JPH0822117A - 感光性平版印刷版の処理方法及び装置並びに清浄方法 - Google Patents

感光性平版印刷版の処理方法及び装置並びに清浄方法

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JPH0822117A
JPH0822117A JP17591494A JP17591494A JPH0822117A JP H0822117 A JPH0822117 A JP H0822117A JP 17591494 A JP17591494 A JP 17591494A JP 17591494 A JP17591494 A JP 17591494A JP H0822117 A JPH0822117 A JP H0822117A
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JP
Japan
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processing
post
printing plate
treatment
liquid
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Application number
JP17591494A
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English (en)
Inventor
Yoko Hirai
葉子 平井
Hideyuki Nakai
英之 中井
Ryoji Hattori
良司 服部
Akio Kasakura
暁夫 笠倉
Kenji Kaneda
健志 金田
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Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は感光性平版印刷板を搬送しながら処理
液を供給し、現像・水洗・フィニッシャー処理などを行
う処理方法及び装置並びに該装置の清浄方法において、
特に、処理槽に黴が発生することを防止する技術に関す
る。 【構成】本発明は、現像処理を行った後処理として版上
のアルカリ成分を中和する水洗・リンス液・ガム液など
の後処理液による工程を持つ感光性平版印刷版の処理方
法において、後処理液のpHを2〜11に保ち、且つ後
処理液に少なくとも過酸化水素とポリアルキレンオキサ
イド鎖(PAO鎖)を持つ化合物とを含む清浄剤を投入
しながら処理を行うことを特徴とする感光性平版印刷版
の処理方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性平版印刷板(以
下、印刷版と略称することもある)を搬送しながら処理
液を供給し、現像・水洗・フィニッシャー処理などを行
う処理方法及び装置並びに該装置の清浄方法に関し、特
に、処理槽に黴が発生することを防止する処理方法及び
装置並びに該装置の清浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術】特開昭64−50053号、特開平2−
3068号、同5−341534号公報には、リンス液
やガム液などによるフィニッシャー処理工程における処
理液のpHを調整して、現像処理工程から持ち込まれた
成分によってフィニッシャー部に不溶分が生成するのを
防止する技術が開示されている。但し、これらの公報に
は防黴に関しての記載はない。
【0003】特開平4−276745号公報には、水洗
水の再生浄化に関して本発明で利用される清浄剤が記載
されているが、この技術はハロゲン化銀写真感光材料を
現像処理する自動現像機における定着液成分の分解を目
的とするものであり、フィニッシャー処理槽での黴発生
を防止する技術ではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】印刷版はアルカリ性の
現像液で現像が行われた後、通常、水洗・リンス・ガム
などの後処理工程が行われ、現像液によるアルカリが中
和される。そこで、後処理液は現像液のアルカリを中和
する機能を十分に持続させる必要があり、後処理液のp
Hを制御する方法が種々考えられてきた。これら努力の
結果、pHの上昇をおさえ後処理液の寿命を延長するこ
とが可能となった。
【0005】然しながら一方で、従来と異なり、あまり
pHが高くない後処理液を長時間にわたり槽内に貯留す
るようになったため、また近接する装置の発熱があり槽
内が低温になることが少ないため、後処理槽内に黴や微
生物が発生するという新たな問題が生じるに至った。槽
内に黴が発生すると、槽壁に付着した黴を除去する洗浄
に手間がかかるだけでなく、液中に浮遊した黴が版面に
付着し、印刷汚れの発生につながり大きな問題となる。
【0006】一般に、黴を除去する手段として次亜鉛素
酸系の薬品を使用することが知られているが、酸性の後
処理液と混合すると塩素ガスが発生し非常に危険であ
る。また、その他の薬品でも防黴剤として利用しようと
すると製版性能への影響と防黴効果とが両立せず実用に
むかなかった。更に、メンテナンスの方面を考慮する
と、従来の薬品では槽壁に付着した黴を溶かす効果が小
さくメンテナンスの容易化にはつながらなかった。
【0007】上記から明らかなように、本発明は製版性
能に悪影響を及ぼすことなく、また有害な成分を発生す
ることがなく安全に黴の発生を防止することが可能であ
り、メンテナンスも容易である改善された印刷版の処理
方法及び装置並びに該装置の清浄方法を明らかにするこ
とを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に係る印刷版の処
理方法は、現像処理を行った後処理として版上のアル
カリ成分を中和する水洗・リンス液・ガム液などの後処
理液による工程を持つ感光性平版印刷版の処理方法にお
いて、後処理液のpHを2〜11に保ち、且つ後処理液
に少なくとも過酸化水素とポリアルキレンオキサイド鎖
(PAO鎖)を持つ化合物とを含む清浄剤を投入しなが
ら処理を行うことを特徴とする。また、本発明に係る印
刷版の処理装置は、現像処理を行った後処理として版
上のアルカリ成分を中和する水洗・リンス液・ガム液な
どの後処理液による処理部を持つ感光性平版印刷版の処
理装置において、後処理液のpHを2〜11に保ち、且
つ後処理液に少なくとも過酸化水素とポリアルキレンオ
キサイド鎖(PAO鎖)を持つ化合物とを含む清浄剤を
投入する機構を有することを特徴とする。更に、本発明
に係る印刷版の処理装置の清浄方法は、現像処理を行
った後処理として版上のアルカリ成分を中和する水洗・
リンス液・ガム液などの後処理液による処理部を持ち、
且つ後処理液のpHを2〜11に保つ手段を持つ平版印
刷版の処理装置の清浄方法において、後処理液による処
理部の清浄化に少なくとも過酸化水素とポリアルキレン
オキサイド鎖(PAO鎖)を持つ化合物とを含む清浄剤
を投入して行うことを特徴とする。
【0009】
【発明の具体的構成】次に、本発明の具体的な構成を詳
細に説明するが、これに先立ち、本発明が適用される印
刷版の処理装置の1例を図1に従って概略説明する。図
1に示す処理装置は、処理しようとする印刷版を挿入す
る挿入部A、現像処理を行う現像部B、水洗処理を行う
水洗部C、リンス処理及び/又はガム処理を行うフィニ
ッシャー部D、及び乾燥部Eで構成されており、挿入さ
れた印刷版の面積、搬送系の駆動状態、処理液の量や供
給状態などを検出する各種のセンサー、センサーの検出
情報に従って作動を制御する機構を含んでいる。
【0010】図において、符号PSは印刷版ないしその
搬送路を示している。挿入部Aには、印刷版PSの装置
への挿入を案内する挿入台1、挿入される印刷版PSを
反射光で検出する光学センサー2、挿入された印刷版P
Sを一対のローラによりニップして取り込み、装置内に
搬入するニップ搬送ローラ3Aなどが備えられている。
【0011】光学センサー2は、挿入される印刷版PS
の面積を検出するもので、その検出情報で各種の機構の
作動が自動制御される。例えば、印刷版PSの挿入方向
に直角で等間隔に多数の光学センサー2を配置しておく
ことで、反射光により印刷版PSの幅を検出し、この検
出情報と搬送スピードとの演算で挿入された印刷版PS
の面積を算出することができ、この算出情報によって補
充用の処理液やリンス液の供給を制御することができ
る。尚、挿入された印刷版PSの総面積に関係なく、単
位時間当たり一定量の補充液を補充する態様も本発明が
適用される自動現像機に実施可能である。
【0012】ニップ搬送ローラ3Aによって現像部Bに
送り込まれた印刷版PSは、搬送ローラ4、ニップ搬送
ローラ3B・3Cなどにより案内されて、現像処理液が
溜められている処理槽5中を若干湾曲した状態で搬送さ
れ、その搬送の途中で浸漬処理される。処理槽5内に
は、現像処理の促進・安定化を目的として処理液吐出ノ
ズル6A・6B(マグネットポンプ7により循環される
処理液が利用される)、印刷版PSの表面を擦るための
ブラシローラ8・押えローラ9、現像処理液の温度を所
定の温度範囲に維持するためのヒータ10が配置されて
いる。
【0013】符号11〜13は、それぞれベローズポン
プであり、ベローズポンプ11は、オーバーフローした
処理液を処理槽5に戻すために、ベローズポンプ12
は、補充液タンク14に用意されている濃縮補充液を処
理槽5に供給するために、ベローズポンプ13は、タン
ク15に用意されている希釈水を処理槽5に供給するた
めにそれぞれ利用される。尚、符号16は、後述するフ
ィニッシャー部(リンス部)Dで利用される濃縮リンス
補充液のタンクであり、17は現像処理液の廃液タンク
である。
【0014】水洗部Cでは、水洗水槽20に用意されて
いる水洗水をマグネットポンプ21により供給し、水洗
水を吐出させるノズル22・23を介してニップ搬送ロ
ーラ3E・3F間にある印刷版PSの版面に吐出させる
ことによって水洗処理が行われる。
【0015】フィニッシャー部(リンス部)Dでは、リ
ンス液槽30に用意されているリンス液をマグネットポ
ンプ31により供給し、リンス液吐出ノズル32・33
を介してニップ搬送ローラ3G・3H間にある印刷版P
Sの版面に吐出させることによってリンス処理が行われ
る。
【0016】前述したように、濃縮リンス補充液がタン
ク16に用意されており、ベローズポンプ34によりリ
ンス液槽30に供給され、タンク15に用意されており
ベローズポンプ35により供給される希釈水により混合
・希釈される。尚、濃縮リンス補充液と希釈水とを混合
・希釈したものをリンス液槽30に供給する態様も本発
明が適用される装置に包含される。
【0017】乾燥部Eでは、ニップ搬送ローラ3Iによ
り搬出される途中の印刷版PSの版面にノズル40・4
1から噴出される加熱乾燥空気を版面に吹き付けること
によって乾燥処理が行われ、現像処理の全工程が完了と
なる。以上説明した装置は、本発明が適用可能である装
置の1例を示すものであり、本発明による効果を減殺し
ない範囲で、挿入部Aから乾燥部Eに至るまでの各機構
の設計変更が可能である。
【0018】次に、清浄剤の投入機構を説明する。挿入
部Aの光学センサー2により検出された印刷版PSの挿
入情報に従って制御回路から発せられた制御信号により
電磁バルブ50が所定時間開かれ、※3を通じて水道水
が導入され、ノズルから印刷版PSの版面側に供給され
水洗が行われる。この水洗水は水洗槽20に回収され
る。
【0019】水洗水の供給量は流量センサー51により
計量され、供給量が所定の数値に至ると信号を出し、こ
の信号により制御部が作動してベローズポンプ52が駆
動され、清浄剤タンク53に用意されている清浄剤が予
め定められた量だけ水洗槽20内に投入される。清浄剤
タンク53が水洗槽20より高い位置に配置されている
装置では、ベローズポンプ52に代えて電磁バルブとし
てもよい。
【0020】上記の態様では、清浄剤の投入時期並びに
投入量は、印刷版PSの処理量に比例しているが、直接
的には、流量センサー51による水洗水の供給量を検出
することによりベローズポンプ52の駆動を制御する方
法が採用されている。然しながら、この構成は、挿入部
Aによる印刷版PSの挿入情報により積算してベローズ
ポンプ52を直接的に駆動制御する構成に代えることが
でき、更に、単に装置の駆動時間を積算することにより
制御する構成とすることもできる。
【0021】図示の態様では、清浄剤は水洗槽20にだ
け供給されるが、リンス液槽30にも同様の清浄剤供給
手段を配置する態様も好ましい。このような態様では、
水洗槽20から清浄剤の持ち込みがあるので、リンス液
槽30への清浄剤の供給量は水洗槽20への供給量より
少量でよい。ガム処理槽が設けられている態様の装置で
も同様である。
【0022】本発明において後処理液の清浄剤として利
用されるのは、酸化剤、保恒剤、ポリアルキレンオキサ
イド鎖(PAO鎖)を有する化合物及び防黴剤を含有さ
せたものである。
【0023】酸化剤としては、金属または非金属の酸化
剤、酸素酸又はその塩、過酸化物、有機の酸系を含む化
合物などが挙げられ、酸素酸としては硫酸、亜硝酸、硝
酸、次亜鉛素酸などが好ましく、過酸化物としては過酸
化水素水、フェントン酸薬などが好ましい。また、オゾ
ンも好ましく用いられる。これらの酸化剤は、上記した
清浄剤の供給手段により、水により希釈されて一定量づ
つ後処理工程の処理液に供給されるが、供給量は印刷版
の種類、処理量、処理液の種類などにより適宜選択され
る。
【0024】保恒剤は酸化剤の安定剤として用いられる
ものであり、例えば、燐酸、バルビツール酸、尿素、ア
セトアニリド、オキシキノリン、ピロリン酸四ナトリウ
ム、フェナセチン、サリチル酸、ジビコリン酸、キノリ
ン酸、ピリジンカルボン酸、エチレンジアミンテトラ酢
酸(EDTA)、エチレンジアミン四(メチレンフォス
フォン酸)などが挙げられる。上記した保恒剤の使用量
は、例えば、過酸化水素重量の10−7倍〜1倍、好ま
しくは10−5〜0.5倍である。
【0025】本発明に使用するポリアルキレンオキサイ
ド鎖を有する化合物としては、特開平4−276745
号公報の段落番号〔0030〕及び〔0031〕に挙げ
られた1)〜14)の化合物を好ましく用いることがで
きる。上記したポリアルキレンオキサイド鎖を有する化
合物の添加量は、水洗水に対し1ppm〜1000pp
m、より好ましくは1リットル中に10mg〜100m
gであり、清浄剤として含有する場合には清浄剤100
重量部当たり0.01〜10重量部、より好ましくは
0.1〜5重量部である。
【0026】また、本発明において使用される防黴剤
は、製版性能に悪影響を及ぼさないものであれば何でも
よいが、具体的にはチアゾリルベンズイミダゾール系化
合物、イソチアゾロン系化合物、クロロフェノール系化
合物、ブロモフェノール系化合物、チオシアン酸やイソ
チアン酸系化合物、酸アジド系化合物、ダイアジンやト
リアジン系化合物、チオ尿素系化合物、アルキルグアニ
ジン化合物、4級アンモニウム塩、有機スズや有機亜鉛
化合物、シクロヘキシルフェノール系化合物、イミダゾ
ール及びベンズイミダゾール系化合物、スルファミド系
化合物、塩素化イソシアヌル酸ナトリウムなどの活性ハ
ロゲン系化合物、キレート剤、亜硫酸化合物、ペニシリ
ンに代表される抗生物質など種々の防バクテリア剤や防
黴剤などがある。その他L.E.West,”Wate
r Quality Criteria”Phot.S
ci.and Eng.,Vol9 No.6(196
5)記載の殺菌剤、特開昭57−8542号、同58−
105145号、同59−126533号、同55−1
11942号、同57−157244号公報記載の各種
防黴剤、「防菌防黴の化学」堀口博著・三共出版(昭5
7)、「防菌防黴技術ハンドブック」日本防菌防黴学会
・技報堂(昭61)に記載されているような化学物など
を用いることができ、以下に具体例を示すが、これらに
限定されるものではない。
【0027】1、5−クロロ−2メチル−4−イソチア
ゾリン−3−オン 2、2−(4−チアゾリル)−ベンズイミダゾール 3、イソチアン酸メチル 4、3,5−ジクロロ−4’−フルオロ−チオカルバニ
リド 5、4−クロロ−3、5−ジメチルフェノール 6、2,4,6−トリクロロフェニール 7、デヒドロ酢酸ナトリウム 8、スルファニルアミド 9、3,4,5−トリブロモサリチルアニリド 10、 ソルビン酸カリウム 11、 ベンズアルコニウムクロライド 12、 1−ブロモ−3−クロロ−5,5−ジメチルヒ
ダントイン 13、 モノクロロアセトアミド 14、 モノブロモアセトアミド 15、 モノヨードアセトアミド 16、 ベンズイミダゾール 17、 シクロヘキシルフェニール 18、 2−オクチル−イソチアゾリン−3−オン 19、 エチレンジアミン4酢酸 20、 ニトリロ−N,N,N’−トリメチンホスホン
酸 21、 1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸 22、 エチレンジアミン−N,N,N’−テトラメチ
レンホスホン酸 23、 塩素化イソシアヌル酸ナトリウム 24、 2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 25、 10,10’−オキシビスフェノキシアルシン 26、 1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オン
【0028】これらの化合物については、米国特許第
2、767、172号、同2、767、173号、同
2、767、174号、同2、870、015号公報、
英国特許第848、130号明細書、フランス特許第
1、555、416号明細書などに合成法が記載されて
いる。また、市販されている化合物として、例えば、プ
レデントールON、バーマケムPD、トップサイド80
0、トップサイドEG5、トップサイド500、トップ
サイド600(以上、バーマケイムアジア社製)、ファ
インサイドJ−700(東京ファインケミカル社製)、
Prozel GXL(I.C.I. 社製)などの商
品名で入手が可能である。
【0029】上記した防黴剤の添加量は水洗水中に供給
する場合は、0.01〜50g/リットルであることが
好ましく、より好ましくは0.05〜20g/リットル
であり、処理装置の清浄に用いる清浄剤として含有する
場合は、清浄剤に対して0.1〜50g/リットルであ
ることが好ましく、より好ましくは1〜20g/リット
ルである。
【0030】本発明において利用される清浄剤の好まし
い組成として下記が挙げられるが、これに限定されるも
のではない。
【0031】 過酸化水素: 0.1〜100g/リットル PAO 鎖を持つ化合物:10〜1000ppm 防黴剤: 0.1〜100g/リットル 保恒剤: 過酸化水素重量の10−7倍〜
1倍、好ましくは10−5〜0.5倍 過酸化水素水の添加量は、水洗水中に供給する場合は、
好ましくは0.01〜50g/リットル、より好ましく
は0.05〜20g/リットルである。処理装置の清浄
化に用いる清浄剤として使用する場合には、清浄剤に対
し0.1〜50g/リットル、より好ましくは1〜20
g/リットルである。
【0032】図1に示した装置では、清浄剤の供給手段
により、処理する印刷版の処理量、或いは処理時間数に
従って所定量の清浄剤の供給を行うが、処理液の循環を
行う機構を有する場合には、これを攪拌手段として利用
することができ、また循環手段に加えて別個に攪拌手段
を用意することも好ましい。
【0033】後処理工程が複数の槽で行われる場合に
は、最初の槽に清浄剤を投入することにより清浄剤が印
刷版の搬送により次の槽に持ち込まれ、防黴などの効果
が期待できるが、各槽ごとに清浄剤を投入する態様を排
除するものではない。このような態様では、前槽で投入
された清浄剤の次槽への持ち込みを考慮して、次槽での
投入量を減少するよう制御するのが好ましいが、複数の
槽で後処理が行われる場合、最初の槽に黴が発生すると
後続の槽に黴が持ち込まれるので、最初の槽での防黴処
理は特に重要である。
【0034】メンテナンスに際して、清浄剤を投入して
槽の洗浄を行う場合には、汚れの程度により異なるが、
浄化剤の投入後0.5時間以上放置すること、より好ま
しくは0.75〜60時間の放置が好ましい。装置が処
理液の循環機構を有する場合や攪拌手段を有する場合に
は、放置時間は著しく短縮される。
【0035】本発明によって処理される印刷版は、いず
れのものであってもよいが、本発明の課題を達成する点
では、下記の平版印刷版及び現像液を用いる場合に効果
的である。印刷版において用いられる支持体としては、
通常の平版印刷版にセットできるたわみ性と印刷時に加
わる荷重に耐えるものが好ましく、例えばアルミニウ
ム、マグネシウム、亜鉛、クロム、鉄、銅、ニッケル等
の金属板、及びこれらの金属の合金板等が挙げられ、更
にはクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び鉄
等がメッキまたは蒸着によって被覆されている金属板で
もよい。これらのうち好ましい支持体は、アルミニウム
またはその合金である。
【0036】支持体には、この技術分野において通常使
用されている脱脂処理、砂目立て処理及び陽極酸化処理
等が施されるが、少なくとも砂目立て処理及び陽極酸化
処理がこの順で行われた支持体を用いることが好まし
い。
【0037】感光層との密着性を良好にし、かつ保水性
を改善するために行われる砂目立て処理方法としては、
機械的に表面を粗面化する、いわゆる機械的粗面化法
と、電気化学的に表面を粗面化する、いわゆる電気化学
的粗面化法がある。機械的粗面化法には例えばボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
る。また電気化学的粗面化法には、例えば塩酸または硝
酸等を含む電解液中で交流或いは直流によって支持体を
電解処理する方法等がある。この内のいずれか1つ、も
しくは2つ以上の方法を併用することにより、支持体を
砂目立てすることができる。
【0038】前述のような砂目立て処理して得られた支
持体の表面には、スマットが生成しているので、このス
マットを除去するために適宜水洗あるいはアルカリエッ
チング等の処理を行うことが一般に好ましい。このよう
な処理としては、例えば特公昭48−28123号公報
に記載されているアルカリエッチング法や特開昭53−
12739号公報に記載されている硫酸デスマット法等
の処理方法が挙げられる。
【0039】支持体には、通常、耐摩耗性、耐薬品性、
保水性を向上させるために、陽極酸化によって酸化被膜
を形成させる。この陽極酸化では一般的に、硫酸および
/またはリン酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を
電解液として電流密度1〜10A/dmで電解する方
法が好ましく用いられるが、他に米国特許第1,41
2,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流密
度で電解する方法や米国特許第3,511,661号明
細書に記載されている燐酸を用いて電解する方法等があ
る。支持体は、陽極酸化処理の後、熱水等による封孔処
理や、弗化ジルコニウム酸カリウム水溶液への浸漬など
による表面処理を施されることが好ましい。
【0040】次に、上記表面処理された支持体上に感光
性組成物からなる感光層を塗布することにより印刷版が
得られる。この感光層中に用いられる感光性物質は、特
に限定されるものではなく、通常、印刷版に用いられて
いる、例えば下記のような各種のものが使用される。
【0041】1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
【0042】
【化1】
【0043】を含む感光性樹脂、及び重合体の側鎖に感
光基を有するポリビニルシンナメート等が挙げられる。
【0044】2)光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合成性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
【0045】一例を挙げるとメタクリル酸メチルを含む
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
【0046】3)ジアゾ化合物を含む感光性組成物 この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例えば、好まし
くは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドまたはア
セトアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であ
る。特に好ましくは、p−ジアゾフェニルアミンとホル
ムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物の塩、
例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロホウ
酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前記縮合物との
反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許第3,
300,309号明細書中に記載されているような、前
記縮合物とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹
脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹脂は、好まし
くは結合剤と共に使用される。かかる結合剤としては種
々の高分子化合物を使用することができるが、好ましく
は特開昭54−98613号公報に記載されているよう
な芳香族性水酸基を有する単量体、例えばN−(4−ヒ
ドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、または
p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、またはp−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート等と他の単量体との共重
合体、米国特許第4,123,276号明細書中に記載
されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位ま
たはヒドロキシエチルメタクリレート単位を主な繰り返
し単位として含むポリマー、シェラック、ロジン等の天
然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,75
1,257号明細書中に記載されているような線状ポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹
脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから縮合さ
れたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースアセテ
ートフタレート等のセルロール誘導体が包含される。
【0047】4)o−キノンジアジド化合物を含む感光
性組成物 o−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物において
は、o−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性樹脂を
併用することが好ましい。o−キノンジアジド化合物と
しては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン酸
と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮合
樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
【0048】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
【0049】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。更にo
−キノンジアジド化合物としては特開昭58−4345
1号公報に記載のある化合物も使用できる。
【0050】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
【0051】o−キノンジアジド化合物の感光性組成物
中に占める割合は、6〜60重量%が好ましく、特に好
ましいのは、10〜50重量%である。アルカリ可溶性
樹脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報
に記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケト
ンとの縮合樹脂等が挙げられる。
【0052】上記ノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載さ
れているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報に
記載されているようなp−置換フェノールとフェノール
もしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体
樹脂等が挙げられる。
【0053】前記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレ
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
10〜7.50×10、重量平均分子量Mwが1.
00×10〜3.00×10、より好ましくはMn
が5.00×10〜4.00×10、Mwが3.0
0×10〜2.00×10である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
【0054】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、好ましく用
いられるフェノール性水酸基を有するビニル系共重合体
としては、該フェノール性水酸基を有する単位を分子構
造中に有する重合体である。
【0055】上記ビニル系重合体の感光性組成物中に占
める割合は0.5〜70重量%であることが好ましい。
ビニル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよい
し、又2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子
化合物等と組合せて用いることもできる。
【0056】感光性組成物には、露光より可視画像を形
成させるプリントアウト材料を添加することができる。
プリントアウト材料は露光により酸もしくは遊離基を生
成する化合物と相互作用することによってその色調を変
える有機染料よりなるもので、露光により酸もしくは遊
離基を生成する化合物としては、例えば特開昭50−3
6209号公報に記載のo−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−36223号公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸クロライドと電子吸引性置換基を有するフェノ
ール類、またはアニリン酸とのエステル化合物またはア
ミド化合物、特開昭55−77742号公報、特開昭5
7−148784号公報等に記載のハロメチルビニルオ
キサジアゾール化合物及びジアゾニウム塩等が挙げられ
る。
【0057】感光性組成物には、該感光性組成物の感脂
性を向上するために例えば、p−tert−ブチルフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂やp−n−オクチルフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂や、あるいはこれらの樹脂が
o−キノンジアジド化合物で部分的にエステル化されて
いる樹脂などを添加することもできる。これらの各成分
を溶媒に溶解させ、上記支持体表面に塗布乾燥させるこ
とにより、感光層を設けて、印刷版を製造することがで
きる。
【0058】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が用いられる。この際塗布量は用途により異なるが、例
えば固形分として0.05〜5.0g/mの塗布量が
好ましい。こうして得られた印刷版の使用に際しては、
従来から常用されている方法を適用することができ、例
えば線画像、網点画像などを有する透明原画を感光面に
密着して露光し、次いでこれを適当な現像液を用いて非
画像部の感光性層を除去することによりレリーフ像が得
られる。露光に好適な光源としては、水銀灯、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カー
ボンアーク灯などが使用され、また現像に使用される現
像液としては、アルカリ水溶液が好ましく、例えば、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の水溶液のよう
なアルカリ水溶液がある。このときのアルカリ水溶液の
濃度は、感光性組成物及びアルカリの種類により異なる
が、概して0.1〜10重量%の範囲が適当であり、又
酸アルカリ水溶液には必要に応じ界面活性剤やアルコー
ル等のような有機溶媒(例えば0.1〜20重量%)を
加えることもできる。
【0059】本発明で好ましく用いられるネガ型及びポ
ジ型用現像液は、アルカリ剤、有機溶媒、アニオン系界
面活性剤、水溶性還元剤及び非イオン型界面活性剤及び
/又はカチオン系界面活性剤を含有する。
【0060】本発明の現像液に用いられるアルカリ剤と
しては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リ
ン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第二リン酸カリ
ウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウ
ム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムなどのような
無機アルカリ剤、モノ−、ジ−またはトリエタノールア
ミン及び水酸化テトラアルキルアンモニウムのような有
機アルカリ剤及び有機珪酸アンモニウムなどが有用であ
る。これらの中で珪酸塩アルカリが最も好ましい。アル
カリ剤の現像液中における含有量は、0.05〜20重
量%の範囲で用いるのが好適であり、より好ましくは、
0.1〜10重量%である。
【0061】本発明の現像液で用いられる有機溶媒とし
ては20℃において水に対する溶解度が10重量%以下
であるものが好ましいが、このような有機溶媒として
は、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブ
チルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのよう
なカルボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサンのようなケトン類;エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールベンジルモノフェニルエーテル、ベンジルアルコー
ル、エチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコー
ル、メチルアミルアルコールのようなアルコール類;キ
シレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素、メチレン
ジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベン
ジンのようなハロゲン化炭化水素などがある。これら有
機溶媒は一種以上用いてもよい。これらの有機溶媒の中
では、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチ
レングリコールベンジルエーテル及びベンジルアルコー
ルが特に好ましい。また、含有量は、一般に0.000
1重量%から20重量%が好ましい。
【0062】該有機溶媒は、ネガ型とポジ型の両印刷版
に対して現像性を向上させるための優れた添加剤であ
る。
【0063】また、本発明に用いられるアニオン系界面
活性剤としては、高級アルコール(C〜C22)硫酸
エステル塩類[例えば、ラウリルアルコールサルフェー
トのナトリウム塩、オクチルアルコールサルフェートの
ナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアン
モニウム塩、「ティーボールB−81」(商品名・シェ
ル化学製)、第二ナトリウムアルキルサルフェートな
ど]、脂肪族アルコールリン酸エステル塩類(例えば、
セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩な
ど)、アルキルアリールスルホン酸塩類(例えば、ドデ
シルベンジンスルホン酸ナトリウム塩、イソプロピルナ
フタレンスルホン酸のナトリウム塩、ジナフタリンジス
ルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン
酸のナトリウム塩など)、アルキルアミドのスルホン酸
塩類(例えば、下記化1で示される化合物、二塩基性脂
肪族エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウムス
ルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコ
ハク酸ジヘキシルエステルなど)がある。これらの中で
特にアルキルナフタレンスルホン酸塩類が好適に用いら
れる。
【0064】
【化2】
【0065】上記アニオン系界面活性剤の濃度は好まし
くは、0.2〜10重量%、特に1〜5重量%の範囲が
好ましい。また、本発明で用いられる現像液には水溶性
還元剤が含有されることが好ましいが、この水溶性還元
剤としては、有機及び無機の還元剤が含まれる。
【0066】上記した水溶性還元剤の水溶性と云う意味
の中には、アルカリ可溶性をも含むものであり、これら
水溶性還元剤は、0.1〜10重量%、より好ましく
は、0.5〜5重量%の範囲で含有される。更に、本発
明で用いられる現像液には、非イオン系及び又はカチオ
ン系界面活性剤が含有されることが好ましい。
【0067】非イオン型界面活性剤としては、各種の化
合物を用いることができるが、大別するとポリエチレン
グリコール系化合物と多価アルコール系化合物に分ける
ことができ、ポリエチレングリコール系化合物がより好
ましく使用される。中でも、オキシエチレン単位が3以
上の繰返し構造を有し且つHLB値(Hydrophi
le−Lipophile Balance)が5以
上、更に好ましくは、10〜20の非イオン系界面活性
剤が好適である。
【0068】これらの非イオン系界面活性剤の添加量
は、好ましくは0.001〜1.0重量%であり、より
好ましくは0.01〜1.0重量%の範囲である。ま
た、これら非イオン系界面活性剤の重量平均分子量は、
300〜50,000が好ましく、特に好ましくは50
0〜5000の範囲である。本発明においては、上記し
た非イオン系界面活性剤は単独で用いられてもよいし、
2種以上を併用してもよい。一方、本発明で用いられる
カチオン系界面活性剤としては、各種の化合物がある
が、有機アミン系化合物と第四級アンモニウム塩系化合
物を挙げることができる。
【0069】これらの化合物の中では、特に水溶性の第
四級アンモニウム塩のカチオン系界面活性剤が効果に優
れており、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキ
ルジメチルベンジルアンモニウム塩、エチレンオキシド
付加アンモニウム塩などを挙げることができる。また、
カチオン成分をくり返し単位として有する重合体も一般
的にはカチオン系界面活性剤であり、本発明の目的を達
成するの効果的である。特に、親油性モノマーと共重合
して得られた第四級アンモニウム塩を含む重合体は好適
に用いることができる。
【0070】上記カチオン系界面活性剤の添加量は非イ
オン系界面活性剤と同じく、好ましくは0.001〜5
重量%、より好ましくは0.01〜1.0重量%の範囲
である。また、重量平均分子量は、300〜50,00
0の範囲で、特に好ましくは500〜5,000の範囲
である。これらカチオン型界面活性剤は単独で用いられ
るが、2種以上を併用してもよい。
【0071】更に、本発明によれば、非イオン系界面活
性剤とカチオン系界面活性剤とを併用しても発明の効果
を得ることができる。本発明で用いられる現像液には、
更に現像性を高めるために以下のような添加剤を加える
ことができる。
【0072】例えば、特開昭58−75152号記載の
NaCl、KCl、KBrなどの中性塩、特開昭58−
190952号記載のEDTA、NTAなどのキレート
剤、特開昭59−121336号記載の[Co(N
]Clなどの錯体、特開昭50−51324
号記載のアルキルフタレンスルホン酸ナトリウム、N−
テトラデジル−N、N−ジヒドロキシエチルベタインな
どのアニオンまたは両性界面活性剤、特開昭55−95
946号記載のp−ジメチルアミノメチルオリスチレン
のメチルクロライド4級化物などのカチオニックポリマ
ー、特開昭56−142528号記載のビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ナトリ
ウムの共重合体などの両性高分子電解質、特開昭57−
192952号記載の還元性無機塩、特開昭58−59
444号記載の塩化リチウムなどの無機リチウム化合
物、特公昭50−34442号記載の安息香酸リチウム
などの有機リチウム化合物、特開昭59−75255号
記載のSi、Tiなどを含む有機金属界面活性剤、特開
昭59−84241号記載の有機ホウ素化合物などが挙
げられる。
【0073】本発明を適用し得る印刷版の画像形成層
は、感光性物質を含んでおり、感光性物質として露光又
はその後の現像処理により、その物理的、化学的性質が
変化するもので、例えば露光により現像液に対する溶解
性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力に差
が生じるもの、露光又は現像処理により水及び油に対す
る親和性に差が生じるもの、電子写真方式により画像部
を形成できるもの、更に特開昭55−166645号に
記載されている多層構造のものが包含される。
【0074】
【実施例】次に本発明を実施例により詳細に説明する。 実施例1 図1に示した装置を用い、現像部にコニカネガポジ共通
現像液KCT−10(コニカ社製)を6倍希釈で24リ
ットル、水洗部に水10リットル、下記の清浄剤原液A
を167ミリリットル、フィニッシャー部にSRW−1
(コニカ社製リンス液)を2倍希釈で10リットル仕込
んだ。次に、水洗水の供給量を2リットル/mに、ま
た、水洗水を1リットル補充する毎に17ミリリットル
の清浄剤原液Aが補充されるように設定して装置の立ち
上げを行った。
【0075】ポジPS版KM(コニカ社製)、ネガPS
版SWN−X(コニカ社製)を9:1の面積比で1日1
00m/リットルの処理で1ケ月間ランニングし、1
ケ月後に液交換を行い、再び同条件でランニングする使
用条件で1年間処理したところ、黴の発生は認められず
問題なく処理することができた。尚、SRW−1(コニ
カ社製リンス液)の代わりにSGW−3(コニカ社製ガ
ム液)を用いた際も、同様に良好に使用することができ
た。
【0076】 清浄剤原液A: 過酸化水素: 60g サルチル酸 0.1g PAO 鎖を持つ化合物: 3.0g 防黴剤: 50g 水 1000g
【0077】比較例1 水洗部に対する清浄剤の投入・補充は行わない外は実施
例1と同様の条件で処理したところ、4ケ月間連続使用
した時点で水洗槽及びガム槽の循環パイプに黴が発生し
ているのが観察された。
【0078】実施例2 液交換時に水洗部及びフィニッシャー部に実施例1で使
用した清浄剤原液Aを1リットルと水9リットルを投入
し、1時間循環して洗浄し、清浄剤を排出した外は比較
例1と同様の条件で装置を使用したところ1年間使用し
ても黴の発生は認められず清浄に使用することができ
た。
【0079】実施例3 比較例1の条件で、4ケ月間使用し、黴の付着が観察さ
れた水洗部とフィニッシャー部に清浄剤原液Aを3リッ
トルと水7リットルを投入して3時間放置し、次いで2
時間の液循環を行ったところ、配管部分に付着した黴が
除去されるのが観察された。
【0080】
【発明の効果】本発明によれば、後処理槽に黴が発生す
ることがなく、また、メンテナンス時の槽の清掃も簡単
に行うことができ、頭記した課題が解決される。特に、
後処理液の最先部に本発明の清浄剤を用いることによっ
て、後処理槽の全てに防黴効果を持たせることができる
し、装置の使用に際し、予め清浄剤による洗浄を行うこ
とで防黴効果を維持できるし、また、一旦生じた黴の除
去効果も高いなどの利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した装置の1例を示す概略図
【符号の説明】
A−挿入部 B−現像部 C−水洗部 D−フィニッシャー部 E−乾燥部 PS−印刷版(感光性平版印刷版) 1−挿入台 2−光学センサー 3A−ニップ搬送ローラ 3B−ニップ搬送ローラ 3C−ニップ搬送ローラ 3D−ニップ搬送ローラ 3E−ニップ搬送ローラ 3F−ニップ搬送ローラ 3G−ニップ搬送ローラ 3H−ニップ搬送ローラ 3I−ニップ搬送ローラ 4−搬送ローラ 5−処理槽 6A−処理液吐出ノズル 6B−処理液吐出ノズル 7−マグネットポンプ 8−ブラシローラ 9−押えローラ 10−ヒータ 11−ベローズポンプ 12−ベローズポンプ 13−ベローズポンプ 14−補充液タンク 15−希釈水タンク 16−リンス補充液タンク 17−廃液タンク 20−水洗水槽 21−マグネットポンプ 22−水洗水吐出ノズル 23−水洗水吐出ノズル 30−リンス液槽 31−マグネットポンプ 32−リンス液吐出ノズル 33−リンス液吐出ノズル 34−ベローズポンプ 35 ベローズポンプ 40−乾燥空気噴出ノズル 41−乾燥空気噴出ノズル 50−電磁バルブ 51−流量センサー 52−ベローズポンプ 53−清浄剤タンク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 服部 良司 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 笠倉 暁夫 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 金田 健志 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】現像処理を行った後処理として版上のアル
    カリ成分を中和する水洗・リンス液・ガム液などの後処
    理液による工程を持つ感光性平版印刷版の処理方法にお
    いて、後処理液のpHを2〜11に保ち、且つ後処理液
    に少なくとも過酸化水素とポリアルキレンオキサイド鎖
    (PAO鎖)を持つ化合物とを含む清浄剤を投入しなが
    ら処理を行うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理
    方法。
  2. 【請求項2】現像処理を行った後処理として版上のアル
    カリ成分を中和する水洗・リンス液・ガム液などの後処
    理液による処理部を持つ感光性平版印刷版の処理装置に
    おいて、後処理液のpHを2〜11に保ち、且つ後処理
    液に少なくとも過酸化水素とポリアルキレンオキサイド
    鎖(PAO鎖)を持つ化合物とを含む清浄剤を投入する
    機構を有することを特徴とする感光性平版印刷版の処理
    装置。
  3. 【請求項3】現像処理を行った後処理として版上のアル
    カリ成分を中和する水洗・リンス液・ガム液などの後処
    理液による処理部を持ち、且つ後処理液のpHを2〜1
    1に保つ手段を持つ平版印刷版の処理装置の清浄方法に
    おいて、後処理液による処理部の清浄化に少なくとも過
    酸化水素とポリアルキレンオキサイド鎖(PAO鎖)を
    持つ化合物とを含む清浄剤を投入して行うことを特徴と
    する平版印刷版の処理装置の清浄方法。
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