに、M
Hv（1kg）で約30μｍ深さに圧痕を入れる→ダイヤモン
ド切削（約30μｍ切削）→焼鈍（300℃×1hr）。
カース硬度計を用いてMHv（500g）で約20μｍ深さに、M
Hv（1kg）で約30μｍ深さに圧痕を入れる→ダイヤモン
ド切削（約30μｍ切削）→焼鈍（300℃×1hr）。
上記の最終工程の焼鈍後、鏡面を観察したところ、微
小突起が観察され、その部分の表面粗度を測定した結
果、第２表に示すとおりであった。
小突起が観察され、その部分の表面粗度を測定した結
果、第２表に示すとおりであった。
したがって、この局所的に残存する圧縮応力の発生に
関し、鏡面仕上加工時及びこの加工以前に、或いは未然
に、局所的な圧縮応力を基板表面に与えることを防止す
ることにより、磁性膜成膜時のふくれ欠陥の発生の防止
が可能となることを知見したのである。
関し、鏡面仕上加工時及びこの加工以前に、或いは未然
に、局所的な圧縮応力を基板表面に与えることを防止す
ることにより、磁性膜成膜時のふくれ欠陥の発生の防止
が可能となることを知見したのである。
この圧縮応力は、次のような原因で発生する。
歪矯正軟質化焼鈍としては、従来、基板を重ね合せ
て荷重をかけて加熱する積層焼鈍が行われており、基板
表面に付着したホコリや微小な切り粉などが、冷却時に
基板表面に局所的な残留応力を与える。
て荷重をかけて加熱する積層焼鈍が行われており、基板
表面に付着したホコリや微小な切り粉などが、冷却時に
基板表面に局所的な残留応力を与える。
積層焼鈍の際、基板同士の付着現象が生じ、この剥
離の際、基板同士がぶつかり、基板表面に局所的な残留
応力が生じる。
離の際、基板同士がぶつかり、基板表面に局所的な残留
応力が生じる。
鏡面加工に至るまでの中間検査工程において、マイ
クロメータによる板厚測定などにより、基板表面に局所
的な残留応力を与える。
クロメータによる板厚測定などにより、基板表面に局所
的な残留応力を与える。
従来工程においては、このような局所的な残留応力の
発生を完全に防止することは非常に困難であるため、本
発明者らは、この局所的な残留応力の除去方法について
鋭意研究した結果、磁性膜成膜時のふくれ欠陥の発生を
少なくするAl合金鏡面基板の製造方法を開発したもので
ある。
発生を完全に防止することは非常に困難であるため、本
発明者らは、この局所的な残留応力の除去方法について
鋭意研究した結果、磁性膜成膜時のふくれ欠陥の発生を
少なくするAl合金鏡面基板の製造方法を開発したもので
ある。
すなわち、本発明者は、Al合金鏡面基板の最終表面仕
上加工と中間表面仕上加工の間に、200〜450℃の加熱処
理を挿入することを特徴とする磁性媒体の成膜工程にお
けるふくれ欠陥の発生の少ない磁気ディスク用Al合金鏡
面基板の製造方法を要旨とするものである。
上加工と中間表面仕上加工の間に、200〜450℃の加熱処
理を挿入することを特徴とする磁性媒体の成膜工程にお
けるふくれ欠陥の発生の少ない磁気ディスク用Al合金鏡
面基板の製造方法を要旨とするものである。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
（作用） 前述の局所的な残留応力を除去する方法としては、 表層部を切削或いは研磨により機械的に除去する方
法及び化学的に溶解或いは研磨して除去する方法 加熱により応力を除去する方法 のいずれでもよいのであるが、表層部を機械的或いは化
学的に除去する方法は、残留応力の大きさにより十分に
除去するための表層部の厚さが異なり、確実性を見込む
と、元の基板厚さを十分に厚くしなければならないた
め、材料コスト及び生産性の点から問題がある。したが
って、加熱により応力を除去する方法が優れている。
法及び化学的に溶解或いは研磨して除去する方法 加熱により応力を除去する方法 のいずれでもよいのであるが、表層部を機械的或いは化
学的に除去する方法は、残留応力の大きさにより十分に
除去するための表層部の厚さが異なり、確実性を見込む
と、元の基板厚さを十分に厚くしなければならないた
め、材料コスト及び生産性の点から問題がある。したが
って、加熱により応力を除去する方法が優れている。
以上の理由から、本発明では、加熱により応力を除去
する方法を採用するが、加熱温度と共に実施時期を特定
したものとする必要がある。すなわち、歪矯正軟質化を
目的とする焼鈍後、鏡面の最終表面仕上加工と中間表面
仕上加工（通常、粗切削）の間に200℃以上450℃以下の
加熱処理を挿入することにより、本目的は達成される。
しかし、200℃未満であると残留応力の除去が不十分と
なる。また、450℃を超えると、結晶粒が粗大化し易く
なり、また中間表面仕上加工を行った表面が酸化、変質
し、最終仕上表面加工が困難となりがちとなるので好ま
しくない。
する方法を採用するが、加熱温度と共に実施時期を特定
したものとする必要がある。すなわち、歪矯正軟質化を
目的とする焼鈍後、鏡面の最終表面仕上加工と中間表面
仕上加工（通常、粗切削）の間に200℃以上450℃以下の
加熱処理を挿入することにより、本目的は達成される。
しかし、200℃未満であると残留応力の除去が不十分と
なる。また、450℃を超えると、結晶粒が粗大化し易く
なり、また中間表面仕上加工を行った表面が酸化、変質
し、最終仕上表面加工が困難となりがちとなるので好ま
しくない。
勿論、Al合金基板を表面仕上加工に供するまでの製造
条件、表面仕上加工の条件等は特に制限されないことは
云うまでもなく、前述の特公昭60−4263号も参照され
る。また、本発明法で対象とするAl合金の材質も、磁気
ディスク用に供されるものであればよい。
条件、表面仕上加工の条件等は特に制限されないことは
云うまでもなく、前述の特公昭60−4263号も参照され
る。また、本発明法で対象とするAl合金の材質も、磁気
ディスク用に供されるものであればよい。
なお、磁気ディスクの製造工程では、軟質化焼鈍に先
立つて半硬質化焼鈍を行うことが多いが、半硬質化焼鈍
の有無は本発明の効果を何ら損なうものではない。
立つて半硬質化焼鈍を行うことが多いが、半硬質化焼鈍
の有無は本発明の効果を何ら損なうものではない。
次に本発明の実施例を示す。
（実施例） 第３表に示す化学成分を有するアルミニウム合金を常
法に従って鋳造、圧延して2mm厚に仕上げた。
法に従って鋳造、圧延して2mm厚に仕上げた。
この2mm厚の板を外径130mmφ、内径40mmφに内抜いて円
板とした。次いで、第４表に示す条件により、この円板
の圧延及び内抜きによる歪矯正及び軟質化焼鈍を行っ
た。この焼鈍に際しては、80枚づつ積層し、定盤にて50
0kgの荷重にて締め付け、雰囲気焼鈍炉にて360〜240℃
×２時間の加熱を行い、室温へ冷却後、積層した円板を
１枚づつ、剥離した。なお、半硬質焼鈍を行う場合には
同様の要領で行えばよい。
板とした。次いで、第４表に示す条件により、この円板
の圧延及び内抜きによる歪矯正及び軟質化焼鈍を行っ
た。この焼鈍に際しては、80枚づつ積層し、定盤にて50
0kgの荷重にて締め付け、雰囲気焼鈍炉にて360〜240℃
×２時間の加熱を行い、室温へ冷却後、積層した円板を
１枚づつ、剥離した。なお、半硬質焼鈍を行う場合には
同様の要領で行えばよい。
その後、円板表面を粗切削後、局所的な残留応力除去
のため、第４表に示す条件により、上記積層焼鈍法にて
荷重20kgにて雰囲気焼鈍を実施し、仕上切削加工を行
い、1.905mm厚さで表面粗度Rmax0.09μｍの鏡面基板に
仕上げた。
のため、第４表に示す条件により、上記積層焼鈍法にて
荷重20kgにて雰囲気焼鈍を実施し、仕上切削加工を行
い、1.905mm厚さで表面粗度Rmax0.09μｍの鏡面基板に
仕上げた。
また、比較のため、粗切削後、直ちに仕上げ切削加工
を行って鏡面基板を得た。
を行って鏡面基板を得た。
これら各400枚の鏡面基板につき、200℃×30分の加熱
処理を行い、各面のふくれ欠陥発生率を測定した。その
結果を第５表に示す。
処理を行い、各面のふくれ欠陥発生率を測定した。その
結果を第５表に示す。
第５表より明らかなように、圧延及び打抜き歪矯正及
び軟質化焼鈍（或いは半硬質化焼鈍）後、最終鏡面仕上
加工前に加熱処理を挿入することにより、磁性膜成膜工
程におけるAl合金鏡面基板のふくれ欠陥の発生を著しく
減少させことができ、高密度記録磁気ディスク用Al合金
鏡面基板が得られることがわかる。
び軟質化焼鈍（或いは半硬質化焼鈍）後、最終鏡面仕上
加工前に加熱処理を挿入することにより、磁性膜成膜工
程におけるAl合金鏡面基板のふくれ欠陥の発生を著しく
減少させことができ、高密度記録磁気ディスク用Al合金
鏡面基板が得られることがわかる。
（発明の効果） 以上詳述したように、本発明によれば、磁性媒体の成
膜工程における加熱において突起欠陥の発生を著減する
ことができるので、エラーがなく、磁気ディスクの高記
録密度化に十分対応できるAl合金鏡面基板の製造が可能
となる。
膜工程における加熱において突起欠陥の発生を著減する
ことができるので、エラーがなく、磁気ディスクの高記
録密度化に十分対応できるAl合金鏡面基板の製造が可能
となる。
Claims (1)
- 【請求項１】Al合金基板の最終表面仕上加工と中間表面
仕上加工の間に、200〜450℃の加熱処理を挿入すること
を特徴とする磁性媒体の成膜工程におけるふくれ欠陥の
発生の少ない磁気ディスク用Al合金鏡面基板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63272324A JPH081699B2 (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 磁気ディスク用Ａ▲ｌ▼合金鏡面基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63272324A JPH081699B2 (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 磁気ディスク用Ａ▲ｌ▼合金鏡面基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02121118A JPH02121118A (ja) | 1990-05-09 |
| JPH081699B2 true JPH081699B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=17512299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63272324A Expired - Lifetime JPH081699B2 (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 磁気ディスク用Ａ▲ｌ▼合金鏡面基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081699B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103447552B (zh) * | 2013-09-24 | 2015-08-19 | 哈尔滨工业大学 | 极紫外光刻光源中光学收集镜直接车削加工粗加工方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002049015A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-20 | Showa Denko K.K. | Magnetic-disk substrate, and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS604263A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-10 | Nec Corp | Ｍｏｓ電界効果半導体装置 |
| JPS60110852A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-17 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気ディスク用円板の熱処理方法 |
| JPS60247824A (ja) * | 1984-05-22 | 1985-12-07 | Yokogawa Hokushin Electric Corp | デイスク基板の製造方法 |
| JPS6143423A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-03 | Hitachi Ltd | マスクアライナ |
| JPS6191352A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-09 | Kobe Steel Ltd | 微小うねりの発生が少ない磁気ディスク基板用Ａｌ合金板の軟質化焼鈍方法 |
| JPS61179843A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 |
| JPS61179842A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 |
| JPS6247450A (ja) * | 1985-08-27 | 1987-03-02 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | メツキ性にすぐれメツキ欠陥の少ない磁気デイスク用アルミニウム合金 |
| JPS634050A (ja) * | 1986-06-24 | 1988-01-09 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 磁気デイスク用アルミニウム合金基板の製造法 |
| JPH0663061B2 (ja) * | 1986-09-02 | 1994-08-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気デイスクサブストレ−ト用素材の製造方法 |
| JPS63111153A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-16 | Kobe Steel Ltd | 垂直磁気デイスク用アルミニウム合金板及びその製造方法 |
| JPH0630150B2 (ja) * | 1986-12-05 | 1994-04-20 | 株式会社神戸製鋼所 | 金属製デイスクの歪矯正方法 |
| JPH0645845B2 (ja) * | 1987-03-12 | 1994-06-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 高強度磁気デイスク用Ａｌサブストレ−トの製造方法 |
| JPH0690792B2 (ja) * | 1987-04-15 | 1994-11-14 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気デイスク用Ａｌサブストレ−トの製造方法 |
-
1988
- 1988-10-28 JP JP63272324A patent/JPH081699B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103447552B (zh) * | 2013-09-24 | 2015-08-19 | 哈尔滨工业大学 | 极紫外光刻光源中光学收集镜直接车削加工粗加工方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02121118A (ja) | 1990-05-09 |
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