JPS60110852A - 磁気ディスク用円板の熱処理方法 - Google Patents
磁気ディスク用円板の熱処理方法Info
- Publication number
- JPS60110852A JPS60110852A JP21899283A JP21899283A JPS60110852A JP S60110852 A JPS60110852 A JP S60110852A JP 21899283 A JP21899283 A JP 21899283A JP 21899283 A JP21899283 A JP 21899283A JP S60110852 A JPS60110852 A JP S60110852A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- strain relief
- temperature
- heat treatment
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の１文１１；Ｊ分野」
こり尖り」は厭気円板Ｖ衣…１４ｆ４度を艮〈す々だめ
の歪取り焼鈍ＶＣ関するものである。
の歪取り焼鈍ＶＣ関するものである。
アルミニュウム（以下、アルミと略記する０）を基材と
する商密匪記録蝋気円板の製作シま、大略。
する商密匪記録蝋気円板の製作シま、大略。
図に示す工程で行われている〇
この工程における「焼鈍」及び「歪取り焼鈍」は、圧延
加工後の調質及び機械加工時の歪を取るだめのものであ
る。アルミの結晶粒は、加熱温度の上昇と共に粗大化し
、一度大きくなった結晶粒は１元の大きさＶＣは戻らな
いため、そして、大面粗度の良好な円板を得るｅこは結
晶粒の太ささば小さい方が望ましいため、上記谷焼鈍の
温度は、それぞれの目的に応じたＴＥＡ［、例えば「歪
取り焼純゛」の温度は機械特性から２２０℃前後で行っ
ている。
加工後の調質及び機械加工時の歪を取るだめのものであ
る。アルミの結晶粒は、加熱温度の上昇と共に粗大化し
、一度大きくなった結晶粒は１元の大きさＶＣは戻らな
いため、そして、大面粗度の良好な円板を得るｅこは結
晶粒の太ささば小さい方が望ましいため、上記谷焼鈍の
温度は、それぞれの目的に応じたＴＥＡ［、例えば「歪
取り焼純゛」の温度は機械特性から２２０℃前後で行っ
ている。
この焼鈍温度で歪取りを行うことは歪忙とるのに十分な
温度であシ、歪取り焼鈍の効果はあがる。
温度であシ、歪取り焼鈍の効果はあがる。
＃、純温度が上昇すると結晶粒は租〈な９．慎械的特性
も洛ちることとなるので、従来性われている焼鈍におけ
る温度条件そのものは歪取シ作業そりものとしては合理
的である。
も洛ちることとなるので、従来性われている焼鈍におけ
る温度条件そのものは歪取シ作業そりものとしては合理
的である。
ところで、このようにして製作した基板Ｖこアルマイト
加工を施し、磁性膜の塗布（スパッタ）。
加工を施し、磁性膜の塗布（スパッタ）。
磁性膜のｒ化史に安すれば、敗北工程（図示していない
）を経て磁気円板を得る場合に、往々にして膜面に亀裂
が生じることがめつ／ζ０このＩＪＪ、ＪＡの兜生原囚
を追死したところ、基板がｒ化工機あゐいは酸化工程に
２いて、ス・ミッタ工程までの温ＩＡｔよシも市い温度
、γ化工機においては３００℃前後ｃｃきらされること
によシ、基板の結晶粒が粗大化し、そのため粕晶間で移
動が生じ。
）を経て磁気円板を得る場合に、往々にして膜面に亀裂
が生じることがめつ／ζ０このＩＪＪ、ＪＡの兜生原囚
を追死したところ、基板がｒ化工機あゐいは酸化工程に
２いて、ス・ミッタ工程までの温ＩＡｔよシも市い温度
、γ化工機においては３００℃前後ｃｃきらされること
によシ、基板の結晶粒が粗大化し、そのため粕晶間で移
動が生じ。
アルマイト族およびスパッタ１良に応力が元生じ膜面に
亀裂が生じることが判明した。
亀裂が生じることが判明した。
この発明はかかる不具合を屏決するためになされたも（
／、）で、アルミ材への加熱温度の上昇ｔＣつれて結晶
粒が１１１大化すめことに漸目し、磁気円板製造プロセ
ス中に加えられる最１５石の温度とＩｔｉＪ等又は。
／、）で、アルミ材への加熱温度の上昇ｔＣつれて結晶
粒が１１１大化すめことに漸目し、磁気円板製造プロセ
ス中に加えられる最１５石の温度とＩｔｉＪ等又は。
それ以上の温度で歪取り焼鈍を行うようにし、歪取シ焼
純以汝での結晶粒の変化をなくシ、その後σ刀戻形成し
７こものに対し結晶粒の動きをｌくし。
純以汝での結晶粒の変化をなくシ、その後σ刀戻形成し
７こものに対し結晶粒の動きをｌくし。
ノ１泉にｔｌ！ｈ’ＪＩ？ｒ：生じさせないようにした
ものでるる。
ものでるる。
〔実〃出１タロｖ）ハ兄明 〕
以上この発明の一天〃Ｉ！１例全図ｔこついて１兄明す
る〇磁気フーイスク円板の装造はアルミ全圧処しアルミ
板として熱処理をして調質する０アルミ板を機械加工を
行い９機械加工により加工歪が生じたものをなくすため
に歪取り焼鈍を行い機械加工による歪を除去する。この
歪取シ焼鈍に必賛な温度をま約２２０℃であシ、この程
度の温度では結晶粒は細かいオリ点がある。従来はこの
ようＶこ処理されていたが、この先例では、佼工程のｒ
化で約３００℃の加温がめシ、′！２だ、酸化工程（図
示していない）のめる場合も約３００℃の加温があるの
で、焼鈍温度をこの温度と同等もしくはそれ以上にする
ことによシ、このプロセスの最高温度の結晶粒としてお
くことで、それ以Ｆの＆１度の上下で結晶粒が変わらな
いことをオリ用したものである。すなわち温度が尚〈な
れはなるたけ結晶粒が太きくなり、その温度以下での温
度の上下では結晶粒が変わらないので、歪取シ焼鈍時ｅ
こ結晶粒ケととのえておくことにより、アルマイト及び
スノζツタ時並びに後のｒ化工機において結晶粒の変化
による歪が発生しないようにしたものである。
る〇磁気フーイスク円板の装造はアルミ全圧処しアルミ
板として熱処理をして調質する０アルミ板を機械加工を
行い９機械加工により加工歪が生じたものをなくすため
に歪取り焼鈍を行い機械加工による歪を除去する。この
歪取シ焼鈍に必賛な温度をま約２２０℃であシ、この程
度の温度では結晶粒は細かいオリ点がある。従来はこの
ようＶこ処理されていたが、この先例では、佼工程のｒ
化で約３００℃の加温がめシ、′！２だ、酸化工程（図
示していない）のめる場合も約３００℃の加温があるの
で、焼鈍温度をこの温度と同等もしくはそれ以上にする
ことによシ、このプロセスの最高温度の結晶粒としてお
くことで、それ以Ｆの＆１度の上下で結晶粒が変わらな
いことをオリ用したものである。すなわち温度が尚〈な
れはなるたけ結晶粒が太きくなり、その温度以下での温
度の上下では結晶粒が変わらないので、歪取シ焼鈍時ｅ
こ結晶粒ケととのえておくことにより、アルマイト及び
スノζツタ時並びに後のｒ化工機において結晶粒の変化
による歪が発生しないようにしたものである。
尚酸化工程（図示せず）又はｒ化工機ではいずれもｚａ
ｕ’ｃ；〜３５０℃が一般的であり、こ（／Ｊ温度より
高いＩ／！度の場曾は艮好な績釆が倚られない。
ｕ’ｃ；〜３５０℃が一般的であり、こ（／Ｊ温度より
高いＩ／！度の場曾は艮好な績釆が倚られない。
なお、ｌた圧蝙後の焼鈍に訃いで、歪取り焼鈍よ、！７
商い１６４度であらかじめカ１５跳しておいても同じ効
果が１；ｔられ勾ことはいうまでもない。
商い１６４度であらかじめカ１５跳しておいても同じ効
果が１；ｔられ勾ことはいうまでもない。
〔９６明り効果〕
このよう（／Ｌ ；ｌうらかじめプロセス中の最高温度
又はそれ以上の温度にして焼鈍することにより、焼鈍時
ｔＣ結晶）ＶかととのえらＩ’Ｌ ／）ので、結晶粒の
変化ｔこよ／Ｓ止づ６生が除去されアルマイト、及び−
画性膜付１′［るスパッタ膜での亀裂が生じる一つの因
子がなくｌ／）。
又はそれ以上の温度にして焼鈍することにより、焼鈍時
ｔＣ結晶）ＶかととのえらＩ’Ｌ ／）ので、結晶粒の
変化ｔこよ／Ｓ止づ６生が除去されアルマイト、及び−
画性膜付１′［るスパッタ膜での亀裂が生じる一つの因
子がなくｌ／）。
以上述べたようｔｃ磁気円板を製作す、６場合、峰性ｊ
俣もしくシよ下地のアルマイトに＠裂τ生じさせること
は信号誤まシを生じることとなジ、その原因の一つでめ
る結晶粒を一定として加工することは倣細な欠陥をなく
する意味で大きな効果が得られゐ。
俣もしくシよ下地のアルマイトに＠裂τ生じさせること
は信号誤まシを生じることとなジ、その原因の一つでめ
る結晶粒を一定として加工することは倣細な欠陥をなく
する意味で大きな効果が得られゐ。
図はこの発明を説明するための磁気円板製作プロセスを
示す図である。 代理人 大岩増雄
示す図である。 代理人 大岩増雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 アルミニュウムを基材とする磁気円板の製造工程
において、歪１４ｙ、シ熱処理温度ｒ、磁気円板製造プ
ロセスにおけな最高ｙＡ展と同等ま／ヒはそれ以上の温
度とず勾こと？ｌ’ｐｍとする磁気ティスフ用円板の熱
処理力法。 ２、 圧タル工程後の焼純でりらかじめ調質後 媛気円
板製造プロセスにおける最高温度と同等またしまてれ以
上の温度と′ノーること全特徴とする磁気ティスフ用円
板の熱処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21899283A JPS60110852A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 磁気ディスク用円板の熱処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21899283A JPS60110852A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 磁気ディスク用円板の熱処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60110852A true JPS60110852A (ja) | 1985-06-17 |
Family
ID=16728568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21899283A Pending JPS60110852A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | 磁気ディスク用円板の熱処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60110852A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02121118A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用Ａｌ合金鏡面基板の製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747853A (en) * | 1980-09-05 | 1982-03-18 | Kobe Steel Ltd | Manufacture of al alloy plate for magnetic disk |
| JPS57185961A (en) * | 1981-05-11 | 1982-11-16 | Kobe Steel Ltd | Production of al-based alloy plate for magnetic disc substrate |
| JPS5816059A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-29 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク基盤用Ａｌ基合金板の製造法 |
| JPS59110796A (ja) * | 1982-12-16 | 1984-06-26 | Nec Corp | 磁気デイスク基板の製造方法 |
-
1983
- 1983-11-21 JP JP21899283A patent/JPS60110852A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747853A (en) * | 1980-09-05 | 1982-03-18 | Kobe Steel Ltd | Manufacture of al alloy plate for magnetic disk |
| JPS57185961A (en) * | 1981-05-11 | 1982-11-16 | Kobe Steel Ltd | Production of al-based alloy plate for magnetic disc substrate |
| JPS5816059A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-29 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク基盤用Ａｌ基合金板の製造法 |
| JPS59110796A (ja) * | 1982-12-16 | 1984-06-26 | Nec Corp | 磁気デイスク基板の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02121118A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用Ａｌ合金鏡面基板の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4659606A (en) | Substrate members for recording disks and process for producing same | |
| US4690846A (en) | Recording disk substrate members and process for producing same | |
| JPS62120629A (ja) | 磁気ディスク及びその製造方法 | |
| JPS58176802A (ja) | 強誘電体基板の製造方法 | |
| JPS59180832A (ja) | 磁気記録材用アルマイト基板 | |
| JPS60110852A (ja) | 磁気ディスク用円板の熱処理方法 | |
| JPH01225739A (ja) | 磁気ディスク基板用アルミニウム合金 | |
| JPH0210215B2 (ja) | ||
| US5126179A (en) | Disk substrate for magnetic disk | |
| JPS63319143A (ja) | 磁気ディスク基板用アルミニウム合金合わせ材 | |
| JPH02185365A (ja) | アルミニウム合金平板基盤の研磨方法 | |
| JPH01298134A (ja) | 砥石による研削性及びメッキ性に優れたディスク用アルミニウム合金板及びその製造方法 | |
| EP0402913A2 (en) | Magnetic disk substrate and method of manufacturing the same | |
| JPH06287724A (ja) | アルミニウム合金基盤の歪み取り焼鈍方法とスペーサ | |
| JPH10273749A (ja) | 磁気ディスク基盤用アルミニウム合金板及びその製造方法 | |
| JPH06145928A (ja) | アルミニウム合金基盤の歪み取り焼鈍方法 | |
| JPS62278261A (ja) | スパツタ用タ−ゲツトの製造方法 | |
| JPS6362853A (ja) | 磁気デイスクサブストレ−ト用素材の製造方法 | |
| JPH0639664B2 (ja) | レーザー鏡用アルミニウム合金素材の製造法 | |
| JPH0394035A (ja) | 磁気ディスク基板及びその製造方法 | |
| JPH02207903A (ja) | チタン合金の圧延方法 | |
| JPH04311815A (ja) | チタン製磁気ディスク基板の製造方法 | |
| JP2002194470A (ja) | アルミニウム合金ディスク基板 | |
| JPS62101008A (ja) | 磁性部材 | |
| JPS59110796A (ja) | 磁気デイスク基板の製造方法 |