JPH08194943A - 磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造装置Info
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- JPH08194943A JPH08194943A JP334295A JP334295A JPH08194943A JP H08194943 A JPH08194943 A JP H08194943A JP 334295 A JP334295 A JP 334295A JP 334295 A JP334295 A JP 334295A JP H08194943 A JPH08194943 A JP H08194943A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 1回の走行で多層の磁性層が得られ、簡単な
構造を有しかつ小型の磁気記録媒体製造装置を提供する
こと。 【構成】 本装置は、真空容器と、その内の走行装置
と、蒸発源と、蒸発源の内の磁性材料に電子ビームを照
射する電子ビーム発生装置とを含む磁気記録媒体の製造
装置において、前記製造装置は、最大入射角を規定する
第1の遮蔽板と、最小入射角を規定する第2の遮蔽板
と、第1及び第2の遮蔽板間に配設される少なくとも1
つの防着板を含むことを特徴とする。
構造を有しかつ小型の磁気記録媒体製造装置を提供する
こと。 【構成】 本装置は、真空容器と、その内の走行装置
と、蒸発源と、蒸発源の内の磁性材料に電子ビームを照
射する電子ビーム発生装置とを含む磁気記録媒体の製造
装置において、前記製造装置は、最大入射角を規定する
第1の遮蔽板と、最小入射角を規定する第2の遮蔽板
と、第1及び第2の遮蔽板間に配設される少なくとも1
つの防着板を含むことを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性材料の蒸気を蒸着
して磁性層を形成する蒸着型の磁気記録媒体を製造する
装置に関し、特に多層の磁性層を形成することができる
ものに関する。
して磁性層を形成する蒸着型の磁気記録媒体を製造する
装置に関し、特に多層の磁性層を形成することができる
ものに関する。
【0002】
【従来の技術】蒸着型磁気記録媒体の製造装置の一例と
して、真空容器と、この真空容器内に配設され一連の被
蒸着材を走行させる走行装置と、被蒸着材の下方に配設
され磁性材料を収容する蒸発源と、この蒸発源の磁性材
料に電子ビームを照射するための電子ビーム発生装置と
を含むものがある。そして、蒸発源の磁性材料に電子ビ
ームを照射しこれにより磁性材料は電子ビームの照射を
受けて溶融し、蒸発を続け、その蒸気を被蒸着材に蒸着
していた。
して、真空容器と、この真空容器内に配設され一連の被
蒸着材を走行させる走行装置と、被蒸着材の下方に配設
され磁性材料を収容する蒸発源と、この蒸発源の磁性材
料に電子ビームを照射するための電子ビーム発生装置と
を含むものがある。そして、蒸発源の磁性材料に電子ビ
ームを照射しこれにより磁性材料は電子ビームの照射を
受けて溶融し、蒸発を続け、その蒸気を被蒸着材に蒸着
していた。
【0003】上記従来の製造装置においては、1回の走
行で単層の磁性層が形成される。
行で単層の磁性層が形成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の製造装置を
用いて、多層の磁性層を得ようとする場合、磁性層の積
層数だけ走行・蒸着を繰り返さなければならない。これ
は時間がかかりまた面倒である。
用いて、多層の磁性層を得ようとする場合、磁性層の積
層数だけ走行・蒸着を繰り返さなければならない。これ
は時間がかかりまた面倒である。
【0005】1回の走行で多層の磁性層を得られるよう
にした磁気記録媒体の製造装置が提案されている。この
製造装置は、真空容器内に、所望する積層分の冷却キャ
ン(走行装置)と蒸発源を配設している。そのために、
装置が大型化しまた複雑になるなどの問題がある。
にした磁気記録媒体の製造装置が提案されている。この
製造装置は、真空容器内に、所望する積層分の冷却キャ
ン(走行装置)と蒸発源を配設している。そのために、
装置が大型化しまた複雑になるなどの問題がある。
【0006】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、1回の走行
で多層の磁性層が得られ、簡単な構造を有しかつ小型の
磁気記録媒体製造装置を提供しようとするものである。
れたものであり、その目的とするところは、1回の走行
で多層の磁性層が得られ、簡単な構造を有しかつ小型の
磁気記録媒体製造装置を提供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造装置は、真空容器と、該真空容器内に配設され一連
の被蒸着材を走行させる走行装置と、被蒸着材の下方に
配設され磁性材料を収容する蒸発源と、該蒸発源の磁性
材料に電子ビームを照射するための電子ビーム発生装置
とを含む磁気記録媒体の製造装置において、前記製造装
置は、最大入射角を規定する第1の遮蔽板と、最小入射
角を規定する第2の遮蔽板と、第1及び第2の遮蔽板間
に配設される少なくとも1つの防着板を含むことを特徴
とする。
製造装置は、真空容器と、該真空容器内に配設され一連
の被蒸着材を走行させる走行装置と、被蒸着材の下方に
配設され磁性材料を収容する蒸発源と、該蒸発源の磁性
材料に電子ビームを照射するための電子ビーム発生装置
とを含む磁気記録媒体の製造装置において、前記製造装
置は、最大入射角を規定する第1の遮蔽板と、最小入射
角を規定する第2の遮蔽板と、第1及び第2の遮蔽板間
に配設される少なくとも1つの防着板を含むことを特徴
とする。
【0008】遮蔽板は、被蒸着材に対する磁性材料蒸気
の入射角(θ)を規定する(図2)。入射角が小さくな
るほど、柱状に成長した結晶粒(コラム)の成長方向は
被蒸着材に対して垂直に近くなる。この入射角は磁気特
性、特に保磁力に関係し、入射角を大きくすると、蒸着
膜の保磁力は大きくなる。遮蔽板の位置を変えることに
より、入射角の大きさを変えることができる。
の入射角(θ)を規定する(図2)。入射角が小さくな
るほど、柱状に成長した結晶粒(コラム)の成長方向は
被蒸着材に対して垂直に近くなる。この入射角は磁気特
性、特に保磁力に関係し、入射角を大きくすると、蒸着
膜の保磁力は大きくなる。遮蔽板の位置を変えることに
より、入射角の大きさを変えることができる。
【0009】本製造装置において、第1の遮蔽板は最大
入射角を規定する。また、第2の遮蔽板は最小入射角を
規定する。これら第1及び第2の遮蔽板間に、少なくと
も1つの防着板が配設される。
入射角を規定する。また、第2の遮蔽板は最小入射角を
規定する。これら第1及び第2の遮蔽板間に、少なくと
も1つの防着板が配設される。
【0010】防着板は、所望する積層の数に応じて、増
減が可能である。例えば、2層の磁性層を望むときは、
防着板は1つ、3層のときは2つ必要となる。
減が可能である。例えば、2層の磁性層を望むときは、
防着板は1つ、3層のときは2つ必要となる。
【0011】防着板の幅、位置などを変えることによ
り、各層のコラム形状、膜厚などを制御することができ
る。このため、磁気記録に適した磁気記録媒体の製造が
可能である。
り、各層のコラム形状、膜厚などを制御することができ
る。このため、磁気記録に適した磁気記録媒体の製造が
可能である。
【0012】(作用)1つの防着板を配設した本装置に
おいて、被蒸着材が走行し、第1の遮蔽板と防着板間を
被蒸着材が通過する間に、被蒸着材上に第1の磁性層が
形成される。更に、防着板と第2の遮蔽板間を被蒸着材
が通過する間に、前記第1の磁性層上に第2の磁性層が
形成される。第2の磁性層のコラム状態は、第1の磁性
層のそれに比べ、被蒸着材に対しより垂直になってい
る。
おいて、被蒸着材が走行し、第1の遮蔽板と防着板間を
被蒸着材が通過する間に、被蒸着材上に第1の磁性層が
形成される。更に、防着板と第2の遮蔽板間を被蒸着材
が通過する間に、前記第1の磁性層上に第2の磁性層が
形成される。第2の磁性層のコラム状態は、第1の磁性
層のそれに比べ、被蒸着材に対しより垂直になってい
る。
【0013】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づき説明
する。
する。
【0014】図1は、本発明による磁気記録媒体の製造
装置の構成図である。本装置は、真空容器1と、走行装
置2と、蒸発源、すなわちルツボ3と、そして電子ビー
ム発生装置4とを含んでいる。真空容器1は、その排出
口39が図示しない真空ポンプに接続され、この真空容
器内に一連の被蒸着材、すなわち合成樹脂製テープ5を
走行させる走行装置2が配設されている。走行装置2
は、送りロール6と、巻取りロール7と、そして冷却キ
ャン8からなっている。
装置の構成図である。本装置は、真空容器1と、走行装
置2と、蒸発源、すなわちルツボ3と、そして電子ビー
ム発生装置4とを含んでいる。真空容器1は、その排出
口39が図示しない真空ポンプに接続され、この真空容
器内に一連の被蒸着材、すなわち合成樹脂製テープ5を
走行させる走行装置2が配設されている。走行装置2
は、送りロール6と、巻取りロール7と、そして冷却キ
ャン8からなっている。
【0015】ルツボ3は、冷却キャン8の下方に配設さ
れている。このルツボ3は、MgOより構成され170
0℃〜2000℃の高温に耐えられるようになってい
る。またこのルツボ3は、その内に磁性金属10を収容
している。
れている。このルツボ3は、MgOより構成され170
0℃〜2000℃の高温に耐えられるようになってい
る。またこのルツボ3は、その内に磁性金属10を収容
している。
【0016】本装置は、図2に要部拡大図で示すよう
に、第1の遮蔽板13と、第2の遮蔽板14と、これら
遮蔽板間の防着板15を含んでいる。第1の遮蔽板13
は、テープ5の走行方向に関し、一番上流側に配設さ
れ、最大入射角θ1を規定している。ここで入射角と
は、テープ5の法線と蒸気流16とでなす角度をいう。
また、第2の遮蔽板14は、一番下流側に配設され、最
小入射角θ2を規定している。防着板15は、これら第
1の遮蔽板13と第2の遮蔽板14間に配設されてい
る。防着板15と第1の遮蔽板13間に、第1の磁性層
(下層)を成膜するための第1蒸着領域17が形成さ
れ、また防着板15と第2の遮蔽板14間に、第1の磁
性層の上に第2の磁性層(上層)を成膜するための第2
蒸着領域18が形成されている。
に、第1の遮蔽板13と、第2の遮蔽板14と、これら
遮蔽板間の防着板15を含んでいる。第1の遮蔽板13
は、テープ5の走行方向に関し、一番上流側に配設さ
れ、最大入射角θ1を規定している。ここで入射角と
は、テープ5の法線と蒸気流16とでなす角度をいう。
また、第2の遮蔽板14は、一番下流側に配設され、最
小入射角θ2を規定している。防着板15は、これら第
1の遮蔽板13と第2の遮蔽板14間に配設されてい
る。防着板15と第1の遮蔽板13間に、第1の磁性層
(下層)を成膜するための第1蒸着領域17が形成さ
れ、また防着板15と第2の遮蔽板14間に、第1の磁
性層の上に第2の磁性層(上層)を成膜するための第2
蒸着領域18が形成されている。
【0017】冷却キャン8と第2の遮蔽板14間に酸素
ガス供給管19が配設されている。この酸素ガス供給管
19は、磁性層の上に酸化層を形成するべく、その先端
が第2蒸着領域18の終端近傍に位置している。
ガス供給管19が配設されている。この酸素ガス供給管
19は、磁性層の上に酸化層を形成するべく、その先端
が第2蒸着領域18の終端近傍に位置している。
【0018】このように構成された本発明装置におい
て、電子銃12により電子ビームを磁性金属10に向け
照射した場合、磁性金属10は電子ビームの照射を受け
て溶融し、蒸発を続ける。送りロール6より送り出され
て第1蒸着領域17内に入ったテープ5は、磁性金属蒸
気の蒸着を受けながら冷却キャン上を円周方向に回転
し、その間に第1の磁性層がテープ上に形成され、その
後再び第2蒸着領域18内に入ったテープ5は、第1の
磁性層の上にコラム状態がより垂直の第2の磁性層が形
成される。第2蒸着領域18の終端において、酸素ガス
供給管19より酸素が供給され、この酸素ガスは磁性層
の蒸着粒子と結合して磁性層の上に保護層として酸化層
を形成する。酸化層が形成されたテープ5は、巻取りロ
ール7により巻取られる。
て、電子銃12により電子ビームを磁性金属10に向け
照射した場合、磁性金属10は電子ビームの照射を受け
て溶融し、蒸発を続ける。送りロール6より送り出され
て第1蒸着領域17内に入ったテープ5は、磁性金属蒸
気の蒸着を受けながら冷却キャン上を円周方向に回転
し、その間に第1の磁性層がテープ上に形成され、その
後再び第2蒸着領域18内に入ったテープ5は、第1の
磁性層の上にコラム状態がより垂直の第2の磁性層が形
成される。第2蒸着領域18の終端において、酸素ガス
供給管19より酸素が供給され、この酸素ガスは磁性層
の蒸着粒子と結合して磁性層の上に保護層として酸化層
を形成する。酸化層が形成されたテープ5は、巻取りロ
ール7により巻取られる。
【0019】(実施例)図2に示す装置を用いて、PE
T(ポリエチレンテレフタレート)フイルム上に磁性層
を形成した。その成膜の出力測定の結果を表1に示す。
比較のために、従来の単層のものを基準0dBとして表
示してある。
T(ポリエチレンテレフタレート)フイルム上に磁性層
を形成した。その成膜の出力測定の結果を表1に示す。
比較のために、従来の単層のものを基準0dBとして表
示してある。
【0020】
【表1】
【0021】表2は、2層の磁性層厚みを本装置により
形成した場合と、従来の方法である2回走行により形成
した場合とで比較して示す。
形成した場合と、従来の方法である2回走行により形成
した場合とで比較して示す。
【0022】
【表2】
【0023】表1より、本装置により形成される多層の
(本例では2層)磁性層は、従来の単層構造のものに比
べ、出力特性に優れていることがわかる。
(本例では2層)磁性層は、従来の単層構造のものに比
べ、出力特性に優れていることがわかる。
【0024】また表2より、走行速度を同じにしても、
成膜の厚さに関し、従来の2回走行とほとんどかわらな
い厚さを得ることができることがわかる。
成膜の厚さに関し、従来の2回走行とほとんどかわらな
い厚さを得ることができることがわかる。
【0025】図3は、4層構造の磁性層を得るための防
着板の配置例を示す。この場合、テープ5と防着板1
5′との距離Dが、酸素ガス供給管19を離れるに従っ
て、D1>D2>D3のようになっている。これにより、
各磁性層へ酸素ガスの円滑な供給が果たせる。酸素ガス
導入量は、下層にいくに従って減少する。
着板の配置例を示す。この場合、テープ5と防着板1
5′との距離Dが、酸素ガス供給管19を離れるに従っ
て、D1>D2>D3のようになっている。これにより、
各磁性層へ酸素ガスの円滑な供給が果たせる。酸素ガス
導入量は、下層にいくに従って減少する。
【0026】図4を参照して、防着板21と被蒸着材2
0間の距離D、防着板21の傾きθ、長さl、及び位置
を調整することにより、例えば図5に示すように、磁性
層厚、酸化層厚、コラム形状などを磁気記録に適するよ
うに成膜することができる。
0間の距離D、防着板21の傾きθ、長さl、及び位置
を調整することにより、例えば図5に示すように、磁性
層厚、酸化層厚、コラム形状などを磁気記録に適するよ
うに成膜することができる。
【0027】図5において、酸化表層22の厚さは10
オングストローム、磁性層(上層)23の厚さは600
オングストローム、酸化層24の厚さは20オングスト
ローム、磁性層(中層)25の厚さは600オングスト
ローム、酸化層26の厚さは酸化層24より厚く50オ
ングストローム、そして磁性層(下層)27の厚さは1
000オングストロームである。
オングストローム、磁性層(上層)23の厚さは600
オングストローム、酸化層24の厚さは20オングスト
ローム、磁性層(中層)25の厚さは600オングスト
ローム、酸化層26の厚さは酸化層24より厚く50オ
ングストローム、そして磁性層(下層)27の厚さは1
000オングストロームである。
【0028】
【発明の効果】本発明の製造装置によれば、1回の走行
で多層の磁性層を形成することができる。従って、本発
明の装置によれば、磁性層の積層数だけ走行・蒸着を繰
り返さすといった時間のかかるかつ面倒な作業を廃止す
ることができる。
で多層の磁性層を形成することができる。従って、本発
明の装置によれば、磁性層の積層数だけ走行・蒸着を繰
り返さすといった時間のかかるかつ面倒な作業を廃止す
ることができる。
【0029】また、本発明の装置は、構造が簡単であ
り、単一の走行装置及び蒸発源を有するものであるか
ら、装置の大型化・複雑化を招くこともない。
り、単一の走行装置及び蒸発源を有するものであるか
ら、装置の大型化・複雑化を招くこともない。
【0030】本発明の製造装置によれば、下層は傾斜の
緩やかなコラム状磁性層が形成され、上層は垂直に近い
コラム状磁性層が形成されるから、磁気記録に適したか
つ高出力の磁気記録媒体が得られる。
緩やかなコラム状磁性層が形成され、上層は垂直に近い
コラム状磁性層が形成されるから、磁気記録に適したか
つ高出力の磁気記録媒体が得られる。
【0031】本装置によれば、蒸着領域を任意に分ける
ことができる。本装置では、下層ほど酸素導入量が少な
く、材料の持つ高飽和磁束密度(Bs)を保てるため
に、低域の記録・再生に有利である。反対に、上層ほど
酸素導入量が多く、高保磁力(Hc)化、硬質化できる
ため、コラム構造とともに高域記録・再生および高耐久
化が図れるため、磁気記録・再生に適した磁気記録媒体
を製作することができる。
ことができる。本装置では、下層ほど酸素導入量が少な
く、材料の持つ高飽和磁束密度(Bs)を保てるため
に、低域の記録・再生に有利である。反対に、上層ほど
酸素導入量が多く、高保磁力(Hc)化、硬質化できる
ため、コラム構造とともに高域記録・再生および高耐久
化が図れるため、磁気記録・再生に適した磁気記録媒体
を製作することができる。
【0032】更に、被蒸着材と防着板との距離を変える
ことにより、層間の酸化層厚をコントロールできる。
ことにより、層間の酸化層厚をコントロールできる。
【図1】本発明による磁気記録媒体の製造装置の構成
図。
図。
【図2】同製造装置の要部拡大図。
【図3】4層構造の磁性層を得るための防着板の配置例
を示す概略図。
を示す概略図。
【図4】防着板と被蒸着材間の距離、位置関係などを示
す図。
す図。
【図5】3層構造の磁性層を有する被蒸着材の断面図。
1 真空容器 2 走行装置 3 ルツボ 4 電子ビーム発生装置 5 テープ(被蒸着材) 8 冷却キャン 10 磁性金属 13 第1の遮蔽板 14 第2の遮蔽板 15 防着板 16 蒸気流 17 第1蒸着領域 18 第2蒸着領域 19 酸素ガス供給管
フロントページの続き (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内 (72)発明者 松尾 祐三 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内 (72)発明者 若林 繁美 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】 真空容器と、該真空容器内に配設され一
連の被蒸着材を走行させる走行装置と、被蒸着材の下方
に配設され磁性材料を収容する蒸発源と、該蒸発源の磁
性材料に電子ビームを照射するための電子ビーム発生装
置とを含む磁気記録媒体の製造装置において、 前記製造装置は、最大入射角を規定する第1の遮蔽板
と、最小入射角を規定する第2の遮蔽板と、第1及び第
2の遮蔽板間に配設される少なくとも1つの防着板を含
むことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP334295A JPH08194943A (ja) | 1995-01-12 | 1995-01-12 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP334295A JPH08194943A (ja) | 1995-01-12 | 1995-01-12 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08194943A true JPH08194943A (ja) | 1996-07-30 |
Family
ID=11554693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP334295A Pending JPH08194943A (ja) | 1995-01-12 | 1995-01-12 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08194943A (ja) |
-
1995
- 1995-01-12 JP JP334295A patent/JPH08194943A/ja active Pending
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